JPH1069676A - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
情報記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH1069676A JPH1069676A JP8228175A JP22817596A JPH1069676A JP H1069676 A JPH1069676 A JP H1069676A JP 8228175 A JP8228175 A JP 8228175A JP 22817596 A JP22817596 A JP 22817596A JP H1069676 A JPH1069676 A JP H1069676A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高パワーの光照射を要することなく光硬化性の
接着層の固形化を容易になし得ると共に、これによって
品質および生産性の著しい向上を図ることができ、同時
に耐久性向上も図り得る情報記録媒体等を提供するこ
と。 【解決手段】 一方の面に情報記録面11,12を有す
ると共にこの情報記録面11,12上に光反射層13,
14が個別に付された二枚の基板101,102を有
し、この二枚の基板101,102を,その光反射層を
対向させ光硬化性接着層16を介して貼り合わせてなる
密着貼り合わせ構造の情報記録媒体において、前述した
二枚の基板101,102の少なくとも一方の基板10
1の光反射層13を、所定の波長の光に対しては高い透
過率を有する光選択性光反射層で形成したこと。
接着層の固形化を容易になし得ると共に、これによって
品質および生産性の著しい向上を図ることができ、同時
に耐久性向上も図り得る情報記録媒体等を提供するこ
と。 【解決手段】 一方の面に情報記録面11,12を有す
ると共にこの情報記録面11,12上に光反射層13,
14が個別に付された二枚の基板101,102を有
し、この二枚の基板101,102を,その光反射層を
対向させ光硬化性接着層16を介して貼り合わせてなる
密着貼り合わせ構造の情報記録媒体において、前述した
二枚の基板101,102の少なくとも一方の基板10
1の光反射層13を、所定の波長の光に対しては高い透
過率を有する光選択性光反射層で形成したこと。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体およ
びその製造方法に係り、とくに、光ディスク、ビデオデ
ィスク,光磁気ディスク,相変化光ディスク,デジタル
・ビデオ・ディスク等の情報記録媒体およびその製造方
法に関する。
びその製造方法に係り、とくに、光ディスク、ビデオデ
ィスク,光磁気ディスク,相変化光ディスク,デジタル
・ビデオ・ディスク等の情報記録媒体およびその製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、情報記録媒体としては、例えば特
開平7−169107号公報,或いは特開平5−470
49号公報にみられるように、両面で記録再生を行うも
のが知られている。
開平7−169107号公報,或いは特開平5−470
49号公報にみられるように、両面で記録再生を行うも
のが知られている。
【0003】この両面で情報記録を行う情報記録媒体
は、予め片面に情報記録面又は情報記録層と反射層を有
する円盤状基板を二枚用意し、これらの円盤状基板を接
着剤によって貼り合わせることによって形成されてい
る。そして、反射層としては、多くはAl(アルミニウ
ム)又はAu(金)が使用されていた。
は、予め片面に情報記録面又は情報記録層と反射層を有
する円盤状基板を二枚用意し、これらの円盤状基板を接
着剤によって貼り合わせることによって形成されてい
る。そして、反射層としては、多くはAl(アルミニウ
ム)又はAu(金)が使用されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような情報記録媒体および情報記録媒体の製造方法で
は、反射層にAl又はAu等を使用しているため、通常
の紫外線硬化樹脂を接着剤として用いると、その硬化に
多くに時間を要する等の不都合が生じていた。
ような情報記録媒体および情報記録媒体の製造方法で
は、反射層にAl又はAu等を使用しているため、通常
の紫外線硬化樹脂を接着剤として用いると、その硬化に
多くに時間を要する等の不都合が生じていた。
【0005】ここで、反射層にAl又はAuを使用した
場合、通常の紫外線硬化樹脂を接着剤として使用した場
合の不都合を、図12乃至図13を用いて更に説明す
る。
場合、通常の紫外線硬化樹脂を接着剤として使用した場
合の不都合を、図12乃至図13を用いて更に説明す
る。
【0006】図12は膜厚が30〔nm〕のAl膜を反
射層として用いた場合、図13は膜厚が30〔nm〕の
Au膜を反射層として用いた場合の、反射率(R),透
過率(T),吸収率(A)の光の波長依存性を光学計算
した算定結果を、それぞれ示すものである。この場合、
紫外線硬化樹脂が硬化する波長200〔nm〕から40
0〔nm〕の紫外線に対する透過率Tは、Al膜で3%
以下、Au膜で10%〜15%となり、紫外線硬化樹脂
が硬化するための十分な光量を得ることができない。
射層として用いた場合、図13は膜厚が30〔nm〕の
Au膜を反射層として用いた場合の、反射率(R),透
過率(T),吸収率(A)の光の波長依存性を光学計算
した算定結果を、それぞれ示すものである。この場合、
紫外線硬化樹脂が硬化する波長200〔nm〕から40
0〔nm〕の紫外線に対する透過率Tは、Al膜で3%
以下、Au膜で10%〜15%となり、紫外線硬化樹脂
が硬化するための十分な光量を得ることができない。
【0007】従って、嫌気性の紫外線硬化樹脂,或いは
増感剤を大量に添加した紫外線硬化樹脂を用いることが
必要となり、これに起因して、硬化速度が遅くなり且つ
十分な強度を得るのに長時間要し、作業性が悪いという
不都合が生じていた。また、接着剤に増感剤等を添加す
る場合は、経時的に添加剤が情報記録面又は情報記録層
の特性および耐久性等に悪影響を与えるという不都合が
あった。
増感剤を大量に添加した紫外線硬化樹脂を用いることが
必要となり、これに起因して、硬化速度が遅くなり且つ
十分な強度を得るのに長時間要し、作業性が悪いという
不都合が生じていた。また、接着剤に増感剤等を添加す
る場合は、経時的に添加剤が情報記録面又は情報記録層
の特性および耐久性等に悪影響を与えるという不都合が
あった。
【0008】更に、この反射層にAl,Auを使用した
場合は、上述したように透過率が著しく低いため、紫外
線硬化樹脂が硬化するためには、更に高パワーの紫外線
を照射する必要が有り、かかる場合には、基板が加熱さ
れ、ディスクの反り等の変形が生じるという不都合があ
った。
場合は、上述したように透過率が著しく低いため、紫外
線硬化樹脂が硬化するためには、更に高パワーの紫外線
を照射する必要が有り、かかる場合には、基板が加熱さ
れ、ディスクの反り等の変形が生じるという不都合があ
った。
【0009】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに高パワーの光照射を要することなく光
硬化性の接着層の固形化を容易になし得ると共に、これ
によって品質および生産性の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得る情報記録媒体およびそ
の製造方法を提供することを、その目的とする。
を改善し、とくに高パワーの光照射を要することなく光
硬化性の接着層の固形化を容易になし得ると共に、これ
によって品質および生産性の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得る情報記録媒体およびそ
の製造方法を提供することを、その目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明では、一方の面に情報記録面を
