JP2956989B2 - エンボス情報を含む光学的に読取り可能な媒体の製造方法 - Google Patents

エンボス情報を含む光学的に読取り可能な媒体の製造方法

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JP2956989B2 JP2175155A JP17515590A JP2956989B2 JP 2956989 B2 JP2956989 B2 JP 2956989B2 JP 2175155 A JP2175155 A JP 2175155A JP 17515590 A JP17515590 A JP 17515590A JP 2956989 B2 JP2956989 B2 JP 2956989B2
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Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、レザービームを用いる光学的読みだしシス
テムに用いられる情報保持媒体の製造に関する。特に、
本発明は、録音、AV記録、又はコンピューター情報回復
システムのような種々の用途のための、反射された光信
号から電気信号に変換し得るコード情報保持媒体の製造
に関する。
［発明の背景］ アナログ記録の製造に長い間用いられてきた刻印及び
圧縮成型は、ビデオ及びコンパクトディスクの製造にも
用いられてきた。これらの方法では、予備加熱された溶
融プラスチックが、最終製品であるディスクに必要なミ
クロンサイズの情報記録ピットに対応するレリーフパタ
ーンを有するモールド又はスタンパーに供給される。圧
力が流体ポリマーをパターン状に流動せしめ、スタンパ
ーレリーフに合致させる。冷却が、所望の信号パター
ン、厚さ、及び必要な他の寸法を有する固体ディスクを
生成する。エンボス加工されたディスクは、次いで反射
層及び保護層を施し、公知の標準の手段によりラベルを
付すことにより最終製品とされる。
米国特許第4,363,844号及び4,519,065号は、ビデオデ
ィスク及び類似のデバイスを製造するための関連したプ
ロセスを記載している。出発成分は溶融プラスチックで
はないが、熱可塑性又は放射線硬化性となり得るエンボ
ス加工可能な、熱軟化性層を覆う、非常に薄いエンボス
加工可能な放射線反射層を具備するエレメントであり得
る。任意に、熱軟化性組成物が基板上にコートされ得
る。熱軟化組成物は、その最大ロスモジュラスが30〜18
0℃であり、50〜200℃で５−100kg/m2の圧力でのエンボ
ス加工を可能とするように選択する。これらの条件は、
ビデオ及びコンパクトディスクを製造する圧縮又は射出
成型で用いているものと類似である。熱軟化性層へのス
タンパー情報の刻印は、プレート状又はロール状エンボ
サーを用いて行うことが出来る。放射線硬化は、架橋に
より、所望のレリーフ形の保持を助ける。情報保持レリ
ーフパターンにより刻印される前に、ディスクは反射層
を具備している。
上述の高圧及び高温レリーフ形成方法の両方の重大な
欠点は、イメージの歪みの可能性及び生成されたディス
クの内部ストレスである。「放射線硬化ジャーナル」に
記載されているように、これらの制限を解決するため、
光重合方法が開発されている。しばしば2Pプロセスと呼
ばれているこの方法では、液状、低粘度の光重合性アク
リレートモノマー又はアクリレートモノマーの混合物
は、情報保持マスターに室温で適用され、永久ディスク
基板として適切な透明プラスチックのフレキシブル膜を
液層に適用することにより均一に広げられる。液が適当
な厚さでモールドをカバーした後、基体を通して紫外線
を照射することにより液体組成物が光硬化し、基板に密
着する。
この方法は低粘性液体組成物を用いるので、この材料
をスタンパーに合致させるために、高温及び高圧は必要
ではない。更に、より低いコストのプラスチックスタン
パーの使用を許容する圧縮成型方法におけるように、機
械的に強度が高い必要はない。
米国特許第4,296,158号では、ポリアクリレートモノ
マーと末端不飽和の複素環式基含有オリゴマーとの混合
物がスタンパー上に広げられ、同時に圧力ロールにより
ポリマー膜で覆われる。この膜はディスク基体となる。
米国特許第4,354,988号では、光硬化性樹脂をスタン
パー上に広げる工程、基体膜で覆う工程、硬化する工
程、中央孔をパンチングする工程、及びトリミングする
工程を組合わせることにより、光ディスクを製造する方
法が記載されている。
米国特許第4,482,511号は、モノマー、オリゴマー又
はその混合物からなる感放射線性組成物を用いる類似の
方法を記載している。1kg/cm2未満の圧力が必要であ
り、高度の忠実性を有するガラスマスター原盤を用いる
ことが出来る。スタンパー表面に薄いフルオロポリマー
剥離層を適用する手段もまた記載されている。
米国特許第4,510,593号では、可溶性膜形成ポリマー
ポリマーバインダーヲ含有するモノ又はポリ不飽和モノ
マーの重合性混合物が記載され、それは基板に適用さ
れ、次いで圧力ロールによりフレキシッブルスタンパー
と接触される。バインダーの存在は、情報保持層の特性
を改善するためと言われている。米国特許第4,430,363
号では、基板に同様の感放射線性組成物を適用するスク
リーン印刷方法が記載されている。これら両方の特許で
は、化学線照射−透明スタンパーを通しての露光により
硬化が達成されている。
米国特許第4,582,885号では、最終用途物理特性を制
御するために変化し得る硬質及び軟質セグメントを含有
する流体状の、重合性オリゴマーが、光ディスクを含む
種々の情報保持体を製造するために用いられる。
上記の特許および技術論文に記載された液状組成物
は、ある本質的な実用上の制限を有するにもかかわら
ず、圧縮成形に必要とされるよりも低い加圧力下、常温
で情報−移動スタンパーレリーフパターンに適合するた
めに充分な液体となり得る。
（１）流体組成物は、液体を含むために正確な成形が
必要とされる；（２）各々のサイクルの間に放出された
液体の量の注意深い制御が、厚さの均一性および他の臨
界的なディスク寸法を維持するために必要である。
一方、Watkinsによる米国特許第4,790,893号は、熱可
塑性層がパターン化された金属原型の上にその軟化点以
上の温度で押し出されるCDのもののような情報キャリア
ーを作製する方法を開示している。圧力は冷却された層
に与えられ、冷却された層は金属原型から離される。薄
い金属フィルムはパターン化された層に与えられ、パタ
ーン化された層は基板に積層される。
従来技術において、スタンパーにより刻印される前
に、またはスタンパーに与えててその後に基板により接
触させて、光キュア性組成物が基板上に層として与えら
れる場合、適切な基板接着を確保するために照射キュア
工程に注意深い注意が払われなければならない。オーバ
ーキュアは、過剰な情報層の収縮、可変である情報をひ
ずませる内部応力、またはむだな長露光時間を導き得
る。代りは、満足できる両立する基板の組み合わせおよ
びキュア組成物の制限が厳しくなるであろう。
［発明の要旨］ 本発明の第１の態様によると、 （ａ）ドライ光硬化性フィルムを寸法が安定な光学的に
透明な基体にラミネートする工程、 （ｂ）ドライ光硬化性フィルムの露出面に反射層を任意
に形成する工程、 （ｃ）情報トラックのレリーフ像を含むスタンパーを加
圧下で適用することにより、レリーフ情報トラックで光
硬化性フィルムの露出面をエンボス加工する工程、 （ｄ）スタンパーと接触させつつ、透明基体及び光硬化
性フィルムに化学線を通し、光硬化性フィルムを硬化さ
せる工程、 （ｅ）エンボス加工された光硬化したフィルムからスタ
ンパーを分離する工程、及び （ｆ）エンボス工程（ｃ）の前に何も形成されないなら
ば、光硬化したフィルムのエンボス面に光反射層覆を形
成する工程を具備するレリーフ情報トラックを含む光学
的に読取り可能な媒体の製造方法が提供される。
本発明の第２の態様によると、（ａ）ドライ光硬化性
フィルムの表面に反射層を形成する工程、 （ｂ）寸法が安定な光学的に透明な基体の表面に光硬化
性フィルムの非反射面をラミネートする工程、 （ｃ）情報トラックのレリーフ像を含むスタンパーを加
圧下で適用することにより、レリーフ情報トラックで光
硬化性フィルムの非反射面をエンボス加工する工程、 （ｄ）スタンパーと接触させつつ、透明基体及び光硬化
性フィルムに化学線を通し、光硬化性フィルムを硬化さ
せる工程、及び （ｅ）エンボス加工された光硬化したフィルムからスタ
ンパーを分離する工程を具備するレリーフ情報トラック
を含む光学的に読取り可能な媒体の製造方法が提供され
る。
［発明の詳細な記述］ A.基板 基板は、主として光硬化情報伝達層の寸法的に安定し
た支持体としての機能を果たす。それは、堅いものまた
は可撓性のもののいずれもなり得る。基板は、散塵層と
しての機能も果たす。この両方の場合において、レーザ
ビームは基板を通り、反射層からコード化された信号を
反射させる。基板を通って戻った反射されたレーザビー
ムの変化は、検出器により「読み取り」され、適切な出
力信号に変換される。好適な基板としての機能を果たす
ために、ディスクまたはシートは、（１）「読み取り」
レーザ照射に対して実質的に透明であり、（２）信号伝
達表面領域全体にわたって均一な厚みであり、（３）最
小の複屈折性を有し、（４）光硬化層に合う屈折率を有
し、（５）予想される最終用途、例えば、CDオーディ
オ、CD−ROM、ビデオ等に好適なディスク形状を有すれ
ばよい。現在のCDオーディオの光学的標準は、以下のこ
とを推奨する。
・透明基板の厚みは、反射層、保護層、ラベルを除いて
1.2±0.1mm; ・透明基板の屈折率は、780±10nmの波長で1.55±0.1; ・透明基板の最大複屈折性は、100nmの二つの経路であ
るようなもの； ・レーザビーム反射および二経路基板透過は、70〜90パ
ーセント；および ・レーザビーム反射および二経路基板透過の最大変動
は、100Hz以下の周波数および走査速度のディスク回転
に対して、基板表面にわたって３パーセント。
以前に示したように、光学的媒体の形状および標準
は、媒体の用途により変化し得る。コンパクトディスク
の形状に対する最近の工業的標準は、以下のことを推奨
する。
・ディスクの外径は、23℃±２℃、50±５％RHで測定し
た場合、中心穴（最大の内円）に対してせいぜい±0.2m
mの偏心を有して120±3mm; ・外縁は、ぎざぎざでなく、面取りされまたは丸くされ
ている； ・ディスク重量は、14〜33g; ・中心穴は、23℃±２℃、50＋５％RHで測定した場合、
15.0〜15.1mmの直径を有する円柱； ・穴の縁は、ディスクの情報伝達側でぎざぎざでなく、
面取りされまたは丸くされている；および ・ディスクの厚みは、保護層およびラベルを含んで1.1
