JPH08203125A - 貼り合わせ型光ディスク及びその製造方法 - Google Patents

貼り合わせ型光ディスク及びその製造方法

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JPH08203125A
JPH08203125A JP7014658A JP1465895A JPH08203125A JP H08203125 A JPH08203125 A JP H08203125A JP 7014658 A JP7014658 A JP 7014658A JP 1465895 A JP1465895 A JP 1465895A JP H08203125 A JPH08203125 A JP H08203125A
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film
recording
light
pit
transmissive substrate
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Kenji Suzuki
健二 鈴木
Takahiro Kobayashi
高広 小林
Naoto Ozasa
直人 小笹
Jiro Fujimori
二郎 藤森
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Pioneer Corp
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Pioneer Video Corp
Pioneer Electronic Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 片面側からのビーム照射によって複数の記録
面から読取障害を起こさずに再生でき、高記録密度と高
転送レートを有する貼り合わせ型光ディスク、及び該光
ディスクを効率良く製造できる方法を提供する 【構成】 再生用ビームの照射側からみて、第一光透過
性基板１／（第一ピット（８）・グルーブ形成面）／第
一反射膜・記録膜２／中間層４／第二反射膜・記録膜６
／（第二ピット（９）・グルーブ形成面）／第二光透過
性基板７の順に積層されており、前記第一反射膜・記録
膜２は半透光性を有し、前記中間層４は室温・未硬化状
態での粘度が３，５００〜４００，０００ポイズである
と共に未硬化状態での厚さが５〜２００μｍである透光
性のドライ光硬化性フィルムからなる貼り合わせ型光デ
ィスクである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は貼り合わせ型光ディスク
及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、ディスクの
片面側から照射する再生ビームによって、積層された複
数のピット・グルーブ層に担持されている記録信号から
読取障害を起こすことなく情報を再生することができ、
ディスク面積を拡大したりピットサイズを縮小したりせ
ずに記録の高密度化や情報の高転送レート化を図ること
ができ、また、記録再生装置の簡素化を図ることができ
る貼り合わせ型光ディスク、及びその製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクの分野においては、高密度記
録化と高転送レート化を図ることが常に求められている
が、近年、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）の分野に
おいては高画質の映像情報を記録再生する必要があるこ
とから、その要求が特に高まっている。
【０００３】従来、光ディスクの記録再生方式として
は、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭのように１枚の基板の片面側に
ピット又はグルーブを形成した単板タイプの光ディスク
を用い、鏡面側からレーザービームを照射して記録信号
を読み取る方式や、ＬＤのようにピット又はグルーブを
形成した２枚の基板を貼り合わせたタイプの光ディスク
を用い、Ａ面側の記録信号はＡ面側からレーザービーム
を照射して読み取り、Ｂ面側の記録信号はＢ面側からレ
ーザービームを照射して読み取る方式等があるが、いず
れにしても高密度記録化と高転送レート化を図るため
に、ディスク面積を拡大するか又はピットサイズを縮小
するという方法を採っていた。しかし、ディスク面積の
拡大化には実用上の制限があり、またピットサイズの縮
小化には技術的な限界があるので、高密度記録化と高転
送レート化には一定の限界がある。
【０００４】また、ピット又はグルーブを形成した２枚
の基板を透光性の中間層を介して貼り合わせたタイプの
光ディスクを用い、ディスクの片面側から再生用レーザ
ービームを照射して複数の層にそれぞれ担持されている
記録信号を同時に読み取ることによって、高密度記録化
と高転送レート化を図る試みも行われている。ところで
貼り合わせ型の光ディスクを製造するの際して、従来
は、エポキシ型接着剤、溶剤型接着剤、ホットメルト型
接着剤（特開平２−４８９８４号公報）、２Ｐ接着剤等
によって２枚の基板を貼り合わせており、これらの接着
剤をロールコータ等によって基板上に塗布することによ
って中間層を形成していた。しかし、上記のような接着
剤は内部に気泡が残存しやすく、また、ロールコータ等
によって接着剤を基板に塗布した場合には厚みむらが大
きすぎるので、できあがった中間層は光学的に不均一で
ある。そのため、この試みにおいては、再生用レーザー
ビームの照射側からみて中間層の向こう側にある層に担
持されている記録信号をうまく読み取ることができず、
未だ充分な成果を挙げていないのが実情である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる事情に
基づいてなされたものであり、本発明の目的は、ディス
ク面積を拡大したりピットサイズを縮小したりせずに記
録の高密度化や情報の高転送レート化を図ることがで
き、しかも、ディスクの記録面から読取障害を起こすこ
となく情報を再生することができる光ディスク、及びそ
の光ディスクを効率良く製造できる方法を提供すること
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明においては、（１）少なくとも、片面に第一
の情報信号を担持する第一のピット又はグルーブが形成
されピット・グルーブ形成面に第一の反射膜又は記録膜
が積層された第一の光透過性基板と、片面に第二の情報
