JP2007095270A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光ディスクの製造方法において、第１の積層体と第２の積層体とを強固に接着することができる光ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体を形成する第１積層体形成工程と、第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び厚さ４０〜１００ｎｍの第２の反射層をこの順に有する第２の積層体を形成する第２積層体形成工程と、前記第１の反射層と前記第２の反射層とを対向させ、前記第１の積層体と前記第２の積層体とを放射線硬化樹脂を用いて貼り合せる貼合工程と、を有し、前記貼合工程における放射線硬化樹脂の硬化を前記第２の基板側から放射線を照射して行うことを特徴とする光ディスクの製造方法である。
【選択図】図１

Description

本発明は、光ディスク及びその製造方法に関し、特に、レーザー光により可視画像を記録することができる画像記録層（場合により、可視情報記録層という）を有する光ディスク及びその製造方法に関する。

レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）として、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層（情報記録層）、金等の金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、情報記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、情報記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。

近年、記録密度のより高い光記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案され、実用化されている。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒに比べての間隔（トラックピッチ）が０．７４〜０．８μｍと狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる情報記録層、そして通常は該情報記録層の上に反射層、そしてさらに必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該情報記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録・再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。

ところで、前記光ディスクには、音楽データ等が記録される記録面とは反対側の面に、記録面に記録した音楽データの楽曲タイトルや、記録したデータを識別するためのタイトル等の可視情報を印刷したラベルを貼付したものが知られている。このような光ディスクは、プリンター等によって円形のラベルシート上にタイトル等を予め印刷し、当該ラベルシートを光ディスクの記録面とは反対側の面に貼付することにより作製される。

しかし、上述のようにタイトル等の所望の可視画像をレーベル面に記録した光ディスクを作製する場合には、光ディスクドライブとは別にプリンターが必要となる。従って、光ディスクドライブを用いて、ある光ディスクの記録面に記録を行った後、該光ディスクを光ディスクドライブから取り出して、別に用意したプリンターによって印刷されたラベルシートを貼付するなどといった煩雑な作業を行う必要がある。

そこで、レーザー光により、情報の記録再生のみならず、レーベル面への画像の描画をも行うことができる光ディスク記録装置が提案された（例えば、特許文献１参照。）。この光ディスク記録装置は、レーベル面側に感熱層を有する光ディスクを対象としたものであり、レーザーピックアップを走査して感熱層（画像記録層）に画像様にレーザー光を照射することにより、照射部分を変色させ可視画像を形成している。
特開２００３−２０３３４８号公報

ところで、このようなレーベル面側に画像記録層を有する光ディスクの場合、例えば、基板上に、少なくとも、情報記録層及び反射層が形成された第１の積層体と、基板上に、少なくとも、画像記録層及び反射層が形成された第２の積層体とが接着層を介して貼り合わされて作製される。
通常、この貼り合わせに接着剤として放射線硬化樹脂を使用する場合、両積層体には反射層が存在するため、外側から放射線を照射しても放射線が反射層に遮断され放射線硬化樹脂に殆ど到達せず、放射線硬化型接着剤を硬化することができない。そこで、このような態様の光ディスクの場合には、従来の両面型ＤＶＤ−Ｒの作製法と同様に、貼り合わせに遅効性の放射線硬化樹脂が用いることが考えられる。しかし、遅効性の放射線硬化樹脂は、一般的にスクリーン印刷方式を用いて塗布され、塗布膜に気泡が発生することが知られている。また、この気泡の発生に起因し接着層の硬化が不十分になることや、膜厚にムラが生じるとともに反射層に歪みが発生し、光ディスクの機械特性に悪影響を及ぼすという問題がある。

本発明は、以上の従来の問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、光ディスクの製造方法において、第１の積層体と第２の積層体とを強固に接着することができる光ディスクの製造方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、十分な接着強度を有する光ディスクを提供することにある。

前記課題を解決する手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞ 第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体を形成する第１積層体形成工程と、
第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び厚さ４０〜１００ｎｍの第２の反射層をこの順に有する第２の積層体を形成する第２積層体形成工程と、
前記第１の反射層と前記第２の反射層とを対向させ、前記第１の積層体と前記第２の積層体とを放射線硬化樹脂を用いて貼り合せる貼合工程と、を有し、
前記貼合工程における放射線硬化樹脂の硬化を前記第２の基板側から放射線を照射して行うことを特徴とする光ディスクの製造方法である。
＜２＞ 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層の層厚を４０〜９０ｎｍとして形成することを特徴とする前記＜１＞に記載の光ディスクの製造方法である。
＜３＞ 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層の層厚を４０〜８０ｎｍとして形成することを特徴とする前記＜１＞に記載の光ディスクの製造方法である。
＜４＞ 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を銀又は銀合金を用いて形成することを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光ディスクの製造方法である。
＜５＞ 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を銀の含有量が９０質量％以上である銀又は銀合金を用いて形成することを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光ディスクの製造方法である。
＜６＞ 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を銀の含有量が９５質量％以上である銀又は銀合金を用いて形成することを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法である。
＜７＞ 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を純銀を用いて形成することを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光ディスクの製造方法である。
＜８＞ 前記放射線硬化樹脂への放射線の照射量が１Ｊ／ｃｍ²以上であることを特徴とする前記＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光ディスクの製造方法である。
＜９＞ 前記放射線硬化樹脂が、ラジカル重合型の放射線硬化樹脂であることを特徴とする前記＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法である。
＜１０＞ 前記放射線硬化樹脂が（メタ）アクリレート系樹脂であることを特徴とする前記＜９＞に記載の光ディスクの製造方法である。
＜１１＞ 前記放射線硬化樹脂の硬化が３５０ｎｍ以下の波長の光を用いて行われることを特徴とする前記＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法である。
＜１２＞ 前記放射線硬化樹脂が３５０ｎｍ以下の波長の光に対して極大吸収があることを特徴とする前記＜１＞〜＜１１＞のいずれかに記載の光ディスクの製造方法である。
＜１３＞ 前記放射線の光源がフラッシュランプであることを特徴とする前記＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の光ディスクの製造方法。

＜１４＞ 第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体と、
第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び第２の反射層をこの順に有する第２の積層体とを備え、
前記第１の積層体と前記第２の積層体とは、前記第１の反射層と前記第２の反射層とが対向するように配置されており、
前記前記第１の積層体と前記第２の積層体とは、放射線硬化樹脂を硬化してなる接着層により貼り合わせられており、
前記第２の反射層の層厚は４０〜１００ｎｍであることを特徴とする光ディスクである。

＜１５＞ 第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体と、第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び第２の反射層をこの順に有する第２の積層体とを、前記第１の反射層と前記第２の反射層とが対向するように、放射線硬化樹脂を硬化して形成する接着層により貼り合わせる工程を有し、該工程における放射線硬化樹脂の硬化を前記第２の基板側から放射線を照射して行うことを特徴とする光ディスクの製造方法である。
＜１６＞ 前記放射線硬化樹脂への放射線の照射量が１Ｊ／ｃｍ²以上であることを特徴とする前記＜１５＞に記載の光ディスクの製造方法である。
＜１７＞ 前記放射線硬化樹脂が、ラジカル重合型の放射線硬化樹脂であることを特徴とする前記＜１５＞または＜１６＞に記載の光ディスクの製造方法である。
＜１８＞ 前記放射線硬化樹脂が（メタ）アクリレート系樹脂であることを特徴とする前記＜１７＞に記載の光ディスクの製造方法である。
＜１９＞ 前記第２の反射層の層厚を、４０〜１００ｎｍとすることを特徴とする前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載の光ディスクの製造方法である。
＜２０＞ 第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体と、第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び第２の反射層をこの順に有する第２の積層体とを、前記第１の反射層と前記第２の反射層とが対向するように、放射線硬化樹脂を硬化してなる接着層により貼り合わされてなり、前記第２の反射層の層厚が４０〜１００ｎｍであることを特徴とする光ディスクである。

本発明の製造方法によれば、放射線硬化樹脂を用いて第１の積層体と第２の積層体とを強固に接着することができ、且つ短時間で第１の積層体と第２の積層体との接着を行うことができる。また本発明によれば、放射線硬化樹脂を用いることで十分な接着強度を有する光ディスクを得ることができる。
また、本発明によれば、少なくとも情報記録層を有する第１の積層体と、少なくとも画像記録層を有する第２の積層体とを接着する工程を有する光ディスクの製造方法において、第１の積層体と第２の積層体とを簡単な構成で強固に接着することができる光ディスクの製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、少なくとも情報記録層を有する第１の積層体と、少なくとも画像記録層を有する第２の積層体とを接着してなる光ディスクにおいて、機械特性（例えば、接着強度）が良好な光ディスクを提供することができる。

本発明の光ディスクの製造方法は、第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体と、第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び第２の反射層をこの順に有する第２の積層体とを、前記第１の反射層と前記第２の反射層とが対向するように、放射線硬化樹脂を硬化して形成する接着層により貼り合わせる工程を有し、該工程における放射線硬化樹脂の硬化を前記第２の基板側から放射線を照射して行うことを特徴としている。
また、本発明の光ディスクは、第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体と、第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び第２の反射層をこの順に有する第２の積層体とを、前記第１の反射層と前記第２の反射層とが対向するように、放射線硬化樹脂を硬化してなる接着層により貼り合わされてなり、前記第２の反射層の層厚が４０〜１００ｎｍであることを特徴としている。
以下、本発明の光ディスク及びその製造方法について説明する。

本発明の光ディスクの種類としては、第１の基板又は情報記録層の構成により、読出し専用型、追記型、書換え可能型等のいずれとすることもできるが、追記型であることが好ましい。また、記録形式としては、相変化型、光磁気型、色素型等、特に制限されないが、色素型であることが好ましい。
また、本発明の光ディスクは、ＤＶＤ（ＤＶＤの他、ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＷ、ＨＤ ＤＶＤ等を含む）の構成に適用することが好ましい。すなわち、貼りあわせ型の光ディスクで、少なくとも、第１の基板上に情報記録層、第２の基板上に画像記録層を有する構成である。

図１は、本発明の光ディスク５００の層構成の一例を示す部分断面図である。光ディスク５００は、第１の基板５１２上に、情報記録層５１４と、第１の反射層５１６とをこの順に有する第１の積層体５２０と、第２の基板５２２上に、レーザー光の照射により可視画像が記録される画像記録層５２４と、第２の反射層５２６とをこの順に有する第２の積層体５２８とを有し、第１の積層体５２０と第２の積層体５２８とが、第１の反射層５１６と第２の反射層５２６とが対向するように、接着層５３０を介して貼り合わされてなる。なお、図１では第２の基板５２２上にグルーブが形成されているが、グルーブはあってもなくてもよい。
以下に、先ず、第１の積層体と第２の積層体とを貼り合わせる工程について説明し、その後に両積層体の詳細について説明する。

本発明においては、上記構成において、第１の積層体と第２の積層体とを、第１の反射層と第２の反射層とを対向するように配置する。そして、第１の積層体と第２の積層体との間に放射線硬化樹脂を配置し、その放射線硬化樹脂を硬化して貼り合わせる。このとき、硬化した放射線硬化樹脂が接着層となる。より詳細には、第１の積層体上に放射線硬化樹脂が塗布され、その放射線硬化樹脂上に第２の積層体が配置される。
ここで、放射線硬化樹脂の硬化は、第２の積層体の第２の基板側から放射線を照射して行う。第２の基板側から照射された放射線は、第２の基板、画像記録層、及び第２の反射層を透過して放射線硬化樹脂に到達し、放射線硬化樹脂が硬化する。このようにして接着層は放射線硬化樹脂が硬化して形成される。このようにして構成することにより、第１の積層体と第２の積層体とを密着させた状態で放射線を照射することができるため、放射線硬化樹脂は強固にかつ瞬時に硬化する。通常、本発明のような層構成の光ディスクでは、第１の積層体及び第２の積層体上に形成された反射層により光が反射されるため、第１の積層体と第２の積層体とを密着させた状態で放射線を照射させても放射線硬化樹脂が硬化しないため、このようにして接着層を形成することはできず、遅効性の放射線硬化接着剤を使用する必要がある。しかしながら、本発明の光ディスクでは、第２の積層体の反射層を特定の構成としているため、第１の積層体と第２の積層体とを密着させた状態で放射線硬化接着剤を硬化させることができることから、遅効性の放射線硬化接着剤を使用する必要がない。そのため、既述のような気泡発生の問題がなく、両積層体同士を強固にかつ瞬時に接着することができる。

