JP3583269B2 - 貼り合わせ型光ディスクの製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、貼り合わせ型光ディスクの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の光学式ビデオディスクなどの貼り合わせ型光ディスクは、第１の情報記録面を有する第１の基板と、第２の情報記録面を有する第２の基板とをホットメルト型粘着剤などを用いて貼り合わせたものであり、第１の情報記録面の情報信号は第１の基板を介してレーザビームを照射して読み取り、第２の情報記録面の情報信号は第２の基板を介してレーザビームを照射して読み取っていた。そして、一方の情報記録面を読み取った後他方の情報記録面を読み取る場合、ディスクを裏返すか、あるいは光学ヘッドを他方の情報記録面側に移動させていた。
【０００３】
そこで、一方の情報記録面（反射膜）を入射するレーザビームに対して一部を反射し、一部を透過する半透過性としかつ情報記録面間の接着剤層（中間層）を光透過性として、一方の基板側からレーザビームを照射して両方の情報記録面を再生することができるタイプの貼り合わせ型光ディスクが提案されている。
【０００４】
このようなタイプの貼り合わせ型光ディスクを製造するに際して、接着剤層に液状の紫外線硬化型樹脂を用いるか、あるいは光透過性シートを用いることが考えられている。前者の場合、接着剤層に気泡が混入しやすく、接着剤層の厚さを均一にすることが難しく、また、後者の場合、接着剤層の厚さを均一にすることは容易であるが基板と半透過性の反射膜の間に異物が存在すると反射膜に応力がかかりひび割れなどの欠陥が生じることを見いだした。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる事情に基づいてなされたものであり、信頼性の向上した一方の基板側からレーザビームを照射して両方の情報記録面を再生することができるタイプの貼り合わせ型光ディスクを効率良く製造できる方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明による請求項１に記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法は、片面に第１の情報記録面を有する第１の光透過性基板の第１の情報記録面上に、入射光の一部を反射し一部を透過する半透過の第１の反射膜を形成する工程と、片面に第２の情報記録面を有する第２の光透過性基板の第２の情報記録面上に、第１の反射膜より高い反射率を有する第２の反射膜を形成する工程と、第１及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を塗布して未硬化状態の保護膜を形成する工程と、第１の光透過性基板と第２の光透過性基板の間に光透過性シートをはさみ、保護膜と光透過性シートとを対向させ、加圧して貼り合わせる工程と、第１の光透過性基板側から紫外線を照射して保護膜を硬化させる工程とを有し、前記加圧貼り合せ工程の前に、前記第１及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に形成された未硬化状態の保護膜の外周縁部を除く領域に紫外線を照射して硬化させる工程を有するとともに前記加圧貼り合せ工程において高圧プレスすることを特徴とする。
【００１４】
【作用】
本発明による貼り合わせ型光ディスクの製造方法では、第１又は第２の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を塗布して未硬化状態の保護膜を形成し、第１及び第２の光透過性基板の間に光透過性シートをはさみ、保護膜と光透過性シートとを対向させ、貼り合せるようにしたので第１及び第２の反射膜に不要な応力を発生させず、均一な中間層を得ることができる。
【００１５】
また、塗布される紫外線硬化型樹脂は、室温未硬化状態での粘度を１５〜４００ｃｐｓでかつ保護膜の未硬化状態での厚さを５〜１０μｍとしたので、ディスクの厚さ構成への影響を少なくすることが可能となる。
【００１６】
また、中間層（光透過性シート）として、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐでかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍのドライ光硬化性フィルム又は厚さが３０〜６０μｍのアクリル系粘着剤からなる粘着シートを用いることにより、ディスクの厚さ構成への影響を少なくすることが可能となる。
【００１７】
また、中間層（光透過性シート）として、厚さが３０〜６０μｍである粘着シートを用いることにより、デイスクの変形を防止することが可能となる。
【００１８】
また、半透過の第１の反射膜は、金薄膜又は又は誘電体薄膜からなるようにしたので、安定した貼り合わせ型光ディスクの製造が可能となる。
【００１９】
また、加圧貼り合せ工程を減圧空間内で行うようにしたので紫外線硬化型樹脂への気泡の混入を防止することができ、気泡による外観不良や貼り合せ時の接着不良が防止できる。
【００２０】
また、加圧貼り合せ工程の前に、第１及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に形成された未硬化状態の保護膜の外周縁部を除く領域に紫外線を照射して硬化させ、外周縁部のみを未硬化状態とし、加圧貼り合せ工程において高圧プレスすることにより、外周縁部の気泡残りを防止することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図１は本発明の光ディスクの積層構造の一例を示す説明図である。
【００２２】