有すると共にこの情報記録面上に光反射層が個別に付さ
れた二枚の基板を有し、この二枚の基板を,前記光反射
層を対向させ光硬化性の接着層を介して貼り合わせてな
る密着貼り合わせ構造の情報記録媒体において、二枚の
基板の少なくとも一方の基板の光反射層を、所定の波長
の光に対しては高い透過率を有する光選択性光反射層で
形成する、という構成を採っている。
め、請求項1記載の発明では、一方の面に情報記録面を
有すると共にこの情報記録面上に光反射層が個別に付さ
れた二枚の基板を有し、この二枚の基板を,前記光反射
層を対向させ光硬化性の接着層を介して貼り合わせてな
る密着貼り合わせ構造の情報記録媒体において、二枚の
基板の少なくとも一方の基板の光反射層を、所定の波長
の光に対しては高い透過率を有する光選択性光反射層で
形成する、という構成を採っている。
【0011】このため、この請求項1記載の発明では、
光硬化性接着剤として用いる紫外線硬化樹脂が、光反射
層として光選択性光反射層を用いることで、十分な照射
光量を得ることができ、その結果、例えば数秒の硬化時
間で基板全面を均質に硬化させることができ、歪みや反
りの無い情報記録媒体を効率よく製作することが可能と
なる。
光硬化性接着剤として用いる紫外線硬化樹脂が、光反射
層として光選択性光反射層を用いることで、十分な照射
光量を得ることができ、その結果、例えば数秒の硬化時
間で基板全面を均質に硬化させることができ、歪みや反
りの無い情報記録媒体を効率よく製作することが可能と
なる。
【0012】請求項2記載の発明では、一方の面に情報
記憶層および樹脂製保護膜を備えた二枚の基板を有し、
この二枚の基板を,前記情報記録層を対向させ光硬化性
の接着層を介して貼り合わせてなる密着貼り合わせ構造
の情報記録媒体において、二枚の基板にそれぞれ積層さ
れた各情報記録層を、書き換え可能な記録膜と,当該記
録膜の両面に装備された誘電体保護膜と,この各誘電体
保護膜の内の前述した接着層側に積層された光反射層と
により構成する。そして、各基板の内の少なくとも一方
の基板側の光反射層を、所定の波長の光に対しては高い
透過率を有する光選択性光反射層で形成する、という構
成を採っている。
記憶層および樹脂製保護膜を備えた二枚の基板を有し、
この二枚の基板を,前記情報記録層を対向させ光硬化性
の接着層を介して貼り合わせてなる密着貼り合わせ構造
の情報記録媒体において、二枚の基板にそれぞれ積層さ
れた各情報記録層を、書き換え可能な記録膜と,当該記
録膜の両面に装備された誘電体保護膜と,この各誘電体
保護膜の内の前述した接着層側に積層された光反射層と
により構成する。そして、各基板の内の少なくとも一方
の基板側の光反射層を、所定の波長の光に対しては高い
透過率を有する光選択性光反射層で形成する、という構
成を採っている。
【0013】このため、この請求項2記載の発明では、
書き換え可能な記録膜を備えたものであっても前述した
請求項1記載の発明と同等の機能を有し、とくに歪みや
反りの無い品質良好な情報記録媒体を効率よく製作する
ことが可能となる。
書き換え可能な記録膜を備えたものであっても前述した
請求項1記載の発明と同等の機能を有し、とくに歪みや
反りの無い品質良好な情報記録媒体を効率よく製作する
ことが可能となる。
【0014】請求項3記載の発明では、前述した請求項
1又は2記載の情報記録媒体において、光選択性光反射
層は、所定波長のレーザ波に対して高い反射率を有し、
それよりも短い波長の光に対しては高い透過率を有する
特性を備えている、という構成を採っている。
1又は2記載の情報記録媒体において、光選択性光反射
層は、所定波長のレーザ波に対して高い反射率を有し、
それよりも短い波長の光に対しては高い透過率を有する
特性を備えている、という構成を採っている。
【0015】このため、この請求項3記載の発明では、
前述した請求項1又は2記載の発明と同等の機能を確実
に得ることができる。
前述した請求項1又は2記載の発明と同等の機能を確実
に得ることができる。
【0016】請求項4記載の発明では、前述した請求項
3記載の情報記録媒体において、光選択性光反射層を銀
からなる単層の薄膜層とする、という構成を採ってい
る。
3記載の情報記録媒体において、光選択性光反射層を銀
からなる単層の薄膜層とする、という構成を採ってい
る。
【0017】このため、この請求項4記載の発明では、
光選択性光反射層がレーザ光の再生波長領域に対しては
例えば70%以上の反射率を有し、光硬化性接着層の硬
化波長域に対しては例えば50%〜85%の透過率を有
する。このため、例えば400〔nm〕未満の紫外線を
基板側から照射しても、光選択性光反射層を容易に透過
することとなり、従って、この請求項4記載の発明にお
いても、前述した請求項3記載の発明と同等の機能を得
ることができる。
光選択性光反射層がレーザ光の再生波長領域に対しては
例えば70%以上の反射率を有し、光硬化性接着層の硬
化波長域に対しては例えば50%〜85%の透過率を有
する。このため、例えば400〔nm〕未満の紫外線を
基板側から照射しても、光選択性光反射層を容易に透過
することとなり、従って、この請求項4記載の発明にお
いても、前述した請求項3記載の発明と同等の機能を得
ることができる。
【0018】請求項5記載の発明では、前述した請求項
3記載の情報記録媒体において、光選択性光反射層は、
ルビジュウムの単層の薄膜層とする、という構成を採っ
ている。
3記載の情報記録媒体において、光選択性光反射層は、
ルビジュウムの単層の薄膜層とする、という構成を採っ
ている。
【0019】このため、この請求項5記載の発明におい
ても、前述した請求項4記載の発明とほぼ同等の機能を
得ることができる。
ても、前述した請求項4記載の発明とほぼ同等の機能を
得ることができる。
【0020】請求項6記載の発明では、前述した請求項
3記載の情報記録媒体において、前述した光選択性光反
射層は、銀(Ag)の薄膜と酸化珪素(SiO2 )の薄
膜とを積層することにより成る多層の薄膜層とする、と
いう構成を採っている。
3記載の情報記録媒体において、前述した光選択性光反
射層は、銀(Ag)の薄膜と酸化珪素(SiO2 )の薄
膜とを積層することにより成る多層の薄膜層とする、と
いう構成を採っている。
【0021】このため、この請求項6記載の発明では、
例えば図4に示すように、紫外線硬化樹脂が硬化に使用
する高圧水銀ランプの中心波長の350〔nm〕近傍の
透過率は80%以上となり、紫外線硬化樹脂が硬化する
ための十分な光量の透過を得ることができる。同時に、
635〔nm〕以上のレーザ波長に対しては反射率が6
5%以上となり、かかる点において、この請求項6記載
の発明にあっても前述した請求項4記載の発明とほぼ同
等の機能を得ることができる。
例えば図4に示すように、紫外線硬化樹脂が硬化に使用
する高圧水銀ランプの中心波長の350〔nm〕近傍の
透過率は80%以上となり、紫外線硬化樹脂が硬化する
ための十分な光量の透過を得ることができる。同時に、
635〔nm〕以上のレーザ波長に対しては反射率が6
5%以上となり、かかる点において、この請求項6記載
の発明にあっても前述した請求項4記載の発明とほぼ同
等の機能を得ることができる。
【0022】請求項7記載の発明では、一方の面に情報
記録面又は記憶層を有すると共にこの情報記録面又は記
憶層上に光反射層が付された二枚の基板を設け、この二
枚の基板の内の少なくとも一方の基板の反射層を所定の
波長の光に対しては高い透過率を有する光選択性光反射
層で形成する。続いて、上記二枚の基板を前述した各光
反射層側を相互に対向させて且つ相互間に光硬化性の接
着層を均一に介装して両者を密着固定する。そして、し
かる後、光選択性光反射層を備えた基板側から、接着層
固形化用の所定波長の光を全面均一に照射する、という
構成を採っている。
記録面又は記憶層を有すると共にこの情報記録面又は記
憶層上に光反射層が付された二枚の基板を設け、この二
枚の基板の内の少なくとも一方の基板の反射層を所定の
波長の光に対しては高い透過率を有する光選択性光反射
