JP2982701B2 - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
情報記録媒体およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体およ
びその製造方法に係り、とくに、光ディスク、ビデオデ
ィスク，光磁気ディスク，相変化光ディスク，デジタル
・ビデオ・ディスク等の情報記録媒体およびその製造方
法に関する。
びその製造方法に係り、とくに、光ディスク、ビデオデ
ィスク，光磁気ディスク，相変化光ディスク，デジタル
・ビデオ・ディスク等の情報記録媒体およびその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、情報記録媒体としては、例えば特
開平７−１６９１０７号公報，或いは特開平５−４７０
４９号公報にみられるように、両面で記録再生を行うも
のが知られている。
開平７−１６９１０７号公報，或いは特開平５−４７０
４９号公報にみられるように、両面で記録再生を行うも
のが知られている。
【０００３】この両面で情報記録を行う情報記録媒体
は、予め片面に情報記録面又は情報記録層と反射層を有
する円盤状基板を二枚用意し、これらの円盤状基板を接
着剤によって貼り合わせることによって形成されてい
る。そして、反射層としては、多くはＡｌ（アルミニウ
ム）又はＡｕ（金）が使用されていた。
は、予め片面に情報記録面又は情報記録層と反射層を有
する円盤状基板を二枚用意し、これらの円盤状基板を接
着剤によって貼り合わせることによって形成されてい
る。そして、反射層としては、多くはＡｌ（アルミニウ
ム）又はＡｕ（金）が使用されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような情報記録媒体および情報記録媒体の製造方法で
は、反射層にＡｌ又はＡｕ等を使用しているため、通常
の紫外線硬化樹脂を接着剤として用いると、その硬化に
多くに時間を要する等の不都合が生じていた。
ような情報記録媒体および情報記録媒体の製造方法で
は、反射層にＡｌ又はＡｕ等を使用しているため、通常
の紫外線硬化樹脂を接着剤として用いると、その硬化に
多くに時間を要する等の不都合が生じていた。
【０００５】ここで、反射層にＡｌ又はＡｕを使用した
場合、通常の紫外線硬化樹脂を接着剤として使用した場
合の不都合を、図１２乃至図１３を用いて更に説明す
る。
場合、通常の紫外線硬化樹脂を接着剤として使用した場
合の不都合を、図１２乃至図１３を用いて更に説明す
る。
【０００６】図１２は膜厚が３０〔ｎｍ〕のＡｌ膜を反
射層として用いた場合、図１３は膜厚が３０〔ｎｍ〕の
Ａｕ膜を反射層として用いた場合の、反射率（Ｒ），透
過率（Ｔ），吸収率（Ａ）の光の波長依存性を光学計算
した算定結果を、それぞれ示すものである。この場合、
紫外線硬化樹脂が硬化する波長２００〔ｎｍ〕から４０
０〔ｎｍ〕の紫外線に対する透過率Ｔは、Ａｌ膜で３％
以下、Ａｕ膜で１０％〜１５％となり、紫外線硬化樹脂
が硬化するための十分な光量を得ることができない。
射層として用いた場合、図１３は膜厚が３０〔ｎｍ〕の
Ａｕ膜を反射層として用いた場合の、反射率（Ｒ），透
過率（Ｔ），吸収率（Ａ）の光の波長依存性を光学計算
した算定結果を、それぞれ示すものである。この場合、
紫外線硬化樹脂が硬化する波長２００〔ｎｍ〕から４０
０〔ｎｍ〕の紫外線に対する透過率Ｔは、Ａｌ膜で３％
以下、Ａｕ膜で１０％〜１５％となり、紫外線硬化樹脂
が硬化するための十分な光量を得ることができない。
【０００７】従って、嫌気性の紫外線硬化樹脂，或いは
増感剤を大量に添加した紫外線硬化樹脂を用いることが
必要となり、これに起因して、硬化速度が遅くなり且つ
十分な強度を得るのに長時間要し、作業性が悪いという
不都合が生じていた。また、接着剤に増感剤等を添加す
る場合は、経時的に添加剤が情報記録面又は情報記録層
の特性および耐久性等に悪影響を与えるという不都合が
あった。
増感剤を大量に添加した紫外線硬化樹脂を用いることが
必要となり、これに起因して、硬化速度が遅くなり且つ
十分な強度を得るのに長時間要し、作業性が悪いという
不都合が生じていた。また、接着剤に増感剤等を添加す
る場合は、経時的に添加剤が情報記録面又は情報記録層
の特性および耐久性等に悪影響を与えるという不都合が
あった。
【０００８】更に、この反射層にＡｌ，Ａｕを使用した
場合は、上述したように透過率が著しく低いため、紫外
線硬化樹脂が硬化するためには、更に高パワーの紫外線
を照射する必要が有り、かかる場合には、基板が加熱さ
れ、ディスクの反り等の変形が生じるという不都合があ
った。
場合は、上述したように透過率が著しく低いため、紫外
線硬化樹脂が硬化するためには、更に高パワーの紫外線
を照射する必要が有り、かかる場合には、基板が加熱さ
れ、ディスクの反り等の変形が生じるという不都合があ
った。
【０００９】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに高パワーの光照射を要することなく光
硬化性の接着層の固形化を容易になし得ると共に、これ
によって品質および生産性の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得る情報記録媒体およびそ
の製造方法を提供することを、その目的とする。
を改善し、とくに高パワーの光照射を要することなく光
硬化性の接着層の固形化を容易になし得ると共に、これ
によって品質および生産性の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得る情報記録媒体およびそ
の製造方法を提供することを、その目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の情報記録媒体は、一方の面に情報記
録面を有すると共にこの情報記録面上に光反射層が個別
に付された二枚の基板を有し、この二枚の基板を、前記
光反射層を対向させ、紫外線硬化性接着層を介して貼り
合わせてなる密着貼り合わせ構造の情報記録媒体であっ
て、前記二枚の基板の少なくとも一方の基板の光反射層
は、波長が２００［ｎｍ］以上の所定範囲にある紫外線
に対しては該紫外線の反射率よりも高い率の透過率を有
し、且つ、波長が前記所定範囲内の波長よりも長い波長
である所定範囲の光に対しては該光の透過率よりも高い
率の反射率を有するような特性を有する光選択性光反射
層で形成され、前記紫外線硬化性接着層は、前記少なく
とも一方の基板および前記光選択性反射層を介して照射
される前記紫外線により硬化されることを特徴とする。
め、請求項１記載の情報記録媒体は、一方の面に情報記
録面を有すると共にこの情報記録面上に光反射層が個別
に付された二枚の基板を有し、この二枚の基板を、前記
光反射層を対向させ、紫外線硬化性接着層を介して貼り
合わせてなる密着貼り合わせ構造の情報記録媒体であっ
て、前記二枚の基板の少なくとも一方の基板の光反射層
は、波長が２００［ｎｍ］以上の所定範囲にある紫外線
に対しては該紫外線の反射率よりも高い率の透過率を有
し、且つ、波長が前記所定範囲内の波長よりも長い波長
である所定範囲の光に対しては該光の透過率よりも高い
率の反射率を有するような特性を有する光選択性光反射
層で形成され、前記紫外線硬化性接着層は、前記少なく
とも一方の基板および前記光選択性反射層を介して照射
される前記紫外線により硬化されることを特徴とする。
【００１１】このため、この請求項１記載の発明では、
光硬化性接着剤として用いる紫外線硬化樹脂が、光反射
層として光選択性光反射層を用いることで、十分な照射
光量を得ることができ、その結果、例えば数秒の硬化時
間で基板全面を均質に硬化させることができ、歪みや反
りの無い情報記録媒体を効率よく製作することが可能と
なる。
光硬化性接着剤として用いる紫外線硬化樹脂が、光反射
層として光選択性光反射層を用いることで、十分な照射
光量を得ることができ、その結果、例えば数秒の硬化時
