JP7337994B2 - 光学異方性シート - Google Patents

Description

本発明は、光学異方性シートに関する。

ポリビニルアルコールを延伸した偏光フィルムは非常に脆く、透明フィルムで挟み込む必要があるため、厚くなる問題があった（非特許文献１）。また、高分子フィルムを用いた位相差フィルムは、熱延伸時に破断するため薄くすることは困難であった。

鈴木八十二編著，「液晶ディスプレイのできるまで」，日刊工業新聞社，２００５年１１月２８日発行

薄型の光学異方性フィルムを与える光学異方性シートが求められていた。

本発明は、以下の発明を提供する。
[１]基材と、液晶硬化膜と、粘接着剤層とをこの順に有する光学異方性シートであって、該液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した厚さが５μｍ以下の膜であり、
液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材の密着力（Ｆ４）よりも大きく、
Ｆ４が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上１Ｎ／２５ｍｍ未満である光学異方性シート。
[２]基材と、配向膜と、液晶硬化膜と、粘接着剤層とをこの順に有する光学異方性シートであって、
該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜であり、
該液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であり、
液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）又は配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも大きく、
Ｆ２及びＦ３が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、Ｆ２又はＦ３が１Ｎ／２５ｍｍ未満である光学異方性シート。
[３]配向膜が、光配向膜である[２]に記載の光学異方性シート。
[４]液晶硬化膜が、下記式（１）、（２）及び式（３）を満たす波長分散特性を有する[１]～[３]のいずれかに記載の光学異方性シート。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （３）
Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内リタデーションを表す。
[５]液晶硬化膜が、下記式（４）で表される屈折率関係を有する[１]～[３]のいずれかに記載の光学異方性シート。
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （４）
ｎｚは、厚さ方向の屈折率を表す。ｎｘは、面内において最大の屈折率を生じる方向の屈折率を表す。ｎｙは、面内においてｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。
[６]液晶硬化膜が、さらに二色性色素を含む[１]～[３]のいずれかに記載の光学異方性シート。
[７]二色性色素が３種類以上のアゾ化合物を含む[６]に記載の光学異方性シート。
[８]液晶硬化膜が、Ｘ線回折測定においてブラッグピークを示す[１]～[３]のいずれかに記載の光学異方性シート。
[９]粘接着剤層が、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層である[１]～[８]のいずれかに記載の光学異方性シート。
[１０][１]～[９]のいずれかに記載の光学異方性シートから基材を取り除いた光学異方性フィルム。
[１１]偏光板と、第一の粘接着剤層と、液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板であって、
該液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であって、下記式（１）、（２）及び式（３）を満たす波長分散特性を有する膜である円偏光板。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （３）
Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内リタデーションを表す。
[１２]第一の粘接着剤層と液晶硬化膜との間に、さらに配向膜を有し、該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜である[１１]に記載の円偏光板。
[１３]液晶硬化膜と第二の粘接着剤層との間に、さらに配向膜を有し、該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜である[１１]又は[１２]に記載の円偏光板。
[１４]第一の粘接着剤層が、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層である[１１]～[１３]のいずれかに記載の円偏光板。
[１５]第二の粘接着剤層が、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層である[１１]～[１４]のいずれかに記載の円偏光板。
[１６]液晶硬化膜と、粘接着剤層と、位相差フィルムと、粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板であって、
該液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であって、二色性色素を含む膜である円偏光板。
[１７]液晶硬化膜の表面にさらに配向膜を有し、該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜である[１６]に記載の円偏光板。
[１８]粘接着剤層が、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層である[１６]又は[１７]に記載の円偏光板。
[１９]第一の液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、第二の液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板であって、
第一の液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であって、二色性色素を含む膜であり、
第二の液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であって、下記式（１）、（２）及び式（３）を満たす波長分散特性を有する液晶硬化膜である円偏光板。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （３）
Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内リタデーションを表す
[２０]第一の粘接着剤層と第二の液晶硬化膜の間に、さらに配向膜を有し、該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜である[１９]に記載の円偏光板。
[２１]第一の液晶硬化膜の表面にさらに配向膜を有し、該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜である[１９]又は[２０]に記載の円偏光板。
[２２]第一の液晶硬化膜の表面、及び、粘接着剤層と第二の液晶硬化膜との間に、さらに配向膜を有し、該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜である[１９]に記載の円偏光板。
[２３]第一の粘接着剤層が、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層である[１９]～[２２]のいずれかに記載の円偏光板。
[２４]第二の粘接着剤層が、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層である[１９]～[２３]のいずれかに記載の円偏光板。
[２５][１１]～[２４]のいずれかに記載の円偏光板を備えた光学異方性フィルム付表示装置。
[２６][１]～[９]のいずれかに記載の光学異方性シートを、粘接着剤層を介して表示装置の表示面に貼合した後に、該光学異方性シートの基材を取り除くことを特徴とする光学異方性フィルム付表示装置の製造方法。
[２７][４]に記載の光学異方性シートを、粘接着剤層を介して表示装置の表示面に貼合した後に、該光学異方性シートの基材を取り除き、さらに、[６]～[８]のいずれかに記載の粘接着剤付光学異方性シートを、粘接着剤層を介してその上に貼合した後に、該光学異方性シートの基材を取り除くことを特徴とする光学異方性フィルム付表示装置の製造方法。

本発明によれば、薄型で、表示装置へ転写可能な光学異方性フィルムを与える、光学異方性シートが得られる。

本発明の光学異方性シートから得られる光学異方性フィルムを含む液晶表示装置の模式図である。 本発明の光学異方性シートから得られる光学異方性フィルムを含む円偏光板の断面模式図である。 本発明の光学異方性シートから得られる光学異方性フィルムを含む円偏光板を用いたＥＬ表示装置の模式図である。 本発明の光学異方性シートから得られる光学異方性フィルムを含む円偏光板を用いたＥＬ表示装置の模式図である。

本発明の光学異方性シート（以下、本光学異方性シートということがある。）は、基材と、液晶硬化膜と、粘接着剤層とをこの順に有するものであり、好ましくは、基材と、配向膜と、液晶硬化膜と、粘接着剤層とをこの順に有するものである。本光学異方性シートから基材を取り除いて得られる光学異方性フィルム（以下、本光学異方性フィルムということがある。）は、偏光膜又は位相差膜として、液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置等の表示装置に好適に用いられる。
本明細書における基材の密着力（Ｆ４）とは、本光学異方性シートが有する、基材と液晶硬化膜とを分離するために要する力のことであり、具体的には、基材と液晶硬化膜との密着力、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）及び、配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）のうち最も低いものの密着力を意味する。

＜基材＞
基材としては、ガラス基材及びプラスチック基材が挙げられ、好ましくはプラスチック基材である。プラスチック基材を構成するプラスチックとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシドなどのプラスチックが挙げられる。好ましくは、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート又はポリメタクリル酸エステルである。

セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の少なくとも一部が、エステル化されたものであり、市場から容易に入手することができる。また、セルロースエステル基材も市場から容易に入手することができる。市販のセルロースエステル基材としては、例えば、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム（株））；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（コニカミノルタオプト（株））などが挙げられる。

環状オレフィン系樹脂とは例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーなどの環状オレフィンの重合体又は共重合体（環状オレフィン系樹脂）から構成されるものであり、当該環状オレフィン系樹脂は部分的に、開環部を含んでいてもよい。また、開環部を含む環状オレフィン系樹脂を水素添加したものでもよい。さらに、当該環状オレフィン系樹脂は、透明性を著しく損なわない点や、著しく吸湿性を増大させない点で例えば、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル化芳香族化合物（スチレンなど）との共重合体であってもよい。また、該環状オレフィン系樹脂は、その分子内に極性基が導入されていてもよい。

環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、環状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５０モル％以下、好ましくは１５～５０モル％の範囲である。鎖状オレフィンとしては、エチレンおよびプロピレンが挙げられ、ビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α－メチルスチレンおよびアルキル置換スチレンが挙げられる。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体である場合、鎖状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５～８０モル％であり、ビニル基を有する芳香族化合物に由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５～８０モル％である。このような三元共重合体は、その製造において、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。

環状オレフィン系樹脂は、市場から容易に入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）［Ｔｉｃｏｎａ社（独）］、“アートン”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］および“アペル”（登録商標）［三井化学（株）製］が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、例えば、溶剤キャスト法、溶融押出法などの公知の手段により製膜して、基材とすることができる。また、市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。
市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ＳＣＡ４０”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ゼオノアフィルム”（登録商標）［オプテス（株）］および“アートンフィルム”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］が挙げられる。

基材の厚みは、実用的な取扱いができる程度の重量である点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚みは、通常５～３００μmであり、好ましくは２０～２００μmである。

基材には、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、真空下又は大気圧下、コロナ又はプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法又は基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理する方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合法等が挙げられる。好ましくは、真空下や大気圧下で、基材表面をコロナ又はプラズマ処理する方法である。

コロナ又はプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、
大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、
対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、及び、
低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法が挙げられる。

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、又は、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナ又はプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる

配向膜又は液晶硬化膜と化学結合を形成する官能基を表面に有する基材は、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）又は基材と液晶硬化膜との密着力が大きくなる傾向がある。よって、基材と液晶硬化膜との密着力、及び、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）を１Ｎ／２５ｍｍ未満とするためには、表面の官能基が少ない基材が好ましく、また、表面に官能基を形成する表面処理を施していない基材が好ましい。ただし、表面の官能基が少なすぎると、基材と液晶硬化膜との密着力、又は、Ｆ２が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以下になることがあるため、一定の密着力を有するように基材および基材の表面処理方法を選択する。

＜配向膜＞
本発明における配向膜は、高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜であり、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜は、重合性液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、配向膜及び重合性液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。例えば、配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。水平、垂直等の表現は、液晶硬化膜平面を基準とした場合の、配向した重合性液晶化合物の長軸の方向を表す。例えば、垂直配向とは液晶硬化膜平面に対して垂直な方向に、配向した重合性液晶化合物の長軸を有することである。ここでいう垂直とは、液晶硬化膜平面に対して９０°±２０°のことを意味する。
配向規制力は、配向膜層が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。

基材と液晶硬化膜との間に形成される配向膜としては、配向膜上に液晶硬化膜を形成する際に使用される溶剤に不溶であり、また、溶剤の除去や液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜及びグルブ配向膜等が挙げられ、好ましくは光配向膜である。光配向膜はラビング等の物理的な配向処理を必要としないため密着力が向上し、容易にＦ２及びＦ３が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上になる傾向がある。

配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ～５００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ～１００ｎｍの範囲である。

配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。
これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

配向性ポリマーからなる配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、配向性ポリマー組成物ということがある。）を基材に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。

前記溶剤としては、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチルなどのエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素置換炭化水素溶媒；等が挙げられる。これら溶剤は、単独でもよいし、組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１～２０％が好ましく、０．１から１０％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）又はオプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ－ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。本光学異方性シートを、後述するＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法には通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法などの印刷法が採用される。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去することにより、配向性ポリマーの乾燥被膜が形成される。溶剤の除去方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及び減圧乾燥法等が挙げられる。

ラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れる点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ－ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものが好ましく、該溶剤としては、例えば、前記の配向性ポリマー組成物の溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。

光配向膜形成用組成物に対する、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、当該光反応性基を有するポリマー又はモノマーの種類や製造しようとする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、少なくとも０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲が特に好ましい。また、光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、ポリビニルアルコ－ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤が含まれていてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基板上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ－ザ－などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光を照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ－ラ－などの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、及び、基材上に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。具体的には、特開平６－３４９７６号公報及び、特開２０１１－２４２７４３号公報記載の方法等が挙げられる。

上記方法の中でも、複数の溝を有するロール状の原盤を、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層表面に押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法が好ましい。ロール状原盤としては、耐久性の観点からステンレス（ＳＵＳ）鋼が好ましい。

ＵＶ硬化樹脂としては、単官能アクリレートの重合体、多官能アクリレートの重合体又はこれらの混合物の重合体が挙げられる。
単官能アクリレートとは、アクリロイルオキシ基（ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＯＯ－）及びメタクリロイルオキシ基（ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－ＣＯＯ－）からなる群より選ばれる基（以下、（メタ）アクリロイルオキシ基と記すこともある。）を１個有する化合物である。また、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。

（メタ）アクリロイルオキシ基を１個有する単官能アクリレートとしては、炭素数４から１６のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のβカルボキシアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のアルキル化フェニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート及びイソボニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能アクリレートとは、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物であり、（メタ）アクリロイルオキシ基を２から６個有する化合物が好ましい。

（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する多官能アクリレートとしては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；１，３－ブタンジオール（メタ）アクリレート；１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジアクリレート；ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート；プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び３－メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイルオキシ基を３～６個有する多官能アクリレートとしては、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、及びカプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物等が挙げられる。
カプロラクトン変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体、又は、開環重合体が導入されていることを意味する。

多官能アクリレートは市場から入手することができる。市販品としては、Ａ－ＤＯＤ－Ｎ、Ａ－ＨＤ－Ｎ、Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、ＡＰＧ－１００、ＡＰＧ－２００、ＡＰＧ－４００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＰＴ、ＡＤ－ＴＭＰ、ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－ＴＭＭＴ、Ａ－９５５０、Ａ－ＤＰＨ、ＨＤ－Ｎ、ＮＯＤ－Ｎ、ＮＰＧ、ＴＭＰＴ［新中村化学（株）］、“ＡＲＯＮＩＸ Ｍ－２２０”、同“Ｍ－３２５”、同“Ｍ－２４０”、同“Ｍ－２７０”同“Ｍ－３０９”同“Ｍ－３１０”、同“Ｍ－３２１”、同“Ｍ－３５０”、同“Ｍ－３６０”、同“Ｍ－３０５”、同“Ｍ－３０６”、同“Ｍ－４５０”、同“Ｍ－４５１”、同“Ｍ－４０８”、同“Ｍ－４００”、同“Ｍ－４０２”、同“Ｍ－４０３”、同“Ｍ－４０４”、同“Ｍ－４０５”、同“Ｍ－４０６”［東亜合成（株）］、“ＥＢＥＣＲＹＬ１１”、同“１４５”、同“１５０”、同“４０”、同“１４０”、同“１８０”、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ［ダイセル・サイテック（株）］等を挙げることができる。

配向乱れの小さな配向を得るためには、グルブ配向膜の凸部の幅は０．０５μｍ～５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１μｍ～５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ～１μｍ以下であることが好ましい。

基材と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）が大きくなる傾向がある。また、配向性ポリマー組成物、又は、光配向膜形成用組成物に、基材と配向膜とを架橋する試薬が含まれるとＦ２が大きくなる傾向がある。また、配向性ポリマー組成物、又は、光配向膜形成用組成物に、基材を溶解する溶剤等の成分が含まれるとＦ２が大きくなる傾向がある。よって、Ｆ２を１Ｎ／２５ｍｍ未満とするためには、基材と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましく、また、配向性ポリマー組成物、及び、光配向膜形成用組成物には、基材と配向膜とを架橋する試薬及び基材を溶解する溶剤等の成分が含まれないことが好ましい。配向性ポリマー組成物又は光配向膜形成用組成物に含まれる溶剤等の成分によって基材表面が溶解されることにより、Ｆ２が大きくなる傾向がある。また、Ｆ２を０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上とするためには、これらの因子を適宜調整すればよい。
また、液晶硬化膜と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、液晶硬化膜と配向膜との密着力（Ｆ３）が大きくなる傾向がある。また、配向性ポリマー組成物、又は、光配向膜形成用組成物に、液晶硬化膜と配向膜とを架橋する試薬が含まれるとＦ３が大きくなる傾向がある。よって、Ｆ３を１Ｎ／２５ｍｍ未満とするためには、液晶硬化膜と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましく、また、配向性ポリマー組成物及び光配向膜形成用組成物には、液晶硬化膜と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましい。また、Ｆ３を０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上とするためには、これらの因子を適宜調整すればよい。

＜液晶硬化膜＞
本発明における液晶硬化膜は、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した厚さが５μｍ以下の膜であり、好ましくは重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した膜である。

液晶硬化膜の厚みは、０．５μｍ以上３μｍ以下の範囲が好ましく、１μｍ以上３μｍ以下がさらに好ましい。液晶硬化膜の厚みは、干渉膜厚計やレーザー顕微鏡あるいは触針式膜厚計で測定することができる。

液晶硬化膜は、波長λｎｍの光に対する複屈折率Δｎ（λ）が、下記式（１－１）、（２－１）および下記式（３）で表される位相差性を示す位相差膜であるか、下記式（４）で表される屈折率関係を有する位相差膜であるか、又は、二色性色素を含む偏光膜であると好ましい。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （１－１）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （２－１）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （３）
Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける複屈折を表す。
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （４）
ｎｚは、厚さ方向の屈折率を表す。ｎｘは、面内において最大の屈折率を生じる方向の屈折率を表す。ｎｙは、面内においてｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。

複屈折率Δｎ（λ）は、面内リタデーションを測定して、液晶硬化膜の厚みで除することで得られる。具体的な測定方法は実施例に示すが、この際、ガラス基板のように基材自体にリタデーションが無いような基材上に製膜したものを測定することで、実質的な液晶硬化膜の特性を測定することができる。すなわち、液晶硬化膜は、好ましくは下記式（１）、（２）および上記式（３）で表される位相差性を示す位相差膜である。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内リタデーションを表す。

式（４）で表される屈折率関係を有する位相差膜の、５５０ｎｍの光に対する正面位相差値Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０～１０ｎｍであり、より好ましく０～５ｎｍである。厚み方向の位相差値Ｒｔｈは、好ましくは－１０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－２０ｎｍ～－２００ｎｍである。式（４）で表される屈折率関係を有する位相差膜の中でも、このような光学特性を有するものは、特にＩＰＳ（in-plane switching）モードの液晶表示装置の補償に適する。

Ｒｔｈは、面内の進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ_４０と面内の位相差値Ｒ_０とから算出することができる。すなわち、Ｒｔｈは、面内の位相差値Ｒ_０、進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ_４０、液晶硬化膜の厚みｄ、及び液晶硬化膜の平均屈折率ｎ_０から、以下の式(９)～（１１）によりｎｘ、ｎｙ及びｎｚを求め、これらを式（８）に代入して、算出することができる。

Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （８）
Ｒ０ ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （９）
Ｒ４０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （１０）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ_０ （１１）
ここで、
φ＝sin^－１〔sin（４０°）／ｎ_０〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ^２×sin^２（φ）＋ｎｚ^２×cos^２（φ）〕^１／２

液晶硬化膜は、通常、配向膜表面に、重合性液晶化合物を含む組成物（以下、液晶硬化膜形成用組成物ということがある。）を塗布し、重合性液晶化合物を重合することで得られる。また、基材表面に、液晶硬化膜形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合することでも得られる。

重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、また、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でも良い。

中でも、液晶硬化膜が位相差膜である場合の重合性液晶化合物としては、製造の容易さという観点からサーモトロピック性のネマチック液晶が好ましく、また、前記式（１）および前記式（２）で表される位相差性を付与するという観点から下記式（Ａ）で表される化合物（以下、化合物（Ａ）ということがある。）が好ましい。当該重合性液晶化合物は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

［式（Ａ）中、
Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子またはＮＲ^１－を表わす。Ｒ^１は、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表わす。
Ｙ^１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の１価の芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素数３～１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ^３およびＱ^４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＮＲ^２Ｒ^３または－ＳＲ^２を表わすか、または、Ｑ^３とＱ^４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－、－ＣＲ^４Ｒ^５－、－ＣＲ^４Ｒ^５－ＣＲ^６Ｒ^７－、－Ｏ－ＣＲ^４Ｒ^５－、－ＣＲ^４Ｒ^５－Ｏ－ＣＲ^６Ｒ^７－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^４Ｒ^５－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^４Ｒ^５－、－ＣＲ^４Ｒ^５－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^６Ｒ^７－、－ＣＲ^４Ｒ^５－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^６Ｒ^７－またはＮＲ^４－ＣＲ^５Ｒ^６－またはＣＯ－ＮＲ^４－を表わす。
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアルキル基を表わす。
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子またはＮＨ－に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。］

化合物（Ａ）におけるＬ^１は式（Ａ１）で表される基であると好ましく、また、Ｌ^２は式（Ａ２）で表される基であると好ましい。
Ｐ^１－Ｆ^１－（Ｂ^１－Ａ^１）_ｋ－Ｅ^１－ （Ａ１）
Ｐ^２－Ｆ^２－（Ｂ^２－Ａ^２）_ｌ－Ｅ^２－ （Ａ２）
［式（Ａ１）および式（Ａ２）中、
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、－ＣＲ^４Ｒ^５－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ¹－、－Ｏ－ＣＨ_２－、－Ｓ－ＣＨ_２－または単結合を表わす。
Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子またはＮＨ－に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋおよびｌは、それぞれ独立に、０～３の整数を表わす。
Ｆ^１およびＦ^２は、炭素数１～１２の２価の脂肪族炭化水素基を表わす。
Ｐ^１は、重合性基を表わす。
Ｐ^２は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアルキル基を表わす。］

好ましい化合物（Ａ）としては、特表２０１１－２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。

化合物（Ａ）とは異なる重合性液晶化合物としては、例えば、式（Ｘ）で表される基を含む化合物（以下「化合物（Ｘ）」という場合がある）が挙げられる。
Ｐ^１１－Ｂ^１１－Ｅ^１１－Ｂ^１２－Ａ^１１－Ｂ^１３－ （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ^１１は、重合性基を表わす。
Ａ^１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基および該炭素数１～６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ^１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^１６－、－ＮＲ^１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－または単結合を表わす。Ｒ^１６は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｂ^１２およびＢ^１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１６－、－ＮＲ^１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ_２－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－または単結合を表わす。
Ｅ^１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］

重合性液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、並びに、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開２０１１－６３６０号公報及び、特開２０１１－２０７７６５号公報記載に記載された重合性液晶化合物等が挙げられる。

液晶硬化膜が、上記式（４）で表される屈折率関係を有する位相差膜である場合の、当該液晶硬化膜を形成する重合性液晶化合物の液晶配向は、好ましくは垂直配向である。重合性液晶化合物を垂直配向させるためには、珪素原子、フッ素原子等からなる非極性置換基を有する配向膜を用いるのが好ましく、当該配向膜としては、特許第４６０５０１６号、特許第４９８５９０６号、特許第４５０２１１９号及び、ＷＯ２００８／１１７７６０号に記載されているような、一般的に垂直配向型液晶表示素子の液晶配向膜として用いられる材料を使用することができる。

液晶硬化膜が偏光膜である場合の重合性液晶化合物としては、ネマチック液晶化合物でもスメクチック液晶化合物でもよいが、より高い偏光特性が得られるという点でスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相またはスメクチックＬ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がより好ましく、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相またはスメクチックＩ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相がこれらの高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い偏光膜を製造することができる。また、このように配向秩序度の高い偏光膜はＸ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られるものである。当該ブラッグピークは分子配向の周期構造に由来するピークであり、その周期間隔が３．０～６．０Åである膜を得ることができる。このような化合物としては、具体的には、下記式（Ｂ）で表される化合物（以下、化合物（Ｂ）ということがある。）等が挙げられる。当該重合性液晶化合物は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

Ｕ^１－Ｖ^１－Ｗ^１－Ｘ^１－Ｙ^１－Ｘ^２－Ｙ^２－Ｘ^３－Ｗ^２－Ｖ^２－Ｕ^２ （Ｂ）
［式（Ｂ）中、
Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基を表す。ただし、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基である。シクロへキサン－１，４－ジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ－に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基を表す。
Ｙ^１及びＹ^２は、互いに独立に、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、単結合、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ｂ－、－Ｃ≡Ｃ－又は－ＣＲ^ａ＝Ｎ－を表す。Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、互いに独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｕ^１は、水素原子又は重合性基を表す。
Ｕ^２は、重合性基を表す。
Ｗ^１及びＷ^２は、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯＯ－を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＨ－に置き換わっていてもよい。］

化合物（Ｂ）において、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基であることが好ましい。
置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基は、無置換であることが好ましい。置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基は、置換基を有していてもよいトランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基であることが好ましく、置換基を有していてもよいトランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基は無置換であることが好ましい。

置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基及びブチル基などの炭素数１～４のアルキル基、シアノ基およびハロゲン原子などが挙げられる。

Ｙ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－又は単結合であると好ましく、Ｙ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－又は－ＣＨ_２Ｏ－であると好ましい。

Ｕ^２は、重合性基である。Ｕ^１は、水素原子又は重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ^１及びＵ^２は、ともに重合性基であると好ましく、ともに光重合性基であると好ましい。光重合性基を有する重合性液晶化合物は、より低温条件下で重合できる点で有利である。

Ｕ^１及びＵ^２で表される重合性基は互いに異なっていてもよいが、同一であると好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ｖ^１及びＶ^２で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基及びイコサン－１，２０－ジイル基などが挙げられる。Ｖ^１及びＶ^２は、好ましくは炭素数２～１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６～１２のアルカンジイル基である。
置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基及びハロゲン原子などが挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換且つ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。

Ｗ^１及びＷ^２は、互いに独立に、好ましくは単結合又は－Ｏ－である。

化合物（Ｂ）の具体例としては、式（１－１）～式（１－２３）で表される化合物などが挙げられる。化合物（Ｂ）が、シクロヘキサン－１，４－ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン－１，４－ジイル基は、トランス体であることが好ましい。

例示した化合物（Ｂ）の中でも、式（１－２）、式（１－３）、式（１－４）、式（１－６）、式（１－７）、式（１－８）、式（１－１３）、式（１－１４）及び式（１－１５）でそれぞれ表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。

例示した化合物（Ｂ）は、単独又は組み合わせて、液晶硬化膜に用いることができる。
また、２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が化合物（Ｂ）であると好ましく、２種以上が化合物（Ｂ）であるとより好ましい。組み合わせることにより、液晶－結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の重合性液晶化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９～５０：５０であり、好ましくは５：９５～５０：５０であり、より好ましくは１０：９０～５０：５０である。

化合物（Ｂ）は、例えば、Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５, ３２１－３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号などに記載の公知方法で製造される。

液晶硬化膜形成用組成物における重合性液晶化合物の含有割合は、液晶硬化膜形成用組成物の固形分１００質量部に対して、通常７０～９９．５質量部であり、好ましくは８０～９９質量部であり、より好ましくは８０～９４質量部であり、さらに好ましくは８０～９０質量部である。重合性液晶化合物の含有割合が上記範囲内であれば、配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、液晶硬化膜形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

液晶硬化膜形成用組成物は、重合性液晶化合物以外の成分として、二色性色素、溶剤、重合開始剤、重合反応助剤及びレベリング剤を含んでもよい。

＜二色性色素＞

液晶硬化膜が偏光膜である場合、液晶硬化膜形成用組成物は、好ましくは、二色性色素を含む。二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。

二色性色素としては、３００～７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせても良いが、３種類以上を組み合わせるのが好ましい。特に、３種類以上のアゾ化合物を組み合わせるのが好ましい。

アゾ色素としては、例えば、式（２）で表される化合物（以下、場合により「化合物（２）」という。）が挙げられる。
Ａ^１（－Ｎ＝Ｎ－Ａ^２）_ｐ－Ｎ＝Ｎ－Ａ^３ （２）
［式（２）中、
Ａ^１及びＡ^３は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基又は置換基を有していてもよい１価の複素環基を表す。Ａ^２は、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン－１，４－ジイル基又は置換基を有していてもよい２価の複素環基を表す。ｐは１～４の整数を表す。ｐが２以上の整数である場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。］