層で形成する。続いて、上記二枚の基板を前述した各光
反射層側を相互に対向させて且つ相互間に光硬化性の接
着層を均一に介装して両者を密着固定する。そして、し
かる後、光選択性光反射層を備えた基板側から、接着層
固形化用の所定波長の光を全面均一に照射する、という
構成を採っている。
【0023】このため、この請求項7記載の発明では、
各基板相互間の接着面の全面を短時間に且つ一様に光硬
化性接着剤で接着し得るので、反りの発生がなくなり、
かかる点において生産性および品質の著しい向上を図る
ことができる。更に、各基板の光反射層を光選択性光反
射層で形成すると両面からの紫外線の同時照射も可能と
なり、光硬化性接着剤をさらに短時間に且つ均一に硬化
することができ、かかる点において、生産性および品質
を更により一層向上させることができる。
各基板相互間の接着面の全面を短時間に且つ一様に光硬
化性接着剤で接着し得るので、反りの発生がなくなり、
かかる点において生産性および品質の著しい向上を図る
ことができる。更に、各基板の光反射層を光選択性光反
射層で形成すると両面からの紫外線の同時照射も可能と
なり、光硬化性接着剤をさらに短時間に且つ均一に硬化
することができ、かかる点において、生産性および品質
を更により一層向上させることができる。
【0024】
〔第1の実施形態〕以下、本発明の第1の実施形態形態
を図1乃至図2に基づいて説明する。
を図1乃至図2に基づいて説明する。
【0025】この図1において、情報記録媒体10は、
情報記憶面11,12を有する一方と他方の二枚の基板
101,102と、一方の基板101の情報面上に形成
された一方の光選択性光反射層13と、他方の基板10
2の情報面上に形成された他方の光反射層14とを備え
ている。そして、上記各基板101,102は、その各
情報記憶面11,12側を対向させて重ねると共に,こ
の両者を貼り合わせるために当該両者間に光硬化性接着
剤16が薄膜状に介挿され、これによって二層の情報記
憶面11,12を備えた情報記録媒体10が形成される
ようになっている。
情報記憶面11,12を有する一方と他方の二枚の基板
101,102と、一方の基板101の情報面上に形成
された一方の光選択性光反射層13と、他方の基板10
2の情報面上に形成された他方の光反射層14とを備え
ている。そして、上記各基板101,102は、その各
情報記憶面11,12側を対向させて重ねると共に,こ
の両者を貼り合わせるために当該両者間に光硬化性接着
剤16が薄膜状に介挿され、これによって二層の情報記
憶面11,12を備えた情報記録媒体10が形成される
ようになっている。
【0026】ここで、情報記録面11,12は、例えば
「0」「1」に対応した凹凸によって形成されている。
「0」「1」に対応した凹凸によって形成されている。
【0027】情報記録面11に被着される光選択性光反
射層13としては、例えば光を選択的に反射し或いは透
過する素材としてAg(銀)が使用されている。又、情
報記録面12に被着される光反射層14としては、例え
ばAl(アルミニウム)又はAl製の素材が使用されて
いる。更に、光硬化性接着剤16としては、例えば紫外
線硬化樹脂が使用されている。
射層13としては、例えば光を選択的に反射し或いは透
過する素材としてAg(銀)が使用されている。又、情
報記録面12に被着される光反射層14としては、例え
ばAl(アルミニウム)又はAl製の素材が使用されて
いる。更に、光硬化性接着剤16としては、例えば紫外
線硬化樹脂が使用されている。
【0028】又、上記基板101,102は、例えば、
外形が円盤状で、その材質はポリカーボネイトであり、
透光性を備えている。そして、前述した光選択性光反射
層13としては、同等に機能するものであれば、他の素
材(例えば、ルビジュウム)もしくはその組み合わせた
もの,或いはAgの薄膜と他の素材(例えば、SiO2
等)の薄膜とを積層したものであってもよい。
外形が円盤状で、その材質はポリカーボネイトであり、
透光性を備えている。そして、前述した光選択性光反射
層13としては、同等に機能するものであれば、他の素
材(例えば、ルビジュウム)もしくはその組み合わせた
もの,或いはAgの薄膜と他の素材(例えば、SiO2
等)の薄膜とを積層したものであってもよい。
【0029】ここで、前述した光選択性光反射層13と
して、.銀(Ag)の薄膜を用いた場合、.ルビジ
ュウム(Rb)を用いた場合、.銀の薄膜と酸化珪素
の薄膜を積層したものを用いた場合、の各々について、
そのの有用性(特に波長依存性)について、説明する。
して、.銀(Ag)の薄膜を用いた場合、.ルビジ
ュウム(Rb)を用いた場合、.銀の薄膜と酸化珪素
の薄膜を積層したものを用いた場合、の各々について、
そのの有用性(特に波長依存性)について、説明する。
【0030】〔光選択性光反射層の波長依存性:Ag
の薄膜を用いた場合〕図2は、情報記録媒体10の光選
択性光反射層13として、膜厚が30〔nm〕の銀(A
g)を用い、その反射率(R),透過率(T),吸収率
(A)の光の波長依存性について光学計算を行った場合
の算定結果を示す。
の薄膜を用いた場合〕図2は、情報記録媒体10の光選
択性光反射層13として、膜厚が30〔nm〕の銀(A
g)を用い、その反射率(R),透過率(T),吸収率
(A)の光の波長依存性について光学計算を行った場合
の算定結果を示す。
【0031】この図2から明らかのように、紫外線硬化
樹脂が硬化する200〔nm〕から400〔nm〕の紫
外線に対する透過率Tは、最大75%となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量を透過できることが
明らかとなった。また、635〔nm〕以上のレーザ波
長に対しては反射率が65%以上となり、Ag(銀)が
光選択性光反射層13として十分に機能することが明ら
かとなった。
樹脂が硬化する200〔nm〕から400〔nm〕の紫
外線に対する透過率Tは、最大75%となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量を透過できることが
明らかとなった。また、635〔nm〕以上のレーザ波
長に対しては反射率が65%以上となり、Ag(銀)が
光選択性光反射層13として十分に機能することが明ら
かとなった。
【0032】〔光選択性光反射層の波長依存性:Rb
の薄膜を用いた場合〕図3は、情報記録媒体10の光選
択性光反射層13として膜厚が80〔nm〕のルビジュ
ウム(Rb)を用い、その反射率(R),透過率
(T),吸収率(A)の光の波長依存性について光学計
算を行った場合の算定結果を示す。この図3から明らか
のように、紫外線硬化樹脂が硬化する200〔nm〕か
ら400〔nm〕の紫外線に対する透過率Tは、50%
を越える値となり、紫外線硬化樹脂が硬化するための十
分な光量を透過できることを示すと共に、波長の大きい
領域ではレーザ波長に対しては反射率が65%以上を得
ることができ、Rb(ルビジウム)が光選択性光反射層
13として十分に機能することが明らかとなった。
の薄膜を用いた場合〕図3は、情報記録媒体10の光選
択性光反射層13として膜厚が80〔nm〕のルビジュ
ウム(Rb)を用い、その反射率(R),透過率
(T),吸収率(A)の光の波長依存性について光学計
算を行った場合の算定結果を示す。この図3から明らか
のように、紫外線硬化樹脂が硬化する200〔nm〕か
ら400〔nm〕の紫外線に対する透過率Tは、50%
を越える値となり、紫外線硬化樹脂が硬化するための十
分な光量を透過できることを示すと共に、波長の大きい
領域ではレーザ波長に対しては反射率が65%以上を得
ることができ、Rb(ルビジウム)が光選択性光反射層
13として十分に機能することが明らかとなった。
【0033】〔光選択性光反射層の波長依存性:Ag
の薄膜とSiO2 の薄膜とを積層したものを用いた場
合〕図4は、情報記録媒体10の光選択性光反射層13
として、Ag(銀)とSiO2 (酸化珪素)の積層膜
(Ag[15nm]/SiO2 [60nm]/Ag[1