図１に示すように、この光ディスクは、第１の光透過性基板１側から第２の光透過性基板７側に向かって、順次、第１の光透過性基板１、第１の反射膜２、第１の保護膜３、中間層４、第２の保護膜５、第２の反射膜６、第２の光透過性基板７が積層された構造を有している。そして、第１の光透過性基板の第１の反射膜２側表面、及び第２の光透過性基板の第２の反射膜６側表面には、それぞれ第１の情報信号を担持する第１のピット８、及び第２の情報信号を担持する第２のピット９が形成されており、これらのピット８、ピット９は、いずれも第１の光透過性基板１側から照射した再生用ビームによって読み取ることができる形状を有している。
【００２３】
第１の光透過性基板１及び第２の光透過性基板７の形成材料は、光透過性を有しているものであればよく、例えばポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などの樹脂、光学ガラスなどの透明材料が挙げられる。
各種透明材料のなかでも、ポリカーボネートは、耐環境性に優れ、また寸法安定性にも優れていることから好適に用いられる。
【００２４】
これらの光透過性基板１、７は、その形成材料が樹脂である場合には、例えばキャビティ内にスタンパーが配置された金型を用いる射出成形により一体的に形成され、同時に表面のピットも形成される。
【００２５】
光透過性基板の形状及び大きさは、この光ディスクの用途に応じて適宜に決定すればよい。例えば近年話題となっているデジタルビデオディスク（ＤＶＤ）の場合、各光透過性基板１、７は、それぞれ、直径１２０ｍｍ程度で中心部に直径１５ｍｍ程度のセンターホールを有する円盤状であり、その厚さは、０．６ｍｍ程度である。
【００２６】
第１の光透過性基板１及び第２の光透過性基板７に形成されているピット８、９の深さは、通常、０．０２〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．３μｍである。この深さが０．０２μｍ未満であると、情報の読み出しが正確に行えないことがある。一方、１μｍよりも深くしても、それに相当する効果は奏されない。
【００２７】
本発明においては、再生時に第１の光透過性基板１側から照射した再生用ビームが第２のピット９にまで到達する必要があるので第１の光透過性基板１上に積層されている第１の反射膜２は、入射した光ビームの一部を透過し一部を反射する半透過膜となっている。従って、光ディスクの製造時に半透過膜である第１の反射膜２を通して第１の反射膜２と第２の反射膜６の間に挟まれた未硬化の中間層用材料に紫外線を到達させて該中間層用材料を硬化させることができる。
【００２８】
半透過性を有する第１の反射膜としては、例えば、一般的な反射膜よりも薄い金属膜を例示することができ、より具体的には、金属膜を例示することができ、より具体的には、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミニウム（Ａｌ）などからなる厚さ１００〜２００オングストローム程度の金薄膜又はシリコンカーバイド、シリコンナイトライド等の誘電体薄膜を例示することができる。第１の反射膜２の形成方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。
【００２９】
一方、第２の光透過性基板７上に積層されている第２の反射膜６は、第１の反射膜２と異なり、半透過性である必要はない。第２の反射膜６の形成材料としては、例えばアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）などが挙げられる。これらのなかでも、好ましいのはアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金である。第２の反射膜６の形成方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。このような第２の反射膜６の厚さは、通常、０．０５〜０．２μｍ、好ましくは０．０８〜０．１２μｍである。
【００３０】
第１の反射膜２上に積層されている第１の保護膜３、及び第２の反射膜６上に積層されている第２の保護膜５は、中間層を積層する前の第１の反射膜２あるいは第２の反射膜６の露出面を保護するためのものであり、反射膜が露出したままの半製品を移送したり保管したりするような場合に有用である。
【００３１】
第１の保護膜３と第２の保護膜５は、第１の反射膜２の場合と同様の理由から、入射した光ビームの少なくとも一部が透過可能でなければならない。そして、第１の反射膜２は、ピット８に担持された第１の情報信号を再生するために再生用ビームの一部を反射する半透過性を有していなければならないのに対して、第１の保護膜３と第２の保護膜５は、むしろ再生用ビームや硬化用紫外線の透過に全く影響を与えないものである方が好ましいので、実質的に１００％の光透過性を有することが好ましい。
【００３２】
第１の保護膜３は第１の反射膜２上に、そして第２の保護膜５は第２の反射膜６上に、それぞれ形成される。これらの保護膜３、５の形成材料としては、例えば、紫外線硬化型樹脂などが挙げられる。これらの保護膜３、５は、液状の紫外線硬化型樹脂を反射膜２、６上にそれぞれスピンコートすることによって塗布形成される。塗布された紫外線硬化型樹脂は、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓでかつ厚さが５〜１０μｍである。粘度が４００ｃｐｓ以上であると貼り合わせ時気泡残りが発生する恐れがある。
【００３３】
中間層４は、厚さが３０〜６０μｍ、より好ましくは５０μｍ程度である光透過性シートからなり、例えば、光透過性のアクリル系粘着剤からなる粘着シート又は光透過性のドライ光硬化性フィルムなどが用いられる。ドライ光硬化性フィルムを用いる場合、未硬化の状態でかつフィルム状の形態で第１の保護膜３と第２の保護膜５の間に接着積層された後、紫外線により硬化されて形成される。このドライ光硬化性フィルムは、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐでかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍであり、かつ紫外線の照射により硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含まないものである。