１価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール及びベンゾオキサゾールなどの複素環化合物から１個の水素原子を除いた基が挙げられる。２価の複素環基としては、前記複素環化合物から２個の水素原子を除いた基が挙げられる。

Ａ^１及びＡ^３におけるフェニル基、ナフチル基及び１価の複素環基、並びにＡ^２におけるｐ－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基及び２価の複素環基が任意に有する置換基としては、炭素数１～４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基及びブトキシ基などの炭素数１～４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１～４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；ハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基などの置換又は無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１～６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、－ＮＨ_２である。）が挙げられる。なお、炭素数１～６のアルキル基の具体例は、化合物（１）のフェニレン基などが任意に有する置換基で例示したものと同じである。

化合物（２）のなかでも、以下の式（２－１）～式（２－６）でそれぞれ表される化合物が好ましい。

［式（２－１）～（２－６）中、
Ｂ^１～Ｂ^２０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（置換アミノ基及び無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子又はトリフルオロメチル基を表す。
ｎ１～ｎ４は、互いに独立に０～３の整数を表す。
ｎ１が２以上である場合、複数のＢ^２は互いに同一でも異なっていてもよく、
ｎ２が２以上である場合、複数のＢ^６は互いに同一でも異なっていてもよく、
ｎ３が２以上である場合、複数のＢ^９は互いに同一でも異なっていてもよく、
ｎ４が２以上である場合、複数のＢ¹⁴は互いに同一でも異なっていてもよい。］

前記アントラキノン色素としては、式（２－７）で表される化合物が好ましい。

［式（２－７）中、
Ｒ^１～Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］

前記オキサゾン色素としては、式（２－８）で表される化合物が好ましい。

［式（２－８）中、
Ｒ^９～Ｒ^１５は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］

前記アクリジン色素としては、式（２－９）で表される化合物が好ましい。

［式（２－９）中、
Ｒ^１６～Ｒ^２３は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］

式（２－７）、式（２－８）及び式（２－９）における、Ｒ^ｘで表される炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基などが挙げられ、炭素数６～１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基及びナフチル基などが挙げられる。

前記シアニン色素としては、式（２－１０）で表される化合物及び式（２－１１）で表される化合物が好ましい。

［式（２－１０）中、
Ｄ^１及びＤ^２は、互いに独立に、式（２－１０ａ）～式（２－１０ｄ）のいずれかで表される基を表す。

ｎ５は１～３の整数を表す。］

［式（２－１１）中、
Ｄ^３及びＤ^４は、互いに独立に、式（２－１１ａ）～式（２－１１ｈ）のいずれかで表される基を表す。

ｎ６は１～３の整数を表す。］

液晶硬化膜形成用組成物における二色性色素の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１質量部以上３０質量部以下が好ましく、０．１質量部以上２０質量部以下がより好ましく、０．１質量部以上１０質量部以下がさらに好ましく、０．１質量部以上５質量部以下が特に好ましい。二色性色素の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合させることができるため好ましい。二色性色素の含有量が多すぎると、重合性液晶化合物の配向を阻害するおそれがある。そのため、重合性液晶化合物が、液晶状態を保持できる範囲で、二色性色素の含有量を定めることもできる。

＜溶剤＞
液晶硬化膜形成用組成物は、通常、溶剤を含む。溶剤としては、重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。

溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチルなどのエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン及びメチルイソブチルケトンなどのケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリルなどのニトリル溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタンなどのエーテル溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼンなどの塩素含有溶剤；などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

溶剤の含有量は、前記液晶硬化膜形成用組成物の総量に対して５０～９８質量％が好ましい。換言すると、液晶硬化膜形成用組成物における固形分は、２～５０質量％が好ましい。該固形分が５０質量％以下であると、液晶硬化膜形成用組成物の粘度が低くなることから、液晶硬化膜の厚みが略均一になることで、当該液晶硬化膜にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分は、製造しようとする液晶硬化膜の厚みを考慮して定めることができる。

＜重合開始剤＞
液晶硬化膜形成用組成物は、通常、重合開始剤を含有する。重合開始剤は、重合性液晶化合物などの重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩などが挙げられる。

ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。

ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン及び２，４，６－トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。

アルキルフェノン化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルチオフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１，２－ジフェニル－２，２－ジメトキシエタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（１－メチルビニル）フェニル〕プロパン－１－オンのオリゴマーなどが挙げられる。

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド及びビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。

トリアジン化合物としては、例えば、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン及び２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジンなどが挙げられる。

重合開始剤には市販のものを用いることができる。市販の重合開始剤としては、”イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７”、”イルガキュア（登録商標）１８４”、”イルガキュア（登録商標）６５１”、”イルガキュア（登録商標）８１９”、”イルガキュア（登録商標）２５０”、”イルガキュア（登録商標）３６９”（チバ・ジャパン（株））；”セイクオール（登録商標）ＢＺ”、”セイクオール（登録商標）Ｚ”、”セイクオール（登録商標）ＢＥＥ”（精工化学（株））；”カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００”（日本化薬（株））；”カヤキュアー（登録商標）ＵＶＩ－６９９２”（ダウ社製）；”アデカオプトマーＳＰ－１５２”、”アデカオプトマーＳＰ－１７０”（（株）ＡＤＥＫＡ）；”ＴＡＺ－Ａ”、”ＴＡＺ－ＰＰ”（日本シイベルヘグナー社）；及び”ＴＡＺ－１０４”（三和ケミカル社）などが挙げられる。

液晶硬化膜形成用組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜調節できるが、通常、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１～３０質量部である。好ましくは０．５～１０質量部であり、より好ましくは０．５～８質量部である。重合開始剤の含有量がこの範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことがないため好ましい。

＜増感剤＞
液晶硬化膜形成用組成物はさらに増感剤を含有してもよい。増感剤としては、光増感剤が好ましい。該増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントンなどのキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン及びアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセンなど)などのアントラセン化合物；フェノチアジン及びルブレンなどが挙げられる。

液晶硬化膜形成用組成物が増感剤を含有する場合、液晶硬化膜形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。

＜重合禁止剤＞
重合反応を安定的に進行させるために、液晶硬化膜形成用組成物には重合禁止剤を含有させてもよい。重合禁止剤により、重合性液晶化合物の及び重合性非液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。

前記重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロール、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類及びβ－ナフトール類などが挙げられる。

液晶硬化膜形成用組成物に重合禁止剤を含有させる場合、その含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。重合禁止剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができるため好ましい。

＜レベリング剤＞
液晶硬化膜形成用組成物には、レベリング剤を含有させてもよい。レベリング剤とは、液晶硬化膜形成用組成物の流動性を調整し、液晶硬化膜形成用組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有するものであり、例えば、界面活性剤を挙げることができる。好ましいレベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤及びフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤が挙げられる。

ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”ＢＹＫ－３５０”、”ＢＹＫ－３５２”、”ＢＹＫ－３５３”、”ＢＹＫ－３５４”、”ＢＹＫ－３５５”、”ＢＹＫ－３５８Ｎ”、”ＢＹＫ－３６１Ｎ”、”ＢＹＫ－３８０”、”ＢＹＫ－３８１”及び”ＢＹＫ－３９２”［ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社］などが挙げられる。

フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファック（登録商標）Ｒ－０８”、同”Ｒ－３０”、同”Ｒ－９０”、同”Ｆ－４１０”、同”Ｆ－４１１”、同”Ｆ－４４３”、同”Ｆ－４４５”、同”Ｆ－４７０”、同”Ｆ－４７１”、同”Ｆ－４７７”、同”Ｆ－４７９”、同”Ｆ－４８２”及び同”Ｆ－４８３”［ＤＩＣ（株）］；”サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１”、同”Ｓ－３８２”、同”Ｓ－３８３”、同”Ｓ－３９３”、同”ＳＣ－１０１”、同”ＳＣ－１０５”、”ＫＨ－４０”及び”ＳＡ－１００”［ＡＧＣセイミケミカル（株）］；”Ｅ１８３０”、”Ｅ５８４４”［（株）ダイキンファインケミカル研究所］；”エフトップＥＦ３０１”、同”ＥＦ３０３”、同”ＥＦ３５１”及び同”ＥＦ３５２”［三菱マテリアル電子化成（株）］などが挙げられる。

液晶硬化膜形成用組成物にレベリング剤を含有させる場合、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．３質量部以上５質量部以下がより好ましく、０．５質量部以上３質量部以下がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる液晶硬化膜がより平滑となる傾向があるため好ましい。重合性液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が前記の範囲を超えると、得られる液晶硬化膜にムラが生じやすい傾向があり好ましくない。なお、液晶硬化膜形成用組成物は、レベリング剤を２種類以上含有していてもよい。

配向膜と化学結合を形成する官能基を有する液晶硬化膜は、配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）が大きくなる傾向がある。また、液晶硬化膜形成用組成物に、液晶硬化膜と配向膜とを架橋する試薬が含まれるとＦ３が大きくなる傾向がある。よって、Ｆ３を１Ｎ／２５ｍｍ未満とするためには、配向膜と化学結合を形成する官能基が少ない液晶硬化膜が好ましく、また、液晶硬化膜形成用組成物には、配向膜と液晶硬化膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましい。また、Ｆ３を０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上とするためには、これらの因子を適宜調整すればよい。

