JPH10275368A - 貼り合わせ型光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 信頼性の向上した一方の基板側からレーザビ
ームを照射して両方の情報記録面を再生することができ
るタイプの貼り合わせ型光ディスクを効率良く製造でき
る方法を提供することを目的としている。 【解決手段】貼り合わせ型光ディスクの製造方法であっ
て、片面に第１の情報記録面を有する第１の光透過性基
板の第１の情報記録面上に、入射光の一部を反射し一部
を透過する半透過の第１の反射膜を形成する工程と、片
面に第２の情報記録面を有する第２の光透過性基板の第
２の情報記録面上に、第１の反射膜より高い反射率を有
する第２の反射膜を形成する工程と、第１及び第２の光
透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に液状の紫外線
硬化型樹脂を塗布して未硬化状態の保護膜を形成する工
程と、第１の光透過性基板と第２の光透過性基板の間に
光透過性シートをはさみ、保護膜と光透過性シートとを
対向させ、加圧して貼り合わせる工程と、第１の光透過
性基板側から紫外線を照射して保護膜を硬化させる工程
とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、貼り合わせ型光デ
ィスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光学式ビデオディスクなどの貼り
合わせ型光ディスクは、第１の情報記録面を有する第１
の基板と、第２の情報記録面を有する第２の基板とをホ
ットメルト型粘着剤などを用いて貼り合わせたものであ
り、第１の情報記録面の情報信号は第１の基板を介して
レーザビームを照射して読み取り、第２の情報記録面の
情報信号は第２の基板を介してレーザビームを照射して
読み取っていた。そして、一方の情報記録面を読み取っ
た後他方の情報記録面を読み取る場合、ディスクを裏返
すか、あるいは光学ヘッドを他方の情報記録面側に移動
させていた。

【０００３】そこで、一方の情報記録面（反射膜）を入
射するレーザビームに対して一部を反射し、一部を透過
する半透過性としかつ情報記録面間の接着剤層（中間
層）を光透過性として、一方の基板側からレーザビーム
を照射して両方の情報記録面を再生することができるタ
イプの貼り合わせ型光ディスクが提案されている。

【０００４】このようなタイプの貼り合わせ型光ディス
クを製造するに際して、接着剤層に液状の紫外線硬化型
樹脂を用いるか、あるいは光透過性シートを用いること
が考えられている。前者の場合、接着剤層に気泡が混入
しやすく、接着剤層の厚さを均一にすることが難しく、
また、後者の場合、接着剤層の厚さを均一にすることは
容易であるが基板と半透過性の反射膜の間に異物が存在
すると反射膜に応力がかかりひび割れなどの欠陥が生じ
ることを見いだした。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる事情
に基づいてなされたものであり、信頼性の向上した一方
の基板側からレーザビームを照射して両方の情報記録面
を再生することができるタイプの貼り合わせ型光ディス
クを効率良く製造できる方法を提供することを目的とし
ている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明による請求項１に
記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法は、片面に第
１の情報記録面を有する第１の光透過性基板の第１の情
報記録面上に、入射光の一部を反射し一部を透過する半
透過の第１の反射膜を形成する工程と、片面に第２の情
報記録面を有する第２の光透過性基板の第２の情報記録
面上に、第１の反射膜より高い反射率を有する第２の反
射膜を形成する工程と、第１及び第２の光透過性基板の
内の一方の基板の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を
塗布して未硬化状態の保護膜を形成する工程と、第１の
光透過性基板と第２の光透過性基板の間に光透過性シー
トをはさみ、保護膜と光透過性シートとを対向させ、加
圧して貼り合わせる工程と、第１の光透過性基板側から
紫外線を照射して保護膜を硬化させる工程とを有する。

【０００７】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法であって、加
圧貼り合せ工程の前に、第１及び第２の光透過性基板の
内の他方の基板の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を
塗布し、紫外線を照射して硬化させた保護膜を形成する
工程を有することを特徴とする。また、請求項３に記載
の発明は、請求項１又は２に記載の貼り合わせ型光ディ
スクの製造方法であって、紫外線硬化型樹脂は、室温未
硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ（センチポイ
ズ）でかつ保護膜の未硬化状態での厚さが５〜１０μｍ
であることを特徴とする。

【０００８】また、請求項４に記載の発明は、請求項１
記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法であって、加
圧貼り合せ工程の前に、光透過性シートを第１及び第２
の光透過性基板の内の他方の基板の反射膜上に積層する
工程を有することを特徴とする。また、請求項５に記載
の発明は、請求項２記載の貼り合わせ型光ディスクの製
造方法であって、加圧貼り合せ工程の前に、光透過性シ
ートを第１及び第２の光透過性基板の内の他方の基板の
硬化させた保護膜上に積層する工程を有することを特徴
とする。

【０００９】また、請求項６に記載の発明は、請求項１
乃至５のいずれかに記載の貼り合わせ型光ディスクの製
造方法であって、光透過性シートとして、室温未硬化状
態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐ（ポイズ）
でかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍであるドラ
イ光硬化性フィルムを用いることを特徴とする。また、
請求項７に記載の発明は、請求項６記載の貼り合わせ型
光ディスクの製造方法であって、第１の光透過性基板側
から紫外線を照射する工程において光透過性シートを構
成するドライ光硬化性フィルムをも硬化させることを特
徴とする。

【００１０】また、請求項８に記載の発明は、請求項１
乃至５のいずれかに記載の貼り合わせ型光ディスクの製
造方法であって、光透過性シートとして、厚さが３０〜
６０μｍである粘着シートを用いることを特徴とする。

【００１１】また、請求項９に記載の発明は、請求項１
乃至８のいずれかに記載の貼り合わせ型光ディスクの製
造方法であって、半透過の第１の反射膜は、金薄膜又は
誘電体薄膜からなることを特徴とする。

【００１２】また、請求項１０に記載の発明は、請求項
１記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法であって、
加圧貼り合せ工程は減圧空間内で行われることを特徴と
する。

【００１３】また、請求項１１に記載の発明は、請求項
１記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法であって、
加圧貼り合せ工程の前に、第１及び第２の光透過性基板
の内の一方の基板の反射膜上に形成された未硬化状態の
保護膜の外周縁部を除く領域に紫外線を照射して硬化さ
せる工程を有するとともに加圧貼り合せ工程において高
圧プレスすることを特徴とする。