【００３４】
光透過性シートの厚さが５μｍ未満であると、２つのピット・グルーブの形成面の間の間隔が狭すぎるので、第２の光透過性基板７上の第２のピット・グルーブの形成面にビームを照射して再生を行う際に、第１の光透過性基板１上に形成された第１のピット・グルーブの影響を受けることがある。一方、ドライ光硬化性フィルムを用いる場合にはその厚さが２００μｍを超えると未硬化状態での保存中にフィルムにしわが発生し易くなって取り扱い上不便であり、また、反射膜上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮による応力が過大になることがある。
【００３５】
また、ドライ光硬化性フィルムの室温未硬化状態での粘度が３，５００ポイズ未満であると、ほぼ液状となりフィルム形状が維持されなくなったり、反射膜上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮が過大になるなどの問題を生じることがある。一方、この粘度が４００，０００ポイズを超えると、光ディスクの生産工程において混入した気泡が残存し易くなり、また反射膜あるいは保護膜への密着力が低下して実用に供せなくなることがある。
【００３６】
このようなドライ光硬化性フィルムは、架橋及び／又は重合により高分子量ポリマーに変化する光硬化性樹脂組成物により形成され、そのような光硬化性樹脂組成物としては、例えば光重合型感光性樹脂組成物が挙げられる。
【００３７】
この光重合型感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和モノマー、光重合開始剤及びバインダーポリマーを含有する。
ここで、エチレン性不飽和モノマーとしては、例えばｔ−ブチルアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカメチレングリコールジメタクリレート、１，４−シクロヘキセンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジアクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールメタクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ブタントリオールトリメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレートなどが挙げられる。
【００３８】
例えばこれらのエチレン性不飽和モノマーは一種単独で、あるいは２種以上が組み合わされて用いられる。
光重合型感光性樹脂組成物におけるエチレン性不飽和モノマーの含有率は、通常、５〜９０重量％、好ましくは１５〜５０重量％である。
【００３９】
光重合開始剤としては、例えば９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントレキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、アントラキノンα−スルホン酸のナトリウム塩、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、レテンキノン、７，８，９，１０−テトラヒドロナフタセンキノン等の多核キノン類、ベンゾイン、ピバロイン、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン、フェナジン、オキサジン、ミヒラ−ケトン、ベンゾフェノン、シクロヘキサジエン化合物などが挙げられる。例えばこれらの光重合開始剤とともに増感剤を用いることも好ましい。
【００４０】
例えばこれらの光重合開始剤は一種単独で、あるいは２種以上が組み合わされて用いられる。
光重合型感光性樹脂組成物における光重合開始剤の含有率は、通常、０．５〜３０重量％、好ましくは１〜５重量％である。
【００４１】
バインダーポリマーとしては、例えばポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルアセテート、ポリビニルアセテート／アクリレート、ポリビニルアセテート／メタクリレート、エチレン／ビニルアセテートコポリマー、ポリスチレンポリマーおよびコポリマー、ビニリデンクロリド／アクリロニトリル、ビニリデンクロリド／メタクリレートとビニリデンクロリド／ビニリデンアセテートとのコポリマー、ポリビニルクロリドおよびコポリマー、ブタジエン／アクリロニトリル、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンコポリマー、２−クロロブタジエン−１，３−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレンブロックコポリマー、アクリレート基またはメタクリレート基を含むエポキシド、コポリエステル、ポリアミド、セルロースエステル、セルロースエーテル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリホルムアルデヒドなどが挙げられる。
【００４２】
例えばこれらのバインダーポリマーは、一種単独で、あるいは２種以上が組み合わされて用いられる。
光重合型感光性樹脂組成物におけるバインダーポリマーの含有率は、通常、５〜９０重量％、好ましくは１５〜５０重量％である。
例えばこれらの成分を含有する光重合型感光性樹脂組成物は、ドライ光硬化性フィルムの室温未硬化状態における粘度が前記の範囲を逸脱しない範囲で他の成分、例えば可塑剤、増粘剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、蛍光漂白剤、熱安定剤、剥離剤などを含有していてもよい。