間で基板全面を均質に硬化させることができ、歪みや反
りの無い情報記録媒体を効率よく製作することが可能と
なる。
【００１２】請求項２記載の情報記録媒体は、一方の面
に情報記憶層および樹脂製保護膜を備えた二枚の基板を
有し、この二枚の基板を、前記情報記憶層を対向させ紫
外線硬化性接着層を介して貼り合わせてなる密着貼り合
わせ構造の情報記録媒体であって、前記二枚の基板にそ
れぞれ積層された各情報記憶層を、書き換え可能な記憶
膜と、当該記憶膜の両面に装備された誘電体保護膜と、
この各誘電体保護膜の内の前記紫外線硬化性接着層側に
積層された光反射層とにより構成すると共に、前記各基
板の内の少なくとも一方の基板の光反射層は、波長が２
００［ｎｍ］以上の所定範囲にある紫外線に対しては該
紫外線の反射率よりも高い率の透過率を有し、且つ、波
長が前記所定範囲内の波長よりも長い波長である所定範
囲の光に対しては該光の透過率よりも高い率の反射率を
有するような特性を有する光選択性光反射層で形成さ
れ、前記紫外線硬化性接着層は、前記少なくとも一方の
基板および前記光選択性反射層を介して照射される前記
紫外線により硬化されることを特徴とする。
に情報記憶層および樹脂製保護膜を備えた二枚の基板を
有し、この二枚の基板を、前記情報記憶層を対向させ紫
外線硬化性接着層を介して貼り合わせてなる密着貼り合
わせ構造の情報記録媒体であって、前記二枚の基板にそ
れぞれ積層された各情報記憶層を、書き換え可能な記憶
膜と、当該記憶膜の両面に装備された誘電体保護膜と、
この各誘電体保護膜の内の前記紫外線硬化性接着層側に
積層された光反射層とにより構成すると共に、前記各基
板の内の少なくとも一方の基板の光反射層は、波長が２
００［ｎｍ］以上の所定範囲にある紫外線に対しては該
紫外線の反射率よりも高い率の透過率を有し、且つ、波
長が前記所定範囲内の波長よりも長い波長である所定範
囲の光に対しては該光の透過率よりも高い率の反射率を
有するような特性を有する光選択性光反射層で形成さ
れ、前記紫外線硬化性接着層は、前記少なくとも一方の
基板および前記光選択性反射層を介して照射される前記
紫外線により硬化されることを特徴とする。
【００１３】このため、この請求項２記載の発明では、
書き換え可能な記録膜を備えたものであっても前述した
請求項１記載の発明と同等の機能を有し、とくに歪みや
反りの無い品質良好な情報記録媒体を効率よく製作する
ことが可能となる。
書き換え可能な記録膜を備えたものであっても前述した
請求項１記載の発明と同等の機能を有し、とくに歪みや
反りの無い品質良好な情報記録媒体を効率よく製作する
ことが可能となる。
【００１４】請求項３記載の情報記録媒体は、前述した
請求項１又は２記載の情報記録媒体において、紫外線お
よび光は、レーザ波であることを特徴とする。
請求項１又は２記載の情報記録媒体において、紫外線お
よび光は、レーザ波であることを特徴とする。
【００１５】このため、この請求項３記載の発明では、
前述した請求項１又は２記載の発明と同等の機能を確実
に得ることができる。
前述した請求項１又は２記載の発明と同等の機能を確実
に得ることができる。
【００１６】請求項４記載の情報記録媒体は、前述した
請求項１ないし３のいずれかに記載の情報記録媒体にお
いて、光選択性光反射層は、銀の単層薄膜層であること
を特徴とする。
請求項１ないし３のいずれかに記載の情報記録媒体にお
いて、光選択性光反射層は、銀の単層薄膜層であること
を特徴とする。
【００１７】このため、この請求項４記載の発明では、
光選択性光反射層がレーザ光の再生波長領域に対しては
例えば７０％以上の反射率を有し、紫外線硬化性接着層
の硬化波長域に対しては例えば５０％〜８５％の透過率
を有する。このため、例えば４００〔ｎｍ〕未満の紫外
線を基板側から照射しても、光選択性光反射層を容易に
透過することとなり、従って、この請求項４記載の発明
においても、前述した請求項３記載の発明と同等の機能
を得ることができる。
光選択性光反射層がレーザ光の再生波長領域に対しては
例えば７０％以上の反射率を有し、紫外線硬化性接着層
の硬化波長域に対しては例えば５０％〜８５％の透過率
を有する。このため、例えば４００〔ｎｍ〕未満の紫外
線を基板側から照射しても、光選択性光反射層を容易に
透過することとなり、従って、この請求項４記載の発明
においても、前述した請求項３記載の発明と同等の機能
を得ることができる。
【００１８】請求項５記載の情報記録媒体は、前述した
請求項１ないし３のいずれかに記載の情報記録媒体にお
いて、光選択性光反射層は、ルビジュウムの薄膜層を積
層したものであることを特徴とする。
請求項１ないし３のいずれかに記載の情報記録媒体にお
いて、光選択性光反射層は、ルビジュウムの薄膜層を積
層したものであることを特徴とする。
【００１９】このため、この請求項５記載の発明におい
ても、前述した請求項４記載の発明とほぼ同等の機能を
得ることができる。
ても、前述した請求項４記載の発明とほぼ同等の機能を
得ることができる。
【００２０】請求項６記載の情報記録媒体は、前述した
請求項１ないし３のいずれかに記載の情報記録媒体にお
いて、光選択性光反射層は、銀の薄膜と酸化珪素の薄膜
とを積層することにより成る多層薄膜層であることを特
徴とする。
請求項１ないし３のいずれかに記載の情報記録媒体にお
いて、光選択性光反射層は、銀の薄膜と酸化珪素の薄膜
とを積層することにより成る多層薄膜層であることを特
徴とする。
【００２１】このため、この請求項６記載の発明では、
例えば図４に示すように、紫外線硬化樹脂が硬化に使用
する高圧水銀ランプの中心波長の３５０〔ｎｍ〕近傍の
透過率は８０％以上となり、紫外線硬化樹脂が硬化する
ための十分な光量の透過を得ることができる。同時に、
６３５〔ｎｍ〕以上のレーザ波長に対しては反射率が６
５％以上となり、かかる点において、この請求項６記載
の発明にあっても前述した請求項４記載の発明とほぼ同
等の機能を得ることができる。
例えば図４に示すように、紫外線硬化樹脂が硬化に使用
する高圧水銀ランプの中心波長の３５０〔ｎｍ〕近傍の
透過率は８０％以上となり、紫外線硬化樹脂が硬化する
ための十分な光量の透過を得ることができる。同時に、
６３５〔ｎｍ〕以上のレーザ波長に対しては反射率が６
５％以上となり、かかる点において、この請求項６記載
の発明にあっても前述した請求項４記載の発明とほぼ同
等の機能を得ることができる。
【００２２】請求項７記載の情報記録媒体の製造方法
は、一方の面に情報記録面又は記録層を有すると共にこ
の情報記録面又は記録層上に光反射層が付された二枚の
基板を設け、この二枚の基板の内の少なくとも一方の基
板の光反射層を、波長が２００［ｎｍ］以上の所定範囲
にある紫外線に対しては該紫外線の反射率よりも高い率
の透過率を有し、且つ、波長が前記所定範囲内の波長よ
りも長い波長である所定範囲の光に対しては該光の透過
率よりも高い率の反射率を有するような特性を有する光
選択性光反射層で形成し、この二枚の基板の各光反射層
側を相互に対向させ且つ相互間に紫外線硬化性接着層を
均一に介装して両者を密着固定し、しかる後、前記光選
択性光反射層を備えた基板側から、前記紫外線硬化性接
着層固形化用の紫外線を全面均一に照射することを特徴
とする。
は、一方の面に情報記録面又は記録層を有すると共にこ
の情報記録面又は記録層上に光反射層が付された二枚の
基板を設け、この二枚の基板の内の少なくとも一方の基
板の光反射層を、波長が２００［ｎｍ］以上の所定範囲
にある紫外線に対しては該紫外線の反射率よりも高い率
の透過率を有し、且つ、波長が前記所定範囲内の波長よ
りも長い波長である所定範囲の光に対しては該光の透過
率よりも高い率の反射率を有するような特性を有する光
選択性光反射層で形成し、この二枚の基板の各光反射層
側を相互に対向させ且つ相互間に紫外線硬化性接着層を
均一に介装して両者を密着固定し、しかる後、前記光選
択性光反射層を備えた基板側から、前記紫外線硬化性接
着層固形化用の紫外線を全面均一に照射することを特徴
とする。
【００２３】このため、この請求項７記載の発明では、