【００１４】

【作用】本発明による貼り合わせ型光ディスクの製造方
法では、第１又は第２の反射膜上に液状の紫外線硬化型
樹脂を塗布して未硬化状態の保護膜を形成し、第１及び
第２の光透過性基板の間に光透過性シートをはさみ、保
護膜と光透過性シートとを対向させ、貼り合せるように
したので第１及び第２の反射膜に不要な応力を発生させ
ず、均一な中間層を得ることができる。

【００１５】また、塗布される紫外線硬化型樹脂は、室
温未硬化状態での粘度を１５〜４００ｃｐｓでかつ保護
膜の未硬化状態での厚さを５〜１０μｍとしたので、デ
ィスクの厚さ構成への影響を少なくすることが可能とな
る。

【００１６】また、中間層（光透過性シート）として、
室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００
Ｐでかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍのドライ
光硬化性フィルム又は厚さが３０〜６０μｍのアクリル
系粘着剤からなる粘着シートを用いることにより、ディ
スクの厚さ構成への影響を少なくすることが可能とな
る。

【００１７】また、中間層（光透過性シート）として、
厚さが３０〜６０μｍである粘着シートを用いることに
より、デイスクの変形を防止することが可能となる。

【００１８】また、半透過の第１の反射膜は、金薄膜又
は又は誘電体薄膜からなるようにしたので、安定した貼
り合わせ型光ディスクの製造が可能となる。

【００１９】また、加圧貼り合せ工程を減圧空間内で行
うようにしたので紫外線硬化型樹脂への気泡の混入を防
止することができ、気泡による外観不良や貼り合せ時の
接着不良が防止できる。

【００２０】また、加圧貼り合せ工程の前に、第１及び
第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に形成
された未硬化状態の保護膜の外周縁部を除く領域に紫外
線を照射して硬化させ、外周縁部のみを未硬化状態と
し、加圧貼り合せ工程において高圧プレスすることによ
り、外周縁部の気泡残りを防止することができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１は本発明の光ディスク
の積層構造の一例を示す説明図である。

【００２２】図１に示すように、この光ディスクは、第
１の光透過性基板１側から第２の光透過性基板７側に向
かって、順次、第１の光透過性基板１、第１の反射膜
２、第１の保護膜３、中間層４、第２の保護膜５、第２
の反射膜６、第２の光透過性基板７が積層された構造を
有している。そして、第１の光透過性基板の第１の反射
膜２側表面、及び第２の光透過性基板の第２の反射膜６
側表面には、それぞれ第１の情報信号を担持する第１の
ピット８、及び第２の情報信号を担持する第２のピット
９が形成されており、これらのピット８、ピット９は、
いずれも第１の光透過性基板１側から照射した再生用ビ
ームによって読み取ることができる形状を有している。

【００２３】第１の光透過性基板１及び第２の光透過性
基板７の形成材料は、光透過性を有しているものであれ
ばよく、例えばポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）などの樹脂、光学ガラスな
どの透明材料が挙げられる。各種透明材料のなかでも、
ポリカーボネートは、耐環境性に優れ、また寸法安定性
にも優れていることから好適に用いられる。

【００２４】これらの光透過性基板１、７は、その形成
材料が樹脂である場合には、例えばキャビティ内にスタ
ンパーが配置された金型を用いる射出成形により一体的
に形成され、同時に表面のピットも形成される。

【００２５】光透過性基板の形状及び大きさは、この光
ディスクの用途に応じて適宜に決定すればよい。例えば
近年話題となっているデジタルビデオディスク（ＤＶ
Ｄ）の場合、各光透過性基板１、７は、それぞれ、直径
１２０ｍｍ程度で中心部に直径１５ｍｍ程度のセンター
ホールを有する円盤状であり、その厚さは、０．６ｍｍ
程度である。

【００２６】第１の光透過性基板１及び第２の光透過性
基板７に形成されているピット８、９の深さは、通常、
０．０２〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．３μｍで
ある。この深さが０．０２μｍ未満であると、情報の読
み出しが正確に行えないことがある。一方、１μｍより
も深くしても、それに相当する効果は奏されない。

【００２７】本発明においては、再生時に第１の光透過
性基板１側から照射した再生用ビームが第２のピット９
にまで到達する必要があるので第１の光透過性基板１上
に積層されている第１の反射膜２は、入射した光ビーム
の一部を透過し一部を反射する半透過膜となっている。
従って、光ディスクの製造時に半透過膜である第１の反
射膜２を通して第１の反射膜２と第２の反射膜６の間に
挟まれた未硬化の中間層用材料に紫外線を到達させて該
中間層用材料を硬化させることができる。

【００２８】半透過性を有する第１の反射膜としては、
例えば、一般的な反射膜よりも薄い金属膜を例示するこ
とができ、より具体的には、金属膜を例示することがで
き、より具体的には、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ニッケ
ル（Ｎｉ）、アルミニウム（Ａｌ）などからなる厚さ１
００〜２００オングストローム程度の金薄膜又はシリコ
ンカーバイド、シリコンナイトライド等の誘電体薄膜を
例示することができる。第１の反射膜２の形成方法とし
ては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプ
レーティング法などが挙げられる。

【００２９】一方、第２の光透過性基板７上に積層され
ている第２の反射膜６は、第１の反射膜２と異なり、半
透過性である必要はない。第２の反射膜６の形成材料と
しては、例えばアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム
（Ａｌ）合金、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）な
どが挙げられる。これらのなかでも、好ましいのはアル
ミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金である。
第２の反射膜６の形成方法としては、例えばスパッタリ
ング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙
げられる。このような第２の反射膜６の厚さは、通常、
０．０５〜０．２μｍ、好ましくは０．０８〜０．１２
μｍである。

【００３０】第１の反射膜２上に積層されている第１の
保護膜３、及び第２の反射膜６上に積層されている第２
の保護膜５は、中間層を積層する前の第１の反射膜２あ
るいは第２の反射膜６の露出面を保護するためのもので
あり、反射膜が露出したままの半製品を移送したり保管
したりするような場合に有用である。