＜反応性添加剤＞
液晶硬化膜形成用組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤を含むことによって、配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）を高くすることができる。
反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する、炭素－炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１～２０個であり、好ましくはそれぞれ１～１０個である。

反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在すると好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。

反応性添加剤が有する炭素－炭素不飽和結合とは、炭素－炭素二重結合又は炭素－炭素三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素－炭素二重結合であると好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素－炭素不飽和結合を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。

反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び２－イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２－イソシアナトエチルアクリレート、２－イソシアナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。

具体的には、下記式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｙ）中、
ｎは１～１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２～２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５～２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ２’は、一方が－ＮＨ－であり、他方が＞Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ３’で示される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素－炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素－炭素不飽和結合を有する基である。］

前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、化合物（ＹＹ）という場合がある。）が特に好ましいものである（なお、ｎは前記と同じ意味である）。

化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。

液晶硬化膜形成用組成物が反応性添加剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．１～５質量部である。

＜粘接着剤層＞
粘接着剤層は粘接着剤から形成される。
粘接着剤としては、例えば、粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。好ましい粘接着剤は粘着剤あるいは活性エネルギー線硬化型接着剤である。粘接着剤に粘着剤あるいは活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることで、転写される基材への良好な接着性を示し、所望の領域に液晶硬化膜由来の位相差機能あるいは偏光機能を容易に付与することができる。

＜粘着剤＞
粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶剤を含んでもよい。

前記ポリマーとしては、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、またはポリエーテル等を挙げることができる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じにくいため好ましい。

前記アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基またはブチル基等の炭素数が２０以下のアルキル基である（メタ）アクリレート（以下、アクリレート、メタクリレートを総称して（メタ）アクリレート、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して（メタ）アクリル酸ということがある。）と、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような共重合体を含む粘着剤は、粘着性に優れており、また、表示装置に貼合した後に、取り除く際も、表示装置に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるため好ましい。当該アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの重量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。

前記溶剤としては、例えば、前記の配向性ポリマー組成物の溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。

また、粘着剤は、光拡散剤を含有してもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与するためのものであり、粘着剤が含む前記ポリマーと異なる屈折率を有する微粒子であればよく、光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子および有機化合物（ポリマー）からなる微粒子が挙げられる。前記アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは、１．４程度の屈折率を有するため、光拡散剤としては、その屈折率が１～２程度のものから適宜選択すればよい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、０．０１以上であり、また表示装置の明るさと表示性の観点からは、０．０１以上０．５以下とするのが好適である。光拡散剤として用いる微粒子は、球形のもの、それも単分散に近いものが好ましく、たとえば、平均粒径が２～６μｍ程度の範囲にある微粒子が好適に用いられる。

屈折率は、一般的な最小偏角法またはアッベ屈折計によって測定される。

無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム（屈折率１．７６）および酸化ケイ素（屈折率１．４５）等を挙げることができる。

有機化合物（ポリマー）からなる微粒子としては、たとえば、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０～１．５９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、およびシリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４６）等を挙げることができる。

光拡散剤の配合量は、粘着剤から形成される粘接着剤層に必要とされるヘイズ値や、それが適用される表示装置の明るさ等を考慮して適宜決められるが、通常、前記ポリマーの含有量１００重量部に対して、３～３０重量部である。

光拡散剤が分散された粘着剤から形成される粘接着剤層のヘイズ値は、本光学異方性シートが適用された表示装置の明るさを確保するとともに、表示像のにじみやボケを生じにくくする観点から、２０～８０％の範囲となるようにするのが好ましい。ヘイズ値は、（拡散透過率／全光線透過率）×１００（％）で表される値であり、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準じて測定される。

粘着剤から形成される粘着剤層の厚さは、その密着力等に応じて決定されるものであり特に制限されないが、通常、１～４０μｍである。加工性や耐久性等の点から当該厚さは３～２５μｍが好ましい。粘着剤から形成される粘着剤層の厚さを３～１５μｍ程度とすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケが生じにくくすることができる。

＜乾燥固化型接着剤＞
乾燥固化型接着剤は、溶剤を含んでもよい。
乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシ基若しくはアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。

水酸基、カルボキシ基若しくはアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合体としては、エチレン－マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水１００質量部に対して、通常１～１０重量部であり、好ましくは１～５重量部である。

ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。
ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入されたものである。かかるアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合するのが有効である。

エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。かかるポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、住化ケムテックス（株）製“スミレーズレジン６５０”及び“スミレーズレジン６７５”、日本ＰＭＣ（株）製“ＷＳ－５２５”などが挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常１～１００質量部であり、好ましくは１～５０質量部である。

乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常０.００１～５μmであり、好ましくは０.０１μm以上であり、また好ましくは２μｍ以下であり、さらに好ましくは１μｍ以下である。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、光学異方性フィルムの外観不良となりやすい。

＜活性エネルギー線硬化型接着剤＞
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含んでもよい。

活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性のもの、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性のもの、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有するもの、及び、重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化されるもの等が挙げられる。好ましくは、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤である。また、実質的に無溶剤で使用できる、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。

前記エポキシ化合物としては、水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物、アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物、Ｃ－Ｃ二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物、飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基若しくはエポキシエチル基が結合しているか又は、飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物等が挙げられる。これらのエポキシ化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。なかでも脂環式エポキシ化合物は、カチオン重合性に優れるため、好ましい。

前記エポキシ化合物は、市販品を容易に入手することが可能である。具体的には、三菱化学（株）製“ｊＥＲ”シリーズ、ＤＩＣ（株）製“エピクロン”、東都化成（株）製“エポトート（登録商標）”、（株）ＡＤＥＫＡ製“アデカレジン（登録商標）”、ナガセケムテックス（株）製“デナコール（登録商標）”、ダウケミカル社製“ダウエポキシ”、日産化学工業（株）製“テピック（登録商標）”などが挙げられる。脂環式エポキシ化合物としては、（株）ダイセル製“セロキサイド”シリーズ及び“サイクロマー”、ダウケミカル社製“サイラキュア UVR”シリーズなどが挙げられる。

エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、さらにエポキシ化合物以外の化合物を含有してもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物などが挙げられる。なかでも、カチオン重合において硬化速度を促進できる可能性があることから、オキセタン化合物を併用するのが好ましい。

オキセタン化合物としては、東亞合成（株）製“アロンオキセタン（登録商標）”シリーズ、宇部興産（株）製“ETERNACOLL（登録商標）”シリーズなどが挙げられる。

エポキシ化合物やオキセタン化合物を含む活性エネルギー線硬化型接着剤は、無溶剤で用いるのが好ましい。

カチオン重合開始剤とは、紫外線等の活性エネルギー線の照射を受けてカチオン種を発生する化合物であり、例えば、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩及び、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩並びに；鉄－アレーン錯体が挙げられる。これらのカチオン重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

カチオン重合開始剤の市販品としては、日本化薬（株）製“カヤラッド（登録商標）”シリーズ、ダウケミカル社製“サイラキュア UVI”シリーズ、サンアプロ（株）製“ＣＰＩ”シリーズ、みどり化学（株）製“ＴＡＺ”、“ＢＢＩ”及び“ＤＴＳ”、（株）ＡＤＥＫＡ製“アデカオプトマー”シリーズ、ローディア社製“RHODORSIL（登録商標）”等が挙げられる。

活性エネルギー線硬化型接着剤における、カチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量１００質量部に対して、通常０.５～２０質量部であり、好ましくは１～１５質量部である。

アクリル系硬化成分としては、メチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸等が挙げられる。

ラジカル重合開始剤としては、水素引き抜き型光ラジカル発生剤、及び、開裂型光ラジカル発生剤等が挙げられる。

水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、例えば１－メチルナフタレンなどのナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、カルバゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体及びクマリン誘導体などが挙げられる。

開裂型光ラジカル発生剤としては、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体などのアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸Ｓ－フェニル類、チタノセン類、およびそれらを高分子量化した誘導体等が挙げられる。

開裂型光ラジカル発生剤の中でもアシルホスフィンオキシド類が好ましく、具体的には、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（商品名「ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ」；チバ・ジャパン（株））、ビス（２，６－ジメトキシ－ベンゾイル）－（２，４，４－トリメチル－ペンチル）－ホスフィンオキシド（商品名「ＣＧＩ ４０３」；チバ・ジャパン（株））、またはビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－２，４－ジペントキシフェニルホスフィンオキシド（商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９」；チバ・ジャパン（株））が好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、増感剤を含有してもよい。
増感剤を配合する場合、その含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量１００質量部に対し、好ましくは０.１～２０質量部である。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤などが含有されてもよい。

本発明における活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられる。本発明における活性エネルギー線硬化型接着剤には通常、紫外線及び電子線が用いられる。

電子線照射の加速電圧は、通常５ｋＶ～３００ｋＶであり、好ましくは１０ｋＶ～２５０ｋＶである。照射線量は、通常５～１００ｋＧｙであり、好ましくは１０～７５ｋＧｙである。

電子線照射は、通常、不活性ガス中で行うが、大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。

紫外線照射強度は、通常１０～５０００ｍＷ／ｃｍ2である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。このような光照射強度で１回あるいは複数回照射して、その積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは１０～５，０００ｍＪ／ｃｍ^２となるようにするのが好ましい。