信号を担持する第二のピット又はグルーブが形成されピ
ット・グルーブ形成面に第二の反射膜又は記録膜が積層
された第二の光透過性基板と、前記第一の反射膜又は記
録膜と前記第二の反射膜又は記録膜とを貼り合わせる中
間層からなり、（２）前記第一の反射膜又は記録膜は、
入射した光ビームの一部が透過可能であり、（３）前記
第二のピット又はグルーブは、前記第一の光透過性基板
側から照射した光ビームによって読み取ることができる
形状を有し、（４）前記中間層は、室温・未硬化状態で
の粘度が３，５００〜４００，０００ポイズであると共
に未硬化状態での厚さが５〜２００μｍである透光性の
ドライ光硬化性フィルムからなる構成の貼り合わせ型光
ディスクを提供する。
【０００７】また、上記貼り合わせ型光ディスクの製造
方法として、少なくとも、（１）片面に第一の情報信号
を担持する第一のピット又はグルーブが形成されている
第一の光透過性基板のピット・グルーブ形成面に、入射
した光ビームの一部が透過可能な第一の反射膜又は記録
膜を積層する第一工程と、（２）片面に第二の情報信号
を担持し且つその形成面側から照射した光ビームによっ
て読み取ることができる形状を有する第二のピット又は
グルーブが形成されている第二の光透過性基板のピット
・グルーブ形成面に、第二の反射膜又は記録膜を積層す
る第二工程と、（３）第一工程で得られた積層体の第一
の反射膜又は記録膜側表面と第二工程で得られた積層体
の第二の反射膜又は記録膜側表面との間に、室温・未硬
化状態での粘度が３，５００〜４００，０００ポイズで
あると共に未硬化状態での厚さが５〜２００μｍである
透光性のドライ光硬化性フィルムを積層してから加圧す
ることによって、前記の両積層体を貼り合わせる第三工
程と、（４）前記第三工程で得られた積層体に、加圧し
た状態下で第一の光透過性基板側から紫外線を照射して
前記ドライ光硬化性フィルムを硬化させる第四工程とを
有する構成の貼り合わせ型光ディスクの製造方法を提供
する。
【０００８】
【作用】本発明の光ディスクは、片面に第一の情報信号
を担持する第一のピット又はグルーブが形成されピット
・グルーブ形成面に第一の反射膜又は記録膜が積層され
た第一の光透過性基板と、片面に第二の情報信号を担持
する第二のピット又はグルーブが形成されピット・グル
ーブ形成面に第二の反射膜又は記録膜が積層された第二
の光透過性基板とが、前記の第一光透過性基板上の第一
の反射膜又は記録膜と前記の第二光透過性基板上の第二
の反射膜又は記録膜とが対向する位置関係の下で透光性
の中間層によって貼り合わせられた層構造を有してい
る。そして、前記第一の反射膜又は記録膜は、入射した
光ビームの一部が透過可能であり、且つ、第一のピット
・グルーブだけでなく第二のピット・グルーブも前記の
第一光透過性基板側から照射した光ビームによって読み
取ることができる形状を有している。
【０００９】このような層構造を有する本発明にかかる
光ディスクにおいて、第一光透過性基板側から光ディス
クに入射した光ビームの一部は、第一の反射膜又は記録
膜及び中間層を透過し、第二の情報信号を担持するピッ
ト・グルーブに到達する。従って、この光ディスクに第
一光透過性基板側から１個あるいは複数個の再生用ビー
ムを照射すると共に、これらの再生用ビームのフォーカ
ス位置をＤＣオフセットさせて、第一の情報信号を担持
するピット・グルーブの層と第二の情報信号を担持する
ピット・グルーブの層を同時にあるいは連続的に再生で
きることとなり、高密度の記録再生が可能になるだけで
なく、複数のピックアップを使用すれば高転送レート化
を図ることも可能になる。また、光ディスクの片面から
だけ再生ビームを照射すればよいので、第一のピット・
グルーブ形成面の再生が終了してから第二のピット・グ
ルーブ形成面を連続的に再生（あるいはその逆の順で再
生）したい場合に、人手や再生装置内の機械で光ディス
クを裏返したり、再生装置内の機械でピックアップを光
ディスクの反対側の面に移動させたりする必要もない。
【００１０】しかも、前記中間層は、室温・未硬化状態
での粘度が３，５００〜４００，０００ポイズであると
共に未硬化状態での厚さが５〜２００μｍである透光性
のドライ光硬化性フィルムからなっているので、層厚の
厚みむらや層内部の気泡残存が起こりにくく、光学的均
一性が高い。
【００１１】すなわち、本発明の中間層は、フィルム状
の形態で積層することによって形成されるので、中間層
用材料を塗布することによって形成された中間層と比べ
て厚みむらが少ない。また、室温・未硬化状態での粘度
が３，５００〜４００，０００ポイズに設定されている
ので、第一の反射膜又は記録膜と第二の反射膜又は記録
膜の間にドライ光硬化性フィルムを積層してから紫外線
硬化させる過程でフィルムが型くずれを起こすことが防
止されて厚みむらが少ないと共に、フィルム内部に気泡
が残存しにくい。さらに、未硬化状態での厚さが５〜２
００μｍに設定されているので、フィルム内部から気泡
がよく抜けて残存しにくい。
【００１２】このように中間層であるドライ光硬化性フ
ィルムの光学的均一性が高いので、第一光透過性基板側
から光ディスクに照射された再生用ビームが該ドライ光
硬化性フィルムの層を通過する際に読取障害を起こすこ
とがなく、第二の情報信号を担持するピット・グルーブ
の層についても正確に再生することができる。
【００１３】さらに、第一の情報信号を担持するピット
・グルーブの上あるいは第二の情報信号を担持するピッ
ト・グルーブの上のうちのいずれか一方又は両方に、反
射膜ではなくて記録膜を積層すれば、書込可能な光ディ
スクとすることもできる。
【００１４】一方、本発明の光ディスクの製造方法にお
いては、第一の反射膜又は記録膜と第二の反射膜又は記
録膜の間に中間層用材料として未硬化状態のドライ光硬
化性フィルムを積層し圧着してから加圧状態のままで紫
外線硬化させることによって、ドライ光硬化性フィルム
からなる中間層を形成する。
【００１５】この方法においては、中間層用材料をフィ
ルム状の形態で積層するので、中間層用材料を塗布する
場合と比べて中間層の厚みむらが少なくなる。ドライ光
硬化性フィルムの室温・未硬化状態での粘度は３，５０
０〜４００，０００ポイズの範囲内に設定されている
が、この粘度範囲内においては、第一の反射膜又は記録
膜と第二の反射膜又は記録膜の間にドライ光硬化性フィ
ルムを接着積層してから紫外線硬化させる過程でフィル
ムが型くずれしにくいので厚みむらが少なく、フィルム
内部に気泡が残存しにくく、さらに、第一の反射膜又は
記録膜と第二の反射膜又は記録膜を接着するのに充分な
粘着性が確保され、紫外線照射時の硬化収縮による応力