【００３１】第１の保護膜３と第２の保護膜５は、第１
の反射膜２の場合と同様の理由から、入射した光ビーム
の少なくとも一部が透過可能でなければならない。そし
て、第１の反射膜２は、ピット８に担持された第１の情
報信号を再生するために再生用ビームの一部を反射する
半透過性を有していなければならないのに対して、第１
の保護膜３と第２の保護膜５は、むしろ再生用ビームや
硬化用紫外線の透過に全く影響を与えないものである方
が好ましいので、実質的に１００％の光透過性を有する
ことが好ましい。

【００３２】第１の保護膜３は第１の反射膜２上に、そ
して第２の保護膜５は第２の反射膜６上に、それぞれ形
成される。これらの保護膜３、５の形成材料としては、
例えば、紫外線硬化型樹脂などが挙げられる。これらの
保護膜３、５は、液状の紫外線硬化型樹脂を反射膜２、
６上にそれぞれスピンコートすることによって塗布形成
される。塗布された紫外線硬化型樹脂は、室温未硬化状
態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５
０ｃｐｓでかつ厚さが５〜１０μｍである。粘度が４０
０ｃｐｓ以上であると貼り合わせ時気泡残りが発生する
恐れがある。

【００３３】中間層４は、厚さが３０〜６０μｍ、より
好ましくは５０μｍ程度である光透過性シートからな
り、例えば、光透過性のアクリル系粘着剤からなる粘着
シート又は光透過性のドライ光硬化性フィルムなどが用
いられる。ドライ光硬化性フィルムを用いる場合、未硬
化の状態でかつフィルム状の形態で第１の保護膜３と第
２の保護膜５の間に接着積層された後、紫外線により硬
化されて形成される。このドライ光硬化性フィルムは、
室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００
Ｐでかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍであり、
かつ紫外線の照射により硬化する性質を有し、実質的に
溶剤を含まないものである。

【００３４】光透過性シートの厚さが５μｍ未満である
と、２つのピット・グルーブの形成面の間の間隔が狭す
ぎるので、第２の光透過性基板７上の第２のピット・グ
ルーブの形成面にビームを照射して再生を行う際に、第
１の光透過性基板１上に形成された第１のピット・グル
ーブの影響を受けることがある。一方、ドライ光硬化性
フィルムを用いる場合にはその厚さが２００μｍを超え
ると未硬化状態での保存中にフィルムにしわが発生し易
くなって取り扱い上不便であり、また、反射膜上あるい
は保護膜上に接着積層された後の硬化収縮による応力が
過大になることがある。

【００３５】また、ドライ光硬化性フィルムの室温未硬
化状態での粘度が３，５００ポイズ未満であると、ほぼ
液状となりフィルム形状が維持されなくなったり、反射
膜上あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮が
過大になるなどの問題を生じることがある。一方、この
粘度が４００，０００ポイズを超えると、光ディスクの
生産工程において混入した気泡が残存し易くなり、また
反射膜あるいは保護膜への密着力が低下して実用に供せ
なくなることがある。

【００３６】このようなドライ光硬化性フィルムは、架
橋及び／又は重合により高分子量ポリマーに変化する光
硬化性樹脂組成物により形成され、そのような光硬化性
樹脂組成物としては、例えば光重合型感光性樹脂組成物
が挙げられる。

【００３７】この光重合型感光性樹脂組成物は、エチレ
ン性不飽和モノマー、光重合開始剤及びバインダーポリ
マーを含有する。ここで、エチレン性不飽和モノマーと
しては、例えばｔ−ブチルアクリレート、１，５−ペン
タンジオールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ
エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、１，３−プロパンジオー
ルジアクリレート、デカメチレングリコールジアクリレ
ート、デカメチレングリコールジメタクリレート、１，
４−シクロヘキセンジオールジアクリレート、２，２−
ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジ
アクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールトリアクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリア
クリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）−プロパンジアクリレート、２，２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレ
ート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル
−２，２−ジ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパン
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリ
レート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパント
リアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、ブチレングリコールジメタクリレート、１，３−プ
ロパンジオールメタクリレート、１，２，４−ブタント
リオールトリメタクリレート、２，２，４−トリメチル
−１，３−ペンタンジオールジメタクリレート、ペンタ
エリトリトールテトラメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ブタントリオールトリメ
タクリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレ
ートなどが挙げられる。

【００３８】例えばこれらのエチレン性不飽和モノマー
は一種単独で、あるいは２種以上が組み合わされて用い
られる。光重合型感光性樹脂組成物におけるエチレン性
不飽和モノマーの含有率は、通常、５〜９０重量％、好
ましくは１５〜５０重量％である。

【００３９】光重合開始剤としては、例えば９，１０−
アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロ
ロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エ
チルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、
オクタメチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、
９，１０−フェナントレキノン、１，２−ベンズアント
ラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−メチル
−１，４−ナフトキノン、２，３−ベンズアントラキノ
ン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジク
ロロナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、
２，３−ジクロロナフトキノン、１，４−ジメチルアン
トラキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、１，４−
ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキ
ノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、２−フェニ
ルアントラキノン、アントラキノンα−スルホン酸のナ
トリウム塩、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、
レテンキノン、７，８，９，１０−テトラヒドロナフタ
センキノン等の多核キノン類、ベンゾイン、ピバロイ
ン、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシ
ロイン、フェナジン、オキサジン、ミヒラ−ケトン、ベ
ンゾフェノン、シクロヘキサジエン化合物などが挙げら
れる。例えばこれらの光重合開始剤とともに増感剤を用
いることも好ましい。

【００４０】例えばこれらの光重合開始剤は一種単独
で、あるいは２種以上が組み合わされて用いられる。光
重合型感光性樹脂組成物における光重合開始剤の含有率
は、通常、０．５〜３０重量％、好ましくは１〜５重量
％である。

【００４１】バインダーポリマーとしては、例えばポリ
メチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポ
リビニルアセテート、ポリビニルアセテート／アクリレ
ート、ポリビニルアセテート／メタクリレート、エチレ
ン／ビニルアセテートコポリマー、ポリスチレンポリマ
ーおよびコポリマー、ビニリデンクロリド／アクリロニ
トリル、ビニリデンクロリド／メタクリレートとビニリ
デンクロリド／ビニリデンアセテートとのコポリマー、
ポリビニルクロリドおよびコポリマー、ブタジエン／ア
クリロニトリル、アクリロニトリル／ブタジエン／スチ
レン、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジエン
／スチレンコポリマー、２−クロロブタジエン−１，３
−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン／ブタジエン／スチ
レン、スチレン／イソプレン／スチレンブロックコポリ
マー、アクリレート基またはメタクリレート基を含むエ
ポキシド、コポリエステル、ポリアミド、セルロースエ
ステル、セルロースエーテル、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール、ポリホルムアルデヒドなどが挙げら
れる。

