JPH087336A - 光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents
光ディスクおよびその製造方法Info
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- JPH087336A JPH087336A JP6133443A JP13344394A JPH087336A JP H087336 A JPH087336 A JP H087336A JP 6133443 A JP6133443 A JP 6133443A JP 13344394 A JP13344394 A JP 13344394A JP H087336 A JPH087336 A JP H087336A
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- optical disk
- dielectric film
- substrates
- film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ディスク加工中に光ディスク基板の外周部
端面から貼り合わせ用の接着剤の一部が基板からはみ出
すことを防止することができる光ディスクを提供する。 【構成】 鏡面研磨された基板（１１）上に光硬化性樹
脂にてスタンパーのガイド溝や振りピットを転写した２
Ｐ層（１２）を配設し、その上に誘電体膜１３、記録膜
１４、誘電体膜１５を真空蒸着やスパッタリングにより
形成することにより光ディスク基板を作成する。そし
て、この基板（１１）よりも外径がやや小さい基板（２
１）に上記と同様に２Ｐ層（２２）、誘電体膜（２
３）、記録膜（２４）と誘電体膜（２５）を形成し、次
いで前記２枚の光ディスク基板（１１）（２１）の間に
液状の反応硬化型接着剤（１６）を塗布し、両基板を接
着する。
端面から貼り合わせ用の接着剤の一部が基板からはみ出
すことを防止することができる光ディスクを提供する。 【構成】 鏡面研磨された基板（１１）上に光硬化性樹
脂にてスタンパーのガイド溝や振りピットを転写した２
Ｐ層（１２）を配設し、その上に誘電体膜１３、記録膜
１４、誘電体膜１５を真空蒸着やスパッタリングにより
形成することにより光ディスク基板を作成する。そし
て、この基板（１１）よりも外径がやや小さい基板（２
１）に上記と同様に２Ｐ層（２２）、誘電体膜（２
３）、記録膜（２４）と誘電体膜（２５）を形成し、次
いで前記２枚の光ディスク基板（１１）（２１）の間に
液状の反応硬化型接着剤（１６）を塗布し、両基板を接
着する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光ディスクとその製
造方法に関するものである。さらに詳しくは、この発明
は、透明な円板状のポリカーボネイト、ポリオレフィ
ン、アクリル、エポキシ等の樹脂基板や、ガラスおよび
ガラス上に透明な樹脂層で溝形成した基板の上に、有機
色素系記録媒体、相変化型記録媒体、希土類ー遷移金属
のアモルファス層を形成して作成する光磁気記録媒体等
を形成してなる光ディスク基板を貼り合わせた光ディス
クにおいて、ディスク端面からの接着剤のはみ出しを効
果的に防止することのできる改良された光ディスクとそ
の製造方法に関するものである。
造方法に関するものである。さらに詳しくは、この発明
は、透明な円板状のポリカーボネイト、ポリオレフィ
ン、アクリル、エポキシ等の樹脂基板や、ガラスおよび
ガラス上に透明な樹脂層で溝形成した基板の上に、有機
色素系記録媒体、相変化型記録媒体、希土類ー遷移金属
のアモルファス層を形成して作成する光磁気記録媒体等
を形成してなる光ディスク基板を貼り合わせた光ディス
クにおいて、ディスク端面からの接着剤のはみ出しを効
果的に防止することのできる改良された光ディスクとそ
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の光ディスク基板は、射出成形法ま
たは２Ｐ成形法により片面にトラックキング用の溝やピ
ットを形成した平坦な基板の表面に光記録媒体層を真空
蒸着、スパッタリングあるいはスピンコート法にて形成
し、この上から有機保護膜などの記録膜保護対策を施し
て作成されている。このようにして作製した光ディスク
基板は、そのまま単体で使用するか、あるいは保護基板