が過大になることもない。また、ドライ光硬化性フィル
ムの未硬化状態での厚さは５〜２００μｍの範囲内に設
定されているが、この範囲内においては、フィルム内部
から気泡がよく抜けるので気泡が残存しにくい。また、
この層厚の範囲内では、フィルム保存中に皺が発生する
ことがないので製造段階での取扱いが容易であり、また
紫外線照射時の硬化収縮による応力が過大になることが
ない。
【００１６】さらに、前記第一の反射膜又は記録膜は半
透光性なので、紫外線硬化を行う工程（第四工程）にお
いては、第一光透過性基板側から紫外線を照射すること
によって中間層であるドライ光硬化性フィルムを硬化さ
せることができる。
【００１７】
【実施例】以下に本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の光ディスクの層構成を示す
説明図である。
【００１８】図１に示すように、この光ディスクは、第
一の光透過性基板１側から第二の光透過性基板７側に向
かって、順次、第一の光透過性基板１、第一の反射膜又
は記録膜２、第一の保護膜３、中間層４、第二の保護膜
５、第二の反射膜又は記録膜６、第二の光透過性基板７
が積層された構造を有している。そして、第一の光透過
性基板の第一の反射膜又は記録膜２側表面、及び第二の
光透過性基板の第二の反射膜又は記録膜６側表面には、
それぞれ第一の情報信号を担持する第一のピット８、及
び第二の情報信号を担持する第二のピット９が形成され
ており、これらのピット８、ピット９は、いずれも第一
の光透過性基板１側から照射した再生用ビームによって
読み取ることができる形状を有している。なお、図１に
は、光透過性基板にピットが形成されている光ディスク
を示したが、第一又は第二の光透過性基板には、ピット
８、９の代わりにグルーブが形成されていてもよい。
【００１９】第一の光透過性基板１及び第二の光透過性
基板７の形成材料は、光透過性を有しているものであれ
ばよく、たとえばポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の樹脂、光学ガラスな
どの透明材料が挙げられる。各種透明材料のなかでも、
ポリカーボネート（ＰＣ）は、耐環境性に優れ、また寸
法安定性にも優れていることから好適に用いられる。
【００２０】これらの光透過性基板１、７は、その形成
材料が樹脂である場合には、たとえばキャビティ内にス
タンパーが配置された金型を用いるインサート射出成形
により一体的に形成され、同時に表面のピットも形成さ
れる。
【００２１】光透過性基板の形状および大きさは、この
光ディスクの用途に応じて適宜に決定すればよい。たと
えば現在規格化が進行しているデジタルビデオディスク
（ＤＶＤ）の場合、各光透過性基板１、７は、それぞ
れ、直径１２０ｍｍ程度で中心部に直径１５ｍｍ程度の
センターホールを有する円盤状であり、その厚さは、
０．６ｍｍ程度である。
【００２２】第一の光透過性基板１及び第二の光透過性
基板７に形成されているピット８、９の深さは、通常、
０．０２〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．３μｍで
ある。この深さが０．０２μｍ未満であると、情報の読
出しが正確に行えないことがある。一方、１μｍよりも
深くしても、それに相当する効果は奏されない。
【００２３】本発明においては、再生時に第一の光透過
性基板１側から照射した再生用ビームが第二のピット８
にまで到達する必要があり、且つ、光ディスクの製造時
に第一の反射膜又は記録膜２と第二の反射膜又は記録膜
６の間に挟まれた未硬化の中間層用材料にまで紫外線を
到達させて該中間層用材料を硬化させる必要がある。そ
のため、第一の光透過性基板１上に積層されている第一
の反射膜又は記録膜２は、入射した光ビームの一部が透
過可能であることが必要であり、入射光の３０％程度を
反射し、入射光の６０％程度を透過するものが好まし
い。
【００２４】半透光性を有する第一の反射膜としては、
例えば、一般的な反射膜よりも薄い金属膜を例示するこ
とができ、より具体的には、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎ
ｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等からなる厚さ１００〜２
００Å程度の金属膜を例示することができる。第一の反
射膜２の形成方法としては、たとえばスパッタリング
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げら
れる。
【００２５】ここで、半透光性を有する第一の反射膜に
代えて半透光性を有する第一の記録膜を積層してもよ
い。このように、反射膜の代わりに記録膜を積層するこ
とによって、光ディスクを書込可能型のディスクとする
ことができる。半透光性を有する第一の記録膜２の材料
は特に限定されず、例えば光磁気記録型、相変化型、色
素膜型、金属膜型等に属する公知の記録材料を例示する
ことができ、より具体的には、セレン化亜鉛、酸化ビス
マス、硫化カドミウム、テルル化カドミウム等の誘電体
を例示することができる。そして、第一の記録膜２を形
成する際には、実際に採用する材料に応じて公知の方法
により積層すればよい。
【００２６】一方、第二の光透過性基板７上に積層され
ている第二の反射膜又は記録膜６は、第一の反射膜又は
記録膜２と異なり、半透光性である必要はない。第二の
反射膜６の形成材料としては、たとえばアルミニウム
（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、金（Ａｕ）、銀
（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）などが挙げられる。これらのなか
でも、好ましいのはアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウ
ム（Ａｌ）合金である。第二の反射膜６の形成方法とし
ては、たとえばスパッタリング法、真空蒸着法、イオン
プレーティング法などが挙げられる。このような第二の
反射膜６の厚さは、通常、０．０５〜０．２μｍ、好ま
しくは０．０８〜０．１２μｍである。
【００２７】ここで、第二の反射膜の代わりに第二の記
録膜を積層することによって、光ディスクを書込可能型
のディスクとすることができる。第二の記録膜６の材料
は特に限定されないが、例えば光磁気記録型、相変化
型、色素膜型、金属膜型等に属する公知の記録材料を用
いることができる。そして、第二の記録膜６を形成する