【００４３】
光重合型感光性樹脂組成物におけるこれらの成分の含有率は、可塑剤については、通常、０〜２５重量％、好ましくは５〜１５重量％であり、その他の成分については、通常、０〜５重量％、好ましくは１〜４重量％である。
【００４４】
また、ドライ光硬化性フィルムを形成する光硬化性組成物としては、前記光重合型感光性樹脂組成物の他に、例えば光２量型感光性樹脂組成物、光架橋型感光性樹脂組成物が挙げられる。
【００４５】
上述のように、粘着シート又はドライ光硬化性フィルムからなる中間層は、シート状（フィルム状）の形態で第１の保護膜３と第２の保護膜５の間に接着積層されて形成されたものである。そして、粘着シート又はドライ光硬化性フィルムと保護膜との接着は、この粘着シート又はドライ光硬化性フィルムの粘着力を利用して行われる。
【００４６】
また、粘着シート又は光硬化後のドライ光硬化性フィルムの屈折率は、通常、１．４０〜１．６０であり、第１の光透過性基板１及び第２の光透過性基板７の屈折率との差が０．０５以下であることが好ましい。
【００４７】
図１において、第１の光透過性基板１上のピット８に担持されている第１の情報信号と第２の光透過性基板７上のピット９に担持されている第２の情報信号とは、通常、第１の光透過性基板１側から照射されたレーザ光の反射光により読み取られる。
【００４８】
以上説明したような本発明の光ディスクは、積層された複数のピット・グルーブ層にそれぞれ担持されている情報信号を、第１の光透過性基板側から再生用ビームを照射することによって、読み取り障害を起こすことなく、同時あるいは連続的に再生することが可能である。従って、単位ディスク面積当たりの記録密度を向上させ、再生時間を長くし、さらに、複数のピックアップを使用すればデータ転送レートを高めることもできる。例えば、同一フォーマットで同一の記録密度を有するピット・グルーブ層を１層だけ有する場合に比べて、再生時間又はデータ転送レートが１．５〜２倍になる。また、本発明の光ディスクは、ディスクの片面からだけ再生用ビームを照射すればよいので、第１のピット・グルーブ形成面の再生が終了してから第２のピット・グルーブ形成面を連続的に再生（あるいはその逆の順で再生）したい場合に、人手や再生装置内の機械で光ディスクを裏返したり、再生装置内の機械でピックアップを光ディスクの反対側の面に移動させたりする必要もない。
【００４９】
上記本発明の光ディスクは、以下に説明する方法により効率良く製造される。
図２は、本発明の製造方法の第１の実施形態を示す工程図である。
図２（ａ）に示すように、この方法においては、先ず、片面に第１の情報信号を担持するピット８が形成されている第１の光透過性基板１を準備する。なお第１の光透過性基板１には、ピット８に代えて第１の情報信号を担持するグルーブが形成されていてもよい。第１の情報信号を担持するピット８は、第１の光透過性基板１のピット・グルーブ形成面とは反対側の方向から照射した再生用ビームによって読み取れるように、凹状を有している。
【００５０】
第１の光透過性基板１は、例えば、キャビティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリカーボネートなどの透明性樹脂を射出成形することによって得られる。
【００５１】
次に、図２（ｂ）に示すように、第１の光透過性基板１のピット・グルーブ形成面に、第１の反射膜２（第１工程）、第１の保護膜３（第２工程）を順に形成する。
第１の反射膜２は、入射した光ビームの一部が透過可能であることが必要であり、入射光の３０％程度を反射し、入射光の６０％程度を透過するものが好ましい。半透過性を有する第１の反射膜としては、例えば、一般的な反射膜よりも薄い金属膜を例示することができ、より具体的には、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミニウム（Ａｌ）などからなる厚さ１００〜２００オングストローム程度の金属膜又はシリコンカーバイド、シリコンナイトライド等の誘電体薄膜を例示することができる。第１の反射膜２の形成方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。第２の反射膜６の形成方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。
【００５２】
第１の保護膜３は、入射した光ビームの少なくとも一部が透過可能であることが必要であり、実質的に１００％の光透過性を有することが好ましい。
第１の保護膜３は、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓ の液状の紫外線硬化型樹脂を第１の反射膜２上にスピンコートすることによって塗布形成され、その未硬化状態での厚さが５〜１０μｍである。
【００５３】
なお、第１の保護膜３は、この段階で液状の未硬化状態の層であり、後述する第６工程において、紫外線が照射され硬化する。
【００５４】
上記図２（ａ）〜（ｂ）の工程を経ることによって、第１の光透過性基板１上に、第１の反射膜２と第１の保護膜３が積層された半製品が得られる。一方、図２（ａ）〜（ｂ）の工程と並列的に進められる図２（ｃ）〜（ｄ）の工程を経ることによって、第２の光透過性基板７上に、第２の反射膜６と第２の保護膜５が積層された半製品が得られる。
【００５５】
図２（ｃ）〜（ｄ）の工程図においては、先ず、図２（ｃ）に示すように、片面に第２の情報信号を担持するピット９が形成されている第２の光透過性基板７を準備する。なお、第２の光透過性基板７には、ピット９に代えて第２の情報信号を担持するグルーブが形成されていてもよい。第２の情報信号を担持するピット９は、第２の光透過性基板７のピット・グルーブ形成面側の方向から照射した再生用ビームによって読み取れるように形成されている。
【００５６】