を貼り合わせて使用する片面記録用と、光記録媒体層を
形成した面が互いに対向するよう貼り合わせた両面記録
用とに区分される。また、基板の接着には光硬化性接着
剤や熱硬化性接着剤などの反応性接着剤やホットメルト
型接着剤などが用いられている。
たは２Ｐ成形法により片面にトラックキング用の溝やピ
ットを形成した平坦な基板の表面に光記録媒体層を真空
蒸着、スパッタリングあるいはスピンコート法にて形成
し、この上から有機保護膜などの記録膜保護対策を施し
て作成されている。このようにして作製した光ディスク
基板は、そのまま単体で使用するか、あるいは保護基板
を貼り合わせて使用する片面記録用と、光記録媒体層を
形成した面が互いに対向するよう貼り合わせた両面記録
用とに区分される。また、基板の接着には光硬化性接着
剤や熱硬化性接着剤などの反応性接着剤やホットメルト
型接着剤などが用いられている。
【０００３】図２は、従来の両面記録型の光磁気ディス
クの構成を例示したものである。この図２に示したよう
に、両面記録型の光磁気ディスクを構成する光ディスク
基板は、鏡面研磨された基板（１）上に光硬化性樹脂に
てスタンパーのガイド溝やプリピットを転写した２Ｐ層
（２）を形成し、この２Ｐ層の上に誘電体膜（３）、記
録膜（４）、誘電体膜（５）を順に真空蒸着やスパッタ
リング等により形成して作成されている。
クの構成を例示したものである。この図２に示したよう
に、両面記録型の光磁気ディスクを構成する光ディスク
基板は、鏡面研磨された基板（１）上に光硬化性樹脂に
てスタンパーのガイド溝やプリピットを転写した２Ｐ層
（２）を形成し、この２Ｐ層の上に誘電体膜（３）、記
録膜（４）、誘電体膜（５）を順に真空蒸着やスパッタ
リング等により形成して作成されている。
【０００４】こうして作成した２枚の光ディスク基板を
貼り合わせて両面記録型の光ディスクが構成されるが、
貼り合わせるにあたって、２枚の光ディスク基板の間に
は液状の反応硬化型接着剤（６）を塗布して介在させ、
両基板の間に押し広げる。
貼り合わせて両面記録型の光ディスクが構成されるが、
貼り合わせるにあたって、２枚の光ディスク基板の間に
は液状の反応硬化型接着剤（６）を塗布して介在させ、
両基板の間に押し広げる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような従来の光ディスクの場合には、貼り合わせ時に光
ディスク基板のそり等の影響で樹脂の広がる速度が周方
向ごとに異なることが多く、全面に樹脂がゆきわたる間
に外周部の一部から接着剤がはみ出してしまうことが有
る。はみ出し量は使用する接着剤量と光ディスク基板の
反り量に依存しているが、およそ基板直径の０．５％か
ら１％に相当する場合が多い。
ような従来の光ディスクの場合には、貼り合わせ時に光
ディスク基板のそり等の影響で樹脂の広がる速度が周方
向ごとに異なることが多く、全面に樹脂がゆきわたる間
に外周部の一部から接着剤がはみ出してしまうことが有
る。はみ出し量は使用する接着剤量と光ディスク基板の
反り量に依存しているが、およそ基板直径の０．５％か
ら１％に相当する場合が多い。
【０００６】このように、従来の加工方法ではディスク
加工中に基板内外周部端面から貼り合わせ用接着剤の一
部がはみ出してしまうことがあり、その結果、ディスク
端面がカートリッジ内で部品の一部と接触した際など
に、端面からはみ出した接着剤が剥離して基板表面に付
着し、記録再生不良事故の原因となる危険性があった。
このようなことから、これまでは、プラスチック基板を
用いた光ディスク基板の場合には、単板ディスクでは有
機保護膜形成後、また貼り合わせ型ディスクでは貼り合
わせ終了後、レーザー加工機等により端面はみ出し樹脂
を基板ごと切り取ってしまう対策がとられていた。しか
しながら、ガラス基板を用いた光ディスク基板の場合に
は、レーザーによる基板端面切断はできず、またバイト
などで基板端面樹脂を削り取る場合にも、基板擦傷と基
板破壊の可能性が高く、適切な処理方法が無いのが実情
であった。
加工中に基板内外周部端面から貼り合わせ用接着剤の一
部がはみ出してしまうことがあり、その結果、ディスク
端面がカートリッジ内で部品の一部と接触した際など
に、端面からはみ出した接着剤が剥離して基板表面に付
着し、記録再生不良事故の原因となる危険性があった。
このようなことから、これまでは、プラスチック基板を