各基板相互間の接着面の全面を短時間に且つ一様に紫外
線硬化性接着剤で接着し得るので、反りの発生がなくな
り、かかる点において生産性および品質の著しい向上を
図ることができる。更に、各基板の光反射層を光選択性
光反射層で形成すると両面からの紫外線の同時照射も可
能となり、紫外線硬化性接着剤をさらに短時間に且つ均
一に硬化することができ、かかる点において、生産性お
よび品質を更により一層向上させることができる。
各基板相互間の接着面の全面を短時間に且つ一様に紫外
線硬化性接着剤で接着し得るので、反りの発生がなくな
り、かかる点において生産性および品質の著しい向上を
図ることができる。更に、各基板の光反射層を光選択性
光反射層で形成すると両面からの紫外線の同時照射も可
能となり、紫外線硬化性接着剤をさらに短時間に且つ均
一に硬化することができ、かかる点において、生産性お
よび品質を更により一層向上させることができる。
【００２４】
〔第１の実施形態〕 以下、本発明の第１の実施形態形態を図１乃至図２に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００２５】この図１において、情報記録媒体１０は、
情報記憶面１１，１２を有する一方と他方の二枚の基板
１０１，１０２と、一方の基板１０１の情報面上に形成
された一方の光選択性光反射層１３と、他方の基板１０
２の情報面上に形成された他方の光反射層１４とを備え
ている。そして、上記各基板１０１，１０２は、その各
情報記憶面１１，１２側を対向させて重ねると共に，こ
の両者を貼り合わせるために当該両者間に光硬化性接着
剤１６が薄膜状に介挿され、これによって二層の情報記
憶面１１，１２を備えた情報記録媒体１０が形成される
ようになっている。
情報記憶面１１，１２を有する一方と他方の二枚の基板
１０１，１０２と、一方の基板１０１の情報面上に形成
された一方の光選択性光反射層１３と、他方の基板１０
２の情報面上に形成された他方の光反射層１４とを備え
ている。そして、上記各基板１０１，１０２は、その各
情報記憶面１１，１２側を対向させて重ねると共に，こ
の両者を貼り合わせるために当該両者間に光硬化性接着
剤１６が薄膜状に介挿され、これによって二層の情報記
憶面１１，１２を備えた情報記録媒体１０が形成される
ようになっている。
【００２６】ここで、情報記録面１１，１２は、例えば
「０」「１」に対応した凹凸によって形成されている。
「０」「１」に対応した凹凸によって形成されている。
【００２７】情報記録面１１に被着される光選択性光反
射層１３としては、例えば光を選択的に反射し或いは透
過する素材としてＡｇ（銀）が使用されている。又、情
報記録面１２に被着される光反射層１４としては、例え
ばＡｌ（アルミニウム）又はＡｌ製の素材が使用されて
いる。更に、光硬化性接着剤１６としては、例えば紫外
線硬化樹脂が使用されている。また、光硬化性接着剤１
６としては紫外線以外の光によって硬化性を有する樹脂
であってもよい。
射層１３としては、例えば光を選択的に反射し或いは透
過する素材としてＡｇ（銀）が使用されている。又、情
報記録面１２に被着される光反射層１４としては、例え
ばＡｌ（アルミニウム）又はＡｌ製の素材が使用されて
いる。更に、光硬化性接着剤１６としては、例えば紫外
線硬化樹脂が使用されている。また、光硬化性接着剤１
６としては紫外線以外の光によって硬化性を有する樹脂
であってもよい。
【００２８】又、上記基板１０１，１０２は、例えば、
外形が円盤状で、その材質はポリカーボネイトであり、
透光性を備えている。そして、前述した光選択性光反射
層１３としては、同等に機能するものであれば、他の素
材（例えば、ルビジュウム）もしくはその組み合わせた
もの，或いはＡｇの薄膜と他の素材（例えば、ＳｉＯ2
等）の薄膜とを積層したものであってもよい。
外形が円盤状で、その材質はポリカーボネイトであり、
透光性を備えている。そして、前述した光選択性光反射
層１３としては、同等に機能するものであれば、他の素
材（例えば、ルビジュウム）もしくはその組み合わせた
もの，或いはＡｇの薄膜と他の素材（例えば、ＳｉＯ2
等）の薄膜とを積層したものであってもよい。
【００２９】ここで、前述した光選択性光反射層１３と
して、．銀（Ａｇ）の薄膜を用いた場合、．ルビジ
ュウム（Ｒｂ）を用いた場合、．銀の薄膜と酸化珪素
の薄膜を積層したものを用いた場合、の各々について、
そのの有用性（特に波長依存性）について、説明する。
して、．銀（Ａｇ）の薄膜を用いた場合、．ルビジ
ュウム（Ｒｂ）を用いた場合、．銀の薄膜と酸化珪素
の薄膜を積層したものを用いた場合、の各々について、
そのの有用性（特に波長依存性）について、説明する。
【００３０】 〔光選択性光反射層の波長依存性：Ａｇの薄膜を用い
た場合〕 図２は、情報記録媒体１０の光選択性光反射層１３とし
て、膜厚が３０〔ｎｍ〕の銀（Ａｇ）を用い、その反射
率（Ｒ），透過率（Ｔ），吸収率（Ａ）の光の波長依存
性について光学計算を行った場合の算定結果を示す。
た場合〕 図２は、情報記録媒体１０の光選択性光反射層１３とし
て、膜厚が３０〔ｎｍ〕の銀（Ａｇ）を用い、その反射
率（Ｒ），透過率（Ｔ），吸収率（Ａ）の光の波長依存
性について光学計算を行った場合の算定結果を示す。
【００３１】この図２から明らかのように、紫外線硬化
樹脂が硬化する２００〔ｎｍ〕から４００〔ｎｍ〕の紫
外線に対する透過率Ｔは、最大７５％となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量を透過できることが
明らかとなった。また、６３５〔ｎｍ〕以上のレーザ波
長に対しては反射率が６５％以上となり、Ａｇ（銀）が
光選択性光反射層１３として十分に機能することが明ら
かとなった。
樹脂が硬化する２００〔ｎｍ〕から４００〔ｎｍ〕の紫
外線に対する透過率Ｔは、最大７５％となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量を透過できることが
明らかとなった。また、６３５〔ｎｍ〕以上のレーザ波
長に対しては反射率が６５％以上となり、Ａｇ（銀）が
光選択性光反射層１３として十分に機能することが明ら
かとなった。
【００３２】 〔光選択性光反射層の波長依存性：Ｒｂの薄膜を用い
た場合〕 図３は、情報記録媒体１０の光選択性光反射層１３とし
て膜厚が８０〔ｎｍ〕のルビジュウム（Ｒｂ）を用い、
その反射率（Ｒ），透過率（Ｔ），吸収率（Ａ）の光の
波長依存性について光学計算を行った場合の算定結果を
示す。この図３から明らかのように、紫外線硬化樹脂が
硬化する２００〔ｎｍ〕から４００〔ｎｍ〕の紫外線に
対する透過率Ｔは、５０％を越える値となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量を透過できることを
示すと共に、波長の大きい領域ではレーザ波長に対して
は反射率が６５％以上を得ることができ、Ｒｂ（ルビジ
ウム）が光選択性光反射層１３として十分に機能するこ
とが明らかとなった。
た場合〕 図３は、情報記録媒体１０の光選択性光反射層１３とし
て膜厚が８０〔ｎｍ〕のルビジュウム（Ｒｂ）を用い、
その反射率（Ｒ），透過率（Ｔ），吸収率（Ａ）の光の
波長依存性について光学計算を行った場合の算定結果を
示す。この図３から明らかのように、紫外線硬化樹脂が
硬化する２００〔ｎｍ〕から４００〔ｎｍ〕の紫外線に
対する透過率Ｔは、５０％を越える値となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量を透過できることを
示すと共に、波長の大きい領域ではレーザ波長に対して
は反射率が６５％以上を得ることができ、Ｒｂ（ルビジ
ウム）が光選択性光反射層１３として十分に機能するこ
とが明らかとなった。
【００３３】 〔光選択性光反射層の波長依存性：Ａｇの薄膜とＳｉ
Ｏ2 の薄膜とを積層したものを用いた場合〕 図４は、情報記録媒体１０の光選択性光反射層１３とし
て、Ａｇ（銀）とＳｉＯ2 （酸化珪素）の積層膜（Ａｇ
［１５ｎｍ］／ＳｉＯ2 ［６０ｎｍ］／Ａｇ［１５ｎ