本発明においては、上述のように、第２の反射層を放射線が透過する必要があることから、照射する放射線の照射量を、１Ｊ／ｃｍ²以上とすることが好ましく、１．２〜２．４Ｊ／ｃｍ²とすることがより好ましく、１．４〜２．２Ｊ／ｃｍ²とすることがさらに好ましい。
放射線の照射量は、例えば紫外線を用いた場合は、一般的な紫外線照度計を用いて測定することができる。一般的な紫外線照度計は、様々な検出波長を有するものがあるが、紫外線硬化樹脂の重合開始剤の吸収波長が含まれている３００〜４００ｎｍに検出ピークを有する照度計を用いることができる。

本発明において、放射線としては、紫外線、電子ビーム、Ｘ線、γ線、赤外線等の輻射線などが挙げられ、特に、汎用性の点から、紫外線が好ましい。紫外線を照射する光源としては、特に制限はないが、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、フラッシュランプ（例えば、キセノンフラッシュランプ）、などが挙げられる。特に、本発明においては、上述の通り、１Ｊ／ｃｍ²以上の照射量で照射することが好ましく、硬化時の温度が上昇しにくい点から、フラッシュランプが好ましい。このようなフラッシュランプとしては、ウシオ電器社製キセノンフラッシュランプが挙げられる。

本発明において、第２の反射層の層厚を４０〜１００ｎｍとすることが好ましい。４０ｎｍ未満では、接着層を透過し第１の反射層で反射する光と、第２の反射層で反射する光とが干渉し、干渉縞が発生することがあり、１００ｎｍを超えると、接着層を形成する放射線硬化樹脂に到達する放射線量が減少し、放射線硬化樹脂の硬化が不十分となることがある。第２の反射層の層厚は、より好ましくは、４５〜９０ｎｍであり、さらに好ましくは、５０〜８０ｎｍである。

本発明において、接着層に使用する放射線硬化樹脂としては、ラジカル重合型の放射線硬化樹脂、すなわち、即効性の放射線硬化樹脂であることが好ましい。そのような放射線硬化樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート系の紫外線硬化樹脂が好ましい。放射線硬化型接着剤は、紫外線、電子ビーム、Ｘ線、γ線、赤外線等の電磁波によって硬化する樹脂である。このような放射線硬化性樹脂として、ラジカル重合型の紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０、ＳＤ６６１：ソニーケミカル（株）製ＳＫ６１００、ＳＫ６３００、ＳＫ６４００：日本化薬社製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＶＤ７２１を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１００μｍの範囲が好ましく、５〜８０μｍの範囲がより好ましく、２０〜７０μｍの範囲が特に好ましい。

ここで、第１の積層体と第２の積層体との貼り合わせに用いる放射線の好ましい波長について詳述する。本発明において、当該貼り合わせに際して第２の基板側から照射される放射線は、第２の積層体を透過し、接着剤層に到達する。従って、当該放射線は、第２の基板に対しての透過率が高く、第２の反射層に対しての透過率が高く、接着剤層の吸光度が高い波長の放射線であることが好ましい。以下に、接着剤層の硬化に際して照射する放射線の好ましい波長について実測データに基づいて考察する。

［光源］
実測に用いた、貼り合わせに際しての接着剤層を硬化させるために用いた光源（放射線源）は以下の通りである。
キセノン光：キセノンフラッシュランプ（ウシオ電機製）
ランプパワー：２１１Ｊ(照射１回当たりのランプ投入エネルギー)
照射時間：４回パルス照射（照射時間は約０．６秒）
用いた光源の波長に対する相対強度を図２に示す。

［第２の基板の透過率］
図３は、第２の基板を透過する光の波長と、透過率との関係を示すグラフである。この場合において、第２の基板は、厚み０．６ｍｍ、材料としてポリカーボネート樹脂(出光石油化学社製 ＭＤ１５００)からなるものを用いた。接着剤層に光を到達させるには、第２の基板は該光に対して一定以上の透過率を有しなければならないが、図３に示す例では、基板の透過率は、光の波長が概ね２７０ｎｍ以上であるときに透過率が０を超えていることが分かる。

次に、貼り合わせに用いた接着剤層及びその接着剤を以下に示す。
［接着剤層の透過率］
接着剤；紫外線硬化樹脂（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＶＤ７２１）
層厚：約５０μｍ
この接着剤層を透過する光の波長と吸光度との関係を図４に示す。図４より、概ね２６０〜３５０ｎｍの範囲（特に、２６０〜３４０ｎｍ）において吸光度の極大値が２つ現れており、当該波長範囲の紫外線を照射することが接着剤層の硬化に好適であることが分かる。

［第１の反射層の反射率・透過率］
照射する光の波長と第１の反射層の反射率・透過率との関係を図５においてグラフで示す。図５における第１の反射層の材料は、純銀（純度９９．９９％以上）で、層厚は１４５ｎｍである。図５に示すように、第１の反射層は、概ね波長３５０ｎｍより小さい波長において反射率が低下し、３００〜３５０ｎｍにおいて透過率が若干高くなっている。

［第２の反射層の反射率・透過率］
照射する光の波長と第２の反射層の反射率・透過率との関係を図６においてグラフで示す。図６における第２の反射層の材料は、純銀（純度９９．９９％以上）で、層厚は６５ｎｍである。上述のように、光を接着剤層に到達させるには、第２の反射層が一定以上の透過率を有する必要がある。そして、図６に示す第２の反射層は、概ね２５０〜３５０ｎｍ（特に、３００〜３５０ｎｍ）において透過率が高く、その範囲の波長の光（放射線）を用いて紫外線が硬化していることが推測される。
また、図７は、第２の反射層を透過する前の光量を１としたとき、第２の反射層を透過後の光の光量と、該光の波長との関係について示すグラフである。図７によると、概ね２５０〜３５０ｎｍ（特に、３００〜３５０ｎｍ）の波長において光量が多く、当該波長範囲内においての使用が好適であることが分かる。

図８は、図４に示したグラフと、図７に示したグラフとを合成したグラフである。図８に示したグラフからわかるように、本発明の光ディスクでは、波長３５０ｎｍより小さい波長の領域において第２の反射層を透過する光量が多く且つ接着剤層が吸収する光量が多い。そのため、本発明の光ディスクでは、第１の積層体と第２の積層体とを密着させた状態で放射線硬化接着剤を硬化させることができる。その結果、本発明では光ディスクの接着剤層の硬化を十分に行うことができ、光ディスクを効率的に製造することができる。従って、接着剤層の硬化に際し照射する光の波長は２７０〜３５０ｎｍが好ましいことが分かる。

第１の積層体と第２の積層体とを貼り合わせて接着・硬化させるには、例えば、放射線硬化樹脂を、第１の積層体の第１の反射層及び第２の積層体の第２の反射層のいずれか一方の表面に滴下し、放射線硬化樹脂が滴下された積層体を回転させ、樹脂を均一に広げた後、他方の積層体を貼り合わせて、第２の基板側から放射線を照射する。あるいは、放射線硬化樹脂を、第１の積層体の第１の反射層及び第２の積層体の第２の反射層のいずれか一方の表面に滴下し、他方の積層体を押し付けた後、高速回転させて余分な樹脂を振り切り、その後放射線を照射してもよい。
以下、本発明の光ディスクの各積層体における各層について説明する。

［情報記録層］
情報記録層は、デジタル情報などの符号情報（コード化情報）が記録される層であり、色素型、追記型、相変化型、光磁気型等が挙げられ、特に制限はないが、色素型であることが好ましい。

色素記録層に含有される色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、トリアゾール化合物(ベンゾトリアゾール化合物を含む)、トリアジン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、桂皮酸化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ピロメテン化合物、スクアリリウム化合物等が挙げられる。なお、これらは配位中心に金属原子を持っていてもよい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素を用いることも可能である。
上記化合物の中では、CDの場合には、シアニン色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、DVDの場合には、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素(Ni、Co錯体を含む)、ピロメテン化合物、ブルーレイタイプの場合には、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物が好適に用いられる。
上記化合物の中では、CDの場合には、シアニン色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、DVDの場合にはシアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素(Ni、Co錯体を含む)、ブルーレイタイプの場合には、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素が特に好ましい。

情報記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。

情報記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、又は溶剤塗布等の方法によって行うことができるが、溶剤塗布が好ましい。

塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。

情報記録層の材料として結合剤を併用する場合、結合剤の使用量は、一般に色素の質量の０．０１倍量〜５０倍量の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量の範囲にある。

前記溶剤塗布の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。情報記録層は単層でも重層でもよい。情報記録層の層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは１５〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは２０〜１５０ｎｍの範囲にある。

情報記録層には、該情報記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に、一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−３１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６８−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。

前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、通常、色素の質量の０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。

相変化型の情報記録層を構成する材料の具体例としては、Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｖ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、等が挙げられる。なかでも、多数回の書き換えが可能であることから、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金が好ましい。
相変化型の情報記録層の層厚としては、１０〜５０ｎｍとすることが好ましく、１５〜３０ｎｍとすることがより好ましい
以上の相変化型の情報記録層は、スパッタ法、真空蒸着法などの気相薄膜堆積法、等によって形成することができる。

［第１の基板、第２の基板］
本発明の光ディスクの第１の基板及び第２の基板は、従来の光ディスクの基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。
基板材料としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。
なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。

第１の基板及び第２の基板の厚さは、０．１〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．２〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。また、第１の基板には基本的にグルーブ若しくはトラッキング用のサーボ信号が形成されていることが好ましく、第２の基板にはそのような溝若しくはトラッキング用のサーボ信号が形成された基板を用いてもよい。第１の基板のグルーブのトラックピッチは、２８０〜４５０ｎｍの範囲にとすることが好ましく、３００〜４２０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。また、グルーブの深さ（溝深さ）は、１５〜１５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２５〜１００ｎｍの範囲とすることがより好ましい。

画像記録層に高精彩な画像を記録するには、第２の基板にもトラッキング用のグルーブ（溝）を設けてもよい。この場合、グルーブのトラックピッチは、記録レーザーの強度分布の観点から、０．３〜２００μｍの範囲にとすることが好ましく、０．４〜１００μｍの範囲とすることがより好ましく、０．６〜５０μｍとすることがさらに好ましい。

また、画像記録時にトラッキングをかけて、かつ、レーザー光を入射する側の基板厚さが０．６ｍｍの場合の溝の深さは、５０〜２００ｎｍとすることが好ましく、８０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１００〜１３０ｎｍとすることがさらに好ましい。溝の幅は、１００〜６００ｎｍとすることが好ましく、２００〜５００ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜４５０ｎｍとすることがさらに好ましい。なお、溝形状は、レーザー光の波長、ＮＡ、基板厚などでその最適範囲が異なることがある。

第１の基板表面（グルーブが形成された面側）には、平面性の改善、接着力の向上、及び情報記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。
下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤などを挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。

一方、画像記録層に描画された可視画像において、鏡面反射光による周囲の映りこみを防止するには、第２の基板に粗面化処理を施すことが好ましい。

第２の基板への粗面化処理方法としては、種々の方法があり特に限定はされないが、下記のような第１〜第５の粗面化処理のいずれかを適用することが好ましい。

（１）第１の粗面化処理は、第２の基板が接触する一方の面に、粗面化処理が施されたスタンパを用いて、第２の基板の画像記録層が形成される側の面を粗面化するものである。具体的には、まず、第２の基板を作製する際に使用するスタンパに粗面化処理を施す。当該粗面化処理の方法としては、例えば、サンドブラストといったブラスト処理等を行い、所望の粗さとしておく。また、第５の粗面化処理で説明するような化学処理を施してもよい。そして、このスタンパを粗面化面が第２の基板の樹脂材料に接触するように金型に設置し、公知の方法により成型することで、一方の面にのみ粗面化面を有する第２の基板が作製される。なお、上記「所望の粗さ」としては、例えば、当該面の最大高さ（Ｒｚ）が０．３〜５μｍであって、かつ、粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が、１０〜５００μｍとすることが好ましい。