〜1.5mm（好ましくは1.2mm）。
ブランク基板は、好適な光学的基準が適合するのであ
れば種々のポリマー材料から形成され得る。使用される
通常のポリマー材料は、ポリメチルメタクリレートおよ
びポリカーボネート等である。この中でポリカーボネー
トは、環境的変化の間での良好な寸法的安定性のため
に、片側ディスク構造、例えば、コンパクトディスクの
用途において好ましい。いくつかの場合には、ガラス、
石英、または他の透明無機材料が、基板として使用され
得る。通常のポリマー材料は、その低コストおよびそれ
からのディスク製造の容易さのために好ましい。
ブランクディスク基板は、射出成形もしくは射出／圧
縮成形法のような従来の成形法により形成され得るか、
または基板材料の完成されたシートから切り出しもしく
は打ち抜きされ得る。この発明の一態様において、基板
の形状は、光硬化性層の積層前に形成される。他の態様
において、基板の形状は、光硬化性層が積層された後に
基板材料のシートから切り出されるかまたは打ち抜かれ
る。他の態様において、加工されたシート積層体からデ
ィスク形状に切り出しまたは打ち抜きする前にラベルつ
けを経てすべての製造工程を実施することができる。例
えば、シート基板ラミネーターが、情報トラックを含む
場合、情報トラックを有する記載があるシート基板から
ディスクが切り出されまたは打ち抜かれる。
B.乾燥した光硬化性フィルム ここで使用されるような「乾燥した光硬化性フィル
ム」または「乾燥した光硬化性層」は、約20メガポイズ
またはそれ以上のクリープ粘度を有する実質的に無溶剤
のポリマー層をいう。そのような「乾燥した光硬化性
層」は、通常約数百ポイズまたはそれ以下の粘度を有す
る従来の液状の光硬化性層と対比される。この発明のた
めに、粘度は、Du Pont Model 1090 Thermal Mechanica
l Analyzerを使用して平行板流動計でクリープ粘度と
して測定される。この操作において、0.036インチ厚の
試料が、二つの平らなディスク（直径約0.25インチ）間
に接触して設置される。付加重量に順応することができ
る石英プローブが上側のディスクの上に位置され、試料
／ディスクアセンブリは測定の間、40℃の室温および44
％RHで維持される。クリープ粘度は、平衡条件下で試料
厚みの減少の速度から算出される。0.036インチ試料
は、試験フィルムの充分な層を一緒に積層することによ
り調製される。その後、積層体は切断されて、流動計板
の直径よりも僅かに大きい直径の円形試料が提供され
る。
光硬化性層は、仮支持体シートもしくは織布とそこに
剥離可能に接着される均一な厚みの乾燥した光硬化性層
からなる完成された乾燥フィルム光硬化性要素として基
板にラミネートされる。光硬化性要素は、切断されたシ
ートであり得るか、使用および貯蔵が容易なように巻い
た織布の形であり得る。光硬化性層のラミネートされて
いない第２の表面は、剥離することにより使用前に除去
される除去可能な保護カバーフィルムを有してもよい。
この発明において有用である均一な厚みで、乾燥し
た、光硬化性の層は、通常、最終製造物の厚さの基準、
例えば、コンパクトディスク用で1.1〜1.5mmに適合する
ように基板の厚さを補足する厚みを有する。有用な層厚
みは、約0.0035mm（0.1ミル）から約0.13mm（５ミル）
の範囲にわたり、好ましい厚みは0.025mm以下である。
光硬化された層は、基板表面にしっかり接着され、表
面の光学的特性に匹敵する光学的特性を有すればよい。
好ましくは、光硬化された層の屈折率は、読取りレーザ
波長で測定された基板10±0.1の屈折率に合えばよい。
光硬化性層は、化学線にさらしたとき、架橋によるお
よび／または重合により高分子量のポリマーに変化する
熱可塑性樹脂組成物である。これは、組成物の流動特性
を変化させ、通常の溶媒への溶解性を減少させる。好ま
しい光硬化性組成物は、一つまたはそれ以上のエチレン
性不飽和基を含む化合物のラジカル付加重合および架橋
して、その組成物を硬化しおよび不溶化するような光重
合性組成物である。光重合性組成物の光感度は、組成物
を実際の照射源、例えば、可視光に対し感光性にする成
分を含み得る光開始系により増大される。従来、バイン
ダーは、フィルムまたは積層体がこの発明の方法におい
て使用される際に有するであろう物理的特性の点から見
て、本来の乾燥した光重合性フィルムまたは層の最も重
要な成分である。バインダーは、露光前はモノマーおよ
び光開始剤に対する含有媒体として、露光後は光学的媒
体として必要とされる光学的および他の物理的特性に寄
与する役割を果たす。凝着、接着、可撓性、混和性、引
張り強度、屈折率（IR）は、バインダーが光学的媒体に
使用されるために好適であるか決定する多くの特性のい
くつかである。この発明を行う際、種々のタイプの乾燥
したフィルム光重合性要素が、米国特許第3,469,982
号、第4,273,857号、第4,278,752号、第4,293,635号、
第4,621,043号、第4,693,959号、第3,649,268号、第4,1
91、572号、第4,247,619号、第4,326,010号、第4,356,2
53号、4/28/87に出願された欧州特許第87106145.3に開
示されたように使用され得る。これらのすべての内容は
ここに含めておく。
他の同等な乾燥したフィルム光硬化性要素は、米国特
許第3,526,504号に開示されたような光二重重合性また
は光架橋性組成物、または硬化が上記と同一であるラジ
カル開始以外の機構により達成されるそれらの組成物を
含む。
一般に、この発明を行う際に有用である光重合性組成
物を、エチレン性不飽和モノマー、ラジカル生成開始剤
系、およびバインダーを含む。
唯一のモノマーもしくは他のものとを混合して使用さ
れ得る好適なモノマーは、以下のものを含む:t−ブチル
アクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレー
ト、N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレ
ングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ヘ
キサメチレングリコールジアクリレート、1,3−プロパ
ンジオールジアクリレート、デカメチレングリコールジ
アクリレート、デカメチレングリコールジメタクリレー
ト、1,4−シクロヘキセンジオールジアクリレート、2,2
−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロール
ジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレ
ート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリ
アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロ
パントリアクリレートおよびトリメタクリレート、並び
に米国特許第3,380,831号で開示されたような同種の化
合物、2,2−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパン
ジアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレ
ート、2,2−ジ−（ｐ−ヒドロキシフェニル９）−プロ
パンジオールメタクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、ポリオキシエチル−2,2−ジ（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレート、ビス
フェノールＡのジ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）エーテル、ビスフェノールＡのジ−（２
−メタクリロキシエチル）エーテル、ビスフェノールＡ
のジ（３−アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エ
ーテル、ビスフェノールＡのジ（２−アクリロキシエチ
ル）エーテル、テトラクロロビスフェノールＡのジ（３
−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテ
ル、テトラクロロビスフェノールＡのジ（２−メタクリ
ロキシエチル）エステル、テトラブロモビスフェノール
Ａのジ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）エーテル、テトラブロモビスフェノールＡのジ（２
−メタクリロキシエチル）エーテル、1,4−ブタンジオ
ールのジ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロ
ピル）エーテル、ジフェノール酸のジ−（３−メタクリ
ロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、ポリオキシプロピル
トリメチロールプロパントリアクリレート（462）、エ
チレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコー
ルジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジメタク
リレート、1,2,4−ブタントリオールトリメタクリレー
ト、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールメタク
リレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、
１−フェニルエチレン−1,2−ジメタクリレート、ペン
タエリトリトールテトラメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、1,5−ペンタンジオー
ルジメタクリレート、ジアリルフマレート、スチレン、
1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート、1,4−ジイソ
ピロペニルベンゼン、1,3,5−トリイソプロペニルベン
ゼン。
上述したエチレン性不飽和モノマーに加えて、光硬化
性層は、少なくとも約300の分子量を有する一つまたは
それ以上のラジカル開始性、連鎖生長性、付加重合性、
エチレン性不飽和化合物も含み得る。このタイプの好ま
しいモノマーは、炭素２〜15のアルキレングリコールま
たはエーテル結合１〜10のポリアルキレンエーテルグリ
コールから調製されたアルキレンもしくはポリアルキレ
ングリコールジアクリレー、および米国特許第2,927,02