ｍ］）を用い、その反射率（Ｒ），透過率（Ｔ），吸収
率（Ａ）の光の波長依存性について光学計算を行った場
合の算定結果を示したもである。この図４で、ここで、
吸収率（Ａ）がＡ1 ，Ａ2 の二つに分かれているが、Ａ
1 は第１層目（基板に近い方）のＡｇ膜の吸収率を示
し、Ａ2 は第２層目（基板から遠い方）のＡｇ膜の吸収
率を示す。また、ＳｉＯ2 膜については透明膜であるこ
とから吸収率はゼロに等しい。このため、ここではＡｇ
膜の吸収率Ａ1 ，Ａ2 についてのみ算定した。
Ｏ2 の薄膜とを積層したものを用いた場合〕 図４は、情報記録媒体１０の光選択性光反射層１３とし
て、Ａｇ（銀）とＳｉＯ2 （酸化珪素）の積層膜（Ａｇ
［１５ｎｍ］／ＳｉＯ2 ［６０ｎｍ］／Ａｇ［１５ｎ
ｍ］）を用い、その反射率（Ｒ），透過率（Ｔ），吸収
率（Ａ）の光の波長依存性について光学計算を行った場
合の算定結果を示したもである。この図４で、ここで、
吸収率（Ａ）がＡ1 ，Ａ2 の二つに分かれているが、Ａ
1 は第１層目（基板に近い方）のＡｇ膜の吸収率を示
し、Ａ2 は第２層目（基板から遠い方）のＡｇ膜の吸収
率を示す。また、ＳｉＯ2 膜については透明膜であるこ
とから吸収率はゼロに等しい。このため、ここではＡｇ
膜の吸収率Ａ1 ，Ａ2 についてのみ算定した。
【００３４】この図４から明らかのように、紫外線硬化
樹脂が硬化に使用する高圧水銀ランプの中心波長の３５
０〔ｎｍ〕近傍の透過率は８０％以上となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量の透過を得られるこ
とが明らかとなった。同時に、６３５〔ｎｍ〕以上のレ
ーザ波長に対しては反射率が６５％以上となり、Ａｇと
ＳｉＯ2 からなる積層膜が光選択性光反射層として十分
使用可能であることが明確と成った。
樹脂が硬化に使用する高圧水銀ランプの中心波長の３５
０〔ｎｍ〕近傍の透過率は８０％以上となり、紫外線硬
化樹脂が硬化するための十分な光量の透過を得られるこ
とが明らかとなった。同時に、６３５〔ｎｍ〕以上のレ
ーザ波長に対しては反射率が６５％以上となり、Ａｇと
ＳｉＯ2 からなる積層膜が光選択性光反射層として十分
使用可能であることが明確と成った。
【００３５】 〔光の膜厚依存性〕 更に、図５（Ａ）〜（Ｂ）は、情報記録媒体１０の光選
択性光反射層１３にとして、Ａｇ（銀）とＳｉＯ2 （酸
化珪素）の積層膜（Ａｇ［１５ｎｍ］／ＳｉＯ2 ［−］
／Ａｇ［１５ｎｍ］）を用いた場合の、反射率（Ｒ）と
透過率（Ｔ）が、酸化珪素（ＳｉＯ2 ）の膜厚にどのよ
うに依存するかについて光学計算した場合の算定結果を
示したものである。図５（Ａ）は３５０〔ｎｍ〕の光波
長に対する算定結果を示し、図５（Ｂ）は６３５〔ｎ
ｍ〕の光波長に対する算定結果を示す。
択性光反射層１３にとして、Ａｇ（銀）とＳｉＯ2 （酸
化珪素）の積層膜（Ａｇ［１５ｎｍ］／ＳｉＯ2 ［−］
／Ａｇ［１５ｎｍ］）を用いた場合の、反射率（Ｒ）と
透過率（Ｔ）が、酸化珪素（ＳｉＯ2 ）の膜厚にどのよ
うに依存するかについて光学計算した場合の算定結果を
示したものである。図５（Ａ）は３５０〔ｎｍ〕の光波
長に対する算定結果を示し、図５（Ｂ）は６３５〔ｎ
ｍ〕の光波長に対する算定結果を示す。
【００３６】ここで、３５０〔ｎｍ〕の光波長は紫外線
硬化樹脂の硬化に使用する高圧水銀ランプの紫外線のメ
イン波長が３５０〔ｎｍ〕近傍に存在することより、６
３５〔ｎｍ〕の光波長は再生レーザの波長であることよ
り選んだ。
硬化樹脂の硬化に使用する高圧水銀ランプの紫外線のメ
イン波長が３５０〔ｎｍ〕近傍に存在することより、６
３５〔ｎｍ〕の光波長は再生レーザの波長であることよ
り選んだ。
【００３７】図５（Ａ）の光学演算結果より、光選択性
光反射層１３にＡｇの薄膜を単層で用いた場合、波長３
５０〔ｎｍ〕の紫外線の透過率が５０％であったが、Ａ
ｇとＳｉＯ2 の積層膜とすることにより、ＳｉＯ2 膜厚
が６０〔ｎｍ〕から７５〔ｎｍ〕にかけて、透過率が８
０％近傍まで向上することが判明した。
光反射層１３にＡｇの薄膜を単層で用いた場合、波長３
５０〔ｎｍ〕の紫外線の透過率が５０％であったが、Ａ
ｇとＳｉＯ2 の積層膜とすることにより、ＳｉＯ2 膜厚
が６０〔ｎｍ〕から７５〔ｎｍ〕にかけて、透過率が８
０％近傍まで向上することが判明した。
【００３８】又、図５（Ｂ）の光学計算結果より、Ｓｉ
Ｏ2 膜厚が６０〔ｎｍ〕から７５〔ｎｍ〕にかけて、６
３５〔ｎｍ〕の再生レーザに対する反射率が７０％以上
であり、反射層として十分使用可能であることを示し
た。
Ｏ2 膜厚が６０〔ｎｍ〕から７５〔ｎｍ〕にかけて、６
３５〔ｎｍ〕の再生レーザに対する反射率が７０％以上
であり、反射層として十分使用可能であることを示し
た。
【００３９】次に、上記第１の実施形態における情報記
録媒体の製造方法を、図６に基づいて説明する。
録媒体の製造方法を、図６に基づいて説明する。
【００４０】まず、図６（Ａ）に示すように、凹凸から
なる情報記録面１１を有するポリカーボネイト製の基板
１０１には、膜厚３０〔ｎｍ〕のＡｇを、光選択性光反
射層１３としてスパッタ装置により成膜する。又、基板
１０２には、膜厚８０〔ｎｍ〕のＡｌを光反射層１４と
してスパッタ装置により成膜する。そして、その後、各
基板１０１，１０２を、その情報記録面１１，１２側を
対向させてその相互間に光硬化性接着剤１６を介装させ
る。この光硬化性接着剤１６としては、本実施形態で
は、大日本インキ化学工業（株）製の光硬化性接着剤
（商品名：ダイキュウアクリアＳＤ−３０１）を使用し
た。
なる情報記録面１１を有するポリカーボネイト製の基板
１０１には、膜厚３０〔ｎｍ〕のＡｇを、光選択性光反
射層１３としてスパッタ装置により成膜する。又、基板
１０２には、膜厚８０〔ｎｍ〕のＡｌを光反射層１４と
してスパッタ装置により成膜する。そして、その後、各
基板１０１，１０２を、その情報記録面１１，１２側を
対向させてその相互間に光硬化性接着剤１６を介装させ
る。この光硬化性接着剤１６としては、本実施形態で
は、大日本インキ化学工業（株）製の光硬化性接着剤
（商品名：ダイキュウアクリアＳＤ−３０１）を使用し
た。
【００４１】次に、紫外線により硬化接着が可能な光硬
化性接着剤１６を各基板１０１，１０２に介装した後、
当該光硬化性接着剤１６を、図６（Ｂ）に示すように、
スピンコート法によって展開密着させることで膜厚１０
〔μｍ〕に形成し、両者を密着させる。
化性接着剤１６を各基板１０１，１０２に介装した後、
当該光硬化性接着剤１６を、図６（Ｂ）に示すように、
スピンコート法によって展開密着させることで膜厚１０
〔μｍ〕に形成し、両者を密着させる。
【００４２】最後に、図６（Ｃ）に示すように、照度１
２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線Ｕ
Ｖを３秒間，光選択性光反射層１３側から照射して光硬
化性接着剤１６を硬化させ、これによって、基板１０
１，１０２を貼り合わせる事が出来た。
２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線Ｕ
Ｖを３秒間，光選択性光反射層１３側から照射して光硬
化性接着剤１６を硬化させ、これによって、基板１０
１，１０２を貼り合わせる事が出来た。
【００４３】この場合、光硬化性接着剤１６として用い
る紫外線硬化樹脂は、反射層に光選択性光反射層を用い
ることで、十分な照射光量を得られるので、照射と同時
に重合・架橋反応が開始されことから、光開始剤や増刊
剤などの添加量は少なくてよい。このため、過度の添加
物によるガスの発生や接着膜中の不均一な橋掛け構造の
生成が防止され、緻密で均質な編み目構造の接着層を形
成でき、また、添加物による情報記録層や反射層の腐食
を回避できる。
る紫外線硬化樹脂は、反射層に光選択性光反射層を用い
ることで、十分な照射光量を得られるので、照射と同時
に重合・架橋反応が開始されことから、光開始剤や増刊
剤などの添加量は少なくてよい。このため、過度の添加