（２）第２の粗面化処理は、成型後に第２の基板が接触する一方の面に粗面化処理が施された成型金型を用いて、第２の基板の画像記録層が形成される側の面を粗面化するものである。具体的には、第２の基板の成型用金型で、その一方の主面に粗面化処理を施す。当該粗面化処理の方法としては、上記第１の粗面化処理の場合と同様であり、当該金型を用い、公知の方法により成型することで、一方の面にのみ粗面化面を有する第２の基板が作製される。

（３）第３の粗面化処理は、第２の基板を作製した後、画像記録層が形成される側の面に微粒子を分散した樹脂を塗布し、樹脂を硬化させて、第２の基板の画像記録層が形成される側の面を粗面化するものである。上記樹脂としては、アクリレート系紫外線硬化樹脂、エポキシ系、イソシアネート系熱硬化性樹脂等を使用することができる。

また、微粒子は、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等の無機微粒子やポリカーボネート、アクリル系の樹脂粒子等を使用することができる。微粒子の体積平均粒径は、０．３〜２００μｍであることが好ましく、０．６〜１００μｍであることがより好ましい。当該微粒子の粒径と添加量を調整することで、粗面化面を所望の粗さとすることができる。

（４）第４の粗面化処理は、第２の基板を作製した後、画像記録層が形成される側の面に機械加工処理を施して、第２の基板の画像記録層が形成される側の面を粗面化するものである。機械加工処理としては、種々の処理が適用できるが、サンドブラストといったブラスト処理を適用することが好ましい。

（５）第５の粗面化処理は、第２の基板を作製した後、画像記録層が形成される側の面に化学処理を施して、第２の基板の画像記録層が形成される側の面を粗面化するものである。化学処理としては、成型後の第２の基板の一方の面に溶剤を塗布したり、スプレーで噴霧したりしてエッチングする処理を適用することができる。当該溶剤としては、ジメチルホルムアミド等の有機溶剤が好ましく、それ以外に、硝酸、塩酸、硫酸といった酸性溶剤などを挙げることができる。上記のような酸性溶剤の規定度を調整したり、塗布時間を調整することで、所望の粗さとすることができる。

［第１の反射層、第２の反射層］
情報の再生時における反射率の向上の目的で、情報記録層、画像記録層に隣接して第１の反射層、第２の反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板もしくは情報記録層の上に形成することができる。
第１の反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましく、８０〜２００ｎｍの範囲にあることがより好ましく、１００〜２００ｎｍの範囲にあることがさらに好ましい。なお、第１の反射層の材料としては、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼であることが好ましく特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはそれらの合金である。
また第２の反射層の層厚は、４０〜１００ｎｍであることが好ましく、４０〜９０ｎｍであることがより好ましく、４５〜９０ｎｍであることがさらに好ましく、４０〜８０ｎｍであることが特に好ましく、５０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。上記上限値を超えると、放射線が透過せず樹脂を硬化が不十分となる傾向があり、他方、上記下限値未満であると、画像情報記録層の反射層としての機能が不十分となる傾向がある。第２の反射層の材料は銀又は銀合金が好ましく、銀の含有量が９０質量％以上である銀又は銀合金がより好ましく、銀の含有量が９５質量％以上である銀又は銀合金がさらに好ましく、純銀であることが最も好ましい。

［接着層］
接着層は、図１における第１の積層体２０と第２の積層体２８とを接着するための層であり、第１の反射層１６と第２の反射層２６との間に位置する。接着層の詳細については既に説明したのでここでは説明を省略する。

［画像記録層］
本発明の光ディスクは、前述のように、情報記録層とは反対側の面に画像記録層を有する。画像記録層には、文字、図形、絵柄など、ユーザーが所望する可視画像（可視情報）が記録される。可視画像としては、例えば、ディスクのタイトル、内容情報、内容のサムネール、関連した絵柄、デザイン的な絵柄、著作権情報、記録日時、記録方法、記録フォーマット、バーコード等が挙げられる。なお、本発明に係る画像記録層（可視情報記録層）はレーザ光が略同一の軌跡に複数回照射されて可視情報が記録される可視情報記録層であっても、レーザ光が光ディスクの半径方向に揺動し且つ略同一の軌跡に複数回照射されて可視情報が記録される可視情報記録層でもよい。

画像記録層に記録される可視画像とは、視覚的に認識可能な画像を意味し、文字（列）、絵柄、図形などあらゆる視認可能な情報を含む。また、文字情報としては、使用可能者指定情報、使用期間指定情報、使用可能回数指定情報、レンタル情報、分解能指定情報、レイヤー指定情報、ユーザ指定情報、著作権者情報、著作権番号情報、製造者情報、製造日情報、販売日情報、販売店または販売者情報、使用セット番号情報、地域指定情報、言語指定情報、用途指定情報、製品使用者情報、使用番号情報等が挙げられる。

画像記録層は、レーザー光の照射により、文字、画像、絵柄などの画像情報を視認可能に記録できればよく、その構成材料としては、既述の情報記録層において説明した色素を好適に用いることができる。

また、本発明の光ディスクにおいては、既述の情報記録層の構成成分（色素又は相変化記録材料）と画像記録層の構成成分とを同じとしても異ならせてもよいが、情報記録層と画像記録層とでそれぞれ要求される特性が相違するため、構成成分は異ならせることが好ましい。具体的には、情報記録層の構成成分は記録・再生特性に優れるものとし、画像記録層の構成成分は記録画像のコントラストが高くなるものとすることが好ましい。特に、色素を用いる場合、画像記録層には、記録画像のコントラスト向上の観点から、既述の色素の中でも特に、シアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ色素、アゾ金属錯体、オキソノール色素を用いることが好ましい。また、シアニン色素とフタロシアニン色素との組合せ、オキソノール色素とシアニン色素との組合せ、オキソノール色素とフタロシアニン色素との組合せも好適に使用することができる。

また、ロイコ系の染料も使用することができる。具体的には、クリスタルバイオレットラクトン；３，３−ビス（１−エチル２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３−（４−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−３−（１−エチル２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド等のフタリド化合物；３−シクロヘキシルメチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、２−（２−クロロアニリノ）−６−ジブチルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−キシリジノフルオラン、２−（２−クロロアニリノ）−６−ジエチルアミノフルオラン、２−アニリノ−３−メチル−６（Ｎ−エチルイソペンチルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−６−クロロ−７−アニリノフルオラン、３−ベンジルエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−メチルプロピルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオランなどのフルオラン化合物；等が好ましい。

画像記録層は、前述の色素を溶剤に溶解して塗布液を調製し、該塗布液を塗布することによって形成することができる。溶剤としては既述の情報記録層の塗布液の調製に使用する溶剤と同じ溶剤を使用することができる。その他の添加剤、塗布方法などは、既述の記録層と同様であるが、スピンコート法で形成されることが好ましい。

画像記録層の層厚としては、０．０１〜２００μｍとすることが好ましく、０．０２〜１００μｍとすることがより好ましく、０．０４〜５０μｍとすることがさらに好ましい。

以下に、保護層について説明する。
（保護層）
第１の反射層や情報記録層、第２の反射層や画像記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けてもよい。

保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。

また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。

また、本発明の光ディスクは、第１の基板にレーザー光により再生可能な情報が記録された記録部（ピット）を有する、いわゆる再生専用型の光ディスクに適用することができるのは既述の通りである。

［画像記録方法］
本発明の光ディスクの画像記録層への画像記録は、本発明の光ディスクと、少なくとも該光ディスクの画像記録層への画像情報の記録が可能な記録装置とを用いて行う。
以下、先ず、本発明の光ディスクへの記録に用いられる記録装置について説明する。

（光ディスク記録装置）
本発明の光ディスクにおいて、画像記録層への画像の記録、及び情報記録層への光情報の記録は、例えば、両層への記録機能を有する１つの光ディスクドライブ（記録装置）で行うことができる。このように１つの光ディスクドライブを使用する場合、画像記録層及び情報記録層のいずれか一方の層への記録を行った後、裏返して他方の層に記録を行うことができる。

上述した本発明の光ディスクは、以下のような装置及び方法に対して特に好適に使用することができる。

例えば、上述した本発明の光ディスクが好適に使用される光ディスク記録装置は、
（１）光ディスクの記録面（例えば、色素記録層（記録層））に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ピックアップによる前記光ディスクに対するレーザ光の照射位置を調整する照射位置調整手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップおよび前記照射位置調整手段を制御する画像形成制御手段と、前記可視画像を形成する際に前記画像記録層に対して前記光ピックアップが照射するレーザ光のビームスポット径が、情報記録を行う際に前記記録面に対して前記光ピックアップが照射するレーザ光のビームスポット径よりも大きくなるように前記光ピックアップを制御するビームスポット制御手段とを具備することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。このような可視画像形成の際に、光ディスクの画像記録層に照射するレーザ光のビームスポット径を大きくすることにより、光ディスクが１回転させられている間により大きい領域に対してレーザ光を照射することができ、可視画像形成のために要する時間を短縮することができる。また、上述した本発明の光ディスクはこのような方法でも良好な可視画像を記録することができる。

また、別態様の光ディスク記録装置は、
（２）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ピックアップによる前記光ディスクに対するレーザ光の照射位置を調整する照射位置調整手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップおよび前記照射位置調整手段を制御する手段であって、前記光ピックアップが前記画像記録層に対して照射するレーザ光の強度が、前記画像情報に基づいて前記画像記録層がほとんど変化しない第１の強度、もしくは該第１の強度よりも大きく前記画像記録層が変化する第２の強度のいずれかとなるよう制御する画像形成制御手段と、前記光ディスクに対して前記光ピックアップによって照射されるレーザ光に関する情報を検出し、当該検出結果に基づいて、所望のレーザ光が照射されるよう前記光ピックアップを制御するサーボ手段とを具備し、前記画像形成制御手段は、前記画像情報に基づく制御にしたがって前記光ピックアップが照射するレーザ光の強度が連続して第２の強度となっている時間が一定の時間を超えた場合に当該画像情報の内容に関わらず、前記光ピックアップから照射されるレーザ光の強度が所定の時間だけ第１の強度となるよう制御し、前記サーボ手段は、前記第１の強度で照射されたレーザ光に関する情報の検出結果に基づいて前記光ピックアップを制御することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。このような可視画像形成の際に、画像データに応じたレーザ光の強度が画像記録層を変化させる第２の強度である時間が長く続いた場合にも、その画像データに拘わらず、レーザ光制御のために画像記録層がほとんど変化しない第１の強度のレーザ光を照射するようにしたので、その照射結果に基づいたレーザ光制御を行うことができる。また、上述した本発明の光ディスクはこのような方法でも良好な可視画像を記録することができる。

また、別態様の光ディスク記録装置は、
（３）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ピックアップによる前記光ディスクに対するレーザ光の照射位置を調整する照射位置調整手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップおよび前記照射位置調整手段を制御する画像形成制御手段と、前記光ディスクが当該光ディスク記録装置にセットされた際に、前記光ディスクにおける前記光ピックアップと対向する面が前記画像記録層であるか前記記録面であるかに基づいて、前記光ディスクの前記光ピックアップと対向する面と前記光ピックアップとの相対位置関係を調整する相対位置調整手段とを具備することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。そして、光ディスクがセットされた場合、画像記録層もしくは記録面のいずれが光ピックアップと対向するようにセットされたかに応じて光ピックアップと、これに対向する面との間の位置関係を調整することができる。したがって、記録面を光ピックアップに対向するようにセットした場合と、画像記録層を光ピックアップに対向するようにセットした場合とで光ピックアップとこれに対向する面との距離が異なる場合であっても、その距離の差に起因して種々の制御、例えばフォーカス制御等ができなくなってしまうといった問題を抑制できる。また、上述した本発明の光ディスクはこのような方法でも良好な可視画像を記録することができる。

また、別態様の光ディスク記録装置は、
（４）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ピックアップによる前記光ディスクに対するレーザ光の照射位置を調整する照射位置調整手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクであって、前記記録面に案内溝が螺旋状に形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、前記光ピックアップが照射したレーザ光の前記光ディスクからの反射光に基づいて前記案内溝に沿ってレーザ光が照射されるよう前記照射位置調整手段を制御するサーボ手段と、前記サーボ手段によって前記案内溝に沿って前記レーザ光の照射位置が移動させられている間に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップから照射されるレーザ光を制御する画像形成制御手段とを具備することを特徴としている。また、上述した本発明の光ディスクはこのような方法でも良好な可視画像を記録することができる。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。この際、記録面に形成された案内溝を検出し、該検出した案内溝に沿ってレーザ光照射位置を移動させるといった記録面に対して記録を実施するときと比して複雑なレーザ光照射位置制御を行うことなく、可視画像形成を行うことができる。