【００４２】例えばこれらのバインダーポリマーは、一
種単独で、あるいは２種以上が組み合わされて用いられ
る。光重合型感光性樹脂組成物におけるバインダーポリ
マーの含有率は、通常、５〜９０重量％、好ましくは１
５〜５０重量％である。例えばこれらの成分を含有する
光重合型感光性樹脂組成物は、ドライ光硬化性フィルム
の室温未硬化状態における粘度が前記の範囲を逸脱しな
い範囲で他の成分、例えば可塑剤、増粘剤、紫外線吸収
剤、酸化防止剤、蛍光漂白剤、熱安定剤、剥離剤などを
含有していてもよい。

【００４３】光重合型感光性樹脂組成物におけるこれら
の成分の含有率は、可塑剤については、通常、０〜２５
重量％、好ましくは５〜１５重量％であり、その他の成
分については、通常、０〜５重量％、好ましくは１〜４
重量％である。

【００４４】また、ドライ光硬化性フィルムを形成する
光硬化性組成物としては、前記光重合型感光性樹脂組成
物の他に、例えば光２量型感光性樹脂組成物、光架橋型
感光性樹脂組成物が挙げられる。

【００４５】上述のように、粘着シート又はドライ光硬
化性フィルムからなる中間層は、シート状（フィルム
状）の形態で第１の保護膜３と第２の保護膜５の間に接
着積層されて形成されたものである。そして、粘着シー
ト又はドライ光硬化性フィルムと保護膜との接着は、こ
の粘着シート又はドライ光硬化性フィルムの粘着力を利
用して行われる。

【００４６】また、粘着シート又は光硬化後のドライ光
硬化性フィルムの屈折率は、通常、１．４０〜１．６０
であり、第１の光透過性基板１及び第２の光透過性基板
７の屈折率との差が０．０５以下であることが好まし
い。

【００４７】図１において、第１の光透過性基板１上の
ピット８に担持されている第１の情報信号と第２の光透
過性基板７上のピット９に担持されている第２の情報信
号とは、通常、第１の光透過性基板１側から照射された
レーザ光の反射光により読み取られる。

【００４８】以上説明したような本発明の光ディスク
は、積層された複数のピット・グルーブ層にそれぞれ担
持されている情報信号を、第１の光透過性基板側から再
生用ビームを照射することによって、読み取り障害を起
こすことなく、同時あるいは連続的に再生することが可
能である。従って、単位ディスク面積当たりの記録密度
を向上させ、再生時間を長くし、さらに、複数のピック
アップを使用すればデータ転送レートを高めることもで
きる。例えば、同一フォーマットで同一の記録密度を有
するピット・グルーブ層を１層だけ有する場合に比べ
て、再生時間又はデータ転送レートが１．５〜２倍にな
る。また、本発明の光ディスクは、ディスクの片面から
だけ再生用ビームを照射すればよいので、第１のピット
・グルーブ形成面の再生が終了してから第２のピット・
グルーブ形成面を連続的に再生（あるいはその逆の順で
再生）したい場合に、人手や再生装置内の機械で光ディ
スクを裏返したり、再生装置内の機械でピックアップを
光ディスクの反対側の面に移動させたりする必要もな
い。

【００４９】上記本発明の光ディスクは、以下に説明す
る方法により効率良く製造される。図２は、本発明の製
造方法の第１の実施形態を示す工程図である。図２
（ａ）に示すように、この方法においては、先ず、片面
に第１の情報信号を担持するピット８が形成されている
第１の光透過性基板１を準備する。なお第１の光透過性
基板１には、ピット８に代えて第１の情報信号を担持す
るグルーブが形成されていてもよい。第１の情報信号を
担持するピット８は、第１の光透過性基板１のピット・
グルーブ形成面とは反対側の方向から照射した再生用ビ
ームによって読み取れるように、凹状を有している。

【００５０】第１の光透過性基板１は、例えば、キャビ
ティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリカー
ボネートなどの透明性樹脂を射出成形することによって
得られる。

【００５１】次に、図２（ｂ）に示すように、第１の光
透過性基板１のピット・グルーブ形成面に、第１の反射
膜２（第１工程）、第１の保護膜３（第２工程）を順に
形成する。第１の反射膜２は、入射した光ビームの一部
が透過可能であることが必要であり、入射光の３０％程
度を反射し、入射光の６０％程度を透過するものが好ま
しい。半透過性を有する第１の反射膜としては、例え
ば、一般的な反射膜よりも薄い金属膜を例示することが
でき、より具体的には、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ニッ
ケル（Ｎｉ）、アルミニウム（Ａｌ）などからなる厚さ
１００〜２００オングストローム程度の金属膜又はシリ
コンカーバイド、シリコンナイトライド等の誘電体薄膜
を例示することができる。第１の反射膜２の形成方法と
しては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオン
プレーティング法などが挙げられる。第２の反射膜６の
形成方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法などが挙げられる。

【００５２】第１の保護膜３は、入射した光ビームの少
なくとも一部が透過可能であることが必要であり、実質
的に１００％の光透過性を有することが好ましい。第１
の保護膜３は、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００
ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓ の液状の紫外線
硬化型樹脂を第１の反射膜２上にスピンコートすること
によって塗布形成され、その未硬化状態での厚さが５〜
１０μｍである。

【００５３】なお、第１の保護膜３は、この段階で液状
の未硬化状態の層であり、後述する第６工程において、
紫外線が照射され硬化する。

【００５４】上記図２（ａ）〜（ｂ）の工程を経ること
によって、第１の光透過性基板１上に、第１の反射膜２
と第１の保護膜３が積層された半製品が得られる。一
方、図２（ａ）〜（ｂ）の工程と並列的に進められる図
２（ｃ）〜（ｄ）の工程を経ることによって、第２の光
透過性基板７上に、第２の反射膜６と第２の保護膜５が
積層された半製品が得られる。