2号と開示されたもの、例えば、特に末端結合として存
在する場合、複数の付加重合性エチレン結合を有するも
のである。特に好ましいものは、そのような結合の少な
くとも一つ好ましくはほとんど炭素および窒素、酸素、
硫黄のようなヘテロ原子に二重結合した炭素を含有する
二重結合炭素と共役するものである。傑出したものとし
ては、エチレン性不飽和基、特にビニリデン基がエステ
ルまたはアミド構造と共役するような物質である。
化学線により活性化され、185℃でおよびそれ以下で
熱的に不活性である好ましいラジカル生成付加重合開始
剤は、置換されたもしくは置換されない多核キノンを含
む。それは、共役炭素環系、例えば、9,10−アントラキ
ノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラ
キノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアント
ラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチ
ルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナ
ントレンキノン、1,2−ベンザ−アントラキノン、2,3−
ベンズアントラキノン、２−メチル−1,4−ナフトキノ
ン、2,3−ジクロロナフトキノン、1,4−ジメチルアント
ラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、２−フェニ
ルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、
アントラキノンα−スルホン酸のナトリウム塩、３−ク
ロロ−２−メチルアントラキノン、レテンキノン、7,8,
9,10−テトラヒドロナフタセンキノン、および1,2,3,4
−テトラ−ヒドロベンズ（ザ）アントラセン−7,12−ジ
オンにおいて二つの環内炭素原子を有する化合物を含
む。いくつかは85℃程度の低い温度で熱的に活性である
が有用でもある他の光開始剤は、米国特許第2,760,863
号で開示され、ベンゾイン、ピバロイン、アシロインエ
ーテル、例えば、ベンゾインメチルおよびエチルエーテ
ルのようなビシナルケタールドニルアルコール；α−メ
チルベンゾイン、α−アリルベンゾイン、α−フェンル
ベンゾインを含むα−炭化水素置換芳香族アシロインを
含む。米国特許第3,427,161号、第3,479,185号、第3,54
9,367号に記載されたようなフェナジン、オキサジン、
キノンクラスの染料、ミヒラーケトン、ベンゾフェノ
ン、水素ドナー−を有する2,4,5−トリフェニルイミダ
ゾリルダイマー、およびそれらの混合物と同様に、米国
特許第2,850,445号、第2,875,047号、第3,097,096等、
第3,074,974号、第3,097,097号、第3,145,104号で開始
された光還元性染料および還元剤が、開始剤として使用
され得る。同様に、米国特許第4,341,860号のシクロヘ
キサジエノン化合物が、開始剤として有用である。さら
に、光開始剤と共に用いて有用なものは、米国特許第3,
652,275号、第4,162,162号、第4,454,218号、第4,535,0
52号、第4,565,769号で開示された増感剤である。
ポリマーである好適なバインダーは、重合性モノマー
と使用される場合、単独または互いに混合して使用され
得る。このバインダーは、以下のものを含む：ポリアク
リレートおよびα−アルキルポリアクリレートエステ
ル、例えば、ポリメチルメタクリレートおよびポリエチ
ルメタクリレート；ポリビニルエステル、例えば、ポリ
ビニルアセテート、ポリビニルアセテート／アクリレー
ト、ポリビニルアセテート／メタクリレート、および加
水分解されたポリビニルアセテート；エチレン／ビニル
アステートコポリマー；ポリスチレンポリマーおよびコ
ポリマー、例えば、マレイン無水物およびエステルを用
いて；ビニリデンクロリドコポリマー、例えば、ビニリ
デンクロリド／アクリロニトリル、ビニリデンクロリド
／メタクリレートとビニリデンクロリド／ビニルアセテ
ートとのコポリマー；ポリビニルクロリドおよびコポリ
マー、例えば、ポリビニルクロリド／アセテート；飽和
および不飽和ポリウレタン；合成ゴム、例えば、ブタジ
エン／アクリロニトリル、アクリロニトリル／ブタジエ
ン／スチレン、メタクリレート／アクリロニトリル／ブ
タジエン／スチレンコポリマー、２−クロロブタジエン
−1,3−ポリマー、塩素化ゴム、およびスチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレンブ
ロックコポリマー；約4,000〜1,000,000の平均分子量を
有するポリグリコールの高分子量ポリエチレンオキシ
ド；エポキシド、例えば、アクリレートまたはメタクリ
レート基を含むエポキシド；コポリエステル、例えば、
式HO（CH2）nOH（ｎは２〜10までの数）のポリメチレン
グリコールと（１）ヘキサヒドロテレフタル酸、セバシ
ン酸、およびテレフタル酸、（２）テレフタル酸、イソ
フタル酸、およびセバシン酸、（３）テレフタル酸、お
よびセバシン酸、（４）テレフタル酸およびイソフタル
酸、（５）該グリコールと（ｉ）テレフタル酸、イソフ
タル酸、およびセバシン酸、（ii）テレフタル酸、イソ
フタル酸、セバシン酸、アジピン酸との反応生成物から
調製されたコポリエステル；ナイロンまたはポリアミ
ド、例えば、Ｎ−メトキシメチルポリヘキサメチレンア
ジパミド；セルロースエステル、例えば、セルロースア
セテート、セルロースアセテートスクシネート、および
セルロースアセテートブチレート；セルロースエーテ
ル、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、お
よびベンジルセルロース；ポリカーボネート；ポリビニ
ルアセタール、例えば、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール；ポリホルムアルデヒド。好適なバイン
ダーとして作用する酸含有ポリマーおよびコポリマー
は、米国特許第3,458,311号、第4,273,857号で開示され
たものを含む。両性ポリマーバインダーは、米国特許第
4,293,635号で開示されている。
上記に挙げたポリマーバインダーに代えてもしくは加
えて、離散した、規則正しく整列した粒状の増粘剤が、
米国特許第3,754,920号で開示した、例えば、シリカ、
クレー、アルミナ、ベントナイト、カオリナイトのよう
に使用され得る。
上記に記載したものに加えて他の成分は、種々の量で
光重合性組成物に存在し得る。そのような成分は、可塑
剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、紫外線吸収物質、熱安定
剤、水素ドナー、離型剤を含む。
この発明の方法において有用である蛍光増白剤は、米
国特許第3,854,950号で開示された物を含む。その内容
はここに含めておく。好ましい蛍光増白剤は、７−
（４′−クロロ−６′−ジ−エチルアミノ−１′,3′,
5′−トリアジン−４′−イル）アミノ３−フェニルク
マリンである。この発明において有用な紫外線吸収物質
も、米国特許第3,854,950号で開示されている。
有用な熱安定剤は、ヒドロキノン、フェニドン、ヒド
ロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノー
ル、アルキルおよびアリール置換ヒドロキノンおよびキ
ノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、銅レジネ
ート、ナフチルアミン、β−ナフトール、塩化第一銅、
2,6−ジ−ｔ−ブチルｐ−クレゾール、フェノチアジ
ン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ
−トルキノン、クロラニルを含む。ここにその内容を含
めた米国特許第4,168,982号に記載されたジニトロソダ
イマーも有用である。通常、熱重合開始剤は、光重合性
組成物の貯蔵における安定性を増加させるために存在さ
せる。
光ポリマー組成物に有用である水素ドナー化合物は、
種々のタイプの化合物、例えば、米国特許第3,390,996
号の12欄、18〜58行に開示されたような（ａ）エーテ
ル、（ｂ）エステル、（ｃ）アルコール、（ｄ）アリル
性およびベンジル性水素クメンを含む化合物、（ｅ）ア
セタール、（ｆ）アルデヒド、（ｇ）アミドと同様に２
−メルカプトベンゾキサゾール、２−メルカプトベンゾ
チアゾール等を含む。その内容はここに含めておく。
離型剤として有用であるとわかった化合物は、米国特
許第4,326,010号に記載されており、その内容はここに
含めておく。好ましい離型剤は、ポリカプロラクトンで
ある。
光重合性組成物中の成分量は、一般に、光重合性層の
総重量に基づいて以下の割合の範囲内である。モノマ
ー:5〜50％、好ましくは15〜25％、開始剤:0.1〜10％、
好ましくは１〜５％、バインダー:25〜75％、好ましく
は35〜50％、可塑剤:0〜25％、好ましくは５〜15％、他
の成分:0〜５％、好ましくは１〜４％。
光硬化性フィルム要素の仮支持フィルムは、米国特許
第4,174,216号に記載されたような複数のフィルムのい
ずれもがなり得る。フィルムの第１の指標は、支持フィ
ルムが第2b図のように除去される際に層のゆがみなし
に、光硬化性組成物の均一な層を基板表面に積層するた
めに必要である寸法安定性、表面平滑性、剥離特性を有
することである。この指標に適合するために、基板に対
する光硬化性層の凝着力およびその接着力は、仮支持フ
ィルムに対するその接着力よりも大きくなければならな
い。好ましい支持体は、ポリエチレンテレフタレートで
ある。
第２の仮カバーシートもしくは内部箔は、光重合性層
の第２の表面上に設置して、貯蔵の間ロールもしくは積
層されたカットシート形状で異物からそれを保護し、供
給された要素のブロッキングを防止する。もし使用され
るならば、層が基板に積層される前に保護カバーシート
もしくは内部箔は光重合性層の表面から除去される。フ
ィルムが好適な表面平滑度を有し、層が支持フィルムに
対して有するよりも小さい光重合性層への接着性を有す
るのであれば、いずれのフィルムもカバーフィルムにな
り得る。好適な保護カバーシートもしくは内部箔は、ポ
リエチレン、ポリプロピレン等を含む。
C.反射層 従来のレーザ再生系において有用となるエンボス加工
された情報トラックのために、入射再生輻射は、レリー
フトラックの背面の部分から検出器に反射されなければ
ならない。これは、反射物質、通常金属の層をエンボス
加工された表面に与えることにより達成される。