5nm])を用い、その反射率(R),透過率(T),
吸収率(A)の光の波長依存性について光学計算を行っ
た場合の算定結果を示したもである。この図4で、ここ
で、吸収率(A)がA1 ,A2 の二つに分かれている
が、A1 は第1層目(基板に近い方)のAg膜の吸収率
を示し、A2 は第2層目(基板から遠い方)のAg膜の
吸収率を示す。また、SiO2 膜については透明膜であ
ることから吸収率はゼロに等しい。このため、ここでは
Ag膜の吸収率A1 ,A2 についてのみ算定した。
の薄膜とSiO2 の薄膜とを積層したものを用いた場
合〕図4は、情報記録媒体10の光選択性光反射層13
として、Ag(銀)とSiO2 (酸化珪素)の積層膜
(Ag[15nm]/SiO2 [60nm]/Ag[1
5nm])を用い、その反射率(R),透過率(T),
吸収率(A)の光の波長依存性について光学計算を行っ
た場合の算定結果を示したもである。この図4で、ここ
で、吸収率(A)がA1 ,A2 の二つに分かれている
が、A1 は第1層目(基板に近い方)のAg膜の吸収率
を示し、A2 は第2層目(基板から遠い方)のAg膜の
吸収率を示す。また、SiO2 膜については透明膜であ
ることから吸収率はゼロに等しい。このため、ここでは
Ag膜の吸収率A1 ,A2 についてのみ算定した。
【0034】この図4から明らかのように、紫外線硬化
樹脂が硬化に使用する高圧水銀ランプの中心波長の35
0〔nm〕近傍の透過率は80%以上となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量の透過を得られるこ
とが明らかとなった。同時に、635〔nm〕以上のレ
ーザ波長に対しては反射率が65%以上となり、Agと
SiO2 からなる積層膜が光選択性光反射層として十分
使用可能であることが明確と成った。
樹脂が硬化に使用する高圧水銀ランプの中心波長の35
0〔nm〕近傍の透過率は80%以上となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量の透過を得られるこ
とが明らかとなった。同時に、635〔nm〕以上のレ
ーザ波長に対しては反射率が65%以上となり、Agと
SiO2 からなる積層膜が光選択性光反射層として十分
使用可能であることが明確と成った。
【0035】〔光の膜厚依存性〕更に、図5(A)〜
(B)は、情報記録媒体10の光選択性光反射層13に
として、Ag(銀)とSiO2 (酸化珪素)の積層膜
(Ag[15nm]/SiO2 [−]/Ag[15n
m])を用いた場合の、反射率(R)と透過率(T)
が、酸化珪素(SiO2 )の膜厚にどのように依存する
かについて光学計算した場合の算定結果を示したもので
ある。図5(A)は350〔nm〕の光波長に対する算
定結果を示し、図5(B)は635〔nm〕の光波長に
対する算定結果を示す。
(B)は、情報記録媒体10の光選択性光反射層13に
として、Ag(銀)とSiO2 (酸化珪素)の積層膜
(Ag[15nm]/SiO2 [−]/Ag[15n
m])を用いた場合の、反射率(R)と透過率(T)
が、酸化珪素(SiO2 )の膜厚にどのように依存する
かについて光学計算した場合の算定結果を示したもので
ある。図5(A)は350〔nm〕の光波長に対する算
定結果を示し、図5(B)は635〔nm〕の光波長に
対する算定結果を示す。
【0036】ここで、350〔nm〕の光波長は紫外線
硬化樹脂の硬化に使用する高圧水銀ランプの紫外線のメ
イン波長が350〔nm〕近傍に存在することより、6
35〔nm〕の光波長は再生レーザの波長であることよ
り選んだ。
硬化樹脂の硬化に使用する高圧水銀ランプの紫外線のメ
イン波長が350〔nm〕近傍に存在することより、6
35〔nm〕の光波長は再生レーザの波長であることよ
り選んだ。
【0037】図5(A)の光学演算結果より、光選択性
光反射層13にAgの薄膜を単層で用いた場合、波長3
50〔nm〕の紫外線の透過率が50%であったが、A
gとSiO2 の積層膜とすることにより、SiO2 膜厚
が60〔nm〕から75〔nm〕にかけて、透過率が8
0%近傍まで向上することが判明した。
光反射層13にAgの薄膜を単層で用いた場合、波長3
50〔nm〕の紫外線の透過率が50%であったが、A
gとSiO2 の積層膜とすることにより、SiO2 膜厚
が60〔nm〕から75〔nm〕にかけて、透過率が8
0%近傍まで向上することが判明した。
【0038】又、図5(B)の光学計算結果より、Si
O2 膜厚が60〔nm〕から75〔nm〕にかけて、6
35〔nm〕の再生レーザに対する反射率が70%以上
であり、反射層として十分使用可能であることを示し
た。
O2 膜厚が60〔nm〕から75〔nm〕にかけて、6
35〔nm〕の再生レーザに対する反射率が70%以上
であり、反射層として十分使用可能であることを示し
た。
【0039】次に、上記第1の実施形態における情報記
録媒体の製造方法を、図6に基づいて説明する。
録媒体の製造方法を、図6に基づいて説明する。
【0040】まず、図6(A)に示すように、凹凸から
なる情報記録面11を有するポリカーボネイト製の基板
101には、膜厚30〔nm〕のAgを、光選択性光反
射層13としてスパッタ装置により成膜する。又、基板
102には、膜厚80〔nm〕のAlを光反射層14と
してスパッタ装置により成膜する。そして、その後、各
基板101,102を、その情報記録面11,12側を
対向させてその相互間に光硬化性接着剤16を介装させ
る。この光硬化性接着剤16としては、本実施形態で
は、大日本インキ化学工業(株)製の光硬化性接着剤
(商品名:ダイキュウアクリアSD−301)を使用し
た。
なる情報記録面11を有するポリカーボネイト製の基板
101には、膜厚30〔nm〕のAgを、光選択性光反
射層13としてスパッタ装置により成膜する。又、基板
102には、膜厚80〔nm〕のAlを光反射層14と
してスパッタ装置により成膜する。そして、その後、各
基板101,102を、その情報記録面11,12側を
対向させてその相互間に光硬化性接着剤16を介装させ
る。この光硬化性接着剤16としては、本実施形態で
は、大日本インキ化学工業(株)製の光硬化性接着剤
(商品名:ダイキュウアクリアSD−301)を使用し
た。
【0041】次に、紫外線により硬化接着が可能な光硬
化性接着剤16を各基板101,102に介装した後、
当該光硬化性接着剤16を、図6(B)に示すように、
スピンコート法によって展開密着させることで膜厚10
〔μm〕に形成し、両者を密着させる。
化性接着剤16を各基板101,102に介装した後、
当該光硬化性接着剤16を、図6(B)に示すように、
スピンコート法によって展開密着させることで膜厚10
〔μm〕に形成し、両者を密着させる。
【0042】最後に、図6(C)に示すように、照度1
20〔W/cm2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線U
Vを3秒間,光選択性光反射層13側から照射して光硬
化性接着剤16を硬化させ、これによって、基板10
1,102を貼り合わせる事が出来た。
20〔W/cm2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線U
Vを3秒間,光選択性光反射層13側から照射して光硬
化性接着剤16を硬化させ、これによって、基板10
1,102を貼り合わせる事が出来た。
【0043】この場合、光硬化性接着剤16として用い
る紫外線硬化樹脂は、反射層に光選択性光反射層を用い
ることで、十分な照射光量を得られるので、照射と同時
に重合・架橋反応が開始されことから、光開始剤や増刊
剤などの添加量は少なくてよい。このため、過度の添加
物によるガスの発生や接着膜中の不均一な橋掛け構造の
生成が防止され、緻密で均質な編み目構造の接着層を形
成でき、また、添加物による情報記録層や反射層の腐食
を回避できる。
る紫外線硬化樹脂は、反射層に光選択性光反射層を用い
ることで、十分な照射光量を得られるので、照射と同時