【００５５】図２（ｃ）〜（ｄ）の工程図においては、
先ず、図２（ｃ）に示すように、片面に第２の情報信号
を担持するピット９が形成されている第２の光透過性基
板７を準備する。なお、第２の光透過性基板７には、ピ
ット９に代えて第２の情報信号を担持するグルーブが形
成されていてもよい。第２の情報信号を担持するピット
９は、第２の光透過性基板７のピット・グルーブ形成面
側の方向から照射した再生用ビームによって読み取れる
ように形成されている。

【００５６】第２の光透過性基板７は、第１の光透過性
基板１と同様に、例えば、キャビティ内にスタンパーが
配置された金型を用いてポリカーボネートなどの透明性
樹脂を射出成形することによって得られる。

【００５７】次に、図２（ｄ）に示すように、第２の光
透過性基板７のピット・グルーブ形成面に、第２の反射
膜６、第２の保護膜５を順に形成する。第２の反射膜６
は、第１の反射膜２と異なり、半透過性である必要はな
い。

【００５８】第２の反射膜６の形成材料としては、例え
ばアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、
金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）などが挙げられ
る。これらのなかでも、好ましいのはアルミニウム（Ａ
ｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金である。第２の反射膜
６の形成方法としては、例えばスパッタリング法、真空
蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。こ
のような第２の反射膜６の厚さは、通常、０．０５〜
０．２μｍ、好ましくは０．０８〜０．１２μｍであ
る。

【００５９】第２の保護膜５は、第１の保護膜３と同様
に、入射した光ビームの少なくとも一部が透過可能であ
ることが必要であり、実質的に１００％の光透過性を有
することが好ましい。そして、この第２の保護膜５は、
室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好まし
くは１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂を第２
の反射膜６上にスピンコートすることによって未硬化状
態での厚さが５〜１０μｍとなるように塗布形成された
後、さらに紫外線を照射し硬化させた状態としている。

【００６０】次に、図２（ｅ）に示すように、図２
（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２
（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを、
保護膜３、５同士が対向する状態下で位置合わせし、さ
らに両積層体の間に、光透過性シート４ａを配置する。

【００６１】ここで、使用に供される光透過性シート４
ａは、光透過性のアクリル系粘着剤からなる粘着シート
又は光透過性のドライ光硬化性フィルムからなり、厚さ
が３０〜６０μｍである。ドライ光硬化性フィルムは、
未硬化のものであり、室温未硬化状態での粘度が３，５
００〜４００，０００Ｐであり、好ましくは２０，００
０〜４００，０００ポイズであり、かつ紫外線の照射に
より硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含まないもの
である。

【００６２】ドライ光硬化性フィルムの室温未硬化状態
での粘度が３，５００ポイズ未満であると、ほぼ液状と
なりフィルム形状が維持されなくなったり、反射膜上あ
るいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮が過大に
なるなどの問題を生じることがある。一方、この粘度が
４００，０００ポイズを超えると、光ディスクの生産工
程において混入した気泡が残存し易くなり、また反射膜
あるいは保護膜への密着力が低下して実用に供せなくな
ることがある。

【００６３】また、光透過性シートの厚さは３０〜６０
μｍ、より好ましくは５０μｍである。光透過性シート
の厚さが５μｍ未満であると、２つのピット・グルーブ
の形成面の間の間隔が狭すぎるので、第２の光透過性基
板７上の第２ピット・グルーブの形成面にビームを照射
して再生を行う際に、第１の光透過性基板１上に形成さ
れた第１のピット・グルーブの影響を受けることがあ
る。一方、ドライ光硬化性フィルムを用いた場合その厚
さが２００μｍを超えると、そのようなドライ光硬化性
フィルムは未硬化状態での保存中にフィルムにしわが発
生し易くなって取り扱い上不便であり、また、反射膜上
あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮による
応力が過大になることがある。

【００６４】光透過性シート４ａの供給方法としては、
例えば、図２（ｅ）に示すように、フィルム供給ロール
１１からフィルムを連続的に送り出す方法を例示するこ
とができる。図２（ｅ）において、光透過性シート４ａ
は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムからなるベースフィルム４ｂと例えばポリエチレ
ン（ＰＥ）フィルムからなるカバーフィルム４ｃとの積
層体の形態でフィルム供給ロール１１に巻き付けられて
いる。この光透過性シート４ａは、フィルム供給ロール
１１から引き出される。次いで、該フィルムの両面は、
例えばベースフィルム巻き取りロール１５でベースフィ
ルム４ｂが巻き取られかつカバーフィルム巻き取りロー
ル１４でカバーフィルム４ｃが巻き取られることによっ
て露出する。そして、両面が露出した光透過性シート４
ａは、一面側においては保護膜３と対向し、他面側にお
いては保護膜５と対向する状態で２つの積層体の間に配
置される。

【００６５】次に、図２（ｆ）に示すように、図２
（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図２
（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを、
光透過性シート４ａを介して重ね合わせた後、加圧する
ことによって圧着する（第５工程）。

【００６６】加圧方法は特に限定しないが、ロール加圧
法、真空中での加圧法等がある。一例としてロール加圧
法を示す。図２（ｆ）においてはオーバーロール３１と
アンダーロール３２によって加圧するロール加圧法を採
用している。ロール加圧法による場合には、室温下で加
圧し、加圧力は、通常、０．５〜５０ｋｇ／ｃｍ2 、好
ましくは５〜２０ｋｇ／ｃｍ2 とする。また、オーバー
ロール３１とアンダーロール３２とによる送り速度は、
通常、０．０５〜１０ｍ／分、好ましくは０．１〜２ｍ
／分とする。ロール加圧法による場合には、２つの半製
品である積層体を貼り合わせている光透過性シート４ａ
は、その一端側から他端側に向かって２つの加圧ロール
３１、３２で送られながら加圧されていくので、光透過
性シート４ａの内部に混入することのある気泡は、該シ
ート４ａの一端側から他端側に向かって絞り込まれてい
き、最後には他端側から脱泡する。従って、この加圧法
によれば中間層内部の気泡をさらに少なくすることがで
きる。

【００６７】このようにして２つの半製品である積層体
を貼り合わせた後、さらにカッター２０によって外周部
やセンターホール部に存在しているシートの不要部分を
除去する。