際には、実際に採用する材料に応じて公知の方法により
積層すればよい。
【００２８】第一の反射膜又は記録膜２上に積層されて
いる第一の保護膜３、及び第二の反射膜又は記録膜６上
に積層されている第二の保護膜５は、中間層を積層する
前の第一の反射膜又は記録膜２あるいは第二の反射膜又
は記録膜６の露出面を保護するためのものであり、反射
膜又は記録膜が露出したままの半製品を移送したり保管
したりするような場合に有用である。ただし、これらの
保護膜は必要に応じて設けられるものであり、いずれか
一方又は両方の保護膜を省略することができる。
【００２９】第一の保護膜３と第二の保護膜５は、第一
の反射膜又は記録膜２の場合と同様の理由から、入射し
た光ビームの少なくとも一部が透過可能でなければなら
ない。そして、第一の反射膜又は記録膜２は、ピット８
に担持された第一の情報信号を再生するために再生用ビ
ームの一部を反射又は吸収する半透光性を有していなけ
ればならないのに対して、第一の保護膜３と第二の保護
膜５は、むしろ再生用ビームや硬化用紫外線の透過に全
く影響を与えないものであるものである方が好ましいの
で、実質的に１００％の透光性を有することが好まし
い。
【００３０】第一の保護膜３は第一の反射膜又は記録膜
２上に、そして第二の保護膜５は第二の反射膜又は記録
膜６上に、それぞれ接着剤層を介してあるいは介すこと
なく積層されている。これらの保護膜３、５の形成材料
としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコ
ーン樹脂、ウレタン樹脂、エチレン・酢酸ビニル共重合
樹脂などが挙げられる。また、これらの保護膜は、いわ
ゆる２Ｐ（photo polymarization）法により塗設された
紫外線硬化性樹脂であってもよい。このような保護膜
３、５の厚さは、通常、２〜２００μｍ、好ましくは５
〜２０μｍである。
【００３１】中間層４は、透光性のドライ光硬化性フィ
ルムからなり、未硬化の状態で且つフィルム状の形態で
第一の保護膜３と第二の保護膜５の間に接着積層された
後、紫外線硬化されて形成されたものである。このドラ
イ光硬化性フィルムは、室温・未硬化状態での粘度が
３，５００〜４００，０００ポイズ、好ましくは２０，
０００〜４０，０００ポイズであり、かつ紫外線の照射
により硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含まないも
のである。
【００３２】ドライ光硬化性フィルムの室温・未硬化状
態での粘度が３，５００ポイズ未満であると、ほぼ液体
となりフィルム形状が維持されなくなったり、反射膜又
は記録膜上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化
収縮が過大になる等の問題を生じることがある。一方、
この粘度が４００，０００ポイズを超えると、光ディス
クの生産工程において混入した気泡が残存し易くなり、
また反射膜又は記録膜あるいは保護膜への密着力が低下
して実用に供せなくなることがある。
【００３３】また、未硬化状態のドライ光硬化性フィル
ムの厚さは５〜２００μｍ、好ましくは２０〜８０μ
ｍ、より好ましくは５０μｍである。ドライ光硬化性フ
ィルムの厚さが５μｍ未満であると、２つのピット・グ
ルーブの形成面の間の間隔が狭過ぎるので、第二の光透
過性基板７上の第二ピット・グルーブの形成面にビーム
を照射して記録・再生を行う際に、第一の光透過性基板
１上に形成された第一のピット・グルーブの影響を受け
ることがある。一方、ドライ光硬化性フィルムの厚さが
２００μｍを超えると、そのようなドライ光硬化性フィ
ルムは未硬化状態での保存中にフィルムに皺が発生し易
くなって取扱い上不便であり、また、反射膜又は記録膜
上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮によ
る応力が過大になることがある。
【００３４】このようなドライ光硬化性フィルムは、架
橋および／または重合により高分子量ポリマーに変化す
る光硬化性樹脂組成物により形成され、そのような光硬
化性樹脂組成物としては、例えば光重合型感光性樹脂組
成物が挙げられる。
【００３５】この光重合型感光性樹脂組成物は、エチレ
ン性不飽和モノマー、光重合開始剤およびバインダーポ
リマーを含有する。ここで、エチレン性不飽和モノマー
としては、たとえばｔ−ブチルアクリレート、１，５−
ペンタンジオールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、１，３−プロパンジ
オールジアクリレート、デカメチレングリコールジアク
リレート、デカメチレングリコールジメタクリレート、
１，４−シクロヘキセンジオールジアクリレート、２，
２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロー
ルジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールト
リアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチ
ロールプロパントリメタクリレート、２，２−ジ（ｐ−
ヒドロキシフェニル）−プロパンジアクリレート、２，
２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタク
リレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエ
チル−２，２−ジ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパ
ンジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタク
リレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパン
トリアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、ブチレングリコールジメタクリレート、１，３−プ
ロパンジオールジメタクリレート、１，２，４−ブタン
トリオールトリメタクリレート、２，２，４−トリメチ
ル−１，３−ペンタンジオールジメタクリレート、ペン
タエリトリトールテトラメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、１，５−ペンタンジオ
ールジメタクリレートなどが挙げられる。
【００３６】たとえばこれらのエチレン性不飽和モノマ