に重合・架橋反応が開始されことから、光開始剤や増刊
剤などの添加量は少なくてよい。このため、過度の添加
物によるガスの発生や接着膜中の不均一な橋掛け構造の
生成が防止され、緻密で均質な編み目構造の接着層を形
成でき、また、添加物による情報記録層や反射層の腐食
を回避できる。
【0044】ここで、発明者らは、念のため、上記光硬
化性接着剤(大日本インキ化学工業(株)製のSD−3
01)についてその硬化特性の評価を行ってみた。具体
的には、光選択性光反射層13にAg(銀)を用い、光
硬化性接着剤16として用いたSD一301の硬化特性
の評価を行った。
化性接着剤(大日本インキ化学工業(株)製のSD−3
01)についてその硬化特性の評価を行ってみた。具体
的には、光選択性光反射層13にAg(銀)を用い、光
硬化性接着剤16として用いたSD一301の硬化特性
の評価を行った。
【0045】評価方法は、ポリカーボネイトの基板10
1上にAgを30〔nm〕成膜後、SD−301を塗布
し、基板101側から照度120〔W/cm2 〕の高圧
水銀ランプにより、紫外線を3秒照射して硬化させた試
料の硬度とゲル分率を求めた。又、硬度は従来の紫外線
硬化による測定値より相村比較して求めた。
1上にAgを30〔nm〕成膜後、SD−301を塗布
し、基板101側から照度120〔W/cm2 〕の高圧
水銀ランプにより、紫外線を3秒照射して硬化させた試
料の硬度とゲル分率を求めた。又、硬度は従来の紫外線
硬化による測定値より相村比較して求めた。
【0046】評価の結果、SD−301の硬度は「1
2」、ゲル分率は「96%」と良好な値を示した。即
ち、基板101と光選択性光反射層13を通して紫外線
を照射しても、紫外線硬化樹脂が十分な硬化特性を示す
ことを碓認することができた。
2」、ゲル分率は「96%」と良好な値を示した。即
ち、基板101と光選択性光反射層13を通して紫外線
を照射しても、紫外線硬化樹脂が十分な硬化特性を示す
ことを碓認することができた。
【0047】このように、上記第1の実施形態による
と、短時間に各基板101,102の接合が可能とな
り、また、接着面の全面を一様に光硬化性接着剤16で
接着したので、そりの発生がなくなり、かかる点におい
て生産性向上を,また品質の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得るという効果を得ること
ができた。
と、短時間に各基板101,102の接合が可能とな
り、また、接着面の全面を一様に光硬化性接着剤16で
接着したので、そりの発生がなくなり、かかる点におい
て生産性向上を,また品質の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得るという効果を得ること
ができた。
【0048】〔第2の実施形態〕次に、本発明の第2の
実施形態を図7乃至図8に基づいて説明する。この第2
の実施形態は、一方と他方の光反射層23,24を、共
に同一素材からなる光選択性光反射層によって構成した
点に特徴を備えている。以下、これを詳述する。
実施形態を図7乃至図8に基づいて説明する。この第2
の実施形態は、一方と他方の光反射層23,24を、共
に同一素材からなる光選択性光反射層によって構成した
点に特徴を備えている。以下、これを詳述する。
【0049】まず、図7において、情報記録媒体20
は、情報記録面21,22を有する一方と他方の二枚の
基板201,202と、一方の基板201の情報面上に
形成された一方の光選択性光反射層23と、他方の基板
202の情報面上に形成された他方の光選択性光反射層
24とを備えている。そして、上記各基板201,20
2は、その各情報記録面21,22側を対向させて重ね
ると共に,この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤26が介挿され、これによって二層の情
報記録面21,22を備えた情報記録媒体20が形成さ
れるようになっている。
は、情報記録面21,22を有する一方と他方の二枚の
基板201,202と、一方の基板201の情報面上に
形成された一方の光選択性光反射層23と、他方の基板
202の情報面上に形成された他方の光選択性光反射層
24とを備えている。そして、上記各基板201,20
2は、その各情報記録面21,22側を対向させて重ね
ると共に,この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤26が介挿され、これによって二層の情
報記録面21,22を備えた情報記録媒体20が形成さ
れるようになっている。
【0050】ここで、情報記録面21,22は、前述し
た第1実施形態における情報記録面11,12と同様
に、「0」「1」に対応した凹凸によって形成されてい
る。
た第1実施形態における情報記録面11,12と同様
に、「0」「1」に対応した凹凸によって形成されてい
る。
【0051】情報記録面21,22に被着される光選択
性光反射層23,24としては、例えば光を選択的に反
射し或いは透過するAg(銀)又はAg製の素材が使用
されている。更に、光硬化性接着剤26としては、前述
した第1実施形態における紫外線硬化樹脂と同等の紫外
線硬化樹脂が使用されている。
性光反射層23,24としては、例えば光を選択的に反
射し或いは透過するAg(銀)又はAg製の素材が使用
されている。更に、光硬化性接着剤26としては、前述
した第1実施形態における紫外線硬化樹脂と同等の紫外
線硬化樹脂が使用されている。
【0052】その他の構成は、前述した図1の実施例形
態と同一となっている。
態と同一となっている。
【0053】次に、上記第2の実施形態における情報記
録媒体の製造方法を図8(A)〜(C)に基づいて説明
する。
録媒体の製造方法を図8(A)〜(C)に基づいて説明
する。
【0054】まず、図8(A)に示すように、凹凸から
なる情報記録面21,22を有するポリカーボネイト製
の基板201,202に、膜厚30〔nm〕のAgを光
選択性光反射層23,24としてスパッタ装置により成
膜する。
なる情報記録面21,22を有するポリカーボネイト製
の基板201,202に、膜厚30〔nm〕のAgを光
選択性光反射層23,24としてスパッタ装置により成
膜する。
【0055】次に、図8(B)に示すように、光選択性
光反射層23,24が付された基板201,202の相
互間に、前述した第1実施形態の場合と同一の光硬化性
接着剤26を、スピンコート法により展開させて膜厚1
0〔μm〕に形成し密着固定する。
光反射層23,24が付された基板201,202の相
互間に、前述した第1実施形態の場合と同一の光硬化性
接着剤26を、スピンコート法により展開させて膜厚1
0〔μm〕に形成し密着固定する。
【0056】最後に、図8(C)に示すように、照度1
20〔W/cm2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線U
Vをその両面側から2〜3秒照射し、光硬化性接着剤2
6を硬化させ、これによって基板201,202を貼り
合わせる。
20〔W/cm2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線U
Vをその両面側から2〜3秒照射し、光硬化性接着剤2
6を硬化させ、これによって基板201,202を貼り
合わせる。
【0057】このように、上記第2の実施形態による
と、前述した第1実施形態の場合と同様に、短時間に各
基板201,202の接合が可能となり、また接着面の
全面を短時間に且つ一様に光硬化性接着剤26で接着し
得るので、反りの発生がなくなり、かかる点において生
産性および品質の著しい向上を図ることができ、同時に
耐久性向上も図り得る。更に、各基板21,22の両面
から同時に紫外線UVを照射すると、光硬化性接着剤2
6に対してさらに短時間に且つ均一に紫外線UVを照射
することができ、かかる点において、生産性および品質
を更により一層向上させることができる。
と、前述した第1実施形態の場合と同様に、短時間に各