紫外線の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。

溶剤としては、水；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１－ブタノール、２－ブタノール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール等のアルコール；
プロピルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、イソブチルエーテル、ｎ－アミルエーテル、イソアミルエーテル、メチルブチルエーテル、メチルイソブチルエーテル、メチルｎ－アミルエーテル、メチルイソアミルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エチルｎ－アミルエーテル、エチルイソアミルエーテル等の飽和脂肪族エーテル化合物；
アリルエーテル、エチルアリルエーテル等の不飽和脂肪族エーテル化合物；
アニソール、フェネトール、フェニルエーテル、ベンジルエーテル等の芳香族エーテル化合物；
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールエーテル化合物；
ギ酸、酢酸、無水酢酸、アクリル酸、クエン酸、プロピオン酸、酪酸等のモノカルボン酸化合物；
ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸２－エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ブチルシクロヘキシル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸アミル、酪酸ブチル、炭酸ジエチル、シュウ酸ジエチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、リン酸トリエチル等の有機酸エステル化合物；
アセトン、エチルケトン、プロピルケトン、ブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン等のケトン化合物；
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ウンデカン二酸、ピルビン酸、シトラコン酸等のジカルボン酸化合物；
１，４－ジオキサン、フルフラール、Ｎ－メチルピロリドン等が挙げられる。
中でも、水及びアルコールが好ましく、炭素数は１～４のアルコールがより好ましく、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１－ブタノール、２－ブタノール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール及びブタンジオールからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルコールがさらに好ましく、イソプロピルアルコール及び／又は１－ブタノールがさらにより好ましい。
水は、純水でもよいし、水道水程度に不純物を含んでいてもよい。

活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常０.００１～５μmであり、好ましくは０.０１μm以上であり、また好ましくは２μｍ以下であり、さらに好ましくは１μｍ以下である。活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、光学異方性フィルムの外観不良となりやすい。

液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）は、粘接着剤の種類及び粘接着剤層の厚み等によって調整することができる。
液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）は、通常１Ｎ／２５ｍｍ以上であり、好ましくは２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、また、好ましくは５０Ｎ／２５ｍｍ以下であり、より好ましくは２０Ｎ／２５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１０Ｎ／２５ｍｍ以下である。粘接着剤層の密着力が２０Ｎ／２５ｍｍより高いと、例えば、粘接着剤層に剥離フィルムを貼合して、基材と、配向膜と、液晶硬化膜と、粘接着剤層と、剥離フィルムとを積層した光学異方性シートを作製し、かかる光学異方性シートから剥離フィルムを取り除く際に、粘接着剤層と剥離フィルムとの密着力が高いために、粘接着剤層と剥離フィルムとが剥離されずに、その他の部分で剥離が生じることがあるため好ましくない。

基材の密着力（Ｆ４）は好ましくは、０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上１Ｎ／２５ｍｍ未満であり、より好ましくは０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上０．５Ｎ／２５ｍｍ未満であり、さらに好ましくは０．０６Ｎ／２５ｍｍ以上０．３Ｎ／２５ｍｍ未満である。Ｆ４が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であると粘接着剤層を一時保護する剥離フィルムを剥がす際に基材と液晶硬化膜の間で剥離しないため好ましい。また、Ｆ４が１Ｎ／２５ｍｍ未満であると目的の領域に転写する際に基材を剥がしやすくなるため好ましい。

基材と配向膜との密着力（Ｆ２）は好ましくは、０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上１Ｎ／２５ｍｍ未満であり、より好ましくは０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上０．５Ｎ／２５ｍｍ未満であり、さらに好ましくは０．０６Ｎ／２５ｍｍ以上０．３Ｎ／２５ｍｍ未満である。Ｆ２が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であると粘接着剤層を一時保護する剥離フィルムを剥がす際に基材と液晶硬化膜の間で剥離しないため好ましい。また、Ｆ２が１Ｎ／２５ｍｍ未満であると目的の領域に転写する際に基材を剥がしやすくなるため好ましい。

配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）は好ましくは、０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上１Ｎ／２５ｍｍ未満であり、より好ましくは０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上０．５Ｎ／２５ｍｍ未満であり、さらに好ましくは０．０６Ｎ／２５ｍｍ以上０．３Ｎ／２５ｍｍ未満である。
Ｆ３が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であると粘接着剤層を一時保護する剥離フィルムを剥がす際に基材と液晶硬化膜の間で剥離しないため好ましい。また、Ｆ３が１Ｎ／２５ｍｍ未満であると目的の領域に転写する際に基材を剥がしやすくなるため好ましい。

基材と液晶硬化膜との密着力は好ましくは、０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上１Ｎ／２５ｍｍ未満であり、より好ましくは０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上０．５Ｎ／２５ｍｍ未満であり、さらに好ましくは０．０６Ｎ／２５ｍｍ以上０．３Ｎ／２５ｍｍ未満である。基材と液晶硬化膜との密着力が０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であると粘接着剤層を一時保護する剥離フィルムを剥がす際に基材と液晶硬化膜の間で剥離しないため好ましい。また、基材と液晶硬化膜との密着力が１Ｎ／２５ｍｍ未満であると目的の領域に転写する際に基材を剥がしやすくなるため好ましい。

＜光学異方性シートの製造方法＞
基材表面又は、基材に形成された配向膜表面に、液晶硬化膜形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法として例示したものと同じ方法が挙げられる。塗布する液晶硬化膜形成用組成物の厚みは、得られる液晶硬化膜の厚みを考慮して定められる。

次に、重合性液晶化合物が重合しない条件で液晶硬化膜形成用組成物に含まれる溶剤を除去することにより、基材又は配向膜表面に液晶硬化膜形成用組成物の乾燥被膜が形成される。溶剤の除去方法としては、例えば自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。

前記乾燥被膜を加熱するなどして、前期乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物を液晶配向させた後、この液晶配向を保持したまま、前記乾燥被膜にエネルギーを照射することにより、重合性液晶化合物を重合させる。液晶硬化膜形成用組成物が重合開始剤を含有している場合は、重合開始剤が活性化される条件のエネルギーを照射するのが好ましい。重合開始剤が光重合開始剤である場合は、エネルギーは光であると好ましい。照射する光は、前記乾燥被膜に含まれる重合開始剤の種類、又は重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合基の種類）及びその量に応じて適宜選択される。かかる光としては、可視光、紫外光及びレーザー光からなる群より選択される光や活性電子線等が挙げられるが、中でも、重合反応の進行をコントロールし易い点や、重合に係る装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましい。よって、紫外光によって、重合できるように、液晶硬化膜形成用組成物に含有される重合性液晶化合物及び重合開始剤の種類を選択しておくと好ましい。また、重合させる際には、紫外光照射とともに適当な冷却手段により、前記乾燥被膜を冷却することで重合温度をコントロールするのが好ましい。このような冷却により、より低温で重合性液晶化合物を重合すれば、基材に耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に液晶硬化膜を製造できる。

かくして、液晶配向を有する液晶硬化膜が基材又は配向膜表面に形成される。中でも、二色性色素を含み、かつ、スメクチック相の液晶配向を有する液晶硬化膜（偏光膜）が形成された場合は、二色性色素の作用にも伴い、従来のネマチック相の液晶配向を有する偏光膜に比較して、偏光性能に優れるものであり、さらに、二色性色素やリオトロピック液晶のみを塗布したものに比較して、強度に優れるものである。

＜プライマー層＞
本光学異方性シートは、液晶硬化膜と、粘接着剤層との間にプライマー層を有していてもよい。液晶硬化膜と、粘接着剤層との間にプライマー層を有する場合、液晶硬化膜とプライマーとの密着力と、粘接着剤層とプライマー層との密着力のうち、いずれかより低い方の密着力を、液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）とする。

プライマー層は、通常、透明樹脂を含むものであり、透明樹脂溶液から形成される。プライマー層は、粘接着剤層を形成する際に液晶硬化膜の欠陥を抑制することができる。透明樹脂としては、塗工性に優れ、プライマー層形成後の透明性及び密着性に優れるものが好ましい。

前記透明樹脂溶液の溶剤には、前記透明樹脂の溶解性に応じて、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル溶媒；塩化メチレン、トリクロロエチレン、クロロホルム等の塩素化炭化水素溶媒；エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール等のアルコール溶媒等の一般的な有機溶媒を用いることができるが、有機溶媒を含む透明樹脂溶液を用いてプライマー層を形成すると、液晶硬化膜の光学特性に影響を及ぼすことがあるため、水を溶媒とする溶液を用いてプライマー層を形成することが好ましい。

前記透明樹脂としては、エポキシ樹脂を挙げることができる。エポキシ樹脂は、一液硬化型のものでもよいし、二液硬化型のものでもよい。水溶性のエポキシ樹脂が特に好ましい。水溶性のエポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミンのようなポリアルキレンポリアミンとアジピン酸のようなジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂が挙げられる。かかるポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、住化ケムテックス（株）から販売されているスミレーズレジン（登録商標）650(30)や、スミレーズレジン（登録商標）６７５等が挙げられる。