ーは一種単独で、あるいは二種以上が組み合わされて用
いられる。光重合型感光性樹脂組成物におけるエチレン
性不飽和モノマーの含有率は、通常、５〜９０重量％、
好ましくは１５〜５０重量％である。
【００３７】光重合開始剤としては、たとえば９，１０
−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−ク
ロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−
エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノ
ン、オクタメチルアントラキノン、１，４−ナフトキノ
ン、９，１０−フェナントレキノン、１，２−ベンズア
ントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−メ
チル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロナフト
キノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジ
クロロナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノ
ン、２，３−ジメチルアントラキノン、２，３−ジフェ
ニルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、ア
ントラキノンα−スルホン酸のナトリウム塩、３−クロ
ロ−２−メチルアントラキノン、レテンキノン、７，
８，９，１０−テトラヒドロナフタセンキノン等の多核
キノン類、ベンゾイン、ピバロイン、アシロインエーテ
ル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン、フェナジン、
オキサジン、ミヒラーケトン、ベンゾフェノン、シクロ
ヘキサジエン化合物などが挙げられる。たとえばこれら
の光重合開始剤とともに増感剤を用いることも好まし
い。
【００３８】たとえばこれらの光重合開始剤は一種単独
で、あるいは二種以上が組み合わされて用いられる。光
重合型感光性樹脂組成物における光重合開始剤の含有率
は、通常、０．５〜３０重量％、好ましくは１〜５重量
％である。
【００３９】バインダーポリマーとしては、たとえばポ
リメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、
ポリビニルアセテート、ポリビニルアセテート／アクリ
レート、ポリビニルアセテート／メタクリレート、エチ
レン／ビニルアセテートコポリマー、ポリスチレンポリ
マーおよびコポリマー、ビニリデンクロリド／アクリロ
ニトリル、ビニリデンクロリド／メタクリレートとビニ
リデンクロリド／ビニリデンアセテートとのコポリマ
ー、ポリビニルクロリドおよびコポリマー、ブタジエン
／アクリロニトリル、アクリロニトリル／ブタジエン／
スチレン、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジ
エン／スチレンコポリマー、２−クロロブタジエン−
１，３−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン／ブタジエン
／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレンブロック
コポリマー、アクリレート基またはメタクリレート基を
含むエポキシド、コポリエステル、ポリアミド、セルロ
ースエステル、セルロースエーテル、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール、ポリホルムアルデヒドなど
が挙げられる。
【００４０】たとえばこれらのバインダーポリマーは一
種単独で、あるいは二種以上が組み合わせされて用いら
れる。光重合型感光性樹脂組成物におけるバインダーポ
リマーの含有率は、通常、５〜９０重量％、好ましくは
１５〜５０重量％であるたとえばこれらの成分を含有す
る光重合型感光性樹脂組成物は、ドライ光硬化性フィル
ム２の室温・未硬化状態における粘度が前記の範囲を逸
脱しない範囲で他の成分、例えば可塑剤、増粘剤、紫外
線吸収剤、酸化防止剤、螢光漂白剤、熱安定剤、離型剤
等を含有していてもよい。
【００４１】光重合型感光性樹脂組成物におけるこれら
の成分の含有率は、可塑剤については、通常、０〜２５
重量％、好ましくは５〜１５重量％であり、その他の成
分については、通常、０〜５重量％、好ましくは１〜４
重量％である。
【００４２】また、ドライ光硬化性フィルムを形成する
光硬化性組成物としては、前記光重合感光性樹脂組成物
のほかに、たとえば光二量型感光性樹脂組成物、光架橋
型感光性樹脂組成物が挙げられる。
【００４３】上述のように、ドライ光硬化性フィルムか
らなる中間層は、未硬化の状態で且つフィルム状の形態
で第一の反射膜又は記録膜２（あるいは第一の保護膜
３）と第二の反射膜又は記録膜６（あるいは第二の保護
膜５）の間に接着積層された後、紫外線硬化されて形成
されたものである。そして、ドライ光硬化性フィルムと
反射膜又は記録膜あるいは保護膜との接着は、このドラ
イ光硬化性フィルムの粘着力を利用して行われる。従っ
て、この光ディスクにおいて、ドライ光硬化性フィルム
を接着積層するために該フィルム上に接着剤層を設ける
必要はない。
【００４４】また、ドライ光硬化性フィルムの光硬化後
の屈折率は、通常、１．４０〜１．６０であり、第一の
光透過性基板１及び第二の光透過性基板７の屈折率との
差が０．０５以下であることが好ましい。
【００４５】図１において、第一の光透過性基板１上の
ピット８に担持されている第一の情報信号と第二の光透
過性基板７上のピット９に担持されている第二の情報信
号とは、通常、第一の光透過性基板１側から照射された
レーザ光の反射光により読み取られる。
【００４６】以上説明したような本発明の光ディスク
は、積層された複数のピット・グルーブ層にそれぞれ担
持されている情報信号を、第一の光透過性基板側から再
生用ビームを照射することによって、読取障害を起こす
ことなく、同時あるいは連続的に再生することが可能で
ある。従って、単位ディスク面積当たりの記録密度を向
上させ、再生時間を長くし、さらに、複数のピックアッ
プを使用すれば転送レートを高めることもできる。例え
ば、同一フォーマットで同一の記録密度を有するピット
・グルーブ層を１層だけ有する場合に比べて、再生時間
又はデータ転送レートが１．５〜２倍になる。また、本
発明の光ディスクは、ディスクの片面からだけ再生用ビ