基板201,202の接合が可能となり、また接着面の
全面を短時間に且つ一様に光硬化性接着剤26で接着し
得るので、反りの発生がなくなり、かかる点において生
産性および品質の著しい向上を図ることができ、同時に
耐久性向上も図り得る。更に、各基板21,22の両面
から同時に紫外線UVを照射すると、光硬化性接着剤2
6に対してさらに短時間に且つ均一に紫外線UVを照射
することができ、かかる点において、生産性および品質
を更により一層向上させることができる。
【0058】尚、この場合、紫外線UVは、前述した第
1実施形態の場合と同様に、一方又は他方の基板201
(又は202)からのみ照射するように構成してもよ
い。
1実施形態の場合と同様に、一方又は他方の基板201
(又は202)からのみ照射するように構成してもよ
い。
【0059】〔第3の実施形態〕次に、本発明の第3の
実施形態を図9乃至図11に基づいて説明する。この第
3の実施形態は、一方と他方の各基板301,302に
設けられた光反射層の内,少なくとも一方の光反射層
が、光選択性光反射層を構成している点に特徴を備えて
いる。更に、この第3の実施形態では、相変化光ディス
ク,光磁気ディスク等の書き換え可能な情報記録媒体を
対象としたものであり、書き換え可能な情報記憶層を備
えている点に特徴を備えている。
実施形態を図9乃至図11に基づいて説明する。この第
3の実施形態は、一方と他方の各基板301,302に
設けられた光反射層の内,少なくとも一方の光反射層
が、光選択性光反射層を構成している点に特徴を備えて
いる。更に、この第3の実施形態では、相変化光ディス
ク,光磁気ディスク等の書き換え可能な情報記録媒体を
対象としたものであり、書き換え可能な情報記憶層を備
えている点に特徴を備えている。
【0060】以下、これを更に詳述する。この図9にお
いて、情報記録媒体30は、一方の情報記憶層31を備
えた一方の基板301と、他方の情報記憶層32を備え
た他方の基板302とを備えている。この各情報記憶層
31,32上には、樹脂製保護膜33,34が被着され
ている。ここで、上記一方と他方の各情報記憶層31,
32は、後述するように書き換え可能な記録膜31Aを
備えている。
いて、情報記録媒体30は、一方の情報記憶層31を備
えた一方の基板301と、他方の情報記憶層32を備え
た他方の基板302とを備えている。この各情報記憶層
31,32上には、樹脂製保護膜33,34が被着され
ている。ここで、上記一方と他方の各情報記憶層31,
32は、後述するように書き換え可能な記録膜31Aを
備えている。
【0061】そして、これらの各基板301,302
は、前述した各実施形態の場合と同様に、各基板30
1,302の情報記憶層31,32側を対向させて重ね
ると共に,この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤36が介挿され、これによって二層の情
報記憶層を備えた情報記録媒体30が形成されるように
なっている。
は、前述した各実施形態の場合と同様に、各基板30
1,302の情報記憶層31,32側を対向させて重ね
ると共に,この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤36が介挿され、これによって二層の情
報記憶層を備えた情報記録媒体30が形成されるように
なっている。
【0062】ここで、前述した一方の情報記憶層31
は、図10に示すように、前述した一方の基板301を
ベースにして、その上に誘電体保護膜31Ba,記憶膜
31A,誘電体保護膜31Bb,および光選択性光反射
層31Cが順次積層されることにより形成されている。
は、図10に示すように、前述した一方の基板301を
ベースにして、その上に誘電体保護膜31Ba,記憶膜
31A,誘電体保護膜31Bb,および光選択性光反射
層31Cが順次積層されることにより形成されている。
【0063】即ち、この一方の情報記憶層31にあって
は、記憶膜31Aを誘電体保護膜31Ba,31Baで
サンドイッチ状に挟み、その外側の面に光選択性光反射
層31Cが積層されている。また、他方の情報記憶層3
2も、この一方の情報記憶層31と同一に構成されてい
る。
は、記憶膜31Aを誘電体保護膜31Ba,31Baで
サンドイッチ状に挟み、その外側の面に光選択性光反射
層31Cが積層されている。また、他方の情報記憶層3
2も、この一方の情報記憶層31と同一に構成されてい
る。
【0064】尚、上記光選択性光反射層31Cについて
は、一方と他方の各情報記憶層31,32に個別に装備
された光選択性光反射層31Cの何れか一方を、通常の
光反射層で形成してもよい。その他の構成は、前述した
図1の実施例形態と同一となっている。
は、一方と他方の各情報記憶層31,32に個別に装備
された光選択性光反射層31Cの何れか一方を、通常の
光反射層で形成してもよい。その他の構成は、前述した
図1の実施例形態と同一となっている。
【0065】次に、上記第3の実施形態における情報記
録媒体30の製造方法を、図11(A)〜(C)に基づ
いて説明する。
録媒体30の製造方法を、図11(A)〜(C)に基づ
いて説明する。
【0066】まず最初に、図11(A)において、ラン
ド・ブルーブを有するポリカーボネイト製の基板30
1,302上に、情報記憶層31,32を形成する。
ド・ブルーブを有するポリカーボネイト製の基板30
1,302上に、情報記憶層31,32を形成する。
【0067】情報記憶層31,32は、誘電体保護膜3
1Baとして「ZnS−SiO2 」を140〔nm〕、
記憶膜31Aとして「Ge2 Sb2 Te5 」を20〔n
m〕、誘電体保護膜32Bbとして「ZnS−Si
O2 」を50〔nm〕、光選択性光反射層32Cとして
「Ag」を30〔nm〕、それぞれ基板301,302
上に、スパッタ法等によって順次積層することにより形
成される。
1Baとして「ZnS−SiO2 」を140〔nm〕、
記憶膜31Aとして「Ge2 Sb2 Te5 」を20〔n
m〕、誘電体保護膜32Bbとして「ZnS−Si
O2 」を50〔nm〕、光選択性光反射層32Cとして
「Ag」を30〔nm〕、それぞれ基板301,302
上に、スパッタ法等によって順次積層することにより形
成される。
【0068】続いて、この情報記憶層31,32上に、
それぞれ樹脂製保護膜33,34をスピンコート法によ
って個別に塗布する。この場合、樹脂製保護膜33,3
4として、本実施形態では、大日本インキ化学工業
(株)製の商品名「ダイキュウアクリアSD−318」
を9〔μm〕の厚さに塗布する。そして、塗布後、紫外
線照射により硬化させ、これによって樹脂製保護膜3
3,34が形成される。
それぞれ樹脂製保護膜33,34をスピンコート法によ
って個別に塗布する。この場合、樹脂製保護膜33,3
4として、本実施形態では、大日本インキ化学工業
(株)製の商品名「ダイキュウアクリアSD−318」
を9〔μm〕の厚さに塗布する。そして、塗布後、紫外
線照射により硬化させ、これによって樹脂製保護膜3
3,34が形成される。
【0069】次に、図11(b)に示すように、樹脂製
保護膜34上(樹脂製保護膜33上でもよい)に光硬化
性接着剤36としての光硬化性樹脂を塗布(場合によっ
てはドーナツ状に塗布)し、樹脂保護膜33,34が互
いに向き合うように重ねた後、スピンコート法により3
500回転(rpm)で展開塗布し、9〔μm〕の膜厚
を形成する。
保護膜34上(樹脂製保護膜33上でもよい)に光硬化
性接着剤36としての光硬化性樹脂を塗布(場合によっ
てはドーナツ状に塗布)し、樹脂保護膜33,34が互
いに向き合うように重ねた後、スピンコート法により3
500回転(rpm)で展開塗布し、9〔μm〕の膜厚
を形成する。
【0070】最後に、図11(c)に示すように、照度
120〔W/cm2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線
を3秒照射し、光硬化性接着剤36を硬化させことによ
って基板301,302を貼り合わせる。これにより、