【００６８】なお、上記図２（ｅ）〜（ｆ）において
は、２つの積層体の保護膜面側同士を対向させた間に光
透過性シートを配置して挟み込むという手順を踏んでい
るが、貼り合わせ工程を一段工程とする必要はない。例
えば、一方の積層体の紫外線硬化させた保護膜面側に光
透過性シートを積層した後、該光透過性シートの露出面
を他方の積層体の未硬化状態の保護膜面側に積層し、さ
らに加圧することによって両積層体を貼り合わせてもよ
い。また、一方の積層体の紫外線硬化させた保護膜面側
に光透過性シートを積層した後、該光透過性シートの露
出面を他方の積層体の液状の紫外線硬化型樹脂が塗布さ
れた反射膜上に重ね合せた後、２枚の積層体の中心孔を
中心に回転させながら、保護膜を構成する液状の紫外線
硬化型樹脂を光透過性シートと反射膜間に充填させるよ
うにしても良い。

【００６９】その後、図２（ｇ）に示すように、光ディ
スク形状の積層体に、加圧状態下で第１の光透過性基板
１を介して紫外線（ＵＶ）を照射することによって未硬
化状態の第１の保護膜（及び光透過性シートとしてドラ
イ光硬化性フィルムを用いた場合には未硬化状態のドラ
イ光硬化性フィルム４ａ）が硬化し（第６工程）、本発
明の光ディスクが完成する。尚、紫外線（ＵＶ）を照射
する際、光ディスク形状の積層体を回転させるようにし
てもよい。加圧状態下でフィルムを硬化させるのは、図
２（ａ）〜（ｂ）の工程で得られた半製品の積層体と図
２（ｃ）〜（ｄ）の工程で得られた半製品の積層体とを
強固に貼り合わせるためである。紫外線照射段階での加
圧力は、通常、２つの半製品である積層体の間に光透過
性シートを積層・圧着する段階での加圧力と同程度とす
る。

【００７０】図２（ｇ）段階における光ディスク形状の
積層体は、第１の光透過性基板１側の第１の反射膜２と
第１の保護膜３とが少なくとも半透過性を有している。
従って、光透過性シート４ａとしてドライ光硬化性フィ
ルムを用いる場合光ディスク形状の積層体の内部に存在
する未硬化状態のドライ光硬化性フィルムは、該積層体
の第１の光透過性基板１側から紫外線を照射することに
よって硬化させることができる。この硬化に要する紫外
線の照射エネルギーは、通常、１００ｍＪ／ｃｍ2 以上
であり、好ましくは１，０００ｍＪ／ｃｍ2 程度であ
る。

【００７１】図３は、本発明の製造方法の第２の実施形
態を示す工程図である。この方法においては、先ず、キ
ャビティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリ
カーボネートなどの透明性樹脂を射出成形することによ
って、片面に第１の情報信号を担持するピット８が形成
されている第１の光透過性基板１及び片面に第２の情報
信号を担持するピット８が形成されている第２の光透過
性基板７を準備する。

【００７２】次に、図３（ａ）に示すように、第１の光
透過性基板１のピット８が形成された情報記録面上に図
２の場合と同様に半透過性の第１の反射膜２を形成す
る。ここで、第１の反射膜２は、内周及び外周非記録部
を除いてスパッタリング法などにより、形成される。次
に、図３（ｂ）に示すように、第１の反射膜２上に、室
温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましく
は１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂をスピン
コートすることにより、未硬化状態の第１の保護膜３を
塗布形成する。この図３（ａ）〜（ｂ）の工程を経るこ
とによって、第１の光透過性基板１上に、第１の反射膜
２と第１の保護膜３が積層された半製品が得られる。

【００７３】一方、図３（ａ）〜（ｂ）の工程と並列的
に進められる図３（ｃ）〜（ｅ）の工程を経ることによ
って、第２の光透過性基板７上に、第２の反射膜６、第
２の保護膜５及び光透過性シート４ａが積層された半製
品が得られる。すなわち、図３（ｃ）に示すように、第
２の光透過性基板７のピット８が形成された情報記録面
上に内周及び外周非記録部を除いてスパッタリング法に
より、全反射性の第２の反射膜６を形成する。次に、図
３（ｄ）に示すように、室温未硬化状態での粘度が１５
〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５０ｃｐｓの液状の
紫外線硬化型樹脂を第２の反射膜６上にスピンコートす
ることによって未硬化状態での厚さが５〜１０μｍとな
るように塗布形成された後、さらに紫外線を照射し硬化
させて、第２の保護膜５を形成する。次に、図３（ｅ）
に示すように、第２の保護膜６上に、光透過性シート４
ａをロールラミネート法により積層形成する。

【００７４】ここで、光透過性シート４ａは、光透過性
のアクリル系粘着剤からなる粘着シート又は光透過性の
未硬化状態のドライ光硬化性フィルムからなり、厚さが
３０〜６０μｍである。ドライ光硬化性フィルムは、未
硬化のものであり、室温未硬化状態での粘度が３，５０
０〜４００，０００Ｐであり、好ましくは２０，０００
〜４００，０００ポイズであり、かつ紫外線の照射によ
り硬化する性質を有し、実質的に溶剤を含まないもので
ある。

【００７５】次に、図３（ｆ）に示すように、第１の反
射膜２、未硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第１の
保護膜３が積層形成された第１の光透過性基板１と、第
２の反射膜６、硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第
２の保護膜５、光透過性シート４ａが積層形成された第
２の光透過性基板７とを、第１の光透過性基板１を下に
して保護膜３と光透過性シート４ａとが対向して少し離
間するようにチャンバー４０内に配置し、チャンバー４
０内を減圧する。

【００７６】次に、図３（ｇ）に示すように、チャンバ
ー４０内が所定圧力に減圧された後、未硬化状態の紫外
線硬化型樹脂がはみ出さない程度の圧力で第１及び第２
の光透過性基板１、７を重ね合わせて仮に貼り合せる。

【００７７】次に、図３（ｈ）に示すように、チャンバ
ー４０内をリーク後、所定の圧力で第１及び第２の光透
過性基板１、７を重ね合わせて仮に貼り合せている状態
で、第１の光透過性基板１側から紫外線を照射して未硬
化状態の紫外線硬化型樹脂からなる保護膜３を硬化させ
る。チャンバー４０内のリークにより、貼り合わせ時生
じる気泡は大気圧と減圧空間との圧力差によって光学的
影響が無視できる程度につぶれる。尚、光透過性シート
４ａとして光透過性のドライ光硬化性フィルムを用いた
場合には、紫外線照射時、保護膜３及びドライ光硬化性
フィルムが同時に硬化することになる。