また、別態様の光ディスク記録装置は、
（５）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ディスクを回転させる回転駆動手段と、前記回転駆動手段による前記光ディスクの回転速度に応じた周波数のクロック信号を出力するクロック信号出力手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップを制御する手段であって、前記信号出力手段によってクロック信号の周期毎に前記画像情報に基づいて前記光ピックアップから照射されるレーザ光を制御する画像形成制御手段と、前記回転駆動手段によって前記光ディスクが所定の基準位置から１回転させられたことを検出する回転検出手段と、前記可視画像を前記光ディスクの前記画像記録層に形成するために前記光ピックアップによってレーザ光が照射された状態で前記光ディスクが前記所定の基準位置から１回転させられたことが前記回転検出手段によって検出された場合に、前記光ピックアップによるレーザ光の照射位置を当該光ディスク記録装置にセットされた前記光ディスクの所定の径方向に所定量移動させる照射位置調整手段とを具備することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。この可視画像形成の際に、光ディスクの回転速度に応じた周波数のクロック信号の周期毎、つまり光ディスクが一定角度回転する毎に可視画像形成のためのレーザ光照射制御を行っているので、光ディスクの一定の角度毎の位置に画像データに応じた内容（例えば、濃度）の可視画像を形成することができる。また、上述した本発明の光ディスクはこのような方法でも良好な可視画像を記録することができる。

また、別態様の光ディスク記録装置は、
（６）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ディスクを回転させる回転駆動手段と、前記回転駆動手段によって前記光ディスクが所定の基準位置から１回転させられたことを検出する回転検出手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップを制御する画像形成制御手段と、前記可視画像を前記光ディスクの前記画像記録層に形成するために前記光ピックアップによってレーザ光が照射された状態で前記光ディスクが前記所定の基準位置から１回転させられたことが前記回転検出手段によって検出された場合に、前記光ピックアップによるレーザ光の照射位置を当該光ディスク記録装置にセットされた前記光ディスクの所定の径方向に所定量移動させる照射位置調整手段とを具備しており、前記画像形成制御手段は、前記回転駆動手段によって回転させられる前記光ディスクの前記画像記録層の前記所定の基準位置から前記可視画像を形成するために前記光ピックアップにレーザ光を照射させる一方で、当該レーザ光の照射位置が前記光ディスクの前記所定の基準位置に達するよりも所定量だけ前方の位置から前記所定の基準の位置までの領域に対して前記可視画像形成のためのレーザ光が照射されないよう前記光ピックアップを制御することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。このような可視画像形成の際に、光ディスクを回転させながら、当該光ディスクの基準位置からレーザ光を照射して可視画像を形成し、レーザ光照射位置がその基準位置に戻る直前の領域に対しては可視画像形成のためのレーザ光照射を行わないようにしている。したがって、光ディスクの回転が不安定になる等の何らかの理由でレーザ光照射位置制御が乱れ、基準位置からレーザ光を照射し続けて光ディスクが１回転させられ、その照射位置が再度基準位置を通過する、つまり後に既にレーザ光を照射した位置とに重なる位置にレーザ光の照射位置が移動するといったことがあった場合にも、その位置に可視画像形成のためのレーザ光が照射されることを抑制でき、この結果形成される可視画像の品位が劣化することを防止できる。

また、別態様の光ディスク記録装置は、
（７）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ピックアップによる前記光ディスクに対するレーザ光の照射位置を調整する照射位置調整手段と、当該光ディスク記録装置にセットされた光ディスクの種類を識別するためのディスク識別情報を取得するディスク識別手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップおよび前記照射位置調整手段を制御する手段であって、前記ディスク識別手段によって識別された光ディスクの種類に応じて前記光ピックアップおよび前記照射位置調整手段を制御する画像形成制御手段とを具備することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。このような可視画像形成の際に、セットされたディスクの種類に応じた可視画像形成のための制御を行うことができる。

また、別態様の光ディスク記録装置は、
（８）光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、外部から供給される情報を変調する変調手段と、前記変調手段から供給される情報に応じて前記光ピックアップから照射されるレーザ光を制御するレーザ光制御手段とを備えた光ディスク記録装置において、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクの前記画像記録層に対して可視画像を形成する場合に、外部から供給される画像情報に対する前記変調手段による変調を禁止する禁止手段と、前記光ディスクの前記画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、前記変調手段から供給される変調がなされていない画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記レーザ光制御手段を制御する画像形成制御手段とを具備することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。このような可視画像形成の際には、記録面に対して情報を記録する時に記録データに対して変調を施す変調手段による変調を禁止しているので、画像データが変調されることがない。したがって、当該画像データに応じた可視画像を形成するために特別のデータ転送構成を設けることなく、記録面に対して情報記録をする際のデータ転送構成を併用することができる。

別態様の光ディスク記録装置は、
（９）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクに対してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記光ピックアップによる前記光ディスクに対するレーザ光の照射位置を調整する照射位置調整手段と、一方の面に前記記録面が他方の面に画像記録層が形成された光ディスクが、当該画像記録層が前記光ピックアップと対向するようにセットされた場合に、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップおよび前記照射位置調整手段を制御する画像形成制御手段とを具備しており、前記画像形成制御手段は、前記画像情報に示される階調度合いに応じて前記光ピックアップから照射されるレーザ光を制御することを特徴としている。

この構成によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。このような可視画像形成の際に、画像データに示される画像記録層上の各位置（座標）の階調度に応じたレーザ光制御を行うことができ、階調表現がなされた可視画像を形成することができる。

別態様の光ディスク記録装置は、
（１０）光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ディスク記録装置であって、光ディスクを回転させる回転手段と、前記回転手段により回転する光ディスクに対し、前記一方の面からレーザ光を照射するとともに、当該光ディスクの略半径方向に移動可能な光ピックアップと、画像記録層に可視画像を形成する際に前記光ピックアップから出射されるレーザ光のレベルを調整する手段であって、形成すべき可視画像を表す画像データに基づいて、前記光ディスクの前記記録層および前記画像記録層をほとんど変化させない第１の強度、あるいは、前記記録層をほとんど変化させないとともに前記画像記録層の発色を変化させる第２の強度のいずれかになるように前記光ピックアップから出射されるレーザ光のレベルを調整するレーザ光レベル制御手段とを有することを特徴とする。
この装置によれば、上記本発明の光ディスクに対して、従来と同様にして記録層に対してレーザ光を照射して情報記録をすることができるとともに、画像記録層に対して可視画像の形成をすることができる。さらに、情報記録も、可視画像の形成も、光ディスクの同一面からレーザ光を照射することにより実行することが可能であることから、ユーザは光ディスクを裏返して再セットするなどの煩わしい作業をする必要がない。

また、本発明の光ディスクの画像記録層への画像形成方法は、光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報記録を行う光ピックアップを有する光ディスク記録装置を用い、光ディスクにおける前記記録面と反対側の面に形成された画像記録層に対して可視画像を形成する方法であって、前記光ピックアップによるレーザ光の照射位置を前記画像記録層に所定の螺旋状もしくは同心円周状の経路に沿って移動させながら、画像情報に対応する可視画像が前記光ディスクの前記画像記録層に形成されるよう前記光ピックアップが照射するレーザ光を制御し、当該レーザ光の制御では、前記光ディスクを複数に分割した扇形部分の各々に属する隣接する所定数（複数）の前記経路を含む領域を単位領域とし、前記可視画像における当該単位領域の濃淡が表現されるように当該単位領域に属する前記経路の各々に照射するレーザ光の照射タイミングを制御することを特徴としている。

この方法によれば、画像データに応じてレーザ光を光ディスクの画像記録層に照射することによって、該画像記録層の吸光度変化に伴い反射率が画像様に変化し、画像データに対応する可視画像を形成することができる。このような可視画像形成の際に、画像データに示される画像記録層上の各位置（座標）の階調度に応じたレーザ光照射タイミング制御を行うことができ、階調表現がなされた可視画像を形成することができる。

Ａ．上記光ディスク記録装置の具体的構成
前記光ディスク記録装置は、光ディスクの記録面に対してレーザ光を照射して情報を記録する光ディスク記録装置であり、このような記録面に対する情報記録だけではなく、記録面と反対側の面に画像記録層が形成された光ディスクの当該画像記録層にレーザ光を照射することにより画像データに対応する可視画像を形成する機能を有している。なお、かかる装置では、所定の色素を使用する光ディスクに対しては、画像記録層のみならず、通常のデジタルデータを記録する記録層に対しても可視画像を記録できる。

−光ディスク記録装置の構成−
図９は光ディスク記録装置の構成を示すブロック図である。同図に示すように、この光ディスク記録装置１００は、ホストパーソナルコンピュータ（ＰＣ）１１０に接続されており、光ピックアップ１０と、スピンドルモータ１１と、ＲＦ（Radio Frequency）アンプ１２と、サーボ回路１３と、デコーダ１５と、制御部１６と、エンコーダ１７と、ストラテジ回路１８と、レーザドライバ１９と、レーザパワー制御回路２０と、周波数発生器２１と、ステッピングモータ３０と、モータドライバ３１と、モータコントローラ３２と、ＰＬＬ（Phase Locked Loop）回路３３と、ＦＩＦＯ（First In FirstOut）メモリ３４と、駆動パルス生成部３５と、バッファメモリ３６とを備えている。

スピンドルモータ１１は、データを記録する対象となる光ディスクＤを回転駆動するモータであり、サーボ回路１３によりその回転数が制御される。本実施形態における光ディスク記録装置１００では、ＣＡＶ（Constant Angular Velocity）方式で記録等を実施するようになっているので、スピンドルモータ１１は制御部１６等からの指示で設定された一定の角速度で回転するようになっている。

光ピックアップ１０は、スピンドルモータ１１によって回転させられる光ディスクＤに対してレーザ光を照射するユニットであり、その構成を図１０に示す。同図に示すように、光ピックアップ１０はレーザービームＢを出射するレーザーダイオード５３と、回折格子５８と、レーザービームＢを光ディスクＤの面に集光する光学系５５と、反射光を受光する受光素子５６とを備えている。

光ピックアップ１０において、レーザーダイオード５３は、レーザドライバ１９（図９参照）から駆動電流が供給されることにより該駆動電流に応じた強度のレーザービームＢを出射する。光ピックアップ１０は、レーザーダイオード５３より出射されたレーザービームＢを回折格子５８により主ビームと先行ビームと後行ビームに分離し、この３つのレーザービームを偏光ビームスプリッタ５９、コリメータレンズ６０、１／４波長板６１、対物レンズ６２を経て、光ディスクＤの面に集光させる。そして、光ディスクＤの面で反射された３つのレーザービームを、再び対物レンズ６２、１／４波長板６１、コリメータレンズ６０を透過させて、偏光ビームスプリッタ５９で反射させ、シリンドリカルレンズ６３を経て、受光素子５６に入射させるようになっている。受光素子５６は受光した信号をＲＦアンプ１２（図９参照）に出力し、該受光信号がＲＦアンプ１２を介して制御部１６やサーボ回路１３に供給されるようになっている。

対物レンズ６２は、フォーカスアクチュエータ６４およびトラッキングアクチュエータ６５に保持されて、レーザービームＢの光軸方向および光ディスクＤの径方向に移動できるようになっている。フォーカスアクチュエータ６４およびトラッキングアクチュエータ６５の各々は、サーボ回路１３（図９参照）から供給されるフォーカスエラー信号およびトラッキングエラー信号に応じて対物レンズ６２を光軸方向および径方向に移動させる。なお、サーボ回路１３は、受光素子５６およびＲＦアンプ１２を介して供給される受光信号に基づいてフォーカスエラー信号およびトラッキングエラー信号を生成し、上記のように対物レンズ６２を移動させることでフォーカス制御およびトラッキング制御を行う。

また、光ピックアップ１０には、図示しないフロントモニターダイオードを有しており、レーザーダイオード５３がレーザ光を出射しているときに、当該出射光を受光したフロントモニタダイオードに電流が生じ、当該電流が光ピックアップ１０から図９に示すレーザパワー制御回路２０に供給されるようになっている。