用いた光ディスク基板の場合には、単板ディスクでは有
機保護膜形成後、また貼り合わせ型ディスクでは貼り合
わせ終了後、レーザー加工機等により端面はみ出し樹脂
を基板ごと切り取ってしまう対策がとられていた。しか
しながら、ガラス基板を用いた光ディスク基板の場合に
は、レーザーによる基板端面切断はできず、またバイト
などで基板端面樹脂を削り取る場合にも、基板擦傷と基
板破壊の可能性が高く、適切な処理方法が無いのが実情
であった。
【０００７】そこで、この発明は、上記の課題を解決
し、光ディスク加工中に光ディスクの外周部端面から貼
り合わせ用の接着剤の一部が基板からはみ出すことを防
止することができる、改良された光ディスクとその製造
方法を提供すること目的とする。
し、光ディスク加工中に光ディスクの外周部端面から貼
り合わせ用の接着剤の一部が基板からはみ出すことを防
止することができる、改良された光ディスクとその製造
方法を提供すること目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、「一対の光ディスク基板を貼り
合わせて構成され、貼り合わせ面の少なくとも一方の面
に情報記録層が設けられた光ディスクにおいて、貼り合
わされる一対の基板の外径が異なることを特徴とするも
のであり、また、前記一対の基板の直径の差が、大きい
基板の直径の所定値以下であることを特徴とする光ディ
スク（請求項１）」を提供する。そして、この光ディス
クについて、「一対の基板の直径の差が、大きい基板の
直径の２％以下である光ディスク（請求項２）」も提供
する。
を解決するものとして、「一対の光ディスク基板を貼り
合わせて構成され、貼り合わせ面の少なくとも一方の面
に情報記録層が設けられた光ディスクにおいて、貼り合
わされる一対の基板の外径が異なることを特徴とするも
のであり、また、前記一対の基板の直径の差が、大きい
基板の直径の所定値以下であることを特徴とする光ディ
スク（請求項１）」を提供する。そして、この光ディス
クについて、「一対の基板の直径の差が、大きい基板の
直径の２％以下である光ディスク（請求項２）」も提供
する。
【０００９】さらにまた、この発明は、「鏡面研磨され
た基板上に光硬化性樹脂にてスタンパーのガイド溝や振
りピットを転写した２Ｐ層、その上の誘電体膜、記録膜
および誘電体膜を真空蒸着やスパッタリング等の気相成
膜により形成した光ディスク基板と、この基板よりも外
径がやや小さい基板上に光硬化性樹脂にてスタンパーの
ガイド溝や振りピットを転写した２Ｐ層、その上の誘電
体膜、記録膜、誘電体膜を真空蒸着やスパッタリング等
の気相成膜により形成したを光ディスク基板との間に液
状の反応硬化型接着剤を介在させ、これを両基板の間に
押し広げながら接着する光ディスクの製造方法（請求項
３）」も提供する。
た基板上に光硬化性樹脂にてスタンパーのガイド溝や振
りピットを転写した２Ｐ層、その上の誘電体膜、記録膜
および誘電体膜を真空蒸着やスパッタリング等の気相成
膜により形成した光ディスク基板と、この基板よりも外
径がやや小さい基板上に光硬化性樹脂にてスタンパーの
ガイド溝や振りピットを転写した２Ｐ層、その上の誘電
体膜、記録膜、誘電体膜を真空蒸着やスパッタリング等
の気相成膜により形成したを光ディスク基板との間に液
状の反応硬化型接着剤を介在させ、これを両基板の間に
押し広げながら接着する光ディスクの製造方法（請求項
３）」も提供する。
【００１０】
【作用】この発明では、鏡面研磨された基板上に光硬化
性樹脂にてスタンパーのガイド溝や振りピットを転写し
た２Ｐ層、その上の誘電体膜、記録膜、誘電体膜を真空
蒸着やスパッタリングにより形成した光ディスク基板
に、同一もしくは類似の基板構成ではあるが、上記基板
よりも外径がやや小さい基板を使用し、この２枚の光デ
ィスク基板の間に液状の反応硬化型接着剤を塗布介在さ
せ、両基板の間にこれを押し広げて接着するため、接着
剤がはみ出すことが防止される。特に、基板径の差が基
板直径の所定値以上（１％以上）の場合には、ディスク
外周まで接着剤がはみ出し広がることは無い。
性樹脂にてスタンパーのガイド溝や振りピットを転写し
た２Ｐ層、その上の誘電体膜、記録膜、誘電体膜を真空
蒸着やスパッタリングにより形成した光ディスク基板
に、同一もしくは類似の基板構成ではあるが、上記基板
よりも外径がやや小さい基板を使用し、この２枚の光デ