いずれの従来の手段も、エンボス加工された情報トラ
ックを反射させるために使用され得る。反射層は、金
属、例えば、アルミニウム、銅、銀等のエンボス加工れ
た表面への蒸着によりエンボス加工された表面に被着さ
れる。あるいは、反射性金属、例えば、銀層は、Techni
cal Proceeding 51st Annual Convention American Electropater's Society,June 14−18,St.Louis,196
4,pp.139−149においてDonald T.Levyによる“The Tech
nology of Aerosol Plate"および米国特許第4,639,382
号で開示されたような従来の方法を用いて非電気的に被
着され得る。その内容はここに含めておく。反射性染料
層も従来のコーティング方法、例えばスピンコーティン
グを用いて、溶液からエンボス加工された表面に与えら
れる。エンボス加工された表面を反射させる他の方法
は、染料以外の物質、例えば、ポリマー物質であって、
入射再生輻射に対するエンボス加工された光重合された
層の屈折率と実質的に異なる屈折率を有する物質で表面
をコーティングすることによる。
媒体のエンボス加工された表面が反射する場合、その
とき再生システムに対して必要とされる物理的ディメン
ションを有する、例えば、完成された基板から作製され
たならば、媒体は使用可能である。使用可能であるけれ
ども、エンボス加工された層の界面での反射表面はカバ
ー層により保護されるまでは損傷および環境的分解をう
けやすい。
D.保護層 通常、保護層は、第2G図のように反射性表面上に与え
られ、それに適当なラベルが印刷される。この発明の態
様は、各々の工程を通じて並べて移動する複数のブラン
クディスクの同時の処理を含む。同時に処理される数
は、通常、光硬化性織布の幅および他の装置規格により
制限されるだろう。
例えば、反射層が充分な厚さおよび強靭な材料、例え
ば、ポリマー材料からなる場合、反射層自身が反射表面
に保護するために充分となり得る。しかしながら、通
常、別の層が保護のため、および次のラベルつけ用の表
面としての役割を果たすために反射層上に与えられる。
保護層は、接着されて反射層を封止し得て、印刷可能
な耐摩耗外表面を提供し得るようなどのようなポリマー
フィルムもしくは層、またはその組み合わせもなり得
る。そのような層または複合体の厚さは、提供される総
厚および得られる媒体の重量を変化し得て、必要とされ
るシステム基準内にとどめる、例えば、コンパクトディ
スクに対して、厚さ1.1〜1.5mm、重量14〜33g。従来、
ニトロセルロースのようなラッカー溶液は反射層上にス
ピンコートされるが、他の完成された層およびフィルム
が使用され得る。完成された層またはフィルムは、積層
可能もしくは接着キュア性層、例えば、熱もしくは光キ
ュア性層がなり得る、または接着層を有して反射層に接
着されるフィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレー
トがなり得る。反射層保護の使用に好適な組み立てられ
た要素および方法は、米国特許第4,077,830号、米国特
許出願第077,497号、米国特許出願第031,613号で開示さ
れたものを含む。各々の内容はここに含めておく。
E.エンボス加工 仮支持体を除去後、光硬化性層の表面は、ランドおよ
びピットの形状の情報トラックのネガ型をその表面につ
けるエンボスダイまたはスタンパーを常温で押圧するこ
とにより情報トラックでエンボス加工される。簡単な手
による押圧は、スタンパー表面を光硬化性層に埋めるの
に充分であるが、プレスの使用は、表面にわたり均一な
高い圧力が瞬間的に与えられ得て、層表面をスタンパー
表面に完全に一致させることを確保する場合に好まし
い。同様に、スタンパーは、整合された積層体／スタン
パーを圧力ロールラミネーターのニップに通すことによ
り光硬化性層中に均一に埋められ得て、その後プレスを
使用する。スタンパーのネガ型画像トラックが光硬化性
層に均一に埋められた後、圧力は緩められもしくは除去
され、その後光硬化性層は透明な基板を通して化学線に
露光される。あるいは、高い圧力が化学線露光中維持さ
れ得る。
エンボス加工するダイまたはスタンパーは、コンパク
トディスクまたはビデオディスクのような媒体の製造で
使用される従来のいずれかのスタンパーがなり得る。そ
のようなスタンパーは、米国特許第4,474,650号のよう
な当該技術分野で既知の方法により作製され得る。この
内容はここに含めておく。さらに、スタンパー自身は、
例えば、次のようにこの発明の方法により作製された光
重合された要素がなり得る。
そのような光硬化されたスタンパーを作製する方法
は、以下の工程の順序からなる。
（ａ）光学的に透明である乾燥した光硬化性フィルムを
寸法的に安定な基板の表面に与える； （ｂ）光硬化性フィルムの露出した表面にレリーフ情報
トラックの表面でエンボス加工する； （ｃ）レリーフ情報トラックと接触させつつ、化学線を
乾燥した光硬化性フィルムに通して、フィルムを硬化さ
せる； （ｄ）レリーフ情報トラックから光硬化されたフィルム
を離す； （ｅ）エンボス加工された光硬化されたフィルムを特許
請求の範囲第１項の方法におけるスタンパーとして使用
する。
さらに、スタンパーは、石英ガラスのような基板上に
支持された不透明の金属レリーフ画像層、例えば、クロ
ムを有する高解像度のフォトマスクとなり得る。可撓性
基板も使用され得る。このスタンパーは、Bowden,et al
によりJ.Electrochem.Soc.,Solid−State Science ＆ T
echnology,Vol.128,No.6,pp.1304−1313に記載されたよ
うにポジ型電子ビームレジスト材料等を用いることによ
り従来の方法で作製され得る。
基板は、寸法的に安定であり、好ましくは化学線に対
して透明である限り硬質でも可撓性でもなり得る。
スタンパーが光重合された要素から作製される時、離
型用コーティングをエンボス加工された表面に施してエ
ンボス加工された媒体からのスタンパーの離型を容易に
することが好ましい。アルミニウムおよびクロムのよう
な金属、並びにフルオロポリマーのような低表面エネル
ギーを有する有機ポリマーの中で種々の材料がこの目的
のために使用され得る。金属はスパッタリングにより被
覆され、ポリマーはスパッタリングによりもしくはプラ
ズマ重合により被覆され得る。
通常、スタンパーは平らなエンボス加工用ダイである
が、ロールがその表面の長手方向に沿って一つまたはそ
れ以上のネガ型情報トラックを有するようなエンボス加
工用ロールもなり得る。そのようなエンボスロールは、
第３図のように積層されたシート基板に同時にエンボス
加工および露光する時に特に有用である。例えば、光硬
化性層は、ロールのニップがネガ型情報トラックのセグ
メントを層に光硬化性層の情報トラックの寸法に適合す
るのに充分な強度で埋めたすぐ後であって、ロール表面
がエンボス加工された要素からはずされる前に化学線に
露光される。さらに、その後、エンボス加工された光硬
化された層を完全にキュアもしくは硬化させるために処
理が与えられ得る。
例えば、完成された、例えば、ディスク構造を有する
基板が使用される場合、シート支持体は除去され、スタ
ンパーは例えば、ディスクの環状の穴における円柱を用
いて、積層体構造の中心におかれる。シム構造は、制限
を満足する表面厚みを確保するために積層体構造のまわ
りに提供され得る。中心に位置したスタンパーは、その
後、必要な時間、機械的もしくは水圧的なプレスにより
光硬化性表面に押圧される。光硬化性層は、圧力が与え
られるか、積層体／スタンパー複合体が従来の照射源に
除去されおよび設置されつつ、第2D図のように化学線に
露光され得る。情報トラックが所定の場所に適合する程
度に光硬化が完成された後、スタンパーは複合体から除
去され、第2E図のような情報トラックを含むエンボス加
工された表面を有する積層体光硬化構造を与える。もし
さらにキュアが層を完全に硬化させるために必要であれ
ば、従来のいずれかの手段、例えば、さらに化学線露
光、熱処理、電子ビーム等が使用され得る。
F.ラベルつけ 従来のどの方法も、ラベルを反射媒体の保護表面に与
えるために用いられ得る。通常、４色のラベルが、オフ
セット印刷法を用いて各々の媒体の保護表面に個々に印
刷される。ブランクシート基板が使用されていて、シー
トの限界内で情報トラック（媒体）の列を製造する場
合、全シート列の保護表面はフレキソおよびオフセット
法を含む従来の印刷法を用いて位置合わせされたラベル
列を用いて印刷され得る。あるいは、各々の媒体部分の
列は、従来の段階的な印刷法により個々に印刷され得
る。
前述した米国特許第4,247,619号で開示されたネガ型
ピール剥離要素および方法を用いて、ラベルをつけた保
護層複合体が反射層に与えられ得る。規則正しく粘着性
層を有する要素の粘着性層の場合、光重合性層および剥
離可能なカバーフィルム、例えば、CromalinR C4/CN防
水フィルムが反射層の開放した表面に積層される。積層
体は、その後、ラベルのネガ型画像を含むマスクを通し
て化学線に露光され、露光された領域が接着したカバー
シートが積層体から剥離され、覆われていない粘着性画
像領域が乾燥したトナー粉、例えば、ブラックで調色さ
れる。もしフルカラーラベルが必要であるならば、好適
に合わされた色分離マスクおよび対応したトナー、例え
ば、イエロー、マゼンダ、シアントナー粉末を用いて操
作がさらに３回繰り返される。最後に、５番目の要素が
その前に調色された表面に積層され、均一に化学線に露
光され、カバーシート、例えば、ポリエチレンテレフタ
レートの光硬化された保護表面をもたらす。ラベルが異
なる方法で与えられる場合、５番目の工程のみがエンボ
ス加工された媒体の反射層をシールおよび保護のために
必要とされる。
G.積層 光硬化性層は、従来のいずれかの積層システムを用い
て基板の表面に積層され得る。乾燥したフィルムを基板
に与えるための好適なシステムは、米国特許第3,469,98
2号、3,547,730号、3,649,268号、4,127,436号で開示さ
れたようなホットロールラミネーターおよび加熱された
プラテンまたはシューを有するラミネーターを含む。こ
れらの各々の内容はここに含めておく。接着を増大させ
るために液体が使用されるような有用な積層システム
は、米国特許第3,629,036号、4,069,076号、4,405,394
号、4,378,264号で開示されたものを含む。これらの各
々の内容はここに含めておく。特に有用なものは、市販
のホットロールラミネーター、例えば、デュポンCromal
inRラミネーターおよびデュポンRistonRホットロールラ