ームを照射すればよいので、第一のピット・グルーブ形
成面の再生が終了してから第二のピット・グルーブ形成
面を連続的に再生（あるいはその逆の順で再生）したい
場合に、人手や再生装置内の機械で光ディスクを裏返し
たり、再生装置内の機械でピックアップを光ディスクの
反対側の面に移動させたりする必要もない。
【００４７】上記本発明の光ディスクは、以下に説明す
る方法により効率よく製造される。図２は、本発明の製
造方法の一例を示す工程図である。図２（ａ）に示すよ
うに、この方法においては、先ず、片面に第一の情報信
号を担持するピット８が形成されている第一の光透過性
基板１を準備する。なお第一の光透過性基板１には、ピ
ット８に代えて第一の情報信号を担持するグルーブが形
成されていてもよい。第一の情報信号を担持するピット
８は、第一の光透過性基板１のピット・グルーブ形成面
とは反対側の方向から照射した再生用ビームによって読
み取れるように、凹形状を有している。
【００４８】第一の光透過性基板１は、例えば、キャビ
ティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリカー
ボネート（ＰＣ）等の透明性樹脂をインサート射出成形
することによって得られる。
【００４９】インサート射出成形の一例を図３に示す。
この図に沿って説明すると、まず、図３（ａ）に示すよ
うに、フォトレジスト材料２０１を塗布したガラスディ
スク２０２にレーザ光を照射して情報を記録し、これを
エッチング現像して凹凸のマスターディスクを作製す
る。次に、図３（ｂ）に示すように、上記のマスターデ
ィスクを用いてニッケル電鋳することによりに図３
（ｃ）に示すニッケルスタンパー２０３を作製する。そ
の後、図３（ｄ）に示すように、上記のニッケルスタン
パー２０３を金型のキャビティ内に配置して光透過性基
板形成用樹脂を射出成形することによって、ピット８を
有する第一の光透過性基板１が得られる。
【００５０】次に、図２（ｂ）に示すように、第一の光
透過性基板１のピット・グルーブ形成面に、第一の反射
膜又は記録膜２、第一の保護膜３を形成する。第一の反
射膜又は記録膜２は、入射した光ビームの一部が透過可
能であることが必要であり、入射光の３０％程度を反射
し、入射光の６０％程度を透過するものが好ましい。半
透光性を有する第一の反射膜としては、例えば、一般的
な反射膜よりも薄い金属膜を例示することができ、より
具体的には、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミニ
ウム（Ａｌ）等からなる厚さ１００〜２００Å程度の金
属膜を例示することができる。第一の反射膜２の形成方
法としては、たとえばスパッタリング法、真空蒸着法、
イオンプレーティング法などが挙げられる。
【００５１】ここで、半透光性を有する第一の反射膜に
代えて半透光性を有する第一の記録膜を積層してもよ
い。このように、反射膜の代わりに記録膜を積層するこ
とによって、光ディスクを書込可能型のディスクとする
ことができる。半透光性を有する第一の記録膜２の材料
は特に限定されず、例えば光磁気記録型、相変化型、色
素膜型、金属膜型等に属する公知の記録材料を例示する
ことができ、より具体的には、セレン化亜鉛、酸化ビス
マス、硫化カドミウム、テルル化カドミウム等の誘電体
を例示することができる。そして、第一の記録膜２を形
成する際には、実際に採用する材料に応じて公知の方法
により積層すればよい。
【００５２】第一の保護膜３は、入射した光ビームの少
なくとも一部が透過可能であることが必要であり、実質
的に１００％の透光性を有することが好ましい。第一の
保護膜３は、第一の反射膜又は記録膜２上に、接着剤層
を介してあるいは介すことなく積層する。この保護膜３
の形成材料としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹
脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合樹脂などが挙げられる。また、この保護膜
は、いわゆる２Ｐ（photo polymarization）法により塗
設された紫外線硬化性樹脂であってもよい。このような
保護膜３の厚さは、通常、２〜２００μｍ、好ましくは
５〜２０μｍとする。
【００５３】なお、第一の保護膜３は、中間層を積層す
る前の第一の反射膜又は記録膜２の露出面を保護するた
めのものであり、反射膜又は記録膜が露出したままの半
製品を移送したり保管したりするような場合に有用であ
る。しかし、この第一の保護膜３は必要に応じて設けら
れるものであり省略してもよい。
【００５４】上記図２（ａ）〜（ｂ）の工程を経ること
によって、第一の光透過性基板１上に、第一の反射膜又
は記録膜２と第一の保護膜３が積層された半製品が得ら
れる。一方、図２（ａ）〜（ｂ）の工程と並列的に進め
られる図２（ｃ）〜（ｄ）の工程を経ることによって、
第二の光透過性基板７上に、第二の反射膜又は記録膜６
と第二の保護膜５が積層された半製品が得られる。
【００５５】図２（ｃ）〜（ｄ）の工程図においては、
先ず、図２（ｃ）に示すように、片面に第二の情報信号
を担持するピット９が形成されている第二の光透過性基
板７を準備する。なお第二の光透過性基板７には、ピッ
ト９に代えて第二の情報信号を担持するグルーブが形成
されていてもよい。第二の情報信号を担持するピット９
は、第二の光透過性基板７のピット・グルーブ形成面側
の方向から照射した再生用ビームによって読み取れるよ
うに、凸形状を有している。
【００５６】第二の光透過性基板７は、第一の光透過性
基板１と同様に、例えば、キャビティ内にスタンパーが
配置された金型を用いてポリカーボネート（ＰＣ）等の
透明性樹脂をインサート射出成形することによって得ら
れる。
【００５７】次に、図２（ｄ）に示すように、第二の光
透過性基板７のピット・グルーブ形成面に、第二の反射
膜又は記録膜６、第二の保護膜５を形成する。第二の反
射膜又は記録膜６は、第一の反射膜又は記録膜２と異な
り、半透光性である必要はない。
【００５８】第二の反射膜６の形成材料としては、たと
えばアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合
金、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）などが挙げら
れる。これらのなかでも、好ましいのはアルミニウム
（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金である。第二の反