書き換え可能な二層の情報記憶層31,32を備えた情
報記録媒体30が形成される。る。
120〔W/cm2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線
を3秒照射し、光硬化性接着剤36を硬化させことによ
って基板301,302を貼り合わせる。これにより、
書き換え可能な二層の情報記憶層31,32を備えた情
報記録媒体30が形成される。る。
【0071】また、このような光選択性特性を示す光選
択性物質としては、前述したようにAg(銀)とRb
(ルビジウム)が好適であり、反射層の素材として前述
したように光選択性物質を使用してこれを透明誘電体に
積層することにより、光透過領域の調整が可能となる。
従って、例えば400〔nm〕未満の紫外線を一方の基
板301側から照射しても、光選択性光反射層31Cを
容易に透過するとともに膜厚が薄い30〔nm〕以下の
Te−Fe−Co,Ge−Sb−Te等の記憶膜31A
をも容易に透過して、光硬化性樹脂である光硬化性接着
剤36に十分に到達する。
択性物質としては、前述したようにAg(銀)とRb
(ルビジウム)が好適であり、反射層の素材として前述
したように光選択性物質を使用してこれを透明誘電体に
積層することにより、光透過領域の調整が可能となる。
従って、例えば400〔nm〕未満の紫外線を一方の基
板301側から照射しても、光選択性光反射層31Cを
容易に透過するとともに膜厚が薄い30〔nm〕以下の
Te−Fe−Co,Ge−Sb−Te等の記憶膜31A
をも容易に透過して、光硬化性樹脂である光硬化性接着
剤36に十分に到達する。
【0072】その結果、例えば3秒以下の硬化時間で基
板全面に付された光硬化性接着剤36を均質に硬化させ
ることができ、歪みや反りの無い情報記録媒体30を効
率よく製作することが可能となる。
板全面に付された光硬化性接着剤36を均質に硬化させ
ることができ、歪みや反りの無い情報記録媒体30を効
率よく製作することが可能となる。
【0073】このように、上記第3の実施形態において
も、前述した各実施形態と同一の作用効果を得ることが
できる。
も、前述した各実施形態と同一の作用効果を得ることが
できる。
【0074】
【発明の効果】以上のように本発明によると、光硬化性
接着剤を介して貼り合わせた二枚の基板に予め積層され
た光反射膜の内の少なくとも一方の光反射膜を光選択性
光反射層としたので、光硬化性接着剤の硬化波長域の光
を(例えば50%から80%)透過させることが可能と
なり、例えば3秒程度の硬化時間で基板全面を均質に硬
化させることができ、このため、加工時の熱の発生が抑
制され、歪みや反りが極めて少なく従って機械特性が良
好となり、かかる点において生産性および品質の著しい
向上を図ることができ、同時に耐久性向上も図り得ると
いう従来にない優れた情報記録媒体およびその製造方法
を提供することができる。
接着剤を介して貼り合わせた二枚の基板に予め積層され
た光反射膜の内の少なくとも一方の光反射膜を光選択性
光反射層としたので、光硬化性接着剤の硬化波長域の光
を(例えば50%から80%)透過させることが可能と
なり、例えば3秒程度の硬化時間で基板全面を均質に硬
化させることができ、このため、加工時の熱の発生が抑
制され、歪みや反りが極めて少なく従って機械特性が良
好となり、かかる点において生産性および品質の著しい
向上を図ることができ、同時に耐久性向上も図り得ると
いう従来にない優れた情報記録媒体およびその製造方法
を提供することができる。
【0075】また、光選択性光反射層にAg又はRbを
用いると、300〔nm〕から400〔nm〕の紫外線
硬化樹脂(光硬化性接着剤)の硬化波長領域の紫外線に
対して、透過率が50%以上の透過率を有するので、低
パワーの紫外線照射により、二枚の基板の貼り合わせが
可能となるため、熱の発生による変形を回避できると共
に、635〔nm〕の再生レーザ波長に対して65%以
上の反射率を有するため、良好な再生信号を得ることが
可能となる。
用いると、300〔nm〕から400〔nm〕の紫外線
硬化樹脂(光硬化性接着剤)の硬化波長領域の紫外線に
対して、透過率が50%以上の透過率を有するので、低
パワーの紫外線照射により、二枚の基板の貼り合わせが
可能となるため、熱の発生による変形を回避できると共
に、635〔nm〕の再生レーザ波長に対して65%以
上の反射率を有するため、良好な再生信号を得ることが
可能となる。
【0076】さらに、光選択性光反射層をAg等の金属
反射膜と誘電体との積層膜とすることで、光選択性光反
射層の透過波長領域を調整できるため、光硬化性接着剤
の硬化特性に合わせた波長の光を透過させることが可能
となる。
反射膜と誘電体との積層膜とすることで、光選択性光反
射層の透過波長領域を調整できるため、光硬化性接着剤
の硬化特性に合わせた波長の光を透過させることが可能
となる。
【図1】本発明の第一実施形態を示す概略断面図であ
る。
る。
【図2】図1内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るAg薄膜の光波長に対する透過率T,反射率R,およ
び吸収率Aの算定結果を示す線図である。
るAg薄膜の光波長に対する透過率T,反射率R,およ
び吸収率Aの算定結果を示す線図である。
【図3】図1内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るRb薄膜の光波長に対する透過率T,反射率R,およ
び吸収率Aの算定結果を示す線図である。
るRb薄膜の光波長に対する透過率T,反射率R,およ
び吸収率Aの算定結果を示す線図である。
【図4】図1内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るAg−SiO2 −Agの積層された薄膜の光波長に対
する透過率T,反射率R,および吸収率Aの算定結果を
示す線図である。
るAg−SiO2 −Agの積層された薄膜の光波長に対
する透過率T,反射率R,および吸収率Aの算定結果を
示す線図である。
【図5】図1内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るAg−SiO2 −Agの積層された薄膜のSiO2 部
分の膜厚に変化に対する光波長の透過率T,反射率Rの
算定結果を示す線図で、図5(A)は光波長λが350
〔nm〕の場合を示す線図、図5(B)は光波長λが6
35〔nm〕の場合を示す線図である。
るAg−SiO2 −Agの積層された薄膜のSiO2 部
分の膜厚に変化に対する光波長の透過率T,反射率Rの
算定結果を示す線図で、図5(A)は光波長λが350
〔nm〕の場合を示す線図、図5(B)は光波長λが6
35〔nm〕の場合を示す線図である。
【図6】図1に開示した情報記録媒体の製造方法の一部
を示す図で、図6(A)は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図6(B)は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図6
(C)は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
を示す図で、図6(A)は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図6(B)は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図6
(C)は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
【図7】本発明の第二実施形態を示す概略断面図であ
る。
る。
【図8】図7に開示した情報記録媒体の製造方法の一部
を示す図で、図8(A)は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図8(B)は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図8