ミネーター、並びにラミネーター，モデル100である。
この発明の積層工程において、保護カバーシートもし
くは内部箔は、もし存在するならば、まず光硬化性層か
ら除去され、層は通常熱とともに圧力下で基板の表面に
与えられ、界面の空気が除去され、基板と層との間のボ
イドのない接着がもたらされる。好ましくは、ホットロ
ールラミネータは、そのようなボイドのない接着をもた
らすために使用される。
完成された基板、例えば、ブランクディスクが使用さ
れる場合、キャリアーシートが各々の完成された基板も
しくは基板の列をラミネーターのニップ内におよび通し
て運び、各々の基板の背面の汚染を防ぐ。普通の紙シー
トもしくは織布が糸くずのないおよびそのような異物の
ないものであるならばキャリアーシートとして好適であ
る。好適なキャリアーシートは、CromalinR Masterproo
f Commercial Receptor,Du Pont product CM/CRまたは
他の同様な材料である。完成された基板が使用された場
合も、光硬化性要素の余分な領域は、積層された基板の
端部から、例えば、積層された完成されたディスクの端
部および穴から切り取られる。接着／凝着力が注意深く
釣り合わされる場合、積層体からの余分な光硬化性材料
の裁ち落しは、そこに接着している余分な材料と共にそ
こから支持シートを剥がすことによりもたらされ得る。
H.媒体形状 前述したように、媒体の形、例えば、ディスクは、こ
の発明の方法以前の従来の成形、スタンピング、切断方
法により形成され、または形はシート列から媒体を切断
もいくはスタンピングすることにより形成され得る。シ
ート列から媒体形状の形成は、通常、各々の媒体がシー
ト列から中に情報トラックで位置合せする際に切り出さ
れもしくはスタンピングされるようなラベルつけ工程の
後に起こる。しかしながら、媒体は、同様の方法でシー
ト列から除去され得て、一度情報トラックがシートの媒
体領域でエンボス加工される。この場合、各々のエンボ
ス加工された媒体は、さらに個々の断片のように処理さ
れる。同様に、媒体の形は、この方法のいずれかの中間
の工程の間に形成され得る。
媒体の形は上記に示したように最終の横方向の寸法で
形成され得るが、最初の寸法が指定されたものより大き
いならば、一つまたはそれ以上の裁ち落し工程が大きす
ぎる媒体もしくはブランクから最終の寸法を形成するた
めに導入し得る。この裁ち落し工程は、例えば、円形の
ディスク媒体の情報トラックを用いる位置合せにおいて
正確な中心穴を切り出すもしくは打ち抜く際に特に有用
である。
この発明の積層およびエンボス加工工程の有利な性質
は、図面および以下の実施例を参照することにより明ら
かにされ得る。
図面の第１図および第２図を参照して、キャリアーシ
ート上の完成されたブランクディスク基板は、乾燥した
光硬化性フィルム要素12のシートもしくは織布と共にロ
ールラミネーター118のニップに導入される。これによ
り、光硬化性層14が第2a図のように熱および／または圧
力を用いてブランクディスクの平らな表面に積層され
る。ディスク10の端部から不必要な光硬化性フィルム12
を裁ち落しした後、第2b図のように光硬化性要素12の仮
支持フィルム16を除去する。エンボス加工用ダイまたは
スタンパー20は、裁ち落された積層された要素で位置合
せする際に設置され、その後、加圧手段121を用いて第2
c図に示すように光硬化性層14の表面に押圧されてエン
ボス加工された表面22が形成される。
スタンパー20がエンボス加工された表面22から除去さ
れる前に、光硬化性層14が照射源123からディスク基板1
0を通して化学線にさらすことにより第2d図のように光
硬化される。いずれの化学線源も、源が使用される光硬
化性システムに適合するならば、層を露光しおよびキュ
アするために使用され得る。光重合性および光架橋性シ
ステムは、通常、スペクトルの近紫外線領域および可視
部分における放射線に敏感である。化学線照射／光硬化
性システムの第１の要件は、使用される放射線がシステ
ムにおいて硬化を開放することおよび光硬化された層中
の残留した開始剤が媒体の再生の間読みだしの際に逆に
阻害しないことである。この発明の方法において、紫外
線および可視光線、特に近紫外線領域が包含される。化
学線源は、多くの市販されているシステム、例えば、Do
uthitt VIOLUX金属ハロゲン化物光システム、Olec OLIT
Eハロゲン化物印刷光等のいずれもがなり得て、または
従来の成分から製造された専用システムがなり得る。光
硬化もしくはキュアが完了した後、スタンバー20はエン
ボス加工された表面22から除去され、離隔したピットお
よびランドの情報トラックを有する第2e図のようなエン
ボス加工されたディスクが製造される。
従来のレーザ再生システムにおいてエンボス加工され
た情報トラックが有用であるためには、入射再生照射は
レリーフトラックの背面部から検出器に反射されなけば
ならない。これは、反射材料、通常金属の層をエンボス
加工された表面に与えることにより達成される。反射層
24は、被着手段125を用いて第2f図のようにディスクの
光硬化されたエンボス加工された表面に与えられる。あ
るいは反射層は、エンボス加工工程の直前に与えられ得
る。この方法において、この点でディスクは情報トラッ
クを所望の信号に変換するための好適なプレーヤーに使
用され得る。
媒体のエンボス加工された表面が反射する場合、その
とき、再生システムに対して必要とされる物理的ディメ
ンションを有する、例えば、完成された基板から作製さ
れたならば、媒体は使用可能である。使用可能であるけ
れども、エンボス加工された層の界面での反射表面はカ
バー層により保護されるまでは損傷および環境的分解を
うけやすい。
第１図を参照して、保護層26は第2g図に示すようにラ
ミネーターまたはコーター127により反射表面上に与え
られ、適当なラベルがアプリケーター131によりその上
に印刷される。この発明の態様は、各々の工程を通じて
並行して移動する複数のブランクディスクの同時処理を
含む。同時に処理される数は、通常、実際の光硬化性織
布の幅および他の装置規格により制限されるであろう。
図面の第３図を参照して、この発明の方法の他の態様
は、単一のブランクシートを使用していくつかのディス
クを製造するものを示す。この態様において、ブランク
シート基板10は、乾燥した光硬化性フィルム要素12のシ
ートもしくは織布と共にロールラミネーター118のニッ
プに導入され、光硬化性層14がブランクシート基板10の
上表面に積層され接着される。積層後、光硬化性要素12
の仮支持フィルム16が除去される。エンボス加工用ダイ
もたはスタンパー20は、下に設置された光源123を用い
て積層されたシートの部分上に位置合せして設置され
る。その後、スタンパー20は、光硬化性層14の表面に押
圧されエンボス加工された表面を形成し、次いで、スタ
ンパー20が除去される前に直ちに化学線に露光されて層
14を光硬化もしくはキュアされる。露光後、スタンパー
20は除去され、照射源123と共に積層されたシートの他
の部分に移動し、それによりエンボス加工および露光工
程が繰り返される。このエンボス加工／露光操作は繰り
返し用いられ、積層されたシートの残りの部分にディス
ク情報トラックを形成する。あるいは、スタンパー列20
が好適な照射源123と連結して使用されて、同時にシー
ト積層体の光硬化性層14の多くの部分にディスク情報ト
ラックを形成する。その列は、シート基板の使用できる
部分の全体に覆ってもよいし、シートの幅を横切る直線
の列であって、その後シート積層体の長手方向に沿って
進むものにしてもよい。反射層24はラミネーターもしく
はコーター127により光硬化されたエンボス加工された
シート要素の表面に与えられ、次いで、保護層26が設け
られ、シート上にディスク情報トラックの列を形成す
る。保護層の形成前または好ましくは後に、各々のディ
スクは情報トラックで位置合せして専用のパンチもしく
はカッター129により列から切り出しもしくは打ち抜き
される。ラベルは、アプリケーター131によりシートも
しくは切り出されていないディスクにつけられる。この
発明はディスク形状の光学的媒体の製造に向いている
が、カード織布、テープ、ドラム、または要求されるレ
ーザ信号路を提供するような形状のような他の形状に対
しても使用され得る。
［実施例］ 実施例１ この実施例は、第１図に示すような、予め成形された
基板を用いた光学的に読取り可能な媒体の準備について
示す。
基板は、ダスト集積防止層として機能し機械的支持を
与えるものであり、15mmの円柱状中心孔を有し、厚みが
1.2mm、直径が120mmの、インジェクション／コンプレッ
ション成形されたポリカーボネートディスクとした。
エンボス可能層を、熱間ロール積層によってドライフ
ィルムの状態で基板に貼り合わせた。ドライフィルムフ
ォトポリマーエレメントを、以下に示す光重合可能な組
成物の上に12.7μｍ（0.0005インチ）のポリエチレンテ
レフタレートフィルムを機械的にコーティングすること
によって準備した。25.4μｍ（0.001インチ）のポリエ
チレンフィルムを仮のインターリーフとして用いた。
ドライフィルムフォトポリマーエレメントの組成を以
下に示す。
成分 量（ｇ） ビスフェノールＡ及びエピクロロヒド 18.48 リンから誘導されたビスフェノールＡエポ キシレジンのジアクリレートエステル 粘度（25）＝1000000cps トリメチロールプロパントリメタクリ 13.66 レート 光学的増白剤（１） 2.06 ２−メルカプットベンズオキサゾール 0.83 2,2′−ビス−（ｏ−クロロフェニル 1.71 ）−4,4′,5,5′テトラフェニルビイミダ ゾール トリメチロールプロパン 5.08 グリセロール トリアセテート 6.75 メトキシハイドロキノン 0.022 熱的抑制剤（２） 0.05 ジエチルヒドロキシルアミン 0.09 エチル アクリレート（57％）／メチ 18.06 ルメタクリレート（39％）／アクリル酸（ ４％）コポリマーMW＝192000;Acid No.＝57;Tg＝33 エチル アクリレート,Acid No.＝63 5.40 ;Tg−14 粘度（25）＝2000000cps;MW＝7000 エチル アクリレート（17％）／メチ 25.15 ルメタクリレート（71％）／アクリル酸（ 12％）コポリマー MW＝200000;Acid No.＝100;tg＝80 ポリカプロラクトン 0.20 MW＝15000;M.P.＝CO ;Tg＝CO 37.0gのメターノルに溶解された亜鉛 39.45 アセチルアセトネート（2.45g） （１）７−（４′−クロロ−６′−エチルアミノ−
１′,3′,5′−トリアジン−４′−イル）アミノ−３−
フェニル クマリン （２）1,4,4−トリメチル−2,3−ジアゾビシクロ−（3.