ィスク基板の間に液状の反応硬化型接着剤を塗布介在さ
せ、両基板の間にこれを押し広げて接着するため、接着
剤がはみ出すことが防止される。特に、基板径の差が基
板直径の所定値以上（１％以上）の場合には、ディスク
外周まで接着剤がはみ出し広がることは無い。
【００１１】また、この差を、大きい方の基板の直径の
所定値以下、望ましくは２％以下とすることによって、
小型ディスクのトラック形成領域を狭くせずにすみ、接
着剤樹脂のはみ出しの問題を効果的に解決することにな
る。図面を参照してこの発明をさらに説明すると、図１
はこの発明に相当する両面記録型のガラス基板を用いた
光磁気ディスクの構成図であるが、鏡面研磨された基板
（１１）上に光硬化性樹脂にてスタンパーのガイド溝や
振りピットを転写した２Ｐ層（１２）を配設して、その
上に誘電体膜（１３）、記録膜（１４）、誘電体膜（１
５）を真空蒸着やスパッタリングにより形成して光ディ
スク基板を作成する。
所定値以下、望ましくは２％以下とすることによって、
小型ディスクのトラック形成領域を狭くせずにすみ、接
着剤樹脂のはみ出しの問題を効果的に解決することにな
る。図面を参照してこの発明をさらに説明すると、図１
はこの発明に相当する両面記録型のガラス基板を用いた
光磁気ディスクの構成図であるが、鏡面研磨された基板
（１１）上に光硬化性樹脂にてスタンパーのガイド溝や
振りピットを転写した２Ｐ層（１２）を配設して、その
上に誘電体膜（１３）、記録膜（１４）、誘電体膜（１
５）を真空蒸着やスパッタリングにより形成して光ディ
スク基板を作成する。
【００１２】また、この光ディスク基板に貼り合わせる
もう一方の基板として、上記基板（１１）よりも外径が
やや小さい基板（２１）を使用し、上記光ディスク基板
と同様に基板の上に、上記と同じスタンパーから転写し
た２Ｐ層（２２）、誘電体膜（２３）、記録膜（２４）
と誘電体膜（２５）を形成する。こうして作成した２枚
の光ディスク基板の間に液状の反応硬化型接着剤（１
６）を塗布し、両基板の間に押し広げる。基板（１１）
（２１）の各々の径には差を設けているため、特に、そ
の差が基板直径の１％以上とする場合、ディスク外周ま
で接着剤が広がることは無い。なお、接着剤の硬化は加
熱、プライマー塗布などにて行う。また外周部や内周部
の記録膜未形成領域は、光硬化による硬化も可能であ
る。
もう一方の基板として、上記基板（１１）よりも外径が
やや小さい基板（２１）を使用し、上記光ディスク基板
と同様に基板の上に、上記と同じスタンパーから転写し
た２Ｐ層（２２）、誘電体膜（２３）、記録膜（２４）
と誘電体膜（２５）を形成する。こうして作成した２枚
の光ディスク基板の間に液状の反応硬化型接着剤（１
６）を塗布し、両基板の間に押し広げる。基板（１１）
（２１）の各々の径には差を設けているため、特に、そ
の差が基板直径の１％以上とする場合、ディスク外周ま
で接着剤が広がることは無い。なお、接着剤の硬化は加
熱、プライマー塗布などにて行う。また外周部や内周部
の記録膜未形成領域は、光硬化による硬化も可能であ
る。
【００１３】以下、実施例を示すが、この発明は以下の
例に限定されるものではない。
例に限定されるものではない。
【００１４】
【実施例】実施例 図１に沿って、外径１３０ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚さ
１．１５ｍｍのガラス基板（１１）上に、スタンパーか
ら溝を転写した光硬化性樹脂層からなる２Ｐ層（１２）
を形成した。２Ｐ層（１２）は平均厚さ３０ミクロンで
半径２０ｍｍから６５ｍｍまで形成した。この基板上に
誘電体膜（１３）、光磁気記録膜（１４）、誘電体膜
（１５）の順にスパッタ膜を形成した。次にスピンコー
ターにて光硬化性有機保護膜を塗布し、紫外線照射装置
にて硬化した。有機保護膜は平均厚５ミクロンで半径１
５ｍｍから最外周まで形成した。
１．１５ｍｍのガラス基板（１１）上に、スタンパーか
ら溝を転写した光硬化性樹脂層からなる２Ｐ層（１２）
を形成した。２Ｐ層（１２）は平均厚さ３０ミクロンで
半径２０ｍｍから６５ｍｍまで形成した。この基板上に
誘電体膜（１３）、光磁気記録膜（１４）、誘電体膜
（１５）の順にスパッタ膜を形成した。次にスピンコー
ターにて光硬化性有機保護膜を塗布し、紫外線照射装置
にて硬化した。有機保護膜は平均厚５ミクロンで半径１