前記透明樹脂として水溶性のエポキシ樹脂を用いる場合は、さらに塗布性を向上させるために、ポリビニルアルコール系樹脂等の他の水溶性樹脂を併用することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、アミノ基変性ポリビニルアルコールのような、変性されたポリビニルアルコール系樹脂であってもよい。適当なポリビニルアルコール系樹脂の市販品としては、（株）クラレから販売されているアニオン性基含有ポリビニルアルコールであるKL-318（商品名）等が挙げられる。

水溶性のエポキシ樹脂を含む溶液からプライマー層を形成する場合、エポキシ樹脂は、水１００重量部に対して、０．２～１．５重量部程度の範囲とすることが好ましい。また、この溶液にポリビニルアルコール系樹脂を配合する場合、その量は、水１００重量部に対して、１～６重量部程度とすることが好ましい。プライマー層の厚みは、０.１～１０μｍ程度の範囲とすることが好ましい。

プライマー層の形成方法は制限されず、ダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、カンマコート法、バーコート法等の公知の各種コーティング法を用いることができる。

粘接着剤層は、粘接着剤を液晶硬化膜又はプライマー層の表面に塗布することで形成される。粘接着剤が溶剤を含む場合は、粘接着剤を液晶硬化膜又はプライマー層の表面に塗布し、溶剤を除去することで形成される。また、粘着剤から形成される粘接着剤層は、離型処理が施されたフィルムの離型処理面に粘着剤を塗布し、溶剤を除去することで離型処理が施されたフィルムの離型処理面に粘着剤層を形成した後、この粘接着剤層付のフィルムを、粘接着剤層側が貼合面となるように、液晶硬化膜又はプライマー層の表面に貼り合わせる方法によっても形成することができる。
粘接着剤層が形成される液晶硬化膜又はプライマー層の表面には、あらかじめコロナ放電処理を施しておくことが好ましい。コロナ処理により、液晶硬化膜又はプライマー層と粘接着剤層との密着性をさらに向上させることができる。

粘接着剤を塗布する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法として例示したものと同じ方法が挙げられる。塗布された粘接着剤から、溶剤を除去する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

＜光学異方性フィルムの製造方法＞
本光学異方性シートから基材を取り除くことで、光学異方性フィルムが得られる。基材を取り除く方法は任意であり、剥離する等の方法で取り除くことができる。

＜円偏光板＞
本光学異方性シートの液晶硬化膜が位相差膜である場合、本光学異方性シートの粘接着剤層に偏光フィルムを貼合し、基材を取り除き、さらにその上に粘接着剤層を形成することで、偏光板と、第一の粘接着剤層と、液晶硬化膜と、配向膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。この際、基材と共に配向膜を取り除く、又は、配向膜を有さない本光学異方性シートを用いれば、偏光板と、第一の粘接着剤層と、液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。
液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートの基材を取り除き、基材を取り除くことで現れる配向膜に、粘接着剤層を形成し、その上に偏光フィルムを貼合することで、偏光板と、第一の粘接着剤層と、配向膜と、液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。この際、基材と共に配向膜を取り除く、又は、配向膜を有さない本光学異方性シートを用いれば、偏光板と、第一の粘接着剤層と、液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。
本光学異方性シートの液晶硬化膜が偏光膜である場合、本光学異方性シートの粘接着剤層に位相差フィルムを貼合し、基材を取り除き、さらに該位相差フィルムの表面に粘接着剤層を形成することで、配向膜と、液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、位相差フィルムと、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。この際、基材と共に配向膜を取り除く、又は、配向膜を有さない本光学異方性シートを用いれば、液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、位相差フィルムと、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。
また、液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートの基材を取り除き、基材を取り除くことで現れる配向膜の表面に、液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートを、該液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートの粘接着剤層を介して貼合し、さらに残りの基材を取り除くことで、第一の配向膜と、第一の液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、第二の配向膜と、第二の液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。この際、液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートの基材と共に配向膜を取り除く、又は、配向膜を有さない当該光学異方性シートを用いれば、第一の配向膜と、第一の液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、第二の液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。また、液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートの基材と共に配向膜を取り除く、又は、配向膜を有さない当該光学異方性シートを用いれば、第一の液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、第二の配向膜と、第二の液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。また、液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートの基材と、液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートの基材と共に配向膜を取り除く、又は、配向膜を有さない当該光学異方性シートを用いれば、第一の液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、第二の液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板が得られる。

＜密着力の測定方法＞
本光学異方性シートの密着力は以下のようにして測定される。
本光学異方性シートから、幅２５mm×長さ約１５０mmの試験片を裁断し、その粘接着剤層の面をガラス板に貼合した後、引張り試験機を用いて、試験片の長さ方向一端（幅２５mmの一辺）をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）２００ｍｍ／分で、ＪＩＳ Ｋ ６８５４－１:１９９９「接着剤－はく離接着強さ試験方法－第１部：９０度はく離」に準拠した９０°剥離試験を行う。
液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材の密着力（Ｆ４）よりも大きい場合、基材と配向膜間、配向膜と液晶硬化膜間、又は、基材と液晶硬化膜間で剥離を生じる。
また、液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）又は配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも大きい場合、基材と配向膜間、又は、配向膜と液晶硬化膜間にて剥離を生じる。
逆に、液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材の密着力（Ｆ４）よりも小さい場合、液晶硬化膜と粘接着剤層との間で剥離が生じる。また、液晶硬化膜と粘接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）及び配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも小さい場合、液晶硬化膜と粘接着剤層との間で剥離が生じる。尚、（Ｆ２）、（Ｆ３）及び、基材と液晶硬化膜との密着力のうち最も低い密着力（単位はＮ／２５mm）を、本光学異方性シートの密着力とする。

＜光学異方性シートの用途＞
本発明の光学異方性シートは、さまざまな表示装置の製造に用いることができる。具体的には、本光学異方性シートを表示装置の表示面に貼合した後に、基材を取り除くことにより、光学異方性フィルム付表示装置が得られる。
また、接着剤層を介して位相差フィルムを表示装置の表示面に貼合した後に、液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートを、該本光学異方性シートの粘接着剤層を介して貼合し、基材を取り除くことで、光学異方性フィルム（円偏光板）付表示装置が得られる。
また、液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートを表示装置の表示面に貼合した後に、該本光学異方性シートから基材を取り除き、さらに、基材を取り除くことで現れる液晶硬化膜に粘接着剤層を形成し、偏光フィルムを、該粘接着剤層を介して貼合することで、光学異方性フィルム（円偏光板）付表示装置が得られる。
また、液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートを表示装置の表示面に貼合した後に、該本光学異方性シートから基材を取り除き、さらに、液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートを、該本光学異方性シートの粘接着剤層を介して貼合し、基材を取り除くことで、光学異方性フィルム（円偏光板）付表示装置が得られる。

表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。
本光学異方性シートは、特に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造に有効に用いることができる。

図１は、本光学異方性シートを用いて製造した液晶表示装置（以下、場合により「本液晶表示装置」という。）１０の断面構成を表す模式図である。液晶層１７は、２枚の基材１４ａ及び基材１４ｂで挟まれている。
図４は、本光学異方性シートを用いて製造したＥＬ表示装置（以下、場合により「本ＥＬ表示装置」という。）の断面構成を表す模式図である。

まずは、図１に示す本液晶表示装置１０について説明する。
基材１４ａの液晶層１７側には、カラーフィルタ１５が配置されている。カラーフィルタ１５が、液晶層１７を挟んで画素電極２２に対向する位置に配置され、ブラックマトリクス２０が画素電極間の境界に対向する位置に配置されている。透明電極１６がカラーフィルタ１５及びブラックマトリクス２０を覆うように液晶層１７側に配置されている。
なお、カラーフィルタ１５と透明電極１６との間にオーバーコート層（図示せず）を有していてもよい。

基材１４ｂの液晶層１７側には、薄膜トランジスタ２１と画素電極２２とが規則正しく配置されている。画素電極２２は、液晶層１７をはさんでカラーフィルタ１５に対向する位置に配置されている。薄膜トランジスタ２１と画素電極２２との間には、接続孔（図示せず）を有する層間絶縁膜１８が配置されている。

基材１４ａ及び基材１４ｂとしては、ガラス基材及びプラスチック基材が用いられる。
かかるガラス基材やプラスチック基材は、本光学異方性シートの基材として例示したものと同様のものが採用できる。基材上に形成されるカラーフィルタ１５や薄膜トランジスタ２１を製造する際、高温に加熱する工程が必要である場合は、ガラス基材や石英基材が好ましい。

薄膜トランジスタは、基材１４ｂの材質に応じて最適なものを採用できる。薄膜トランジスタ２１としては、石英基材上に形成する高温ポリシリコントランジスタ、ガラス基材上に形成する低温ポリシリコントランジスタ、ガラス基材又はプラスチック基材上に形成するアモルファスシリコントランジスタが挙げられる。本液晶表示装置をより小型化するため、ドライバＩＣが基材１４ｂ上に形成されていてもよい。

透明電極１６と、画素電極２２との間には、液晶層１７が配置されている。液晶層１７には、基材１４ａ及び基材１４ｂ間の距離を一定に保つために、スペーサ２３が配置されている。なお、図１では柱状のスペーサで図示するが、当該スペーサは柱状に限定されるものではなく、基材１４ａ及び基材１４ｂ間の距離を一定に保つことができれば、その形状は任意である。