3.2）−ノン−２−エン−2,3−ジオキサイド 積層せの間にディスクを支持するために、市販のカラ
ープル−フィングレセプター（クロマリン（商標名）マ
スタープル−フ コマーシャル レセプター，製造番号
CM/CR,E.I.デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパ
ニー，ウイルミントン,DE）の仮搬送シートの上に基板
を置いた。クロマリン（商標名）ラミネーター（デュポ
ン，ウイルミントン,DE）を用いて、ロール表面温度115
〜124℃でドライフィルムを基板に貼合せた。積層体は
ディスク表面を均一に覆い、搬送シートに向かうエッジ
の周囲においてそれをシールした。レーザブレードによ
ってディスクを所定形状に切削し、積層されたフィルム
を中心孔から切り取った。
インジェクション／コンプレッション成形によってポ
リカーボネートディスクを作製するために用いられる従
来のニッケル−シェル スタンパーでドライフィルム層
をエンボス加工することによって、貼合わされたディス
クに情報を転写した。スタンパー上のバンプ及び空間
は、長さ0.9乃至3.3μｍ、高さおよそ0.1μｍ、幅0.6μ
ｍであった。エンボス加工の間に、より良いエッジを接
触を達成するために、このようなスタンパーに存在する
約1mmの通常の外径モールドプロファイルを直径119mmの
剪断パンチで除去した。貼合されたディスクからポリエ
ステルカバーシートを除去した。スタンパの中心を見出
すために、センタリングピンを先ずディスクの中心孔に
挿入させた。次いで、同じピンを用いてスタンパをディ
スクに同心的に適合させた。指の圧力で情報層上へスタ
ンパーを押圧することによりサンドイッチを形成した。
その層の粘着性がスタンパーを適当な位置に保持し、セ
ンタリングピンは除去された。その後、サンドイッチを
アルミニウムのシムの間に位置させ、スタンパーのモー
ルドプロファイルを収容し、サンドイッチをプレスプラ
テンから保護した。室温において、20.3×20.3cmのダイ
空間、直径102mmのラムを有し手動レバー作動の容量400
00lb（18.1トン）の水圧プラトンプレス（パサデナ水圧
株式会社，パサデナ,CA）にサンドイッチを装着した。2
0平方インチ（129cm2）のサンドイッチ領域に基づいた2
000lbs/in2（141kg/cm2）の圧力に対応する最大容量ま
で荷重を速やかに増加させた。２〜３秒の保圧時間後に
荷重を解放し、組立体をプレスから取り出した。
その後、エンボス加工された情報層を基板に対し強固
に接合させ、紫外線を露光することによりエンボスを不
変性にした。スタンパー／基板サンドイッチを、透明な
基板を高原に向けた状態で、真空フレームの情で、かつ
高強度紫外線露光ユニットの中の光源から63.5cmの位置
に位置させた。10秒間露光後、組立体を僅かに曲げるこ
とによってスタンパーを除去した。顕微鏡によって、エ
ンボス加工された表面を観察した。スタンパの情報が良
好な忠実度でフォトポリマー層に転写されたことが明白
であった。
このようにして硬化された情報層は、その上に800〜1
000Aのアルミニウムを通常この分野で知られている手順
を用いてスパッタリングすることによってメタライズさ
れた。メタライズの後、ディスクを従来のオーディオコ
ンパクトディスクプレーヤーにかけたところ、市販のイ
ンジェクション／コンプレッション成形ディスクと同等
の音が再生された。
表面を保護するために、ドライフィルム積層プロセス
を用いた。市販のクロマリン（商品名）ネガティブカラ
ープルーフィングフィルム（製造コードC4/CN,デュポ
ン，ウイルミントン,DE）を、ロール温度を99〜107℃に
した以外は、上述と同様に搬送シート及び熱間ロール積
層を用いて貼り合せた。
実施例２ エンボス加工を水圧ではなく手圧のみで実施した以外
は、実施例１を繰り返した。露光工程の後の顕微鏡観察
により、スタンパーからの良好な情報転写が示された。
実施例３ 基板は、ダスト集積防止層として機能し機械的支持を
与えるものであり、150mm（６インチ）の正方形で厚み
が1.2mmであり、押出されたポリカーボネートシート
（マクロロン（商標名）OD,ローム社、ダルムスタッ
ド，西独）から切り出した。
エンボス可能な情報層を熱間ロール積層によってドラ
イフィルムの状態で基板に貼合わせた。ドライフィルム
フォトポリマーエレメントを実施例１と同様にして準備
した。
積層せの間にディスクを支持するために、実施例１と
同様に、市販のカラープルーフィングレセプターの仮搬
送シートの上に基板を置いた。実施例１と同様に、クロ
マリン（商標名）ラミネーターを用いてドライフィルム
を基板に貼合せた。積層体はディスク表面を均一に覆
い、搬送シートに向かうエッジの周囲においてそれをシ
ールした。レーザブレードによってディスクを所定形状
に切削した。
インジェクション／コンプレッション成形によってポ
リカーボネートディスクを作製するために用いられる平
坦で孔のないニッケル−シェル スタンパーでドライフ
ィルム層をエンボス加工することによって、積層された
基板に情報を転写した。スタンパー上のランド及びバン
プは、長さ0.9乃至3.3μｍ、高さおよそ0.1μｍ、幅0.6
μｍであった。積層されたディスクからポリエステルカ
バーシートを除去した。室温で動作するクロマリン（商
標名）ラミネーター中の積層された基板の情報層へスタ
ンパーを貼合わせた。その後、サンドイッチをポリカー
ボネートのシムの間に位置させ、サンドイッチをプレス
プラテンから保護した。室温において、23×23cmのプラ
トン、17cmのラムストロークを有し、手動レバー作動の
容量50000lb（23トン）の水圧プラトンプレス（モデム
Ｍ 実験室プレス、フレッドＳカーバー会社，メノモニ
ー フォールズ,WI）にサンドイッチを装着した。30平
方インチ（190cm2）のサンドイッチ領域に基づいた1300
lbs/in2（29kg/cm2）の圧力に対応する最大容量まで荷
重を速やかに増加させた。１〜15秒の保圧時間後に荷重
を解放し、シムで止められたたサンドイッチをプレスか
ら取り出した。そして、シムをサンドイッチから除去し
た。
その後、エンボス加工された情報層を基板に対し強固
に接合させ、紫外線を露光することによりエンボスを不
変性にした。スタンパー／基板サンドイッチを、透明な
基板を光源に向けた状態で、高強度紫外線露光ユニット
（5kW OLITEプリンティングライト,AL53−Ｍ型，オレッ
ク株式会社，イルバイン,CA）の中の光源からおよそ36c
m（14インチ）の位置に位置させた。30秒間露光後、組
立体を僅かに曲げることによってスタンパーを除去し
た。エンボス加工された表面を顕微鏡で観察した。スタ
ンパの情報が良好な忠実度でフォトポリマー層に転写さ
れたことが明白であった。
このようにして硬化された情報層は、その上に800〜1
000Aのアルミニウムを通常この分野で知られている手順
を用いてスパッタリングすることによってメタライズさ
れた。
表面を保護するために、ドライフィルム積層プロセス
を用いた。市販のクロマリン（商標名）ネガティブカラ
ープルーフィングフィルム（製造番号CM4/CN,E.I.デュ
ポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー，ウイルミ
ントン,DE）を実施例１と同様にして搬送シート及び熱
間ロール積層を用いて貼り合せた。その後、表面に面し
たドライフィルム保護層を伴った積層基板に、上述した
ようにして、30秒間紫外線露光を行った。この露光によ
りドライフィルム保護層をアルミニウム表面に固着さ
せ、エンボス加工された情報を封入した。エンボス加工
された情報に関して正確に位置された外径（120mm）
を、正方形のシートから打ち抜いた。その後、エンボス
加工された情報に関して正確に位置された中心孔（15m
m）をディスクから打ち抜いた。
この分野で知られている通常の手順を用いて、ドライ
フィルム保護層に３色のラベルをプリントした。
できあがったディスクをオーディオコンパクトディス
クプレーヤーにかけたところ、市販のインジェクション
／コンプレッション成形ディスクと同等の音が再生され
た。
【図面の簡単な説明】
第１図は光学的読取可能ディスク媒体を準備するために
用いられるこの発明の工程を概略的に示す図、 第２図はこの発明に用いられる方法の工程と媒体要素の
さらに詳細に説明する図、 第３図は積層工程の後シートから切り抜かれたディスク
のブランクシート基板を用いたこの発明の製造方法の実
施態様を示す図である。 10……ディスク基板、12……光硬化性フィルム要素、14
……光硬化性層、16……仮支持フィルム、20……スタン
パー、24……反射層、26……保護層、118……ロールラ
ミネーター、121……加圧手段、123……照射源、125…
…被着手段、127……ラミネーター、129……カッター、
131……アプリケーター。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｌ 17:00 (56)参考文献 特開 昭61−188755（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−137752（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/26 B29C 59/02 B29D 17/00

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ）ドライ光硬化性フィルムを寸法が安
    定な光学的に透明な基体にラミネートする工程、 （ｂ）ドライ光硬化性フィルムの露出面に反射層を任意
    に形成する工程、 （ｃ）情報トラックのレリーフ像を含むスタンパーを加
    圧下で適用することにより、レリーフ情報トラックで光
    硬化性フィルムの露出面をエンボス加工する工程、 （ｄ）スタンパーと接触させつつ、透明基体及び光硬化
    性フィルムに化学線を通し、光硬化性フィルムを硬化さ
    せる工程、 （ｅ）エンボス加工された光硬化したフィルムからスタ
    ンパーを分離する工程、及び （ｆ）エンボス工程（ｃ）の前に何も形成されないなら
    ば、光硬化したフィルムのエンボス面に光反射層を形成
    する工程を具備するレリーフ情報トラックを含む光学的
    に読取り可能な媒体の製造方法。
  2. 【請求項２】（ａ）ドライ光硬化性フィルムの表面に反
    射層を形成する工程、 （ｂ）寸法が安定な光学的に透明な基体の表面に光硬化
    性フィルムの非反射面をラミネートする工程、 （ｃ）情報トラックのレリーフ像を含むスタンパーを加
    圧下で適用することにより、レリーフ情報トラックで光
    硬化性フィルムの非反射面をエンボス加工する工程、 （ｄ）スタンパーと接触させつつ、透明基体及び光硬化
    性フィルムに化学線を通し、光硬化性フィルムを硬化さ
    せる工程、及び （ｅ）エンボス加工された光硬化したフィルムからスタ
    ンパーを分離する工程を具備するレリーフ情報トラック
    を含む光学的に読取り可能な媒体の製造方法。
  3. 【請求項３】前記エンボス工程の後に、前記反射層の表
    面にポリマー保護層が適用される請求項１又は２に記載
    の方法。
  4. 【請求項４】前記基体はラミネートの前に既に形成され
    ている請求項１又は２に記載の方法。
  5. 【請求項５】前記基体はラミネートの前にシート状であ
    り、ディスク状に形成され、次いでラミネートされる請
    求項１又は２に記載の方法。
  6. 【請求項６】前記基体はポリカーボネートから作られる
    請求項１又は２に記載の方法。
  7. 【請求項７】光硬化性フィルムは20メガポアズ以上のク
    リープ粘度を有する請求項１又は２に記載の方法。
  8. 【請求項８】（ａ）寸法が安定な基体の表面に光学的に
    透明な光硬化性フィルムをラミネートする工程、 （ｂ）レリーフ情報トラックの表面により光硬化性フィ
    ルムの露出面をエンボス加工する、 （ｃ）レリーフ情報トラックから光硬化したフィルムを
    分離する工程、及び （ｄ）エンボス加工された光硬化したフィルムをスタン
    パーとして用いる工程によりスタンパーが作られる、レ
    リーフ情報トラックを含む光学的に読取り可能な媒体の
    製造方法。
  9. 【請求項９】工程（ｄ）の前に光硬化したフィルムに剥
    離層が適用される請求項８に記載の方法。
  10. 【請求項１０】前記剥離層は、Al又はCrである請求項９
    に記載の方法。
  11. 【請求項１１】前記剥離層は、低い表面エネルギーの固
    体有機ポリマーである請求項９に記載の方法。
  12. 【請求項１２】低い表面エネルギーの固体有機ポリマー
    はフルオロポリマーである請求項11に記載の方法。
  13. 【請求項１３】前記スタンパーは、ガラス又は石英基体
    上に支持された不透明レリーフ金属像層を有する高解像
    度ホトマスクである請求項１又は２に記載の方法。
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CA (1) CA2020180C (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004015704A1 (ja) 2002-08-08 2004-02-19 Lintec Corporation 光ディスク製造用シート
JP2007294098A (ja) * 2007-06-15 2007-11-08 Lintec Corp 光ディスク製造用シート

Families Citing this family (92)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69118413T2 (de) * 1990-01-18 1996-08-08 Du Pont Verfahren zur Herstellung optisch lesbarer Medien mit Informationen in Relief
US5308235A (en) * 1991-04-04 1994-05-03 Canon Kabushiki Kaisha Roll stamper and apparatus for forming a substrate for information recording medium