５ｍｍから最外周まで形成した。
【００１５】一方、外径１２８ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚
さ１．１５ｍｍのガラス基板（２１）上に、上記と同じ
ようにスタンパーから転写した２Ｐ層（２２）を形成し
た。この上に誘電体膜（２３）、光磁気記録膜（２
４）、誘電体膜（２５）の順にスパッタ膜を形成した。
次にスピンコータにて光硬化性有機保護膜を塗布し、紫
外線照射装置にて硬化した。
さ１．１５ｍｍのガラス基板（２１）上に、上記と同じ
ようにスタンパーから転写した２Ｐ層（２２）を形成し
た。この上に誘電体膜（２３）、光磁気記録膜（２
４）、誘電体膜（２５）の順にスパッタ膜を形成した。
次にスピンコータにて光硬化性有機保護膜を塗布し、紫
外線照射装置にて硬化した。
【００１６】こうして作成した２枚の光ディスク基板を
紫外線嫌気硬化型接着剤（１６）アロンタイトＢＵー３
にて接着した。この際、塗布した接着剤（１６）が小径
ディスクの外周部の一部で、約０．５ｍｍ程度の厚さに
はみ出したが、大きい方の径のディスク外周部まで広が
るには至らなかった。上記ディスクをディスクカートリ
ッジに入れて使用した。ディスクはカートリッジ内で外
周部を固定されており、装置に装着すると解放され、脱
着するとバネ力にて固定される。着脱繰り返し試験を５
万回行ったが、はみ出した接着剤の剥離等は見られなか
った。比較例 外径１３０ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚さ１．１５ｍｍのガ
ラス基板上に、スタンパーから溝を転写した光硬化性樹
脂層（２Ｐ層）を形成した。２Ｐ層は平均厚さ３０ミク
ロンで半径２０ｍｍから６５ｍｍまで形成した。この基
板上に誘電体膜、光磁気記録膜、誘電体膜の順にスパッ
タ膜を形成した。次にスピンコーターにて光硬化性有機
保護膜を塗布し、紫外線照射装置にて硬化した。有機保
護膜は平均厚５ミクロンで半径１５ｍｍから最外周まで
形成した。
紫外線嫌気硬化型接着剤（１６）アロンタイトＢＵー３
にて接着した。この際、塗布した接着剤（１６）が小径
ディスクの外周部の一部で、約０．５ｍｍ程度の厚さに
はみ出したが、大きい方の径のディスク外周部まで広が
るには至らなかった。上記ディスクをディスクカートリ
ッジに入れて使用した。ディスクはカートリッジ内で外
周部を固定されており、装置に装着すると解放され、脱
着するとバネ力にて固定される。着脱繰り返し試験を５
万回行ったが、はみ出した接着剤の剥離等は見られなか
った。比較例 外径１３０ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚さ１．１５ｍｍのガ
ラス基板上に、スタンパーから溝を転写した光硬化性樹
脂層（２Ｐ層）を形成した。２Ｐ層は平均厚さ３０ミク
ロンで半径２０ｍｍから６５ｍｍまで形成した。この基
板上に誘電体膜、光磁気記録膜、誘電体膜の順にスパッ
タ膜を形成した。次にスピンコーターにて光硬化性有機
保護膜を塗布し、紫外線照射装置にて硬化した。有機保
護膜は平均厚５ミクロンで半径１５ｍｍから最外周まで
形成した。
【００１７】このようにして作成した２枚の光ディスク
基板を実施例と同様に接着剤により貼り合わせた。作成
されたディスクをディスクカートリッジに入れて使用し
た。ディスクはカートリッジ内で外周部を固定されてお
り、装置に装着すると解放され、脱着するとバネ力にて
固定される。着脱繰り返し試験を５万回行ったところ、
はみ出した接着剤の破片がカートリッジ内に付着してい
ることが見出された。
基板を実施例と同様に接着剤により貼り合わせた。作成
されたディスクをディスクカートリッジに入れて使用し
た。ディスクはカートリッジ内で外周部を固定されてお
り、装置に装着すると解放され、脱着するとバネ力にて
固定される。着脱繰り返し試験を５万回行ったところ、
はみ出した接着剤の破片がカートリッジ内に付着してい
ることが見出された。
【００１８】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明は、
一対の光ディスク基板を貼り合わせて構成され、これら
の貼り合わせ面の少なくとも一方の面に情報記録層が設
けられた光ディスクにおいて、対を成す光ディスク基板
に外径が異なるものを用いることにより、ディスク加工