【００７８】図４は、本発明の製造方法の第３の実施形
態を示す工程図である。この方法においては、先ず、キ
ャビティ内にスタンパーが配置された金型を用いてポリ
カーボネートなどの透明性樹脂を射出成形することによ
って、片面に第１の情報信号を担持するピット８が形成
されている第１の光透過性基板１及び片面に第２の情報
信号を担持するピット８が形成されている第２の光透過
性基板７を準備する。

【００７９】次に、図４（ａ）に示すように、第１の光
透過性基板１のピット８が形成された情報記録面上に図
２の場合と同様に半透過性の第１の反射膜２を形成す
る。ここで、第１の反射膜２は、内周及び外周非記録部
を除いてスパッタリング法などにより、形成される。次
に、図４（ｂ）に示すように、第１の反射膜２上に、室
温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましく
は１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂をスピン
コートすることにより、未硬化状態の第１の保護膜３を
塗布形成する。さらに、図４（ｃ）に示すように、外周
非記録領域に対応する位置にマスクを配し、マスク４１
を介して紫外線を照射し、外周非記録領域を除く領域の
紫外線硬化型樹脂を硬化する一方外周非記録領域に対応
する領域の紫外線硬化型樹脂を未硬化状態のままとす
る。この図４（ａ）〜（ｃ）の工程を経ることによっ
て、第１の光透過性基板１上に、第１の反射膜２と第１
の保護膜３が積層された半製品が得られる。

【００８０】一方、図４（ａ）〜（ｃ）の工程と並列的
に進められる図４（ｄ）〜（ｆ）の工程を経ることによ
って、第２の光透過性基板７上に、第２の反射膜６、第
２の保護膜５及び光透過性シート４ａが積層された半製
品が得られる。すなわち、図４（ｄ）に示すように、第
２の光透過性基板７のピット８が形成された情報記録面
上に図２の場合と同様に全反射性の第２の反射膜６を形
成する。次に、図４（ｅ）に示すように、室温未硬化状
態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ、好ましくは１５〜５
０ｃｐｓのの液状の紫外線硬化型樹脂を第２の反射膜６
上にスピンコートすることによって未硬化状態での厚さ
が５〜１０μｍとなるように塗布形成された後、さらに
紫外線を照射し硬化させて、第２の保護膜５を形成す
る。次に、図４（ｆ）に示すように、第２の保護膜６上
に、光透過性シート４ａをロールラミネート法により積
層形成する。

【００８１】ここで、光透過性シート４ａは、光透過性
のアクリル系粘着剤からなる粘着シート又は光透過性の
ドライ光硬化性フィルムからなり、厚さが３０〜６０μ
ｍである。ドライ光硬化性フィルムは、未硬化のもので
あり、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，
０００Ｐであり、好ましくは２０，０００〜４００，０
００ポイズであり、かつ紫外線の照射により硬化する性
質を有し、実質的に溶剤を含まないものである。

【００８２】次に、図４（ｇ）に示すように、第１の反
射膜２、外周非記録領域のみ未硬化状態の紫外線硬化型
樹脂からなる保護膜３が積層形成された第１の光透過性
基板１と、第２の反射膜６、硬化状態の紫外線硬化型樹
脂からなる第２の保護膜５、光透過性シート４ａが積層
形成された第２の光透過性基板７とを、第１の光透過性
基板１を下にして保護膜３と光透過性シート４ａとが対
向して少し離間するようにチャンバー４０内に配置し、
チャンバー４０内を減圧する。チャンバー４０内が所定
圧力に減圧された後、未硬化状態の紫外線硬化型樹脂が
はみ出さない程度の圧力で第１及び第２の光透過性基板
１、７を重ね合わせて仮に貼り合せる。

【００８３】次に、図４（ｈ）に示すように、チャンバ
ー４０内をリーク後、所定の圧力で第１及び第２の光透
過性基板１、７を重ね合わせて仮に貼り合せている状態
で、高圧エアーによりプレスする。この際、第１及び第
２の光透過性基板１、７の外周エッジのもり上がり部に
よる気泡残りの問題は、液状の紫外線硬化型樹脂の流動
性によって解消される。

【００８４】次に、図４（ｉ）に示すように、第１の光
透過性基板１側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂
からなる保護膜３の未硬化部分を硬化させる。尚、光透
過性シート４ａとして光透過性シート４ａとして光透過
性のドライ光硬化性フィルムを用いた場合には、紫外線
照射時、保護膜３の未硬化部分６及びドライ光硬化性フ
ィルムが同時に硬化することになる。

【００８５】上述の第１乃至第３の実施形態において
は、第２の保護膜５を設けたが、これを省略しても良
い。また、第１の光透過性基板の半透過性の第１の反射
膜上に液状の紫外線硬化型樹脂からなる未硬化状態の第
１の保護膜を形成し、第２の光透過性基板の第２の反射
膜上に硬化状態の紫外線硬化型樹脂からなる第２の保護
膜を形成し、保護膜を対向させ光透過性シートを介して
貼り合せる構成を例示したが、これに限らず第１の光透
過性基板の半透過性の第１の反射膜上に硬化状態の紫外
線硬化型樹脂からなる第１の保護膜を形成し、第２の光
透過性基板の第２の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂
からなる未硬化状態の第２の保護膜を形成し、保護膜を
対向させ光透過性シートを介して貼り合せる構成として
も良い。この場合、第１及び第２の光透過性基板を重ね
て貼り合せる前に、光透過性シートを硬化状態の紫外線
硬化型樹脂からなる第１の保護膜上に積層しておいても
良い。

【００８６】

【発明の効果】本発明による貼り合わせ型光ディスクの
製造方法では、第１又は第２の反射膜上に液状の紫外線
硬化型樹脂を塗布して未硬化状態の保護膜を形成し、第
１及び第２の光透過性基板の間に光透過性シートをはさ
み、保護膜と光透過性シートとを対向させ、貼り合せる
ようにしたので、第１及び第２の反射膜に不要な応力を
発生させず、ひび割れなどの欠陥の発生を防ぎ、均一な
中間層を得ることができる。