ＲＦアンプ１２は光ピックアップ１０から供給されたＥＦＭ（Eight to Fourteen Modulation）変調されたＲＦ信号を増幅し、増幅後のＲＦ信号をサーボ回路１３およびデコーダ１５にＲＦ信号を出力する。デコーダ１５は、再生時にはＲＦアンプ１２から供給されるＥＦＭ変調されたＲＦ信号をＥＦＭ復調して再生データを生成する。

サーボ回路１３には、制御部１６からの指示信号、周波数発生器２１から供給されるスピンドルモータ１１の回転数に応じた周波数のＦＧパルス信号、およびＲＦアンプ１２からのＲＦ信号が供給される。サーボ回路１３は、これらの供給される信号に基づいて、スピンドルモータ１１の回転制御および光ピックアップ１０のフォーカス制御、トラッキング制御を行う。光ディスクＤの記録面（図１参照）に情報を記録する時や、光ディスクＤの画像記録層（図１参照）に可視画像を形成する場合のスピンドルモータ１１の駆動方式としては、光ディスクＤを角速度一定で駆動する方式（ＣＡＶ：Constant Angular Velocity）や、一定の記録線速度となるように光ディスクＤを回転駆動する方式（ＣＬＶ：Constant Linear Velocity）のいずれを用いるようにしてもよく、図９以降において説明する光ディスク記録装置１００では、ＣＡＶ方式を採用しており、サーボ回路１３はスピンドルモータ１１を制御部１６によって指示された一定の角速度で回転駆動させる。

バッファメモリ３６は、ホストＰＣ１１０から供給される、光ディスクＤの記録面に記録すべき情報（以下、記録データという）および光ディスクＤの画像記録層に形成すべき可視画像に対応した情報（以下、画像データ）を蓄積する。そして、バッファメモリ３６に蓄積された記録データをエンコーダ１７に出力され、画像データは制御部１６に出力される。

エンコーダ１７は、バッファメモリ３６から供給される記録データをＥＦＭ変調し、ストラテジ回路１８に出力する。ストラテジ回路１８は、エンコーダ１７から供給されたＥＦＭ信号に対して時間軸補正処理等を行い、レーザドライバ１９に出力する。

レーザドライバ１９は、ストラテジ回路１８から供給される記録データに応じて変調された信号と、レーザパワー制御回路２０の制御にしたがって光ピックアップ１０のレーザダイオード５３（図１０参照）を駆動する。

レーザパワー制御回路２０は、光ピックアップ１０のレーザダイオード５３（図１０参照）から照射されるレーザパワーを制御するものである。具体的には、レーザパワー制御回路２０は、制御部１６によって指示される最適なレーザパワーの目標値と一致する値のレーザ光が光ピックアップ１０から照射されるようにレーザドライバ１９を制御する。ここで行われるレーザパワー制御回路２０によるレーザパワー制御は、光ピックアップ１０のフロントモニタダイオードから供給される電流値を用い、目標となる強度のレーザ光が光ピックアップ１０から照射されるように制御するフィードバック制御である。

ＦＩＦＯメモリ３４には、ホストＰＣ１１０から供給されバッファメモリ３６に蓄積された画像データが制御部１６を介して供給され順次蓄積される。ここで、ＦＩＦＯメモリ３４に蓄積される画像データ、すなわちホストＰＣ１１０から当該光ディスク記録装置１００に供給される画像データは以下のような情報を含んでいる。この画像データは、円盤状の光ディスクＤの面上に可視画像を形成するためのデータであり、図１１に示すように、光ディスクＤの中心Ｏを中心とした多数の同心円上のｎ個の各座標（図中黒点で示す）毎にその階調度（濃淡）を示す情報が記述されている。当該画像データは、これらの各座標の階調度を示す情報が最内周側の円に属する座標点Ｐ１１、Ｐ１２……Ｐ１ｎ、その１つ外周側の円に属する座標Ｐ２１、Ｐ２２……Ｐ２ｎ、さらにその１つ外周側の円に属する座標といった順序で最外周の円の座標Ｐｍｎまでの各々座標点の階調度を示す情報が記述されたデータであり、ＦＩＦＯメモリ３４にはこのような極座標上の各座標の階調度を示す情報が上記のような順序で供給されることになる。なお、図１１は各座標の位置関係を明瞭に示すために模式的に示す図であり、実際の各座標は図示したものよりも密に配置されることになる。また、ホストＰＣ１１０において、一般的に使用されるビットマップ形式等で光ディスクＤの感光面に形成する画像データを作成した場合には、当該ビットマップデータを上記のような極座標形式のデータに変換し、変換後の画像データをホストＰＣ１１０から光ディスク記録装置１００に送信するようにすればよい。

上記のように供給される画像データに基づいて、光ディスクＤの画像記録層に対して可視画像を形成する際、ＦＩＦＯメモリ３４には、ＰＬＬ回路３３から画像記録用のクロック信号が供給されるようになっている。ＦＩＦＯメモリ３４は、この画像記録用のクロック信号のクロックパルスが供給される毎に、最も先に蓄積された一つの座標の階調度を示す情報を駆動パルス生成部３５に出力するようになっている。

駆動パルス生成部３５は、光ピックアップ１０から照射するレーザ光の照射タイミング等を制御する駆動パルスを生成する。ここで、駆動パルス生成部３５は、ＦＩＦＯメモリ３４から供給される各座標毎の階調度を示す情報に応じたパルス幅の駆動パルスを生成する。例えば、ある座標の階調度が比較的大きい場合（濃度が大きい場合）には、図１２上段に示すようにライトレベル（第２の強度）のパルス幅を大きくした駆動パルスを生成し、一方階調度が比較的小さい座標については図１２下段に示すようにライトレベルのパルス幅を小さくした駆動パルスを生成する。ここで、ライトレベルとは、そのレベルのレーザパワーを光ディスクＤの画像記録層に照射した際に画像記録層に変化が生じ、反射率が明らかに変化するパワーレベルであり、上記のような駆動パルスがレーザドライバ１９に供給された場合、そのパルス幅に応じた時間だけライトレベルのレーザ光が光ピックアップ１０から照射される。したがって、階調度が大きい場合にはより長くライトレベルのレーザ光が照射され、光ディスクＤの画像記録層の単位領域中のより大きな領域において反射率が変化することになり、この結果ユーザ等はこの領域が濃度の濃い領域であると視覚的に認識することになる。本実施形態では、このように単位領域（単位長さ）あたりの反射率変化させる領域の長さを可変することにより、画像データに示される階調度を表現するようにしているのである。なお、サーボレベル（第１の強度）とは、そのレベルのレーザパワーを光ディスクＤの画像記録層に照射した際に画像記録層がほとんど変化しないパワーレベルであり、反射率を変化させる必要がない領域に対してはライトレベルのレーザ光を照射せずに当該サーボレベルのレーザ光を照射すればよい。

また、駆動パルス生成部３５は、上記のような各座標毎の階調度を示す情報にしたがった駆動パルスを生成するとともに、レーザパワー制御回路２０によるレーザパワー制御や、サーボ回路１３によるフォーカス制御およびトラッキング制御を実施するために必要がある場合には、各々上記階調度を示す情報に拘わらず、非常に短い期間のライトレベルのパルスを挿入したり、サーボレベルのパルスを挿入する。例えば、図１３上段に示すように、画像データ中のある座標の階調度にしたがって可視画像を表現するために、時間Ｔ１の期間ライトレベルのレーザ光を照射する必要がある場合であって、該時間Ｔ１がレーザパワーを制御するための所定のサーボ周期ＳＴよりも長い場合には、ライトレベルのパルスを生成した時点からサーボ周期ＳＴが経過した時点で非常に短い時間ｔのサーボ用オフパルス（ＳＳＰ１）を挿入する。一方、図１３下段に示すように、画像データ中のある座標の階調度にしたがって可視画像を表現するためにサーボ周期ＳＴ以上の期間サーボレベルのレーザ光を照射する必要がある場合には、サーボレベルのパルスが生成されてからサーボ周期ＳＴ経過後にサーボ用オンパルス（ＳＳＰ２）を挿入する。

上述したようにレーザパワー制御回路２０によるレーザパワー制御は、光ピックアップ１０のレーザーダイオード５３（図１０参照）から照射されるレーザ光を受光したフロントモニターダイオードから供給される電流（照射レーザ光の強度に応じた値の電流）に基づいて実施されることになる。より具体的には、図１４に示すように、レーザパワー制御回路２０は、上記のようなフロントモニターダイオード５３ａによって受光される照射レーザ光の強度に応じた値をサンプルホールドする（Ｓ２０１、Ｓ２０２）。そして、ライトレベルを目標値として照射しているとき、すなわちライトレベルの駆動パルス（図１２，図１３参照）が生成されているときにサンプルホールドした結果に基づいて、制御部１６から供給されるライトレベル目標値のレーザ光が照射されるようレーザパワー制御を行う（Ｓ２０３）。また、サーボレベルを目標値として照射しているとき、すなわちサーボレベルの駆動パルス（図１２，図１３参照）が生成されているときにサンプルホールドした結果に基づいて、制御部１６から供給される目標サーボレベル値のレーザ光が照射されるようレーザパワー制御を行う（Ｓ２０４）。したがって、ライトレベルもしくはサーボレベルのパルスが所定のサーボ周期ＳＴ（サンプル周期）より長い時間継続して出力されない場合には、画像データの内容に拘わらず上記のようにサーボ用オフパルスＳＳＰ１、サーボ用オンパルスＳＳＰ２を強制的に挿入し、上記のような各々のレベル毎にレーザパワー制御ができるようにしているのである。

また、上述したようにサーボ用オフパルスＳＳＰ１を挿入するのは、レーザパワーを制御するためだけではなく、サーボ回路１３によるフォーカス制御やトラッキング制御を行うためにも実施されている。すなわち、トラッキング制御およびフォーカス制御は、光ピックアップ１０の受光素子５６（図１０参照）によって受光されたＲＦ信号、つまりレーザーダイオード５３が出射したレーザ光の光ディスクＤからの戻り光（反射光）に基づいて行われる。ここで、図１５にレーザ光を照射した時に受光素子５６によって受光される信号の一例を示す。同図に示すように、ライトレベルのレーザ光を照射した時の反射光は、レーザ光立ち上がり時のピーク部分Ｋ１、その後レベルが一定になる肩部分Ｋ２の要素を含んでおり、図中斜線で示す部分が画像記録層の画像形成のために用いられたエネルギーであると考えられる。そして、このような画像記録層の画像形成に用いられるエネルギーは常に安定した値となるとは限らず、種々の状況に応じて変動することが考えられる。したがって、図中斜線部分の形状はその都度変動することが考えられ、つまりライトレベルのレーザ光の反射光はノイズ等が多く安定した反射光が得られるとは限らず、この反射光を用いると、正確なフォーカス制御およびトラッキング制御の妨げとなってしまうおそれがある。したがって、上述したようにライトレベルのレーザ光が継続して長時間照射された場合には、サーボレベルのレーザ光の反射光を得ることができず、正確なフォーカス制御およびトラッキング制御が行えなくなってしまう。

そこで、上述したようにサーボ用オフパルスＳＳＰ１を挿入することにより、サーボレベルのレーザ光の反射光を周期的に取得できるようにし、該取得した反射光に基づいてフォーカス制御およびトラッキング制御を実行しているのである。光ディスクＤの画像記録層に可視画像を形成する際には、記録面に対して記録する際と異なり、予め形成されたプリグルーブ（案内溝）等に沿ってトレースするといった必要がない。したがって、本実施形態では、トラッキング制御の目標値は固定値（一定のオフセット電圧を設定しておく）としている。なお、このような制御方法は、画像記録層に画像情報を形成する場合のみならず、記録面に画像情報を形成する場合にも適用できる。すなわち、レーザ光を照射したときに反射率だけでなく発色も変化する材質を記録面（記録層）に用いれば、画像記録層と同様、記録面にも画像を形成させることが可能である。このように記録面に可視画像を形成させると、可視画像を形成した部分には当然ながら本来のデータ記録はできなくなるので、データ記録をする領域と可視画像を形成させる領域とを予め分けておくのが好ましい。

なお、上記のようにサーボ用オフパルスＳＳＰ１やサーボ用オフパルスＳＳＰ２を挿入する時間は、レーザパワー制御、トラッキング制御およびフォーカス制御といった各種サーボの実行に支障をきたさない範囲で最小の時間とすることが好ましく、挿入時間を非常に短くすることで、形成される可視画像にほとんど影響を与えることなく、上記のような各種サーボを行うことができる。