中に基板内外周部端面から貼り合わせ用接着剤の一部が
はみ出しだしたとしても、カートリッジ内で剥離して読
出面に付着して記録情報の再生不良を発生するという事
態を防止することができる。またその基板形状を一対の
基板の直径の差が、大きい方の基板の直径の所定値以
下、望ましくは２％以下とすることによって、小型ディ
スクのトラック形成領域を狭くせずにすみ、両面の記録
容量を同じにしたままはみ出し樹脂の問題を解決するこ
とができる。
一対の光ディスク基板を貼り合わせて構成され、これら
の貼り合わせ面の少なくとも一方の面に情報記録層が設
けられた光ディスクにおいて、対を成す光ディスク基板
に外径が異なるものを用いることにより、ディスク加工
中に基板内外周部端面から貼り合わせ用接着剤の一部が
はみ出しだしたとしても、カートリッジ内で剥離して読
出面に付着して記録情報の再生不良を発生するという事
態を防止することができる。またその基板形状を一対の
基板の直径の差が、大きい方の基板の直径の所定値以
下、望ましくは２％以下とすることによって、小型ディ
スクのトラック形成領域を狭くせずにすみ、両面の記録
容量を同じにしたままはみ出し樹脂の問題を解決するこ
とができる。
【図１】この発明の両面記録型のガラス基板光磁気ディ
スクの構成図である。
スクの構成図である。
【図２】従来の両面記録型光磁気ディスクの構成図であ
る。
る。
１、１１、２１ 基板 ２、１２、２２ ２Ｐ層 ３、５、１３、１５、２３、２５ 誘電体膜 ４、１４、２４ 記録層 ６、１６ 接着剤
Claims (3)
- 【請求項１】 一対の光ディスク基板を貼り合わせて構
成され、貼り合わせ面の少なくとも一方の面に情報記録
層が設けられた光ディスクにおいて、貼り合わされる一
対の基板の外径が異なることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】 一対の基板の直径の差が、大きい基板の
直径の２％以下であることを特徴とする請求項１に記載
の光ディスク。 - 【請求項３】 鏡面研磨された基板上に硬化性樹脂にて
形成した２Ｐ層とともに、その上の誘電体膜および記録
膜および誘電体膜を気相成膜して配設した光ディスク基
板と、この基板よりも外径が小さい基板上に光硬化性樹
脂にて形成した２Ｐ層並びにその上の誘電体膜、記録膜
および誘電体膜を気相成膜して配設した光ディスク基板
との間に液状の反応硬化型接着剤を介在させ、この接着
剤を押し広げながら両基板を接着することを特徴とする
光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6133443A JPH087336A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6133443A JPH087336A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH087336A true JPH087336A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15104900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6133443A Withdrawn JPH087336A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087336A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A2 (en) * | 1996-11-20 | 1998-05-27 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| EP0797195A3 (en) * | 1996-03-21 | 2001-04-11 | Sony Corporation | Optical disc and disc cartridge |
-
1994
- 1994-06-15 JP JP6133443A patent/JPH087336A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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