物によるガスの発生や接着膜中の不均一な橋掛け構造の
生成が防止され、緻密で均質な編み目構造の接着層を形
成でき、また、添加物による情報記録層や反射層の腐食
を回避できる。
【００４４】ここで、発明者らは、念のため、上記光硬
化性接着剤（大日本インキ化学工業（株）製のＳＤ−３
０１）についてその硬化特性の評価を行ってみた。具体
的には、光選択性光反射層１３にＡｇ（銀）を用い、光
硬化性接着剤１６として用いたＳＤ一３０１の硬化特性
の評価を行った。
化性接着剤（大日本インキ化学工業（株）製のＳＤ−３
０１）についてその硬化特性の評価を行ってみた。具体
的には、光選択性光反射層１３にＡｇ（銀）を用い、光
硬化性接着剤１６として用いたＳＤ一３０１の硬化特性
の評価を行った。
【００４５】評価方法は、ポリカーボネイトの基板１０
１上にＡｇを３０〔ｎｍ〕成膜後、ＳＤ−３０１を塗布
し、基板１０１側から照度１２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧
水銀ランプにより、紫外線を３秒照射して硬化させた試
料の硬度とゲル分率を求めた。又、硬度は従来の紫外線
硬化による測定値より相村比較して求めた。
１上にＡｇを３０〔ｎｍ〕成膜後、ＳＤ−３０１を塗布
し、基板１０１側から照度１２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧
水銀ランプにより、紫外線を３秒照射して硬化させた試
料の硬度とゲル分率を求めた。又、硬度は従来の紫外線
硬化による測定値より相村比較して求めた。
【００４６】評価の結果、ＳＤ−３０１の硬度は「１
２」、ゲル分率は「９６％」と良好な値を示した。即
ち、基板１０１と光選択性光反射層１３を通して紫外線
を照射しても、紫外線硬化樹脂が十分な硬化特性を示す
ことを碓認することができた。
２」、ゲル分率は「９６％」と良好な値を示した。即
ち、基板１０１と光選択性光反射層１３を通して紫外線
を照射しても、紫外線硬化樹脂が十分な硬化特性を示す
ことを碓認することができた。
【００４７】このように、上記第１の実施形態による
と、短時間に各基板１０１，１０２の接合が可能とな
り、また、接着面の全面を一様に光硬化性接着剤１６で
接着したので、そりの発生がなくなり、かかる点におい
て生産性向上を，また品質の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得るという効果を得ること
ができた。
と、短時間に各基板１０１，１０２の接合が可能とな
り、また、接着面の全面を一様に光硬化性接着剤１６で
接着したので、そりの発生がなくなり、かかる点におい
て生産性向上を，また品質の著しい向上を図ることがで
き、同時に耐久性向上も図り得るという効果を得ること
ができた。
【００４８】 〔第２の実施形態〕 次に、本発明の第２の実施形態を図７乃至図８に基づい
て説明する。この第２の実施形態は、一方と他方の光反
射層２３，２４を、共に同一素材からなる光選択性光反
射層によって構成した点に特徴を備えている。以下、こ
れを詳述する。
て説明する。この第２の実施形態は、一方と他方の光反
射層２３，２４を、共に同一素材からなる光選択性光反
射層によって構成した点に特徴を備えている。以下、こ
れを詳述する。
【００４９】まず、図７において、情報記録媒体２０
は、情報記録面２１，２２を有する一方と他方の二枚の
基板２０１，２０２と、一方の基板２０１の情報面上に
形成された一方の光選択性光反射層２３と、他方の基板
２０２の情報面上に形成された他方の光選択性光反射層
２４とを備えている。そして、上記各基板２０１，２０
２は、その各情報記録面２１，２２側を対向させて重ね
ると共に，この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤２６が介挿され、これによって二層の情
報記録面２１，２２を備えた情報記録媒体２０が形成さ
れるようになっている。
は、情報記録面２１，２２を有する一方と他方の二枚の
基板２０１，２０２と、一方の基板２０１の情報面上に
形成された一方の光選択性光反射層２３と、他方の基板
２０２の情報面上に形成された他方の光選択性光反射層
２４とを備えている。そして、上記各基板２０１，２０
２は、その各情報記録面２１，２２側を対向させて重ね
ると共に，この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤２６が介挿され、これによって二層の情
報記録面２１，２２を備えた情報記録媒体２０が形成さ
れるようになっている。
【００５０】ここで、情報記録面２１，２２は、前述し
た第１実施形態における情報記録面１１，１２と同様
に、「０」「１」に対応した凹凸によって形成されてい
る。
た第１実施形態における情報記録面１１，１２と同様
に、「０」「１」に対応した凹凸によって形成されてい
る。
【００５１】情報記録面２１，２２に被着される光選択
性光反射層２３，２４としては、例えば光を選択的に反
射し或いは透過するＡｇ（銀）又はＡｇ製の素材が使用
されている。更に、光硬化性接着剤２６としては、前述
した第１実施形態における紫外線硬化樹脂と同等の紫外
線硬化樹脂が使用されている。
性光反射層２３，２４としては、例えば光を選択的に反
射し或いは透過するＡｇ（銀）又はＡｇ製の素材が使用
されている。更に、光硬化性接着剤２６としては、前述
した第１実施形態における紫外線硬化樹脂と同等の紫外
線硬化樹脂が使用されている。
【００５２】その他の構成は、前述した図１の実施例形
態と同一となっている。
態と同一となっている。
【００５３】次に、上記第２の実施形態における情報記
録媒体の製造方法を図８（Ａ）〜（Ｃ）に基づいて説明
する。
録媒体の製造方法を図８（Ａ）〜（Ｃ）に基づいて説明
する。
【００５４】まず、図８（Ａ）に示すように、凹凸から
なる情報記録面２１，２２を有するポリカーボネイト製
の基板２０１，２０２に、膜厚３０〔ｎｍ〕のＡｇを光
選択性光反射層２３，２４としてスパッタ装置により成
膜する。
なる情報記録面２１，２２を有するポリカーボネイト製
の基板２０１，２０２に、膜厚３０〔ｎｍ〕のＡｇを光
選択性光反射層２３，２４としてスパッタ装置により成
膜する。
【００５５】次に、図８（Ｂ）に示すように、光選択性
光反射層２３，２４が付された基板２０１，２０２の相
互間に、前述した第１実施形態の場合と同一の光硬化性
接着剤２６を、スピンコート法により展開させて膜厚１
０〔μｍ〕に形成し密着固定する。
光反射層２３，２４が付された基板２０１，２０２の相
互間に、前述した第１実施形態の場合と同一の光硬化性
接着剤２６を、スピンコート法により展開させて膜厚１
０〔μｍ〕に形成し密着固定する。
【００５６】最後に、図８（Ｃ）に示すように、照度１
２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線Ｕ
Ｖをその両面側から２〜３秒照射し、光硬化性接着剤２
６を硬化させ、これによって基板２０１，２０２を貼り
合わせる。
２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線Ｕ
Ｖをその両面側から２〜３秒照射し、光硬化性接着剤２
６を硬化させ、これによって基板２０１，２０２を貼り
合わせる。
【００５７】このように、上記第２の実施形態による
と、前述した第１実施形態の場合と同様に、短時間に各
基板２０１，２０２の接合が可能となり、また接着面の
全面を短時間に且つ一様に光硬化性接着剤２６で接着し
得るので、反りの発生がなくなり、かかる点において生
産性および品質の著しい向上を図ることができ、同時に
耐久性向上も図り得る。更に、各基板２１，２２の両面
から同時に紫外線ＵＶを照射すると、光硬化性接着剤２
６に対してさらに短時間に且つ均一に紫外線ＵＶを照射
することができ、かかる点において、生産性および品質
を更により一層向上させることができる。
と、前述した第１実施形態の場合と同様に、短時間に各
基板２０１，２０２の接合が可能となり、また接着面の