第２の光透過性基板７は、第１の光透過性基板１と同様に、例えば、キャビティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリカーボネートなどの透明性樹脂を射出成形することによって得られる。
【００５７】
次に、図２（ｄ）に示すように、第２の光透過性基板７のピット・グルーブ形成面に、第２の反射膜６、第２の保護膜５を順に形成する。
第２の反射膜６は、第１の反射膜２と異なり、半透過性である必要はない。
【００５８】
第２の反射膜６の形成材料としては、例えばアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）などが挙げられる。これらのなかでも、好ましいのはアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金である。第２の反射膜６の形成方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。このような第２の反射膜６の厚さは、通常、０．０５〜０．２μｍ、好ましくは０．０８〜０．１２μｍである。
【００５９】
第２の保護膜５は、第１の保護膜３と同様に、入射した光ビームの少なくとも一部が透過可能であることが必要であり、実質的に１００％の光透過性を有することが好ましい。そして、この第２の保護膜５は、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂を第２の反射膜６上にスピンコートすることによって未硬化状態での厚さが５〜１０μｍとなるように塗布形成された後、さらに紫外線を照射し硬化させた状態としている。
【００６０】
次に、図２（ｅ）に示すように、図２（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを、保護膜３、５同士が対向する状態下で位置合わせし、さらに両積層体の間に、光透過性シート４ａを配置する。
【００６１】
ここで、使用に供される光透過性シート４ａは、光透過性のアクリル系粘着剤からなる粘着シート又は光透過性のドライ光硬化性フィルムからなり、厚さが３０〜６０μｍである。ドライ光硬化性フィルムは、未硬化のものであり、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐであり、好ましくは２０，０００〜４００，０００ポイズであり、かつ紫外線の照射により硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含まないものである。
【００６２】
ドライ光硬化性フィルムの室温未硬化状態での粘度が３，５００ポイズ未満であると、ほぼ液状となりフィルム形状が維持されなくなったり、反射膜上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮が過大になるなどの問題を生じることがある。一方、この粘度が４００，０００ポイズを超えると、光ディスクの生産工程において混入した気泡が残存し易くなり、また反射膜あるいは保護膜への密着力が低下して実用に供せなくなることがある。
【００６３】
また、光透過性シートの厚さは３０〜６０μｍ、より好ましくは５０μｍである。光透過性シートの厚さが５μｍ未満であると、２つのピット・グルーブの形成面の間の間隔が狭すぎるので、第２の光透過性基板７上の第２ピット・グルーブの形成面にビームを照射して再生を行う際に、第１の光透過性基板１上に形成された第１のピット・グルーブの影響を受けることがある。一方、ドライ光硬化性フィルムを用いた場合その厚さが２００μｍを超えると、そのようなドライ光硬化性フィルムは未硬化状態での保存中にフィルムにしわが発生し易くなって取り扱い上不便であり、また、反射膜上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮による応力が過大になることがある。
【００６４】
光透過性シート４ａの供給方法としては、例えば、図２（ｅ）に示すように、フィルム供給ロール１１からフィルムを連続的に送り出す方法を例示することができる。図２（ｅ）において、光透過性シート４ａは、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなるベースフィルム４ｂと例えばポリエチレン（ＰＥ）フィルムからなるカバーフィルム４ｃとの積層体の形態でフィルム供給ロール１１に巻き付けられている。この光透過性シート４ａは、フィルム供給ロール１１から引き出される。次いで、該フィルムの両面は、例えばベースフィルム巻き取りロール１５でベースフィルム４ｂが巻き取られかつカバーフィルム巻き取りロール１４でカバーフィルム４ｃが巻き取られることによって露出する。そして、両面が露出した光透過性シート４ａは、一面側においては保護膜３と対向し、他面側においては保護膜５と対向する状態で２つの積層体の間に配置される。
【００６５】
次に、図２（ｆ）に示すように、図２（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを、光透過性シート４ａを介して重ね合わせた後、加圧することによって圧着する（第５工程）。
【００６６】
加圧方法は特に限定しないが、ロール加圧法、真空中での加圧法等がある。一例としてロール加圧法を示す。図２（ｆ）においてはオーバーロール３１とアンダーロール３２によって加圧するロール加圧法を採用している。ロール加圧法による場合には、室温下で加圧し、加圧力は、通常、０．５〜５０ｋｇ／ｃｍ２ 、好ましくは５〜２０ｋｇ／ｃｍ２ とする。また、オーバーロール３１とアンダーロール３２とによる送り速度は、通常、０．０５〜１０ｍ／分、好ましくは０．１〜２ｍ／分とする。ロール加圧法による場合には、２つの半製品である積層体を貼り合わせている光透過性シート４ａは、その一端側から他端側に向かって２つの加圧ロール３１、３２で送られながら加圧されていくので、光透過性シート４ａの内部に混入することのある気泡は、該シート４ａの一端側から他端側に向かって絞り込まれていき、最後には他端側から脱泡する。従って、この加圧法によれば中間層内部の気泡をさらに少なくすることができる。