射膜６の形成方法としては、たとえばスパッタリング
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げら
れる。このような第二の反射膜６の厚さは、通常、０．
０５〜０．２μｍ、好ましくは０．０８〜０．１２μｍ
である。
【００５９】ここで、第二の反射膜の代わりに第二の記
録膜を積層することによって、光ディスクを書込可能型
のディスクとすることができる。第二の記録膜６の材料
は特に限定されないが、例えば光磁気記録型、相変化
型、色素膜型、金属膜型等に属する公知の記録材料を用
いることができる。そして、第二の記録膜６を形成する
際には、実際に採用する材料に応じて公知の方法により
積層すればよい。
【００６０】第二の保護膜５は、第一の保護膜３と同様
に、入射した光ビームの少なくとも一部が透過可能であ
ることが必要であり、実質的に１００％の透光性を有す
ることが好ましい。そして、この第二の保護膜５は、第
一の保護膜３と同様にして形成すればよく、また、第一
の保護膜３と同様に省略可能である。
【００６１】次に、図２（ｅ）に示すように、図２
（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２
（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを、
保護膜３、５同士が対向する状態下で位置合わせし、さ
らに両積層体の間に、透明性のドライ光硬化性フィルム
４ａを配置する。
【００６２】ここで、使用に供されるドライ光硬化性フ
ィルム４ａは未硬化のものであり、室温・未硬化状態で
の粘度が３，５００〜４００，０００ポイズ、好ましく
は２０，０００〜４０，０００ポイズであり、かつ紫外
線の照射により硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含
まないものである。
【００６３】ドライ光硬化性フィルムの室温・未硬化状
態での粘度が３，５００ポイズ未満であると、ほぼ液体
となりフィルム形状が維持されなくなったり、反射膜又
は記録膜上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化
収縮が過大になる等の問題を生じることがある。一方、
この粘度が４００，０００ポイズを超えると、光ディス
クの生産工程において混入した気泡が残存し易くなり、
また反射膜又は記録膜あるいは保護膜への密着力が低下
して実用に供せなくなることがある。
【００６４】また、未硬化状態のドライ光硬化性フィル
ムの厚さは５〜２００μｍ、好ましくは２０〜８０μ
ｍ、より好ましくは５０μｍである。ドライ光硬化性フ
ィルムの厚さが５μｍ未満であると、２つのピット・グ
ルーブの形成面の間の間隔が狭過ぎるので、第二の光透
過性基板７上の第二ピット・グルーブの形成面にビーム
を照射して記録・再生を行う際に、第一の光透過性基板
１上に形成された第一のピット・グルーブの影響を受け
ることがある。一方、ドライ光硬化性フィルムの厚さが
２００μｍを超えると、そのようなドライ光硬化性フィ
ルムは未硬化状態での保存中にフィルムに皺が発生し易
くなって取扱い上不便であり、また、反射膜又は記録膜
上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮によ
る応力が過大になることがある。ドライ光硬化性フィル
ム４ａの供給方法としては、例えば、図２（ｅ）に示す
ように、フィルム供給ロール１１からフィルムを連続的
に送り出す方法を例示することができる。図２（ｅ）に
おいて、ドライ光硬化性フィルム４ａは、例えばポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなるベー
スフィルム４ｂと例えばポリエチレン（ＰＥ）フィルム
からなるカバーフィルム４ｃとの積層体の形態でフィル
ム供給ロール１１に巻き付けられている。このドライ光
硬化性フィルム４ａは、フィルム供給ロール１１から引
き出される。次いで、該フィルムの両面は、例えばベー
スフィルム巻取ロール１５でベースフィルム４ｂが巻取
られ且つカバーフィルム巻取ロール１４でカバーフィル
ム４ｃが巻取られることによって露出する。そして、両
面が露出した未硬化状態のドライ光硬化性フィルム４ａ
は、一面側においては保護膜３と対向し、他面側におい
ては保護膜５と対向する状態で２つの積層体の間に配置
される。
【００６５】次に、図２（ｆ）に示すように、図２
（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２
（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを、
未硬化のドライ光硬化性フィルム４ａを介して重ね合わ
せた後、加圧することによって圧着する。
【００６６】加圧方法は特に限定されないが、図２
（ｆ）においてはオーバーロール３１とアンダーロール
３２とによって加圧するロール加圧法を採用している。
ロール加圧法による場合には、室温下で加圧し、加圧力
は、通常０．５〜５０ｋｇ／ｃｍ 2 、好ましくは５〜２
０ｋｇ／ｃｍ2 とする。また、オーバーロール３１とア
ンダーロール３２とによる送り速度は、通常０．０５〜
１０ｍ／分、好ましくは０．１〜２ｍ／分程度とする。
ロール加圧法による場合には、２つの半製品である積層
体を貼り合わているドライ光硬化性フィルム４ａは、そ
の一端側から他端側に向かって２つの加圧ロール３１、
３２で送られながら加圧されていくので、ドライ光硬化
性フィルム４ａの内部に混入することのある気泡は、該
フィルム４ａの一端側から他端側に向かって絞り込まれ
ていき、最後には他端側から脱泡する。従って、この加
圧法によれば中間層内部の気泡をさらに少なくすること
ができる。
【００６７】このようにして２つの半製品である積層体
を貼り合わせた後、さらにカッター２０によって外周部
やセンターホール部に存在しているフィルムの不要部分
を除去する。
【００６８】なお、上記図２（ｅ）〜（ｆ）において
は、２つの積層体の保護膜面側同士を対向させた間にド
ライ光硬化性フィルムを配置して挟み込むという手順を
踏んでいるが、貼り合わせ工程を一段工程とする必要は
ない。例えば、一方の積層体の保護膜面側にドライ光硬
化性フィルムを積層した後、該ドライ光硬化性フィルム
の露出面を他方の積層体の保護膜面側に積層し、さらに
加圧することによって両積層体を貼り合わせてもよい。
【００６９】その後、図２（ｇ）に示すように、光ディ
スク形状の積層体に、加圧状態下で紫外線（ＵＶ）を照