全面を短時間に且つ一様に光硬化性接着剤２６で接着し
得るので、反りの発生がなくなり、かかる点において生
産性および品質の著しい向上を図ることができ、同時に
耐久性向上も図り得る。更に、各基板２１，２２の両面
から同時に紫外線ＵＶを照射すると、光硬化性接着剤２
６に対してさらに短時間に且つ均一に紫外線ＵＶを照射
することができ、かかる点において、生産性および品質
を更により一層向上させることができる。
【００５８】尚、この場合、紫外線ＵＶは、前述した第
１実施形態の場合と同様に、一方又は他方の基板２０１
（又は２０２）からのみ照射するように構成してもよ
い。
１実施形態の場合と同様に、一方又は他方の基板２０１
（又は２０２）からのみ照射するように構成してもよ
い。
【００５９】 〔第３の実施形態〕 次に、本発明の第３の実施形態を図９乃至図１１に基づ
いて説明する。この第３の実施形態は、一方と他方の各
基板３０１，３０２に設けられた光反射層の内，少なく
とも一方の光反射層が、光選択性光反射層を構成してい
る点に特徴を備えている。更に、この第３の実施形態で
は、相変化光ディスク，光磁気ディスク等の書き換え可
能な情報記録媒体を対象としたものであり、書き換え可
能な情報記憶層を備えている点に特徴を備えている。
いて説明する。この第３の実施形態は、一方と他方の各
基板３０１，３０２に設けられた光反射層の内，少なく
とも一方の光反射層が、光選択性光反射層を構成してい
る点に特徴を備えている。更に、この第３の実施形態で
は、相変化光ディスク，光磁気ディスク等の書き換え可
能な情報記録媒体を対象としたものであり、書き換え可
能な情報記憶層を備えている点に特徴を備えている。
【００６０】以下、これを更に詳述する。この図９にお
いて、情報記録媒体３０は、一方の情報記憶層３１を備
えた一方の基板３０１と、他方の情報記憶層３２を備え
た他方の基板３０２とを備えている。この各情報記憶層
３１，３２上には、樹脂製保護膜３３，３４が被着され
ている。ここで、上記一方と他方の各情報記憶層３１，
３２は、後述するように書き換え可能な記録膜３１Ａを
備えている。
いて、情報記録媒体３０は、一方の情報記憶層３１を備
えた一方の基板３０１と、他方の情報記憶層３２を備え
た他方の基板３０２とを備えている。この各情報記憶層
３１，３２上には、樹脂製保護膜３３，３４が被着され
ている。ここで、上記一方と他方の各情報記憶層３１，
３２は、後述するように書き換え可能な記録膜３１Ａを
備えている。
【００６１】そして、これらの各基板３０１，３０２
は、前述した各実施形態の場合と同様に、各基板３０
１，３０２の情報記憶層３１，３２側を対向させて重ね
ると共に，この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤３６が介挿され、これによって二層の情
報記憶層を備えた情報記録媒体３０が形成されるように
なっている。
は、前述した各実施形態の場合と同様に、各基板３０
１，３０２の情報記憶層３１，３２側を対向させて重ね
ると共に，この両者を貼り合わせるために当該両者間に
光硬化性接着剤３６が介挿され、これによって二層の情
報記憶層を備えた情報記録媒体３０が形成されるように
なっている。
【００６２】ここで、前述した一方の情報記憶層３１
は、図１０に示すように、前述した一方の基板３０１を
ベースにして、その上に誘電体保護膜３１Ｂａ，記憶膜
３１Ａ，誘電体保護膜３１Ｂｂ，および光選択性光反射
層３１Ｃが順次積層されることにより形成されている。
は、図１０に示すように、前述した一方の基板３０１を
ベースにして、その上に誘電体保護膜３１Ｂａ，記憶膜
３１Ａ，誘電体保護膜３１Ｂｂ，および光選択性光反射
層３１Ｃが順次積層されることにより形成されている。
【００６３】即ち、この一方の情報記憶層３１にあって
は、記憶膜３１Ａを誘電体保護膜３１Ｂａ，３１Ｂａで
サンドイッチ状に挟み、その外側の面に光選択性光反射
層３１Ｃが積層されている。また、他方の情報記憶層３
２も、この一方の情報記憶層３１と同一に構成されてい
る。
は、記憶膜３１Ａを誘電体保護膜３１Ｂａ，３１Ｂａで
サンドイッチ状に挟み、その外側の面に光選択性光反射
層３１Ｃが積層されている。また、他方の情報記憶層３
２も、この一方の情報記憶層３１と同一に構成されてい
る。
【００６４】尚、上記光選択性光反射層３１Ｃについて
は、一方と他方の各情報記憶層３１，３２に個別に装備
された光選択性光反射層３１Ｃの何れか一方を、通常の
光反射層で形成してもよい。その他の構成は、前述した
図１の実施例形態と同一となっている。
は、一方と他方の各情報記憶層３１，３２に個別に装備
された光選択性光反射層３１Ｃの何れか一方を、通常の
光反射層で形成してもよい。その他の構成は、前述した
図１の実施例形態と同一となっている。
【００６５】次に、上記第３の実施形態における情報記
録媒体３０の製造方法を、図１１（Ａ）〜（Ｃ）に基づ
いて説明する。
録媒体３０の製造方法を、図１１（Ａ）〜（Ｃ）に基づ
いて説明する。
【００６６】まず最初に、図１１（Ａ）において、ラン
ド・ブルーブを有するポリカーボネイト製の基板３０
１，３０２上に、情報記憶層３１，３２を形成する。
ド・ブルーブを有するポリカーボネイト製の基板３０
１，３０２上に、情報記憶層３１，３２を形成する。
【００６７】情報記憶層３１，３２は、誘電体保護膜３
１Ｂａとして「ＺｎＳ−ＳｉＯ2 」を１４０〔ｎｍ〕、
記憶膜３１Ａとして「Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 」を２０〔ｎ
ｍ〕、誘電体保護膜３２Ｂｂとして「ＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ2 」を５０〔ｎｍ〕、光選択性光反射層３２Ｃとして
「Ａｇ」を３０〔ｎｍ〕、それぞれ基板３０１，３０２
上に、スパッタ法等によって順次積層することにより形
成される。
１Ｂａとして「ＺｎＳ−ＳｉＯ2 」を１４０〔ｎｍ〕、
記憶膜３１Ａとして「Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 」を２０〔ｎ
ｍ〕、誘電体保護膜３２Ｂｂとして「ＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ2 」を５０〔ｎｍ〕、光選択性光反射層３２Ｃとして
「Ａｇ」を３０〔ｎｍ〕、それぞれ基板３０１，３０２
上に、スパッタ法等によって順次積層することにより形
成される。
【００６８】続いて、この情報記憶層３１，３２上に、
それぞれ樹脂製保護膜３３，３４をスピンコート法によ
って個別に塗布する。この場合、樹脂製保護膜３３，３
４として、本実施形態では、大日本インキ化学工業
（株）製の商品名「ダイキュウアクリアＳＤ−３１８」
を９〔μｍ〕の厚さに塗布する。そして、塗布後、紫外
線照射により硬化させ、これによって樹脂製保護膜３
３，３４が形成される。
それぞれ樹脂製保護膜３３，３４をスピンコート法によ
って個別に塗布する。この場合、樹脂製保護膜３３，３
４として、本実施形態では、大日本インキ化学工業
（株）製の商品名「ダイキュウアクリアＳＤ−３１８」
を９〔μｍ〕の厚さに塗布する。そして、塗布後、紫外
線照射により硬化させ、これによって樹脂製保護膜３
３，３４が形成される。
【００６９】次に、図１１（ｂ）に示すように、樹脂製
保護膜３４上（樹脂製保護膜３３上でもよい）に光硬化
性接着剤３６としての光硬化性樹脂を塗布（場合によっ
てはドーナツ状に塗布）し、樹脂保護膜３３，３４が互
いに向き合うように重ねた後、スピンコート法により３
５００回転（ｒｐｍ）で展開塗布し、９〔μｍ〕の膜厚
を形成する。
保護膜３４上（樹脂製保護膜３３上でもよい）に光硬化
性接着剤３６としての光硬化性樹脂を塗布（場合によっ
てはドーナツ状に塗布）し、樹脂保護膜３３，３４が互
いに向き合うように重ねた後、スピンコート法により３
５００回転（ｒｐｍ）で展開塗布し、９〔μｍ〕の膜厚
を形成する。
【００７０】最後に、図１１（ｃ）に示すように、照度