(C)は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
を示す図で、図8(A)は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図8(B)は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図8
(C)は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
【図9】本発明の第三実施形態を示す概略断面図であ
る。
る。
【図10】図9内に開示した一方の情報記憶層部分を示
す詳細部分断面図である。
す詳細部分断面図である。
【図11】図9に開示した情報記録媒体の製造方法の一
部を示す図で、図11(A)は二つの基板を突き合わせ
た状態を示す説明図、図11(B)は二つの基板の相互
間に光硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明
図、図11(C)は二つの基板の相互間の光硬化性接着
剤を硬化させるための低パワーの紫外線を照射した状態
を示す説明図である。
部を示す図で、図11(A)は二つの基板を突き合わせ
た状態を示す説明図、図11(B)は二つの基板の相互
間に光硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明
図、図11(C)は二つの基板の相互間の光硬化性接着
剤を硬化させるための低パワーの紫外線を照射した状態
を示す説明図である。
【図12】Al(アルミニウム)薄膜に対する光波長の
反射率,透過率,吸収率の算定結果を示す線図である。
反射率,透過率,吸収率の算定結果を示す線図である。
【図13】Au(金)薄膜に対する光波長の反射率,透
過率,吸収率の算定結果を示す線図である。
過率,吸収率の算定結果を示す線図である。
10,20,30 情報記録媒体 11,21 一方の情報記録面 12,22 他方の情報記録面 13,23,24,31C 光選択性光反射層 14 光反射層 16,26,36 光硬化性接着剤 31 一方の情報記億層 31A 記憶膜 31Ba,31Bb 誘電体保護膜 32 他方の情報記億層 33,34 樹脂性保護膜 101,201,301 一方の基板 102,202,302 他方の基板
Claims (7)
- 【請求項1】 一方の面に情報記録面を有すると共にこ
の情報記録面上に光反射層が個別に付された二枚の基板
を有し、この二枚の基板を,前記光反射層を対向させ光
硬化性接着層を介して貼り合わせてなる密着貼り合わせ
構造の情報記録媒体において、 前記二枚の基板の少なくとも一方の基板の光反射層を、
所定の波長の光に対しては高い透過率を有する光選択性
光反射層で形成したことを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項2】 一方の面に情報記憶層および樹脂製保護
膜を備えた二枚の基板を有し、この二枚の基板を,前記
情報記憶層を対向させ光硬化性接着層を介して貼り合わ
せてなる密着貼り合わせ構造の情報記録媒体において、 前記二枚の基板にそれぞれ積層された各情報記憶層を、
書き換え可能な記憶膜と,当該記憶膜の両面に装備され
た誘電体保護膜と,この各誘電体保護膜の内の前記光硬
化性接着層側に積層された光反射層とにより構成すると
共に、 前記各基板の内の少なくとも一方の基板の光反射層を、
所定の波長の光に対しては高い透過率を有する光選択性
光反射層で形成したことを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項3】 前記光選択性光反射層は、所定波長のレ
ーザ波に対して高い反射率を有し、それよりも短い波長
の光に対しては高い透過率を有する特性を備えているこ
とを特徴とした請求項1又は2記載の情報記録媒体。 - 【請求項4】 前記光選択性光反射層は、銀の単層薄膜
層であることを特徴とした請求項3記載の情報記録媒
体。 - 【請求項5】 前記光選択性光反射層は、ルビジュウム
の単層薄膜層であることを特徴とした請求項3記載の情
報記録媒体。 - 【請求項6】 前記光選択性光反射層は、銀の薄膜と酸
化珪素の薄膜とを積層することにより成る多層薄膜層で
あることを特徴とした請求項3記載の情報記録媒体。 - 【請求項7】 一方の面に情報記録面又は記録層を有す
ると共にこの情報記録面又は記録層上に光反射層が付さ
れた二枚の基板を設け、この二枚の基板の内の少なくと
も一方の基板の光反射層を、所定の波長の光に対して高
い透過率を有する光選択性光反射層で形成し、 この二枚の基板の各光反射層側を相互に対向させ且つ相
互間に光硬化性接着層を均一に介装して両者を密着固定
し、 しかる後、前記光選択性光反射層を備えた基板側から、
前記光硬化性接着層固形化用の所定波長の光を全面均一
に照射することを特徴とした情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8228175A JP2982701B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8228175A JP2982701B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1069676A true JPH1069676A (ja) | 1998-03-10 |
JP2982701B2 JP2982701B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=16872403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8228175A Expired - Fee Related JP2982701B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2982701B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007026954A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Fujifilm Corporation | Optical recording disk and method of manufacturing the same |
JP2008535136A (ja) * | 2005-04-02 | 2008-08-28 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | ハイブリッドディスク及び該ディスクに/からデータを記録及び/または判読する方法 |
-
1996
- 1996-08-29 JP JP8228175A patent/JP2982701B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008535136A (ja) * | 2005-04-02 | 2008-08-28 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | ハイブリッドディスク及び該ディスクに/からデータを記録及び/または判読する方法 |
WO2007026954A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Fujifilm Corporation | Optical recording disk and method of manufacturing the same |
JP2007095270A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2982701B2 (ja) | 1999-11-29 |
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