CA2066070A1 (en) * 1991-04-18 1992-10-19 Felix P. Shvartsman Method for read-only optically readable media
US5320514A (en) * 1991-10-22 1994-06-14 Canon Kabushiki Kaisha Roll stamper, and apparatus and process for manufacturing substrate sheet for information recording mediums by using the same
US5708652A (en) * 1995-02-28 1998-01-13 Sony Corporation Multi-layer recording medium and method for producing same
FR2743336B1 (fr) * 1996-01-04 1998-02-27 Gemplus Card Int Procede de fabrication d'une couche de revetement pour support portable, notamment support au format carte, et support portable muni d'une telle couche de revetement
US6001893A (en) * 1996-05-17 1999-12-14 Datacard Corporation Curable topcoat composition and methods for use
US8153957B2 (en) * 1996-09-27 2012-04-10 Digitaloptics Corporation East Integrated optical imaging systems including an interior space between opposing substrates and associated methods
US6096155A (en) * 1996-09-27 2000-08-01 Digital Optics Corporation Method of dicing wafer level integrated multiple optical elements
US20080136955A1 (en) * 1996-09-27 2008-06-12 Tessera North America. Integrated camera and associated methods
JPH10208319A (ja) * 1997-01-28 1998-08-07 Kitano Eng Kk ディスク基板の貼り合わせ方法
JPH10289556A (ja) * 1997-04-11 1998-10-27 Lintec Corp 光ディスク用ラベル及びそれを貼付した光ディスク
US6264296B1 (en) 1997-05-06 2001-07-24 Fargo Electronics, Inc. Ink jet identification card printer with lamination station
US5980011A (en) 1997-05-16 1999-11-09 Fargo Electronics, Inc. Identification card printer
US6685312B2 (en) 1997-10-24 2004-02-03 Fargo Electronics, Inc. Ink jet card printer
US6702282B2 (en) 1997-10-24 2004-03-09 Fargo Electronics, Inc. Card transport mechanism roller support
EP1030892B1 (en) * 1997-11-14 2008-02-20 Datacard Corporation Curable topcoat composition and methods for use
US6855415B2 (en) * 1997-11-14 2005-02-15 General Electric Company Coated thermoplastic film substrate
EP0932149B1 (en) * 1998-01-27 2006-09-06 Kitano Co., Ltd. Method of and apparatus for laminating disc-shaped substrates
US6066218A (en) * 1998-04-23 2000-05-23 3M Innovative Properties Company Method and apparatus for assembling an optical recording medium
US6108131A (en) 1998-05-14 2000-08-22 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light
US6081376A (en) * 1998-07-16 2000-06-27 Moxtek Reflective optical polarizer device with controlled light distribution and liquid crystal display incorporating the same
US6202550B1 (en) 1998-12-30 2001-03-20 Eastman Kodak Company Printer and method for printing indicia on a compact disk using a plurality of ink jet or laser rotatable print heads
US6932527B2 (en) 1999-01-25 2005-08-23 Fargo Electronics, Inc. Card cartridge
US7154519B2 (en) 1999-01-25 2006-12-26 Fargo Electronics, Inc. Printer and ribbon cartridge
US7018117B2 (en) * 1999-01-25 2006-03-28 Fargo Electronics, Inc. Identification card printer ribbon cartridge
US7344325B2 (en) 1999-01-25 2008-03-18 Fargo Electronics, Inc. Identification card printer having ribbon cartridge with cleaner roller
US6694884B2 (en) 1999-01-25 2004-02-24 Fargo Electronics, Inc. Method and apparatus for communicating between printer and card supply
US6832866B2 (en) * 1999-01-25 2004-12-21 Fargo Electronics, Inc. Printer or laminator supply
AU2880100A (en) 1999-02-12 2000-08-29 General Electric Company Data storage media
KR20020019092A (ko) * 1999-06-16 2002-03-09 라스프 광학적으로 판독 가능한 데이터 캐리어 코팅 장치 및 방법
IL147084A0 (en) * 1999-06-16 2002-08-14 Steag Hamatech Ag Device and method for coating an optically readable data carrier
US7339690B2 (en) * 1999-07-14 2008-03-04 Fargo Electronics, Inc. Identification card printer with client/server
US6447120B2 (en) 1999-07-28 2002-09-10 Moxtex Image projection system with a polarizing beam splitter
US6666556B2 (en) 1999-07-28 2003-12-23 Moxtek, Inc Image projection system with a polarizing beam splitter
TW484531U (en) * 1999-08-07 2002-04-21 Ritek Corp Car cabin light device
US6517995B1 (en) * 1999-09-14 2003-02-11 Massachusetts Institute Of Technology Fabrication of finely featured devices by liquid embossing
DE10001160A1 (de) * 2000-01-13 2001-07-19 Topac Multimediaprint Gmbh Verfahren zur Herstellung von optischen Speichermedien
US6758616B2 (en) 2000-01-21 2004-07-06 Fargo Electronics, Inc. Identification card printer
US6770441B2 (en) 2000-02-10 2004-08-03 Illumina, Inc. Array compositions and methods of making same
JP4060022B2 (ja) * 2000-02-16 2008-03-12 パイオニア株式会社 情報記録媒体、その製造装置及びその製造方法、ならびに情報記録媒体への信号記録装置及びその信号記録方法
US6623788B1 (en) * 2000-07-25 2003-09-23 Seagate Technology Llc Defect-free patterning of sol-gel-coated substrates for magnetic recording media
WO2002064350A1 (fr) * 2001-02-07 2002-08-22 Idemitsu Unitech Co., Ltd. Procede servant a fabriquer une plaque a reliefs microscopiques et plaque gaufree
JP4533542B2 (ja) * 2001-02-07 2010-09-01 出光興産株式会社 マイクロエンボスシートの製造方法
US7375887B2 (en) 2001-03-27 2008-05-20 Moxtek, Inc. Method and apparatus for correcting a visible light beam using a wire-grid polarizer
KR20040012763A (ko) * 2001-04-19 2004-02-11 제너럴 일렉트릭 캄파니 엠보싱 방법 및 그에 의해 형성된 엠보싱 제품
US20030006535A1 (en) * 2001-06-26 2003-01-09 Michael Hennessey Method and apparatus for forming microstructures on polymeric substrates
US7112359B2 (en) * 2001-08-22 2006-09-26 Inphase Technologies, Inc. Method and apparatus for multilayer optical articles
JP4359411B2 (ja) * 2001-10-09 2009-11-04 リンテック株式会社 光ディスク製造用シート
US6936181B2 (en) * 2001-10-11 2005-08-30 Kovio, Inc. Methods for patterning using liquid embossing
US6985167B2 (en) * 2002-03-01 2006-01-10 Fargo Electronics, Inc. Card cleaner roller assembly
US7430762B2 (en) 2002-03-01 2008-09-30 Fargo Electronics, Inc. Identification card manufacturing security
US20030197056A1 (en) * 2002-04-19 2003-10-23 Dunham Matthew K. Identification card printer data encoder module
US20030197770A1 (en) 2002-04-19 2003-10-23 Klinefelter Gary M. Card cartridge and card feed adapter for an ink jet sheet feeder printer
US6785050B2 (en) 2002-05-09 2004-08-31 Moxtek, Inc. Corrosion resistant wire-grid polarizer and method of fabrication
US20030234470A1 (en) * 2002-06-20 2003-12-25 Haan Stephen F. Embossing apparatus, method of use thereof and resulting article
US20050167890A1 (en) * 2002-06-26 2005-08-04 Energy Conversion Devices, Inc. Method and apparatus for forming microstructures on polymeric substrates
ITMO20020218A1 (it) * 2002-07-31 2004-02-01 Giorgio Corradi Metodo per la fabbricazione di una pellicola retroriflettente.