１２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線
を３秒照射し、光硬化性接着剤３６を硬化させことによ
って基板３０１，３０２を貼り合わせる。これにより、
書き換え可能な二層の情報記憶層３１，３２を備えた情
報記録媒体３０が形成される。る。
１２０〔Ｗ／ｃｍ2 〕の高圧水銀ランプにより、紫外線
を３秒照射し、光硬化性接着剤３６を硬化させことによ
って基板３０１，３０２を貼り合わせる。これにより、
書き換え可能な二層の情報記憶層３１，３２を備えた情
報記録媒体３０が形成される。る。
【００７１】また、このような光選択性特性を示す光選
択性物質としては、前述したようにＡｇ（銀）とＲｂ
（ルビジウム）が好適であり、反射層の素材として前述
したように光選択性物質を使用してこれを透明誘電体に
積層することにより、光透過領域の調整が可能となる。
従って、例えば４００〔ｎｍ〕未満の紫外線を一方の基
板３０１側から照射しても、光選択性光反射層３１Ｃを
容易に透過するとともに膜厚が薄い３０〔ｎｍ〕以下の
Ｔｅ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ等の記憶膜３１Ａ
をも容易に透過して、光硬化性樹脂である光硬化性接着
剤３６に十分に到達する。
択性物質としては、前述したようにＡｇ（銀）とＲｂ
（ルビジウム）が好適であり、反射層の素材として前述
したように光選択性物質を使用してこれを透明誘電体に
積層することにより、光透過領域の調整が可能となる。
従って、例えば４００〔ｎｍ〕未満の紫外線を一方の基
板３０１側から照射しても、光選択性光反射層３１Ｃを
容易に透過するとともに膜厚が薄い３０〔ｎｍ〕以下の
Ｔｅ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ等の記憶膜３１Ａ
をも容易に透過して、光硬化性樹脂である光硬化性接着
剤３６に十分に到達する。
【００７２】その結果、例えば３秒以下の硬化時間で基
板全面に付された光硬化性接着剤３６を均質に硬化させ
ることができ、歪みや反りの無い情報記録媒体３０を効
率よく製作することが可能となる。
板全面に付された光硬化性接着剤３６を均質に硬化させ
ることができ、歪みや反りの無い情報記録媒体３０を効
率よく製作することが可能となる。
【００７３】このように、上記第３の実施形態において
も、前述した各実施形態と同一の作用効果を得ることが
できる。
も、前述した各実施形態と同一の作用効果を得ることが
できる。
【００７４】
【発明の効果】以上のように本発明によると、光硬化性
接着剤を介して貼り合わせた二枚の基板に予め積層され
た光反射膜の内の少なくとも一方の光反射膜を光選択性
光反射層としたので、光硬化性接着剤の硬化波長域の光
を（例えば５０％から８０％）透過させることが可能と
なり、例えば３秒程度の硬化時間で基板全面を均質に硬
化させることができ、このため、加工時の熱の発生が抑
制され、歪みや反りが極めて少なく従って機械特性が良
好となり、かかる点において生産性および品質の著しい
向上を図ることができ、同時に耐久性向上も図り得ると
いう従来にない優れた情報記録媒体およびその製造方法
を提供することができる。
接着剤を介して貼り合わせた二枚の基板に予め積層され
た光反射膜の内の少なくとも一方の光反射膜を光選択性
光反射層としたので、光硬化性接着剤の硬化波長域の光
を（例えば５０％から８０％）透過させることが可能と
なり、例えば３秒程度の硬化時間で基板全面を均質に硬
化させることができ、このため、加工時の熱の発生が抑
制され、歪みや反りが極めて少なく従って機械特性が良
好となり、かかる点において生産性および品質の著しい
向上を図ることができ、同時に耐久性向上も図り得ると
いう従来にない優れた情報記録媒体およびその製造方法
を提供することができる。
【００７５】また、光選択性光反射層にＡｇ又はＲｂを
用いると、３００〔ｎｍ〕から４００〔ｎｍ〕の紫外線
硬化樹脂（光硬化性接着剤）の硬化波長領域の紫外線に
対して、透過率が５０％以上の透過率を有するので、低
パワーの紫外線照射により、二枚の基板の貼り合わせが
可能となるため、熱の発生による変形を回避できると共
に、６３５〔ｎｍ〕の再生レーザ波長に対して６５％以
上の反射率を有するため、良好な再生信号を得ることが
可能となる。
用いると、３００〔ｎｍ〕から４００〔ｎｍ〕の紫外線
硬化樹脂（光硬化性接着剤）の硬化波長領域の紫外線に
対して、透過率が５０％以上の透過率を有するので、低
パワーの紫外線照射により、二枚の基板の貼り合わせが
可能となるため、熱の発生による変形を回避できると共
に、６３５〔ｎｍ〕の再生レーザ波長に対して６５％以
上の反射率を有するため、良好な再生信号を得ることが
可能となる。
【００７６】さらに、光選択性光反射層をＡｇ等の金属
反射膜と誘電体との積層膜とすることで、光選択性光反
射層の透過波長領域を調整できるため、光硬化性接着剤
の硬化特性に合わせた波長の光を透過させることが可能
となる。
反射膜と誘電体との積層膜とすることで、光選択性光反
射層の透過波長領域を調整できるため、光硬化性接着剤
の硬化特性に合わせた波長の光を透過させることが可能
となる。
【図１】本発明の第一実施形態を示す概略断面図であ
る。
る。
【図２】図１内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るＡｇ薄膜の光波長に対する透過率Ｔ，反射率Ｒ，およ
び吸収率Ａの算定結果を示す線図である。
るＡｇ薄膜の光波長に対する透過率Ｔ，反射率Ｒ，およ
び吸収率Ａの算定結果を示す線図である。
【図３】図１内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るＲｂ薄膜の光波長に対する透過率Ｔ，反射率Ｒ，およ
び吸収率Ａの算定結果を示す線図である。
るＲｂ薄膜の光波長に対する透過率Ｔ，反射率Ｒ，およ
び吸収率Ａの算定結果を示す線図である。
【図４】図１内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るＡｇ−ＳｉＯ2 −Ａｇの積層された薄膜の光波長に対
する透過率Ｔ，反射率Ｒ，および吸収率Ａの算定結果を
示す線図である。
るＡｇ−ＳｉＯ2 −Ａｇの積層された薄膜の光波長に対
する透過率Ｔ，反射率Ｒ，および吸収率Ａの算定結果を
示す線図である。
【図５】図１内に開示した光選択性光反射層の素材であ
るＡｇ−ＳｉＯ2 −Ａｇの積層された薄膜のＳｉＯ2 部
分の膜厚に変化に対する光波長の透過率Ｔ，反射率Ｒの
算定結果を示す線図で、図５（Ａ）は光波長λが３５０
〔ｎｍ〕の場合を示す線図、図５（Ｂ）は光波長λが６
３５〔ｎｍ〕の場合を示す線図である。
るＡｇ−ＳｉＯ2 −Ａｇの積層された薄膜のＳｉＯ2 部
分の膜厚に変化に対する光波長の透過率Ｔ，反射率Ｒの
算定結果を示す線図で、図５（Ａ）は光波長λが３５０
〔ｎｍ〕の場合を示す線図、図５（Ｂ）は光波長λが６
３５〔ｎｍ〕の場合を示す線図である。
【図６】図１に開示した情報記録媒体の製造方法の一部
を示す図で、図６（Ａ）は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図６（Ｂ）は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図６
（Ｃ）は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
を示す図で、図６（Ａ）は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図６（Ｂ）は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図６
（Ｃ）は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
【図７】本発明の第二実施形態を示す概略断面図であ
る。
る。
【図８】図７に開示した情報記録媒体の製造方法の一部