射することによって未硬化状態のドライ光硬化性フィル
ム４ａの全領域が硬化し、本発明の光ディスクが完成す
る。加圧状態下でフィルムを硬化させるのは、図２
（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２
（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを強
固に貼り合わせるためである。紫外線照射段階での加圧
力は、通常、２つの半製品である積層体の間にドライ光
硬化性フィルムを積層・圧着する段階での加圧力と同程
度とする。図２（ｇ）段階における光ディスク形状の積
層体は、第一の光透過性基板１側の第一の反射膜又は記
録膜２と第一の記録膜３とが少なくとも半透光性を有し
ている。従って、光ディスク形状の積層体の内部に存在
する未硬化状態のドライ光硬化性フィルム４ａは、該積
層体の第一の光透過性基板１側から紫外線を照射するこ
とによって硬化させることができる。この硬化に要する
紫外線の照射エネルギーは、通常、１００ｍＪ／ｃｍ2
以上であり、好ましくは１，０００ｍＪ／ｃｍ2 程度で
ある。
【００７０】
【発明の効果】本発明の光ディスクは、積層された複数
のピット・グルーブ層にそれぞれ担持されている情報信
号を、光ディスクの片面側から再生用ビームを照射する
ことによって、読取障害を起こすことなく、同時あるい
は連続的に再生することが可能である。従って、ディス
ク面積を拡大したりピットサイズを縮小したりせずに単
位ディスク面積当たりの記録密度を向上させ、再生時間
を長くすることができる。さらに、複数のピックアップ
を使用することによって転送レートを高めることもでき
る。
【００７１】また、本発明の光ディスクは、ディスクの
片面からだけ再生ビームを照射すればよいので、第一の
ピット・グルーブ形成面の再生が終了してから第二のピ
ット・グルーブ形成面を連続的に再生（あるいはその逆
の順で再生）したい場合に、人手や再生装置内の機械で
光ディスクを裏返したり、再生装置内の機械でピックア
ップを光ディスクの反対側の面に移動させたりする必要
もない。従って、再生時に視聴者が光ディスクを裏返す
手間をなくすことができ、あるいは再生装置内のピック
アップ移動機構を簡略化することができる。
【００７２】また、本発明の製造方法によれば、上記本
発明の光ディスクを得ることができる。しかも、ドライ
光硬化性フィルムの室温・未硬化状態での粘度を３，５
００〜４００，０００ポイズの範囲内に設定し、且つ、
未硬化状態での厚さを５〜２００μｍの範囲内に設定し
たことによって、第一の反射膜又は記録膜と第二の反射
膜又は記録膜を接着する工程で充分な粘着性が確保さ
れ、フィルム保存中に皺が発生することがないので製造
段階での取扱いが容易であり、また紫外線照射時の硬化
収縮による応力が過大になることを防止できるので、本
発明の光ディスクを効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ディスクの積層構造の一例を示す説
明図である。
【図２】本発明の光ディスクの製造方法の一例を示す工
程図である。
【図３】光透過性基板の製造方法の一例を示す工程図で
ある。
【符号の説明】
１…第一の光透過性基板 ２…第一の反射膜又は記録膜 ３…第一の保護膜 ４…中間層 ４ａ…ドライ光硬化性フィルム ５…第二の保護膜 ６…第二の反射膜又は記録膜 ７…第二の光透過性基板 ８…第一の情報信号を担持するピット ９…第二の情報信号を担持するピット １１…フィルム供給ロール ２０…カッター ３１、３２…加圧ロール ２０３…スタンパー
フロントページの続き (72)発明者 小笹 直人 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 藤森 二郎 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （１）少なくとも、片面に第一の情報信
    号を担持する第一のピット又はグルーブが形成されピッ
    ト・グルーブ形成面に第一の反射膜又は記録膜が積層さ
    れた第一の光透過性基板と、片面に第二の情報信号を担
    持する第二のピット又はグルーブが形成されピット・グ
    ルーブ形成面に第二の反射膜又は記録膜が積層された第
    二の光透過性基板と、前記第一の反射膜又は記録膜と前
    記第二の反射膜又は記録膜とを貼り合わせる中間層から
    なり、（２）前記第一の反射膜又は記録膜は、入射した
    光ビームの一部が透過可能であり、（３）前記第二のピ
    ット又はグルーブは、前記第一の光透過性基板側から照
    射した光ビームによって読み取ることができる形状を有
    し、（４）前記中間層は、室温・未硬化状態での粘度が
    ３，５００〜４００，０００ポイズであると共に未硬化
    状態での厚さが５〜２００μｍである透光性のドライ光
    硬化性フィルムからなることを特徴とする貼り合わせ型
    光ディスク。
  2. 【請求項２】 少なくとも、（１）片面に第一の情報信
    号を担持する第一のピット又はグルーブが形成されてい
    る第一の光透過性基板のピット・グルーブ形成面に、入
    射した光ビームの一部が透過可能な第一の反射膜又は記
    録膜を積層する第一工程と、（２）片面に第二の情報信
    号を担持し且つその形成面側から照射した光ビームによ
    って読み取ることができる形状を有する第二のピット又
    はグルーブが形成されている第二の光透過性基板のピッ
    ト・グルーブ形成面に、第二の反射膜又は記録膜を積層
    する第二工程と、（３）第一工程で得られた積層体の第
    一の反射膜又は記録膜側表面と第二工程で得られた積層
    体の第二の反射膜又は記録膜側表面との間に、室温・未
    硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００ポイズ
    であると共に未硬化状態での厚さが５〜２００μｍであ
    る透光性のドライ光硬化性フィルムを積層してから加圧
    することによって、前記の両積層体を貼り合わせる第三
    工程と、（４）前記第三工程で得られた積層体に、加圧
    した状態下で第一の光透過性基板側から紫外線を照射し
    て前記ドライ光硬化性フィルムを硬化させる第四工程と
    を有することを特徴とする貼り合わせ型光ディスクの製
    造方法。
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