【００６７】
このようにして２つの半製品である積層体を貼り合わせた後、さらにカッター２０によって外周部やセンターホール部に存在しているシートの不要部分を除去する。
【００６８】
なお、上記図２（ｅ）〜（ｆ）においては、２つの積層体の保護膜面側同士を対向させた間に光透過性シートを配置して挟み込むという手順を踏んでいるが、貼り合わせ工程を一段工程とする必要はない。例えば、一方の積層体の紫外線硬化させた保護膜面側に光透過性シートを積層した後、該光透過性シートの露出面を他方の積層体の未硬化状態の保護膜面側に積層し、さらに加圧することによって両積層体を貼り合わせてもよい。また、一方の積層体の紫外線硬化させた保護膜面側に光透過性シートを積層した後、該光透過性シートの露出面を他方の積層体の液状の紫外線硬化型樹脂が塗布された反射膜上に重ね合せた後、２枚の積層体の中心孔を中心に回転させながら、保護膜を構成する液状の紫外線硬化型樹脂を光透過性シートと反射膜間に充填させるようにしても良い。
【００６９】
その後、図２（ｇ）に示すように、光ディスク形状の積層体に、加圧状態下で第１の光透過性基板１を介して紫外線（ＵＶ）を照射することによって未硬化状態の第１の保護膜（及び光透過性シートとしてドライ光硬化性フィルムを用いた場合には未硬化状態のドライ光硬化性フィルム４ａ）が硬化し（第６工程）、本発明の光ディスクが完成する。尚、紫外線（ＵＶ）を照射する際、光ディスク形状の積層体を回転させるようにしてもよい。加圧状態下でフィルムを硬化させるのは、図２（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを強固に貼り合わせるためである。紫外線照射段階での加圧力は、通常、２つの半製品である積層体の間に光透過性シートを積層・圧着する段階での加圧力と同程度とする。
【００７０】
図２（ｇ）段階における光ディスク形状の積層体は、第１の光透過性基板１側の第１の反射膜２と第１の保護膜３とが少なくとも半透過性を有している。従って、光透過性シート４ａとしてドライ光硬化性フィルムを用いる場合光ディスク形状の積層体の内部に存在する未硬化状態のドライ光硬化性フィルムは、該積層体の第１の光透過性基板１側から紫外線を照射することによって硬化させることができる。この硬化に要する紫外線の照射エネルギーは、通常、１００ｍＪ／ｃｍ２ 以上であり、好ましくは１，０００ｍＪ／ｃｍ２ 程度である。
【００７１】
図３は、本発明の製造方法の第２の実施形態を示す工程図である。
この方法においては、先ず、キャビティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリカーボネートなどの透明性樹脂を射出成形することによって、片面に第１の情報信号を担持するピット８が形成されている第１の光透過性基板１及び片面に第２の情報信号を担持するピット８が形成されている第２の光透過性基板７を準備する。
【００７２】
次に、図３（ａ）に示すように、第１の光透過性基板１のピット８が形成された情報記録面上に図２の場合と同様に半透過性の第１の反射膜２を形成する。ここで、第１の反射膜２は、内周及び外周非記録部を除いてスパッタリング法などにより、形成される。次に、図３（ｂ）に示すように、第１の反射膜２上に、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂をスピンコートすることにより、未硬化状態の第１の保護膜３を塗布形成する。この図３（ａ）〜（ｂ）の工程を経ることによって、第１の光透過性基板１上に、第１の反射膜２と第１の保護膜３が積層された半製品が得られる。
【００７３】
一方、図３（ａ）〜（ｂ）の工程と並列的に進められる図３（ｃ）〜（ｅ）の工程を経ることによって、第２の光透過性基板７上に、第２の反射膜６、第２の保護膜５及び光透過性シート４ａが積層された半製品が得られる。すなわち、図３（ｃ）に示すように、第２の光透過性基板７のピット８が形成された情報記録面上に内周及び外周非記録部を除いてスパッタリング法により、全反射性の第２の反射膜６を形成する。次に、図３（ｄ）に示すように、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂を第２の反射膜６上にスピンコートすることによって未硬化状態での厚さが５〜１０μｍとなるように塗布形成された後、さらに紫外線を照射し硬化させて、第２の保護膜５を形成する。次に、図３（ｅ）に示すように、第２の保護膜６上に、光透過性シート４ａをロールラミネート法により積層形成する。
【００７４】
ここで、光透過性シート４ａは、光透過性のアクリル系粘着剤からなる粘着シート又は光透過性の未硬化状態のドライ光硬化性フィルムからなり、厚さが３０〜６０μｍである。ドライ光硬化性フィルムは、未硬化のものであり、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐであり、好ましくは２０，０００〜４００，０００ポイズであり、かつ紫外線の照射により硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含まないものである。
【００７５】
次に、図３（ｆ）に示すように、第１の反射膜２、未硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第１の保護膜３が積層形成された第１の光透過性基板１と、第２の反射膜６、硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第２の保護膜５、光透過性シート４ａが積層形成された第２の光透過性基板７とを、第１の光透過性基板１を下にして保護膜３と光透過性シート４ａとが対向して少し離間するようにチャンバー４０内に配置し、チャンバー４０内を減圧する。