図９に戻り、ＰＬＬ回路（信号出力手段）３３は、周波数発生器２１から供給されるスピンドルモータ１１の回転速度に応じた周波数のＦＧパルス信号を逓倍し、後述する可視画像形成のために用いられるクロック信号を出力する。周波数発生器２１は、スピンドルモータ１１のモータドライバにより得られる逆起電流を利用してスピンドル回転数に応じた周波数のＦＧパルス信号を出力する。例えば、図１６上段に示すように、周波数発生器２１がスピンドルモータ１１が１回転、すなわち光ディスクＤが１回転している間に８個のＦＧパルスを生成するものである場合に、図１６下段に示すように、ＰＬＬ回路３３は当該ＦＧパルスを逓倍したクロック信号（例えばＦＧパルス信号５倍の周波数、光ディスクＤが１回転中にＨレベルのパルスが４０個）を出力する、つまりスピンドルモータ１１によって回転させられる光ディスクＤの回転速度に応じた周波数のクロック信号を出力する。このようにＦＧパルス信号を逓倍したクロック信号がＰＬＬ回路３３からＦＩＦＯメモリ３４に出力され、該クロック信号に１周期毎、つまりある一定角度分ディスクＤが回転する毎に１つの座標の階調度を示すデータがＦＩＦＯメモリ３４から駆動パルス生成部３５に出力されるのである。なお、上記のようにＰＬＬ回路３３を用いてＦＧパルスを逓倍したクロック信号を生成するようにしてもよいが、スピンドルモータ１１として、回転駆動能力が十分に安定しているモータを用いた場合には、ＰＬＬ回路３３に代えて水晶発振器を設け、上記のようなＦＧパルスを逓倍したクロック信号、すなわち光ディスクＤの回転速度に応じた周波数のクロック信号を生成するようにしてもよい。

ステッピングモータ３０は、光ピックアップ１０を当該光ディスクＤにセットされた光ディスクＤの径方向に移動させるためのモータである。モータドライバ３１は、モータコントローラ３２から供給されるパルス信号に応じた量だけステッピングモータ３０を回転駆動する。モータコントローラ３２は、制御部１６から指示される光ピックアップ１０の径方向への移動方向および移動量を含む移動開始指示にしたがって、移動量や移動方向に応じたパルス信号を生成し、モータドライバ３１に出力する。ステッピングモータ３０が光ピックアップ１０を光ディスクＤの径方向に移動させること、および光ディスクＤをスピンドルモータ１１が光ディスクＤを回転させることにより、光ピックアップ１０のレーザ光照射位置を光ディスクＤの様々な位置に移動させることができ、これらの構成要素が照射位置調整手段を構成しているのである。

制御部１６は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）およびＲＡＭ（Random Access Memory）等から構成されており、ＲＯＭに格納されたプログラムにしたがって当該光ディスク記録装置１００の装置各部を制御し、光ディスクＤの記録面に対する記録処理および光ディスクＤの画像記録層に対する画像形成処理を中枢的に制御するように構成されている。以上説明したのが本実施形態に係る光ディスク記録装置１００の構成である。

Ｂ．光ディスク記録装置の動作
次に、上記構成の光ディスク記録装置１００の動作について説明する。上述したようにこの光ディスク記録装置１００は、光ディスクＤの記録面に対してホストＰＣ１１０から供給された音楽データ等の情報を記録することが可能であるとともに、光ディスクＤの画像記録層に対してホストＰＣ１１０から供給される画像データに対応した可視画像を形成することができるように構成されている。以下、情報記録および可視画像形成といった処理を行うことが可能な光ディスク記録装置１００の動作について図１７および図１８を参照しながら説明する。

まず、当該光ディスク記録装置１００に光ディスクＤがセットされると、制御部１６は光ピックアップ１０等を制御し、セットされた光ディスクＤの光ピックアップ１０と対向する面がどのようなフォーマットの光ディスクであるかを検出する。例えば、ＤＶＤ−Ｒの場合は、ランドプリピット信号や、プリレコード信号、ＤＶＤ＋Ｒの場合は、ＡＤＩＰ（Address in Pregroove）の有無を検出する。これらの情報が記録されていない場合には光ディスクとして認識されない。

ここで、セットされた光ディスクＤから、例えば、ＤＶＤ−Ｒの場合は、ランドプリピット信号やプリコード信号、ＤＶＤ＋Ｒの場合はＡＤＩＰが検出された場合には、記録面が光ピックアップ１０と対向するように光ディスクＤがセットされていると判断し、制御部１６は記録面に対してホストＰＣ１１０から供給される記録データを記録するための制御を行う（ステップＳａ２）。ここで行われる記録データを記録するための制御は、従来の光ディスク記録装置（ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ＋Ｒドライブ装置）と同様であるため、その説明を省略する。

一方、セットされた光ディスクＤから描画可能な光ディスクであることを示すプリピット信号が検出された場合には、画像記録層が光ピックアップ１０と対向するように光ディスクＤがセットされていると判断し、制御部１６はセットされた光ディスクＤのディスクＩＤを取得することができるか否かを判断する（ステップＳａ３）。なお、光ディスクＤのディスクＩＤは、プリピット信号の中に搭載することができる。また、例えば図１９に示すように、ディスクＩＤをコード化した情報に対応する可視画像を光ディスクＤの画像記録層側の最外周部分の円周に沿って記述しておく。図１９では、図示のように、最外周部分の円周に沿って上記コードに応じた長さの反射領域３０１ａと非反射領域３０１ｂとを形成することによりディスクＩＤを光ディスクＤの画像記録層に記述している。制御部１６は光ディスクＤの最外周の円周に沿って光ピックアップ１０のレーザ光の照射位置をトレースすることにより、その反射光からディスクＩＤを取得する。

したがって、画像記録層の最外周部分に上記のようなディスクＩＤに対応する反射領域３０１ａおよび非反射領域３０１ｂが形成されていない場合には、当該光ディスクＤは画像記録層を有しない一般的な光ディスク（ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等）であると判別することができる。このようにディスクＩＤを取得できない場合は、制御部１６は可視画像の形成が不可能な光ディスクＤであると判断し（ステップＳａ４）、その旨をユーザに通知等するための処理を行う。

一方、光ディスクＤからディスクＩＤを取得することができた場合には、ホストＰＣ１１０から画像データを含む画像形成指示があるまで待機し（ステップＳａ５）、画像形成指示があった場合には制御部１６は光ディスクＤの画像記録層に可視画像を形成するための初期化制御を行う（ステップＳａ６）。より具体的には、制御部１６は、所定の角速度でスピンドルモータ１１が回転させられるようサーボ回路１３を制御したり、光ピックアップ１０を光ディスクＤの径方向の最内周側の初期位置に移動させるための指示をモータコントローラ３２に送出し、ステッピングモータ３０を駆動させたりする。

また、画像形成のための初期化制御において制御部１６は、記録面に対して情報記録を行う時よりも、大きいビームスポット径のレーザ光が光ディスクＤの画像記録層に照射されるようなフォーカス制御の目標値をサーボ回路１３に対して指示することもできる。

上記のような目標値を指示した際のフォーカス制御内容をより具体的に説明すると、次の通りである。上述したようにサーボ回路１３によるフォーカス制御は、光ピックアップ１０の受光素子５６から出力される信号に基づいて行われる。光ディスクＤの記録面に対する情報記録時には、図２０に示す受光素子５６の４つのエリア５６ａ，５６ｂ，５６ｃ，５６ｄの中心に円形の戻り光（図のＡ）が受光されるようサーボ回路１３がフォーカスアクチュエータ６４（図１０参照）を駆動する。すなわち、エリア５６ａ，５６ｂ，５６ｃ，５６ｄの各々の受光量をａ，ｂ，ｃ，ｄとした場合に、（ａ＋ｃ）−（ｂ＋ｄ）＝０となるようにフォーカスアクチュエータ６４を駆動するのである。

一方、光ディスクＤの画像記録層に対して可視画像を形成する場合には、上述したように記録面に対する情報記録時よりも径の大きいレーザ光が画像記録層に照射されるようフォーカス制御が行われる。図２０に示す受光素子５６に受光される戻り光の形状が楕円形状（図のＢやＣ）である場合には、そのレーザ光のスポットサイズは上記円形Ａの場合よりも大きいので、サーボ回路１３はこのような楕円形状の戻り光が受光素子５６に受光されるようフォーカスアクチュエータ６４を駆動する。すなわち、（ａ＋ｃ）−（ｂ＋ｄ）＝α（αは０ではない）を満たすようにフォーカスアクチュエータ６４を駆動するのである。したがって、本実施形態において、制御部１６、サーボ回路１３はビームスポット制御手段を構成している。

以上のように上述した可視画像形成のための初期化制御において制御部１６がα（０ではない）をサーボ回路１３に指示設定することで、記録面に対する情報記録時よりも大きいスポット径のレーザ光を光ディスクＤの画像記録層に照射することができる。このように光ディスクＤの画像記録層に対する可視画像を形成するときに、記録面に対する情報記録時よりも大きいスポット径のレーザ光を照射することで以下のような効果を得ることができる。すなわち、本実施形態では、可視画像を形成する際にも、記録面に情報記録を行う際と同様、光ディスクＤを回転させながらレーザ光を照射することとしている。したがって、レーザ光のビームスポット径を大きくすることで、より短時間で光ディスクＤの画像記録層の全領域に対して可視画像を形成することができる。この理由について、図２１を参照しながら説明する。同図に模式的に示すように、照射するレーザ光のビームスポット径ＢＳが大きい場合と小さい場合とを比較すると、光ディスクＤを１回転させたときに画像形成の対象となる領域の面積がビームスポット径ＢＳが大きい時の方が大きくなる。このため、ビームスポット径ＢＳが小さい場合には全領域を画像形成の対象とするためにより多く光ディスクＤを回転させなければならず（図示の例では、大きい場合は４回転、小さい場合は６回転）、画像形成のために多くの時間を要してしまう。以上のような理由から、この光ディスク記録装置１００では、可視画像を形成する際に情報記録時よりも大きいスポット径のレーザ光が照射されるようにしているのである。

また、画像形成のための初期化制御において制御部１６は、取得したディスクＩＤに応じたライトレベルおよびサーボレベルのレーザ光が光ピックアップ１０から照射されるよう、各々のレベルの目標値をレーザパワー制御回路２０に指示する。すなわち、制御部１６のＲＯＭには、複数種類のディスクＩＤ毎に、ライトレベルおよびサーボレベルとして設定すべき目標値が記憶されており、制御部１６は取得されたディスクＩＤに対応するライトレベルおよびサーボレベルの目標値を読み出し、これらの目標値をレーザパワー制御回路２０に指示するのである。

このようにディスクＩＤに応じてパワーの目標値を設定するのは以下のような理由に基づくものである。すなわち、光ディスクＤの種類によって画像記録層の色素の特性が異なることが考えられ、特性が異なる場合、どの程度のパワーのレーザ光を照射すれば反射率が変化するといった特性も当然変化することになる。このため、ある光ディスクＤの画像記録層に対してはあるライトレベルのレーザ光を照射することにより、その照射領域の反射率を十分変化させることができた場合にも、他の光ディスクＤの画像記録層に対して同じライトレベルのレーザ光を照射させた場合にその照射領域の反射率を変化させることができるとは限らない。したがって、本実施形態では、上記のように種々のディスクＩＤ毎に対応する光ディスク毎に、予め正確な画像形成が行えるようなライトレベルおよびサーボレベルの目標値を実験により求めておく。そして、求めた目標値を各々のディスクＩＤに対応付けてＲＯＭに格納しておくことにより、上記のような種々の光ディスクＤの画像記録層の特性に応じて最適なパワー制御を行うことができるようにしている。

以上説明したような初期化制御が制御部１６によって行われると、実際に光ディスクＤの画像記録層に可視画像を形成するための処理が行われることになる。図１８に示すように、まず制御部１６は、ホストＰＣ１１０からバッファメモリ３６を介して供給された画像データをＦＩＦＯメモリ３４に転送する（ステップＳａ７）。そして、制御部１６は、周波数発生器２１から供給されるＦＧパルス信号から、スピンドルモータ１１によって回転させられる光ディスクＤの所定の基準位置が、光ピックアップ１０のレーザ光照射位置を通過したか否かを判断する（ステップＳａ８）。