を示す図で、図８（Ａ）は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図８（Ｂ）は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図８
（Ｃ）は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
を示す図で、図８（Ａ）は二つの基板を突き合わせた状
態を示す説明図、図８（Ｂ）は二つの基板の相互間に光
硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明図、図８
（Ｃ）は二つの基板の相互間の光硬化性接着剤を硬化さ
せるための低パワーの紫外線を照射した状態を示す説明
図である。
【図９】本発明の第三実施形態を示す概略断面図であ
る。
る。
【図１０】図９内に開示した一方の情報記憶層部分を示
す詳細部分断面図である。
す詳細部分断面図である。
【図１１】図９に開示した情報記録媒体の製造方法の一
部を示す図で、図１１（Ａ）は二つの基板を突き合わせ
た状態を示す説明図、図１１（Ｂ）は二つの基板の相互
間に光硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明
図、図１１（Ｃ）は二つの基板の相互間の光硬化性接着
剤を硬化させるための低パワーの紫外線を照射した状態
を示す説明図である。
部を示す図で、図１１（Ａ）は二つの基板を突き合わせ
た状態を示す説明図、図１１（Ｂ）は二つの基板の相互
間に光硬化性接着剤の薄膜を介装した状態を示す説明
図、図１１（Ｃ）は二つの基板の相互間の光硬化性接着
剤を硬化させるための低パワーの紫外線を照射した状態
を示す説明図である。
【図１２】Ａｌ（アルミニウム）薄膜に対する光波長の
反射率，透過率，吸収率の算定結果を示す線図である。
反射率，透過率，吸収率の算定結果を示す線図である。
【図１３】Ａｕ（金）薄膜に対する光波長の反射率，透
過率，吸収率の算定結果を示す線図である。
過率，吸収率の算定結果を示す線図である。
【符号の説明】 １０，２０，３０ 情報記録媒体 １１，２１ 一方の情報記録面 １２，２２ 他方の情報記録面 １３，２３，２４，３１Ｃ 光選択性光反射層 １４ 光反射層 １６，２６，３６ 光硬化性接着剤 ３１ 一方の情報記億層 ３１Ａ 記憶膜 ３１Ｂａ，３１Ｂｂ 誘電体保護膜 ３２ 他方の情報記億層 ３３，３４ 樹脂性保護膜 １０１，２０１，３０１ 一方の基板 １０２，２０２，３０２ 他方の基板
Claims (7)
- 【請求項１】 一方の面に情報記録面を有すると共にこ
の情報記録面上に光反射層が個別に付された二枚の基板
を有し、この二枚の基板を、前記光反射層を対向させ、
紫外線硬化性接着層を介して貼り合わせてなる密着貼り
合わせ構造の情報記録媒体であって、前記二枚の基板の少なくとも一方の基板の光反射層は、
波長が２００［ｎｍ］以上の所定範囲にある紫外線に対
しては該紫外線の反射率よりも高い率の透過率を有し、
且つ、波長が前記所定範囲内の波長よりも長い波長であ
る所定範囲の光に対しては該光の透過率よりも高い率の
反射率を有するような特性を有する光選択性光反射層で
形成され、 前記紫外線硬化性接着層は、前記少なくとも一方の基板
および前記光選択性反射層を介して照射される前記紫外
線により硬化されることを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項２】 一方の面に情報記憶層および樹脂製保護
膜を備えた二枚の基板を有し、この二枚の基板を、前記
情報記憶層を対向させ紫外線硬化性接着層を介して貼り
合わせてなる密着貼り合わせ構造の情報記録媒体であっ
て、 前記二枚の基板にそれぞれ積層された各情報記憶層を、
書き換え可能な記憶膜と、当該記憶膜の両面に装備され
た誘電体保護膜と、この各誘電体保護膜の内の前記紫外
線硬化性接着層側に積層された光反射層とにより構成す
ると共に、前記各基板の内の少なくとも一方の基板の光反射層は、
波長が２００［ｎｍ］以上の所定範囲にある紫外線に対
しては該紫外線の反射率よりも高い率の透過率を有し、
且つ、波長が前記所定範囲内の波長よりも長い波長であ
る所定範囲の光に対しては該光の透過率よりも高い率の
反射率を有するような特性を有する 光選択性光反射層で
形成され、前記紫外線硬化性接着層は、前記少なくとも一方の基板
および前記光選択性反射層を介して照射される前記紫外
線により硬化されることを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項３】 前記紫外線および前記光は、レーザ波で
あることを特徴とする請求項１又は２記載の情報記録媒
体。 - 【請求項４】 前記光選択性光反射層は、銀の単層薄膜
層であることを特徴とした請求項１ないし３のいずれか
に記載の情報記録媒体。 - 【請求項５】 前記光選択性光反射層は、ルビジュウム
の薄膜層を積層したものであることを特徴とした請求項
１ないし３のいずれか記載の情報記録媒体。 - 【請求項６】 前記光選択性光反射層は、銀の薄膜と酸
化珪素の薄膜とを積層することにより成る多層薄膜層で
あることを特徴とした請求項１ないし３のいずれかに記
載の情報記録媒体。 - 【請求項７】 一方の面に情報記録面又は記録層を有す
ると共にこの情報記録面又は記録層上に光反射層が付さ
れた二枚の基板を設け、この二枚の基板の内の少なくと
も一方の基板の光反射層を、波長が２００［ｎｍ］以上
の所定範囲にある紫外線に対しては該紫外線の反射率よ
りも高い率の透過率を有し、且つ、波長が前記所定範囲
内の波長よりも長い波長である所定範囲の光に対しては
該光の透過率よりも高い率の反射率を有するような特性
を有する光選択性光反射層で形成し、 この二枚の基板の各光反射層側を相互に対向させ且つ相
互間に紫外線硬化性接着層を均一に介装して両者を密着
固定し、 しかる後、前記光選択性光反射層を備えた基板側から、
前記紫外線硬化性接着層固形化用の紫外線を全面均一に
照射することを特徴とした情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8228175A JP2982701B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8228175A JP2982701B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1069676A JPH1069676A (ja) | 1998-03-10 |
| JP2982701B2 true JP2982701B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=16872403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8228175A Expired - Fee Related JP2982701B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2982701B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060105233A (ko) * | 2005-04-02 | 2006-10-11 | 삼성전자주식회사 | 하이브리드 디스크, 그 기록 및/또는 재생 장치 및 방법 |
| JP2007095270A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-08-29 JP JP8228175A patent/JP2982701B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1069676A (ja) | 1998-03-10 |
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