【００７６】
次に、図３（ｇ）に示すように、チャンバー４０内が所定圧力に減圧された後、未硬化状態の紫外線硬化型樹脂がはみ出さない程度の圧力で第１及び第２の光透過性基板１、７を重ね合わせて仮に貼り合せる。
【００７７】
次に、図３（ｈ）に示すように、チャンバー４０内をリーク後、所定の圧力で第１及び第２の光透過性基板１、７を重ね合わせて仮に貼り合せている状態で、第１の光透過性基板１側から紫外線を照射して未硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる保護膜３を硬化させる。チャンバー４０内のリークにより、貼り合わせ時生じる気泡は大気圧と減圧空間との圧力差によって光学的影響が無視できる程度につぶれる。尚、光透過性シート４ａとして光透過性のドライ光硬化性フィルムを用いた場合には、紫外線照射時、保護膜３及びドライ光硬化性フィルムが同時に硬化することになる。
【００７８】
図４は、本発明の製造方法の第３の実施形態を示す工程図である。
この方法においては、先ず、キャビティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリカーボネートなどの透明性樹脂を射出成形することによって、片面に第１の情報信号を担持するピット８が形成されている第１の光透過性基板１及び片面に第２の情報信号を担持するピット８が形成されている第２の光透過性基板７を準備する。
【００７９】
次に、図４（ａ）に示すように、第１の光透過性基板１のピット８が形成された情報記録面上に図２の場合と同様に半透過性の第１の反射膜２を形成する。ここで、第１の反射膜２は、内周及び外周非記録部を除いてスパッタリング法などにより、形成される。次に、図４（ｂ）に示すように、第１の反射膜２上に、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂をスピンコートすることにより、未硬化状態の第１の保護膜３を塗布形成する。さらに、図４（ｃ）に示すように、外周非記録領域に対応する位置にマスクを配し、マスク４１を介して紫外線を照射し、外周非記録領域を除く領域の紫外線硬化型樹脂を硬化する一方外周非記録領域に対応する領域の紫外線硬化型樹脂を未硬化状態のままとする。この図４（ａ）〜（ｃ）の工程を経ることによって、第１の光透過性基板１上に、第１の反射膜２と第１の保護膜３が積層された半製品が得られる。
【００８０】
一方、図４（ａ）〜（ｃ）の工程と並列的に進められる図４（ｄ）〜（ｆ）の工程を経ることによって、第２の光透過性基板７上に、第２の反射膜６、第２の保護膜５及び光透過性シート４ａが積層された半製品が得られる。すなわち、図４（ｄ）に示すように、第２の光透過性基板７のピット８が形成された情報記録面上に図２の場合と同様に全反射性の第２の反射膜６を形成する。次に、図４（ｅ）に示すように、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓのの液状の紫外線硬化型樹脂を第２の反射膜６上にスピンコートすることによって未硬化状態での厚さが５〜１０μｍとなるように塗布形成された後、さらに紫外線を照射し硬化させて、第２の保護膜５を形成する。次に、図４（ｆ）に示すように、第２の保護膜６上に、光透過性シート４ａをロールラミネート法により積層形成する。
【００８１】
ここで、光透過性シート４ａは、光透過性のアクリル系粘着剤からなる粘着シート又は光透過性のドライ光硬化性フィルムからなり、厚さが３０〜６０μｍである。ドライ光硬化性フィルムは、未硬化のものであり、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐであり、好ましくは２０，０００〜４００，０００ポイズであり、かつ紫外線の照射により硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含まないものである。
【００８２】
次に、図４（ｇ）に示すように、第１の反射膜２、外周非記録領域のみ未硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる保護膜３が積層形成された第１の光透過性基板１と、第２の反射膜６、硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第２の保護膜５、光透過性シート４ａが積層形成された第２の光透過性基板７とを、第１の光透過性基板１を下にして保護膜３と光透過性シート４ａとが対向して少し離間するようにチャンバー４０内に配置し、チャンバー４０内を減圧する。チャンバー４０内が所定圧力に減圧された後、未硬化状態の紫外線硬化型樹脂がはみ出さない程度の圧力で第１及び第２の光透過性基板１、７を重ね合わせて仮に貼り合せる。
【００８３】
次に、図４（ｈ）に示すように、チャンバー４０内をリーク後、所定の圧力で第１及び第２の光透過性基板１、７を重ね合わせて仮に貼り合せている状態で、高圧エアーによりプレスする。この際、第１及び第２の光透過性基板１、７の外周エッジのもり上がり部による気泡残りの問題は、液状の紫外線硬化型樹脂の流動性によって解消される。
【００８４】
次に、図４（ｉ）に示すように、第１の光透過性基板１側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂からなる保護膜３の未硬化部分を硬化させる。尚、光透過性シート４ａとして光透過性シート４ａとして光透過性のドライ光硬化性フィルムを用いた場合には、紫外線照射時、保護膜３の未硬化部分６及びドライ光硬化性フィルムが同時に硬化することになる。
【００８５】