ここで、図２２および図２３を参照しながら所定の基準位置、およびレーザ光照射位置がその位置を通過したか否かの検出方法について説明する。図２２に示すように、周波数発生器２１は、スピンドルモータ１１が１回転する間、つまり光ディスクＤが１回転する間に所定個（図示の例では８個）のＦＧパルスを出力する。したがって、制御部１６は、周波数発生器２１から供給されるＦＧパルスのいずれか１つを基準パルスと立ち上がりタイミングを同期させて基準位置検出用パルスを出力し、その後は基準位置検出パルスから１回転分の個数目（図示の例では８個目）のパルスの立ち上がりタイミングと同期させて基準位置検出用パルスを出力する基準位置検出用パルス信号を生成する。このような基準位置検出用パルスを生成することで、当該パルスが生成された時が光ディスクＤの基準位置を光ピックアップ１０のレーザ光照射位置が通過したタイミングであると検出できるのである。すなわち、図２３に示すように、最初の基準位置検出用パルスを生成したタイミングにおける光ピックアップ１０のレーザ光照射位置が図中太線（光ピックアップ１０は径方向に移動可能であるため、照射位置が取り得る位置は線で表される）で示す位置であるとすると、その１回転後に生成される基準位置検出用パルスの生成した時にも当然光ピックアップ１０のレーザ光照射位置は図中太線で示す位置にある。このように最初に基準位置検出用パルスを生成したタイミングにレーザ光の照射位置が属する径方向の線を基準位置となり、制御部１６は、上記のように光ディスクＤが１回転する毎に生成される基準位置検出用パルス信号に基づいて、レーザ光の照射位置が光ディスクＤの基準位置を通過したことを検出することができるのである。なお、図中一点鎖線は、ある基準位置検出用パルスが生成されてから、次の基準位置検出用パルスが生成されるまでにレーザ光の照射位置の移動軌跡の一例を示す。

ホストＰＣ１１０から画像形成指示を受けた後、以上のような手法で光ディスクＤの基準位置がレーザ光の照射位置を通過したことを検出すると、制御部１６は、回転数を示す変数Ｒに１をインクリメントした後（ステップＳａ９）、Ｒが奇数であるか否かを判別する（ステップＳａ１０）。

ここで、画像形成指示を受けた後、最初に基準位置を通過したことを検出した際には、Ｒ＝０（初期値）＋１＝１であり、この場合、ステップＳａ１０においてＲは奇数であると判別されることになる。このようにＲが奇数であると判別した場合、制御部１６は、光ピックアップ１０から光ディスクＤの画像記録層にレーザ光を照射して可視画像を形成するための制御を行う（ステップＳａ１１）。より具体的には、制御部１６は、上記の基準位置検出用パルスを受け取った時点から、ＰＬＬ回路３３から出力されるクロック信号に同期してＦＩＦＯメモリ３４から画像データを順次出力するよう各部を制御する。この制御により、図２４に示すように、ＦＩＦＯメモリ３４は、ＰＬＬ回路３３からクロックパルスが供給される毎に、１つの座標の階調度を示す情報を駆動パルス生成部３５に出力し、駆動パルス生成部３５は当該情報に示される階調度にしたがったパルス幅の駆動パルスを生成してレーザドライバ１９に出力する。この結果、光ピックアップ１０は、各座標の階調度に応じた時間だけライトレベルでレーザ光を光ディスクＤの画像記録層に照射し、その照射領域の反射率が変化することにより、図２５に示すような可視画像を形成することができる。

同図に模式的に示すように、光ディスクＤはスピンドルモータ１１によって回転させられているので、光ピックアップ１０のレーザ光の照射位置はクロック信号の１周期（パルスの立ち上がりタイミングから次のパルスの立ち上がりタイミングまでの期間）中に図中Ｃで示す領域分だけ円周に沿って移動することになる。この領域Ｃをレーザ光照射位置が通過する間にライトレベルでレーザ光を照射すべき時間を上記のように階調度に応じて変化させることで、図示のように領域Ｃ毎に異なる階調度に応じて異なる面積の反射率を変化させることができる。このように各座標の階調度に応じて各々の領域Ｃを通過するときのライトレベルのレーザ光の照射時間を制御することにより、画像データに応じた可視画像を光ディスクＤの画像記録層に形成することができるのである。

以上のように画像データに応じて制御されるレーザ光照射によって可視画像の形成を実行するための制御を実行すると、制御部１６の処理はステップＳａ７に戻り、バッファメモリ３６から供給された画像データをＦＩＦＯメモリ３４に転送する。そして、光ディスクＤの基準位置を光ピックアップ１０のレーザ光照射位置が通過したか否かを検出し、基準位置を通過したことが検出された場合、Ｒに１をインクリメントする。この結果、Ｒが偶数となった場合には、制御部１６は上記のようなレーザ光照射制御による可視画像形成を停止させるよう装置各部を制御する（ステップＳａ１２）。より具体的には、ＦＩＦＯメモリ３４に対して、ＰＬＬ回路３３から供給されるクロック信号に同期して各座標の階調度を示す情報を駆動パルス生成部３５に出力しないよう制御する。つまり、制御部１６は、光ディスクＤの画像記録層に対してライトレベルのレーザ光を照射して可視画像を形成した後、次に光ディスクＤが１回転している間は画像記録層の反射率を変化させるためのレーザ光の照射を行わないように制御しているのである。

このように可視画像形成のためのレーザ光照射を停止させると、制御部１６は、モータコントローラ３２に対して所定量だけ光ピックアップ１０を径方向の外周側に移動させるよう指示し（ステップＳａ１３）、該指示に応じてモータコントローラ３２がモータドライバ３１を介してステッピングモータ３０を駆動し、これにより光ピックアップ１０が所定量だけ外周側に移動させられる。

ここで、光ピックアップ１０を光ディスクＤの径方向に移動させる所定量は、上述したように光ピックアップ１０から照射されるビームスポット径ＢＳ（図２１参照）に応じて適宜決定すればよい。すなわち、円盤状の光ディスクＤの画像記録層に可視画像を形成する際には、光ピックアップ１０のレーザ光照射位置を光ディスクＤの面上ほぼ隙間なく移動させることが、より高品位の画像形成を実現するために必要となる。したがって、上記のような径方向への光ピックアップ１０の単位移動量を、光ディスクＤに対する照射レーザ光のビームスポット径ＢＳとほぼ同じ長さとすれば、光ディスクＤの面上にほぼ隙間なくレーザ光を照射することができ、より高品位な画像形成が可能となる。なお、画像記録層の性質等の種々の要因によって照射したビームスポット径よりも大きい領域が発色するケースもあり、このようなケースでは、その発色領域の幅を考慮し、隣り合う発色領域が重ならないよう単位移動量を決めるようにすればよい。本実施形態では、ビームスポット径ＢＳを記録面に対する記録時より大きくしているので（例えば、２０μｍ程度）、制御部１６は、このビームスポット径ＢＳとほぼ同じ長さ分だけ光ピックアップ１０を径方向に移動させるようモータコントローラ３２を制御し、ステッピングモータ３０を駆動させている。なお、近年のステッピングモータ３０は、μステップ技術を利用することで、１０μｍ単位でその移動量を制御することが可能であり、上記のようにステッピングモータ３０を用いて光ピックアップ１０を２０μｍ単位で径方向に移動させることは十分に実現可能である。

上記のように光ピックアップ１０を径方向に所定量だけ移動させる制御を行うと、制御部１６は、目標となるレーザ光のライトレベル値を変更するべく、ライトレベルでレーザ光を照射する際に目標とすべき変更後のライトレベル値をレーザパワー制御回路２０に対して指示する（ステップＳａ１４）。本実施形態では、可視画像を形成する際の方式として光ディスクＤを角速度を一定に維持して回転させながらレーザ光を照射するＣＡＶ方式を採用しており、上記のように光ピックアップ１０が外周側に移動させられると、線速度が大きくなる。したがって、レーザ光をこのように光ピックアップ１０を径方向（外周側）に移動させた時には、上記のようにライトレベルの目標値をその時点までよりも大きくなるように変更し、これにより線速度が変化しても光ディスクＤの画像記録層の反射率が十分に変化できる強度のレーザパワーを照射できるようにしているのである。

以上のように光ピックアップ１０の径方向への移動制御およびライトレベルの目標値を変更する制御を実行すると、制御部１６は可視画像形成のために未処理の画像データ、つまり駆動パルス生成部３５に供給されていない画像データがあるか否かを判別し、当該画像データがない場合には処理を終了する。

一方、モータコントローラ３２に供給されていない未処理の画像データがある場合には、ステップＳａ７に戻り、可視画像形成のための処理を続行する。すなわち、制御部１６からＦＩＦＯメモリ３４に画像データを転送し（ステップＳａ７）、レーザ光の照射位置が光ディスクＤの基準位置を通過したか否かを判別する（ステップＳａ８）。そして、基準位置を通過した際には、回転数を示す変数Ｒに１をインクリメントし（ステップＳａ９）、インクリメント後のＲが奇数であるか否かを判別する（ステップＳａ１０）。ここで、Ｒが奇数である場合には、制御部１６は上記のような可視画像を形成するためのレーザ光照射がなされるよう装置各部を制御し、Ｒが偶数である場合には可視画像を形成するためのレーザ光照射を停止し（サーボレベルのレーザ光は照射する）、上記のような光ピックアップ１０の径方向への移動制御や、ライトレベルの目標値変更といった制御を行う。すなわち、制御部１６は、ある周回中に光ディスクＤに対して画像形成のためのレーザ光照射（ライトレベルを含む）を行った場合、その次の周回中には画像形成のためのレーザ光照射が行われないよう制御し、その周回中に光ピックアップ１０の径方向への移動制御等を実施するようにしている。このように画像形成を行わない周回中に光ピックアップ１０を移動させる制御やライトレベル目標値の変更制御等を実施することで、当該制御に伴って照射位置や照射されるレーザ光のパワー値等が変動している間に画像形成されることがなく、照射位置やレーザ光の強度が安定してから画像形成のためのレーザ光照射を実行することができる。したがって、上記のような光ピックアップ１０の径方向の移動制御等に起因して形成される可視画像の品位が低下してしまうことを抑制できる。

以上説明したのが、光ディスク記録装置１００の主要な動作であり、光ディスク記録装置１００によれば、新たに印刷手段等を搭載することなく、記録面に対して情報記録を行うために用いられる光ピックアップ１０等の装置各部を可能な限り利用し、画像記録層が形成された光ディスクＤの当該画像記録層に対してレーザ光を照射して画像データに対応した可視画像を形成することができる。

また、本実施形態では、スピンドルモータ１１の回転に応じて生成されるＦＧパルスを用いて生成したクロック信号、すなわち光ディスクＤの回転量に応じて生成されるクロック信号に基づいてレーザ光照射タイミングを制御しているので、光ディスクＤ側から位置情報等を取得することなく、光ディスク記録装置１００においてレーザ光照射位置を把握することができる。したがって、光ディスク記録装置１００によれば、画像記録層にプリグルーブ（案内溝）を形成するといった特別な加工等を施した光ディスクＤを用いなくてはならないといった制限はなく、プリグルーブや位置情報等が予め形成されていない画像記録層に対しても、画像データに対応する可視画像を形成することができる。

次いで、情報記録層への情報（デジタル情報）の記録について説明する。情報記録層が色素型の場合、まず、未記録の前述の光ディスクを所定の記録線速度にて回転させながら、レーザーピックアップからレーザー光を照射する。この照射光により、情報記録層の色素がその光を吸収して局所的に温度上昇し、所望のピットが生成してその光学特性が変わることにより情報が記録される。

レーザー光の記録波形は、１つのピットの形成する際には、パルス列でも１パルスでもかまわない。実際に記録しようとする長さ（ピットの長さ）に対する割合が重要である。
レーザー光のパルス幅としては、実際に記録しようとする長さに対して２０〜９５％の範囲が好ましく、３０〜９０％の範囲がより好ましく、３５〜８５％の範囲が更に好ましい。ここで、記録波形がパルス列の場合には、その和が上記の範囲にあることを指す。