US6957608B1 (en) 2002-08-02 2005-10-25 Kovio, Inc. Contact print methods
US6945524B2 (en) 2002-09-05 2005-09-20 Fargo Electronics, Inc. Card singularization gate
US20040132301A1 (en) * 2002-09-12 2004-07-08 Harper Bruce M. Indirect fluid pressure imprinting
US7620815B2 (en) 2003-02-21 2009-11-17 Fargo Electronics, Inc. Credential production using a secured consumable supply
US7878505B2 (en) 2003-08-19 2011-02-01 Hid Global Corporation Credential substrate rotator and processing module
US20070110361A1 (en) * 2003-08-26 2007-05-17 Digital Optics Corporation Wafer level integration of multiple optical elements
WO2005026908A2 (en) 2003-09-11 2005-03-24 Fargo Electronics, Inc. Identification card manufacturing system supply ordering and diagnostic report
WO2005109716A2 (en) 2004-05-03 2005-11-17 Fargo Electronics, Inc. Managed credential issuance
TWM265641U (en) * 2004-06-09 2005-05-21 Rilite Corportation Double shielded electroluminescent panel
US7570424B2 (en) 2004-12-06 2009-08-04 Moxtek, Inc. Multilayer wire-grid polarizer
US7961393B2 (en) 2004-12-06 2011-06-14 Moxtek, Inc. Selectively absorptive wire-grid polarizer
US7800823B2 (en) 2004-12-06 2010-09-21 Moxtek, Inc. Polarization device to polarize and further control light
US8099187B2 (en) 2005-08-18 2012-01-17 Hid Global Corporation Securely processing and tracking consumable supplies and consumable material
US20070082179A1 (en) * 2005-10-07 2007-04-12 Wade James J Method and apparatus for forming optical articles
KR100707771B1 (ko) * 2006-03-23 2007-04-17 조항태 다단 엠보싱 자동 인쇄시스템
WO2007126737A2 (en) * 2006-04-03 2007-11-08 Ceelite Llc Constant brightness control for electro-luminescent lamp
JP4829033B2 (ja) * 2006-08-09 2011-11-30 株式会社小森コーポレーション 情報記録媒体供給装置
US8755113B2 (en) 2006-08-31 2014-06-17 Moxtek, Inc. Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer
US7789515B2 (en) 2007-05-17 2010-09-07 Moxtek, Inc. Projection device with a folded optical path and wire-grid polarizer
EP2091041A1 (en) * 2008-02-07 2009-08-19 DPHI, Inc. A method for producing optical discs
JP5388539B2 (ja) * 2008-10-28 2014-01-15 旭化成イーマテリアルズ株式会社 パターン形成方法
WO2010061462A1 (ja) * 2008-11-27 2010-06-03 パイオニア株式会社 転写装置及び転写方法
US20110215504A1 (en) * 2008-11-27 2011-09-08 Pioneer Corporation Transfer method and transfer apparatus
US8248696B2 (en) 2009-06-25 2012-08-21 Moxtek, Inc. Nano fractal diffuser
ES2547136T3 (es) 2009-09-18 2015-10-02 Assa Abloy Ab Rotador de sustrato de tarjeta
US8611007B2 (en) 2010-09-21 2013-12-17 Moxtek, Inc. Fine pitch wire grid polarizer
US8913321B2 (en) 2010-09-21 2014-12-16 Moxtek, Inc. Fine pitch grid polarizer
US8873144B2 (en) 2011-05-17 2014-10-28 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with multiple functionality sections
US8913320B2 (en) 2011-05-17 2014-12-16 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with bordered sections
US8922890B2 (en) 2012-03-21 2014-12-30 Moxtek, Inc. Polarizer edge rib modification
US9632223B2 (en) 2013-10-24 2017-04-25 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with side region
US10201967B2 (en) 2014-03-03 2019-02-12 Ctpg Operating, Llc System and method for securing a device with a dynamically encrypted password
JP6445919B2 (ja) * 2015-04-15 2018-12-26 メモリーテック・ホールディングス株式会社 光ディスク及びその製造方法
US20200338807A1 (en) * 2018-01-19 2020-10-29 Mitsui Chemicals, Inc. Method for producing concave-convex structure, laminate to be used in method for producing concave-convex structure, and method for producing laminate

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1230816A (en) * 1911-03-08 1917-06-19 New Jersey Patent Co Method of making phonograph-records.
US4615753A (en) * 1968-06-06 1986-10-07 Discovision Associates Process for making a video record disc
NL165316C (nl) * 1973-10-01 1981-03-16 Mca Disco Vision Werkwijze voor de vervaardiging van een schrijfvormige video-afdrukmatrijs uitgaande van een moederschijf.
US4315872A (en) * 1977-07-29 1982-02-16 Fuji Kasui Engineering Co., Ltd. Plate column
US4582885A (en) * 1978-07-20 1986-04-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Shaped plastic articles having replicated microstructure surfaces
FR2450683A1 (fr) * 1979-03-06 1980-10-03 Thomson Brandt Procede et appareil de realisation de disque video
US4296158A (en) * 1980-02-01 1981-10-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Information carrying discs
US4374077A (en) * 1980-02-01 1983-02-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for making information carrying discs
US4293635A (en) * 1980-05-27 1981-10-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable composition with polymeric binder
US4519065A (en) * 1980-09-22 1985-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Metallized information carrying discs
US4363844A (en) * 1980-09-22 1982-12-14 Lewis Terry W Metallized information carrying discs
JPS5835742A (ja) * 1981-08-21 1983-03-02 Victor Co Of Japan Ltd 情報記録媒体円盤の製作に用いられるスタンパの製作法
US4510593A (en) * 1982-10-18 1985-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Information disk of grooved, metal-coated crosslinked polymeric layer
US4430363A (en) * 1982-12-10 1984-02-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process of making information carrying systems
NL8300417A (nl) * 1983-02-04 1984-09-03 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een kunststofinformatiedrager met een gelaagde structuur.
US4790893A (en) * 1984-07-19 1988-12-13 Hallmark Cards, Inc. Replication of information carriers
JPS61175946A (ja) * 1985-01-29 1986-08-07 Victor Co Of Japan Ltd 情報記録媒体製造方法
US5273598A (en) * 1985-02-18 1993-12-28 Hitachi Maxell, Ltd. Optical disc manufacturing method
US4753865A (en) * 1986-01-22 1988-06-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive compositions containing microgels
US4716093A (en) * 1986-03-17 1987-12-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solvent developable photoresist composition and process of use
EP0424986B1 (en) * 1986-10-30 1993-12-29 Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha Method and apparatus for manufacturing a flexible optical information recording medium
US4840757A (en) * 1987-05-19 1989-06-20 S. D. Warren Company Replicating process for interference patterns
US4956252A (en) * 1988-08-30 1990-09-11 E. I. Dupont De Nemours And Company Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
US4900111A (en) * 1989-02-15 1990-02-13 American Bank Note Holographics, Inc. Embossed holograms formed on hard metal surfaces

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004015704A1 (ja) 2002-08-08 2004-02-19 Lintec Corporation 光ディスク製造用シート
JP2007294098A (ja) * 2007-06-15 2007-11-08 Lintec Corp 光ディスク製造用シート
JP4657257B2 (ja) * 2007-06-15 2011-03-23 リンテック株式会社 光ディスク製造用シート

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03116460A (ja) 1991-05-17
KR930006352B1 (ko) 1993-07-14
CA2020180A1 (en) 1990-12-31
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