【００８７】また、塗布される紫外線硬化型樹脂は、室
温未硬化状態での粘度を１５〜４００ｃｐｓでかつ未硬
化状態での厚さを５〜１０μｍと比較的薄くしたので、
ディスクの厚さ構成への影響も少なく、安定した貼り合
わせ型光ディスクの製造が可能となる。

【００８８】また、中間層（光透過性シート）として、
室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００
Ｐでかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍのドライ
光硬化性フィルム又は厚さが３０〜６０μｍのアクリル
系粘着剤からなる粘着シートを用いることにより、ディ
スクの厚さ構成への影響を少なくすることが可能とな
る。

【００８９】また、中間層（光透過性シート）として、
厚さが３０〜６０μｍである粘着シートを用いることに
より、デイスクの変形を防止することが可能となる。

【００９０】また、半透過の第１の反射膜は、金薄膜又
は誘電体薄膜からなるようにしたので、第１の反射膜の
半透過性を満足し、光ディスクの片面側から第１及び第
２の各反射膜が担持する情報信号を安定に読み取ること
が可能となる。

【００９１】また、加圧貼り合せ工程を減圧空間内で行
うようにしたので紫外線硬化型樹脂への気泡の混入を防
止することができ、気泡による外観不良や貼り合せ時の
接着不良が防止できる。

【００９２】また、加圧貼り合せ工程の前に、第１及び
第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上に形成
された未硬化状態の保護膜の外周縁部を除く領域に紫外
線を照射して硬化させ、外周縁部のみを未硬化状態と
し、加圧貼り合せ工程において高圧プレスすることによ
り、外周縁部の気泡残りを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ディスクの積層構造の一例を示す説
明図である。

【図２】本発明の第１実施形態による光ディスクの製造
方法を示す工程図である。

【図３】本発明の第２実施形態による光ディスクの製造
方法を示す工程図である。

【図４】本発明の第３実施形態による光ディスクの製造
方法を示す工程図である。

【符号の説明】

１ ・・・・・ 第１の光透過性基板 ２ ・・・・・ 第１の反射膜 ３ ・・・・・ 第１の保護膜 ４ ・・・・・ 中間層 ４ａ ・・・・・光透過性シート ５ ・・・・・ 第２の保護膜 ６ ・・・・・ 第２の反射膜 ７ ・・・・・ 第２の光透過性基板 ８ ・・・・・ 第１の情報信号を担持するピット ９ ・・・・・ 第２の情報信号を担持するピット １１ ・・・・・ フィルム供給ロール ２０ ・・・・・ カッター ３１、３２ ・・・・・ 加圧ロール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田渕 浩敏 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 藤森 二郎 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 本川 昌明 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 片面に第１の情報記録面を有する第１の
   光透過性基板の前記第１の情報記録面上に、入射光の一
   部を反射し一部を透過する半透過の第１の反射膜を形成
   する工程と、 片面に第２の情報記録面を有する第２の光透過性基板の
   前記第２の情報記録面上に、前記第１の反射膜より高い
   反射率を有する第２の反射膜を形成する工程と、 前記第１及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反
   射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を塗布して未硬化状態
   の保護膜を形成する工程と、 前記第１の光透過性基板と前記第２の光透過性基板の間
   に光透過性シートをはさみ、前記保護膜と前記光透過性
   シートとを対向させ、加圧して貼り合わせる工程と、 前記第１の光透過性基板側から紫外線を照射して前記保
   護膜を硬化させる工程とを有することを特徴とする貼り
   合わせ型光ディスクの製造方法。
2. 【請求項２】 前記加圧貼り合せ工程の前に、前記第１
   及び第２の光透過性基板の内の他方の基板の反射膜上に
   液状の紫外線硬化型樹脂を塗布し、紫外線を照射して硬
   化させた保護膜を形成する工程を有することを特徴とす
   る請求項１記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法。
3. 【請求項３】 前記紫外線硬化型樹脂は、室温未硬化状
   態での粘度が１５〜４００ｃｐｓ（センチポイズ）でか
   つ前記保護膜の未硬化状態での厚さが５〜１０μｍであ
   ることを特徴とする請求項１又は２記載の貼り合わせ型
   光ディスクの製造方法。
4. 【請求項４】 前記加圧貼り合せ工程の前に、前記光透
   過性シートを前記第１及び第２の光透過性基板の内の他
   方の基板の反射膜上に積層する工程を有することを特徴
   とする請求項１記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方
   法。
5. 【請求項５】 前記加圧貼り合せ工程の前に、前記光透
   過性シートを前記第１及び第２の光透過性基板の内の他
   方の基板の硬化させた保護膜上に積層する工程を有する
   ことを特徴とする請求項２記載の貼り合わせ型光ディス
   クの製造方法。
6. 【請求項６】 前記光透過性シートとして、室温未硬化
   状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐ（ポイ
   ズ）でかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍである
   ドライ光硬化性フィルムを用いることを特徴とする請求
   項１乃至５のいずれかに記載の貼り合わせ型光ディスク
   の製造方法。
7. 【請求項７】 前記第１の光透過性基板側から紫外線を
   照射する工程において前記光透過性シートを構成するド
   ライ光硬化性フィルムをも硬化させることを特徴とする
   請求項６記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法。
8. 【請求項８】 前記光透過性シートとして、厚さが３０
   〜６０μｍである粘着シートを用いることを特徴とする
   請求項１乃至５のいずれかに記載の貼り合わせ型光ディ
   スクの製造方法。
9. 【請求項９】 前記半透過の第１の反射膜は、金薄膜又
   は誘電体薄膜からなることを特徴とする請求項１乃至８
   のいずれかに記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方
   法。
10. 【請求項１０】 前記加圧貼り合せ工程は減圧空間内で
    行われることを特徴とする請求項１記載の貼り合わせ型
    光ディスクの製造方法。
11. 【請求項１１】 前記加圧貼り合せ工程の前に、前記第
    １及び第２の光透過性基板の内の一方の基板の反射膜上
    に形成された未硬化状態の保護膜の外周縁部を除く領域
    に紫外線を照射して硬化させる工程を有するとともに前
    記加圧貼り合せ工程において高圧プレスすることを特徴
    とする請求項１記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方
    法。