レーザー光のパワーとしては、記録線速度によって異なるが、記録線速度が３．５ｍ／ｓの場合、１〜１００ｍＷの範囲が好ましく、３〜５０ｍＷの範囲がより好ましく、５〜２０ｍＷの範囲が更に好ましい。また、記録線速度が２倍になった場合には、レーザー光のパワーの好ましい範囲は、それぞれ２^1/2倍となる。

また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．５５以上が好ましく、０．６０以上がより好ましい。

本発明においては、記録光として３５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーを用いることができる。

一方、情報記録層が相変化型の場合について説明する。相変化型の場合は、前述の材質から構成され、レーザー光の照射によって結晶相と非晶相との相変化を繰り返すことができる。
情報記録時は、集中したレーザー光パルスを短時間照射し、相変化記録層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形成される。また、消去時には、記録マーク部分にレーザー光を照射し、情報記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱し、かつ除冷することによって、非晶状態の記録マークを結晶化し、もとの未記録状態に戻す。

次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１］
本実施例は、第１の積層体と第２の積層体とを貼り合わせてなる光ディスクである。以下に、該光ディスクの作製方法を説明する。
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂から、スパイラル状（螺旋状）のグルーブ（深さ：１３０ｎｍ、半値幅：３００ｎｍ、トラックピッチ：０．７４μｍ）を有する厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板（第１の基板）を成形した。下記色素Ａ１．５０ｇを２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール１００ｍｌに溶解して塗布液（１）を調製し、この塗布液（１）をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、情報記録層を形成した。次に、情報記録層上に銀をスパッタして層厚１２０ ｎｍの第１の反射層を形成した。以上の工程により、第１の積層体を作製した。

次に、第２の積層体用の基板（第２の基板）として、射出成形にて、溝が形成されていないスタンパを用いて、０．６ｍｍ厚の基板を成形した。次いで、画像記録層を形成するため、下記色素Ｂ１．４０ｇと下記色素Ｃ０．６０ｇとを、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール１００ｍｌに溶解した塗布液（２）を調製し、この塗布液（２）を第２の基板上にスピンコートにて塗布し、層厚０．１μｍの画像記録層を形成した。次に、画像記録層上に銀をスパッタして層厚８０ｎｍの第２の反射層を形成した。以上の工程により、第２の積層体を作製した。

次いで、前記第１の積層体と前記第２の積層体とを貼り合せて、１枚の光ディスクとして完成させるため、次のような工程を経た。まず、第１の積層体の第１の反射層上にラジカル重合型の紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、ＳＤ６４０）を吐出し、該紫外線硬化樹脂が吐出された側と第２の積層体の第２の反射層側とを貼り合わせた。その後、第２の積層体側から押し付けて紫外線硬化樹脂を広げ、さらに高速回転させて余分な紫外線硬化樹脂を遠心力で振り切り、内周から外周まで均一な層厚の接着層（硬化前）を形成した。該接着層を硬化させるため、第２の基板側から紫外線を照射し、接着層を形成した。このとき使用した紫外線ランプは、高圧水銀ランプで、紫外線照射量は１．８Ｊ／ｃｍ²であった。

［実施例２］
実施例１の第２の積層体の作製において、第２の反射層の層厚を４０ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光ディスクを作製した。

［実施例３］
実施例１の第２の積層体の作製において、第２の反射層の層厚を１００ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光ディスクを作製した。

［比較例１］
実施例１の第１の積層体の作製において、銀反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、ＳＤ６４０）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射して硬化させることにより保護層を形成したこと以外は実施例１と同様にして第１の積層体を作製した。同様に、実施例１の第２の積層体の作製において、反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、ＳＤ６４０）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射して硬化させることにより保護層を形成したこと以外は実施例１と同様にして第２の積層体を作製した。
次いで、前記第１の積層体と前記第２の積層体とを貼り合せて、１枚の光ディスクとして完成させるため、次のような工程を経た。第１の積層体の保護層と第２の積層体の保護層上に遅効性カチオン重合型接着剤（ソニーケミカル（株）製、ＳＫ７２００）をスクリーン印刷によって印刷（塗布）し、メタルハライドランプによって紫外線を照射してから、第１の積層体の保護層と第２の積層体の保護層とを貼り合わせ、押圧し、５分間放置し、比較例１の光ディスクを作製した。

［比較例２］
実施例１の第２の積層体の作製において、第２の反射層の層厚を３５ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光ディスクを作製した。

［比較例３］
実施例１の第２の積層体の作製において、第２の反射層の層厚を１１０ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光ディスクを作製した。

［評価］
作製した実施例１〜３及び比較例１〜３の光ディスクに対し、以下の評価を行った。
（硬化性）
完成した光ディスクを床の上１ｍの高さから垂直に落下させる試験を１０回繰り返し、光ディスクの接着層の剥がれを確認することで硬化性を評価した。評価は以下の基準に従い評価した。評価結果を表１に示す。
◎：１０回の落下試験後も全く剥がれが生じなかった。
△：１０回未満の落下試験後、剥がれが生じた。
×：１回目の落下試験で剥がれが生じた。
（機械特性）
完成した光ディスクを機械特性評価機（ジャパン・イー・エム社製、ＤＬＤ−４０００）を用いて、半径方向チルト、円周方向チルト、面触れ量を測定した。測定結果を表１に示す。

表１より、比較例１は実施例と比べて円周方向のチルトが悪い。これは、比較例１で使用している遅効性カチオン重合性接着剤の影響と考えられる。
また、比較例２では、硬化性や、機械特性（半径方向チルト、円周方向チルト、面触れ量）は良好であるが、干渉縞が発生したため、画像記録層に描画した絵や文字が見にくくなった。
更に、比較例３では、第２の反射層の層厚が厚いため、接着剤を硬化させるための紫外線が接着層まで十分に行き渡らないため、硬化性が悪化している。尚、硬化性は、紫外線照射量を増加させることで改良は十分であるが、紫外線照射量増加に伴う熱によりディスクが高温となり、機械特性が大幅に悪化したり、紫外線照射時間を長くするため、生産性が低下するといった問題がある。

本発明の光ディスクの層構成を示す部分断面図である。 用いた光源の波長と相対強度との関係をグラフで示す図である。 基板を透過する放射線の波長と透過率との関係をグラフで示す図である。 接着剤層を透過する放射線の波長と、吸光度との関係をグラフで示す図である。 照射する放射線の波長と第１の反射層の反射率・透過率との関係をグラフで示す図である。 照射する放射線の波長と第２の反射層の反射率・透過率との関係をグラフで示す図である。 第２の反射層を透過する前の光量を１としたとき、第２の反射層を透過後の光の光量と、該光の波長との関係についてグラフで示す図である。 図４において示した接着剤層の吸光度のグラフ（最大吸光度を１００％としたときの吸光度）と、図７において示した第２の反射層を透過後の光の光量（比率）のグラフを合成して示したグラフである。 本発明の光ディスクを取り扱うことができる光ディスク記録装置の一例の構成を示すブロック図である。 前記光ディスク記録装置の構成要素である光ピックアップの構成を示す図である。 前記光ディスク記録装置による前記光ディスクの画像記録層に対して可視画像を形成するために用いられる画像データの内容を説明するための図である。 前記光ディスク記録装置が本発明の光ディスクの画像記録層に対して可視画像を形成する際に、画像の濃淡を表現するためのレーザ光の照射制御内容を説明するための図である。 前記光ディスク記録装置が前記光ディスクの画像記録層に対して可視画像を形成する際のレーザ光の制御方法を説明するための図である。 前記光ディスク記録装置の構成要素であるレーザパワー制御回路によるレーザパワー制御内容を説明するための図である。 前記光ディスク記録装置の光ピックアップから前記光ディスクの画像記録層に照射したレーザ光の戻り光を示す図である。 前記光ディスク記録装置の構成要素である周波数発生器２１によってスピンドルモータの回転量に応じて生成されるＦＧパルスおよび当該ＦＧパルスに基づいて生成されるクロック信号を示す図である。 前記光ディスク記録装置の動作を説明するためのフローチャートである。 前記光ディスク記録装置の動作を説明するためのフローチャートである。 前記光ディスクの画像記録層に記録されたディスクＩＤを示す図である。 前記光ディスク記録装置の前記光ピックアップの受光素子によって受光されるレーザ光の戻り光の形状を示す図である。 前記光ディスク記録装置の前記光ピックアップが前記光ディスクの前記画像記録層に照射するレーザ光のビームスポット径のサイズを説明するための図である。 前記光ディスク記録装置のレーザ光照射位置が前記光ディスクの基準位置を通過したことを検出する方法を説明するための図である。 前記光ディスク記録装置のレーザ光照射位置が前記光ディスクの基準位置を通過したことを検出する方法を説明するための図である。 前記光ディスクの画像記録層にレーザ光を照射して可視画像を形成する時の前記光ディスク記録装置の動作を説明するためのタイミングチャートである。 前記光ディスク記録装置によってレーザ光が照射された前記光ディスクの画像記録層を示す図である。

符号の説明

１０……光ピックアップ、１１……スピンドルモータ（回転駆動手段）、１２……ＲＦアンプ、１３……サーボ回路、１６……制御部、１７……エンコーダ、１８……ストラテジ回路、１９……レーザドライバ、２０……レーザパワー制御回路、２１……周波数発生器、３０……ステッピングモータ、３１……モータドライバ、３２……モータコントローラ、３３……ＰＬＬ回路、３４……ＦＩＦＯメモリ、３５……駆動パルス生成部、３６……バッファメモリ、５３……レーザーダイオード、５３ａ……フロントモニターダイオード、５６……受光素子、６４……フォーカスアクチュエータ、６５……トラッキングアクチュエータ、１００……光ディスク記録装置、２７０……チャッキング部、２７１……アダプタ、２８０……駆動機構、３２０……エンコーダ、Ｄ……光ディスク、５００……光ディスク、５１２……第１の基板、５１４……情報記録層、５１６……第１の反射層、５２０……第１の積層体、５２２……第２の基板、５２４……画像記録層、５２６……第２の反射層、５２８……第２の積層体、５３０……接着層

Claims (14)

1. 第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体を形成する第１積層体形成工程と、
   第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び厚さ４０〜１００ｎｍの第２の反射層をこの順に有する第２の積層体を形成する第２積層体形成工程と、
   前記第１の反射層と前記第２の反射層とを対向させ、前記第１の積層体と前記第２の積層体とを放射線硬化樹脂を用いて貼り合せる貼合工程と、を有し、
   前記貼合工程における放射線硬化樹脂の硬化を前記第２の基板側から放射線を照射して行うことを特徴とする光ディスクの製造方法。
2. 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層の層厚を４０〜９０ｎｍとして形成することを特徴とする請求項１に記載の光ディスクの製造方法。
3. 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層の層厚を４０〜８０ｎｍとして形成することを特徴とする請求項１に記載の光ディスクの製造方法。
4. 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を銀又は銀合金を用いて形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
5. 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を銀の含有量が９０質量％以上である銀又は銀合金を用いて形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
6. 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を銀の含有量が９５質量％以上である銀又は銀合金を用いて形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
7. 前記第２積層体形成工程において、前記第２の反射層を純銀を用いて形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
8. 前記放射線硬化樹脂への放射線の照射量が１Ｊ／ｃｍ²以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
9. 前記放射線硬化樹脂が、ラジカル重合型の放射線硬化樹脂であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
10. 前記放射線硬化樹脂が（メタ）アクリレート系樹脂であることを特徴とする請求項９に記載の光ディスクの製造方法。
11. 前記放射線硬化樹脂の硬化が３５０ｎｍ以下の波長の光を用いて行われることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
12. 前記放射線硬化樹脂が３５０ｎｍ以下の波長の光に対して極大吸収があることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
13. 前記放射線の光源がフラッシュランプであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光ディスクの製造方法。
14. 第１の基板上に、少なくとも、情報記録層又はピット、及び第１の反射層をこの順に有する第１の積層体と、
    第２の基板上に、少なくとも、レーザー光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層、及び第２の反射層をこの順に有する第２の積層体とを備え、
    前記第１の積層体と前記第２の積層体とは、前記第１の反射層と前記第２の反射層とが対向するように配置されており、
    前記前記第１の積層体と前記第２の積層体とは、放射線硬化樹脂を硬化してなる接着層により貼り合わせられており、
    前記第２の反射層の層厚は４０〜１００ｎｍであることを特徴とする光ディスク。

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