上述の第１乃至第３の実施形態においては、第２の保護膜５を設けたが、これを省略しても良い。また、第１の光透過性基板の半透過性の第１の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂からなる未硬化状態の第１の保護膜を形成し、第２の光透過性基板の第２の反射膜上に硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第２の保護膜を形成し、保護膜を対向させ光透過性シートを介して貼り合せる構成を例示したが、これに限らず第１の光透過性基板の半透過性の第１の反射膜上に硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第１の保護膜を形成し、第２の光透過性基板の第２の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂からなる未硬化状態の第２の保護膜を形成し、保護膜を対向させ光透過性シートを介して貼り合せる構成としても良い。この場合、第１及び第２の光透過性基板を重ねて貼り合せる前に、光透過性シートを硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第１の保護膜上に積層しておいても良い。
【００８６】
【発明の効果】
本発明による貼り合わせ型光ディスクの製造方法では、第１又は第２の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を塗布して未硬化状態の保護膜を形成し、第１及び第２の光透過性基板の間に光透過性シートをはさみ、保護膜と光透過性シートとを対向させ、貼り合せるようにしたので、第１及び第２の反射膜に不要な応力を発生させず、ひび割れなどの欠陥の発生を防ぎ、均一な中間層を得ることができる。
【００８７】
また、塗布される紫外線硬化型樹脂は、室温未硬化状態での粘度を１５〜４００ｃｐｓでかつ未硬化状態での厚さを５〜１０μｍと比較的薄くしたので、ディスクの厚さ構成への影響も少なく、安定した貼り合わせ型光ディスクの製造が可能となる。
【００８８】
また、中間層（光透過性シート）として、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐでかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍのドライ光硬化性フィルム又は厚さが３０〜６０μｍのアクリル系粘着剤からなる粘着シートを用いることにより、ディスクの厚さ構成への影響を少なくすることが可能となる。
【００８９】
また、中間層（光透過性シート）として、厚さが３０〜６０μｍである粘着シートを用いることにより、デイスクの変形を防止することが可能となる。
【００９０】
また、半透過の第１の反射膜は、金薄膜又は誘電体薄膜からなるようにしたので、第１の反射膜の半透過性を満足し、光ディスクの片面側から第１及び第２の各反射膜が担持する情報信号を安定に読み取ることが可能となる。
【００９１】
また、加圧貼り合せ工程を減圧空間内で行うようにしたので紫外線硬化型樹脂への気泡の混入を防止することができ、気泡による外観不良や貼り合せ時の接着不良が防止できる。
【００９２】
また、加圧貼り合せ工程の前に、第１及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に形成された未硬化状態の保護膜の外周縁部を除く領域に紫外線を照射して硬化させ、外周縁部のみを未硬化状態とし、加圧貼り合せ工程において高圧プレスすることにより、外周縁部の気泡残りを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ディスクの積層構造の一例を示す説明図である。
【図２】本発明の第１実施形態による光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の第２実施形態による光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図４】本発明の第３実施形態による光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１ ・・・・・ 第１の光透過性基板
２ ・・・・・ 第１の反射膜
３ ・・・・・ 第１の保護膜
４ ・・・・・ 中間層
４ａ ・・・・・光透過性シート
５ ・・・・・ 第２の保護膜
６ ・・・・・ 第２の反射膜
７ ・・・・・ 第２の光透過性基板
８ ・・・・・ 第１の情報信号を担持するピット
９ ・・・・・ 第２の情報信号を担持するピット
１１ ・・・・・ フィルム供給ロール
２０ ・・・・・ カッター
３１、３２ ・・・・・ 加圧ロール

Claims (1)

1. 片面に第１の情報記録面を有する第１の光透過性基板の前記第１の情報記録面上に、入射光の一部を反射し一部を透過する半透過の第１の反射膜を形成する工程と、
   片面に第２の情報記録面を有する第２の光透過性基板の前記第２の情報記録面上に、前記第１の反射膜より高い反射率を有する第２の反射膜を形成する工程と、
   前記第１及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を塗布して未硬化状態の保護膜を形成する工程と、
   前記第１の光透過性基板と前記第２の光透過性基板の間に光透過性シートをはさみ、前記保護膜と前記光透過性シートとを対向させ、加圧して貼り合わせる工程と、
   前記第１の光透過性基板側から紫外線を照射して前記保護膜を硬化させる工程とを有し、
   前記加圧貼り合せ工程の前に、前記第１及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に形成された未硬化状態の保護膜の外周縁部を除く領域に紫外線を照射して硬化させる工程を有するとともに前記加圧貼り合せ工程において高圧プレスすることを特徴とする貼り合わせ型光ディスクの製造方法。

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