各部材は、基材１４ａ、カラーフィルタ１５及びブラックマトリクス２０、透明電極１６、液晶層１７、画素電極２２、層間絶縁膜１８及び薄膜トランジスタ２１、並びに基材１４ｂの順番で積層されている。

このような液晶層１７を挟んでいる基材１４ａ及び基材１４ｂのうち、基材１４ａ及び基材１４ｂの外側には、偏光膜１２ａ及び１２ｂが設けられており、これらのうち、少なくとも１つの偏光膜に本光学異方性シートから基材を取り除いた本光学異方性フィルムが用いられる。さらに、位相差膜（例えば、１／４波長板や光学補償フィルム）１３ａ及び１３ｂが、積層されていると好ましく、これらのうち、少なくとも１つの位相差膜に本発明の光学異方性シートから基材を取り除いた本光学異方性フィルムが用いられる。これらの本光学異方性フィルムにより、入射光を直線偏光に変換する機能を本液晶表示装置１０に付与することができる。なお、位相差膜１３ａ及び１３ｂは、液晶表示装置の構造や、液晶層１７に含まれる液晶化合物の種類によっては、配置されていなくてもよい。

上述のとおり、図１の本液晶表示装置１０の偏光膜１２ａ及び／又は１２ｂ、及び／又は、位相差膜１３ａ及び／又は１３ｂに、本発明の光学異方性シートから基材を取り除いた本光学異方性フィルムを用いることができる。本発明の光学異方性シートから基材を取り除いた本光学異方性フィルムを、偏光膜１２ａ及び／又は１２ｂ、及び／又は、位相差膜１３ａ及び／又は１３ｂに設けることにより、本液晶表示装置１０のさらなる薄型化が達成できる。

偏光膜１２ｂの外側には、発光源であるバックライトユニット１９が配置されている。
バックライトユニット１９は、光源、導光体、反射板、拡散シート及び視野角調整シートを含む。光源としては、エレクトロルミネッセンス、冷陰極管、熱陰極管、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザー光源及び水銀ランプなどが挙げられる。また、このような光源の特性に合わせて本偏光膜の種類を選択することができる。

本液晶表示装置１０が透過型液晶表示装置である場合、バックライトユニット２０中の光源から発せられた白色光は導光体に入射し、反射板によって進路を変えられて拡散シートで拡散されている。拡散光は視野角調整シートによって所望の指向性を持つように調整されたのちにバックライトユニット１９から偏光膜１２ｂに入射する。

無偏光である入射光のうち、ある一方の直線偏光のみが液晶パネルの偏光膜１２ｂを透過する。この直線偏光は、基材１４ｂ、画素電極２２などを順次透過して液晶層１７に到る。

ここで画素電極２２と対向する透明電極１６との間の電位差の有無により、液晶層１７に含まれる液晶分子の配向状態が変化して、本液晶表示装置１０から出射される光の輝度が制御される。液晶層１７が、偏光をそのまま透過させる配向状態である場合、液晶層１７、透明電極１６及びカラーフィルタ１５を透過した光は、偏光膜１２ａに吸収される。
このことにより、この画素は黒を表示する。

逆に、液晶層１７が、偏光を変換して透過させる配向状態である場合、その偏光は液晶層１７、透明電極１６を透過し、ある特定の波長範囲の光がカラーフィルタ１５を透過して偏光膜１２ａに到り、液晶表示装置は、カラーフィルタで決まる色を最も明るく表示する。これら２つの状態の中間の配向状態では、本液晶表示装置１０から出射される光の輝度も上記両者の中間となるため、この画素は中間色を表示する。

次に、本ＥＬ表示装置３０について、図３及び図４を参照して説明する。ＥＬ表示装置を、本発明の光学異方性シートを用いて製造する場合、本発明の光学異方性シートを円偏光板（以下、場合により「本円偏光板」という。）にしてから用いることが好ましい。本円偏光板には通常、３つの実施形態がある。まず、本円偏光板の３つの実施形態について、図２を参照して説明する。

図２の（Ａ）は本円偏光板の第１実施形態を表す模式図である。この第１実施形態は、位相差フィルム（１／４波長板）４上に、液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートを貼り合わせた後に該本光学異方性シートの基材を取り除いて、偏光膜である光学異方性フィルムと粘接着剤層からなる層１を転写した有機ＥＬ表示装置である。この際、先に粘接着剤３を介して位相差フィルムを有機ＥＬ表示装置の基材３３に形成した後に、前記本光学異方性シートを貼り合わせてもよいし、あらかじめ、位相差フィルムと本光学異方性シートを貼り合わせたものを、粘接着剤３を介して有機ＥＬ表示装置の基材３３に貼り合わせてもよい。
図２の（Ｂ）は本円偏光板の第２実施形態を表す模式図である。この第２実施形態は、液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートを有機ＥＬ表示装置の基材３３上に貼合した後に、該本光学異方性シートの基材を取り除き、位相差膜である光学異方性フィルムと粘接着剤層からなる層２を転写し、さらに偏光膜５を粘接着剤３を介して、貼合された光学異方性フィルムに貼り合わせて得られた有機ＥＬ表示装置である。
図２の（Ｃ）は本円偏光板の第３実施形態を表す模式図である。この第３実施形態は、液晶硬化膜が位相差膜である本光学異方性シートを有機ＥＬ表示装置の基材３３に貼合した後に、該本光学異方性シートの基材を取り除いて得られる、位相差膜である光学異方性フィルムと粘接着剤層からなる層２を転写し、さらに液晶硬化膜が偏光膜である本光学異方性シートを、前記層２の上に貼合し、該本光学異方性シートの基材を取り除き、偏光膜である光学異方性フィルムと粘接着剤層からなる層１を転写した有機ＥＬ表示装置である。

続いて、本発明の本光学異方性シートを用いて製造された本ＥＬ表示装置を、図３を参照して説明する。
本ＥＬ表示装置３０は、画素電極３５が形成された基材３３上に、発光源である有機機能層３６、及びカソード電極３７が積層されたものである。基材３３を挟んで有機機能層３６と反対側に、円偏光板３１が配置され、かかる円偏光板３１に本円偏光板が用いられる。画素電極３５にプラスの電圧、カソード電極３７にマイナスの電圧を加え、画素電極３５及びカソード電極３７間に直流電流を印加することにより、有機機能層３６が発光する。発光源である有機機能層３６は、電子輸送層、発光層及び正孔輸送層などからなる。
有機機能層３６から出射した光は、画素電極３５、層間絶縁膜３４、基材３３、円偏光板３１を通過する。有機機能層３６を有する有機ＥＬ表示装置について説明したが、無機機能層を有する無機ＥＬ表示装置にも適用してもよい。

本ＥＬ表示装置３０を製造するには、まず、基材３３上に薄膜トランジスタ４０を所望の形状に形成する。そして層間絶縁膜３４を成膜し、次いで画素電極３５をスパッタ法で成膜し、パターニングする。その後、有機機能層３６を積層する。

次いで、基材３３の薄膜トランジスタ４０が設けられている面の反対の面に、円偏光板３１を設ける。

基材３３としては、サファイアガラス基材、石英ガラス基材、ソーダガラス基材及びアルミナなどのセラミック基材；銅などの金属基材；プラスチック基材などが挙げられる。
図示はしないが、基材３３上に熱伝導性膜を形成してもよい。熱伝導性膜としては、ダイヤモンド薄膜（ＤＬＣなど）などが挙げられる。画素電極３５を反射型とする場合は、基材３３とは反対方向へ光が出射する。したがって、透明材料だけでなく、ステンレスなどの非透過材料を用いることができる。基材は単一で形成されていてもよく、複数の基材を粘接着剤で貼り合わせて積層基材として形成されていていてもよい。また、これらの基材は、板状のものに限定するものではなく、フィルムであってもよい。

薄膜トランジスタ４０としては例えば、多結晶シリコントランジスタなどを用いればよい。薄膜トランジスタ４０は、画素電極３５の端部に設けられ、その大きさは１０～３０μｍ程度である。なお、画素電極３５の大きさは２０μｍ×２０μｍ～３００μｍ×３００μｍ程度である。

基材３３上には、薄膜トランジスタ４０の配線電極が設けられている。配線電極は抵抗が低く、画素電極３５と電気的に接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一般的にはその配線電極は、Ａｌ、Ａｌ及び遷移金属（ただしＴｉを除く）、Ｔｉ又は窒化チタン（ＴｉＮ）のいずれか１種又は２種以上を含有するものが使われる。

薄膜トランジスタ４０と画素電極３５との間には層間絶縁膜３４が設けられる。層間絶縁膜３４は、ＳｉＯ_２などの酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機系材料をスパッタや真空蒸着で成膜したもの、ＳＯＧ（スピン・オン・グラス）で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、ポリイミド及びアクリル樹脂などの樹脂系材料の塗膜など、絶縁性を有するものであればいずれであってもよい。

層間絶縁膜３４上に、リブ４１を形成する。リブ４１は、画素電極３５の周辺部（隣接画素間）に配置されている。リブ４１の材料としては、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂などが挙げられる。リブ４１の厚みは、好ましくは１．０μｍ以上３．５μｍ以下であり、より好ましくは１．５μｍ以上２．５μｍ以下である。

次に、透明電極である画素電極３５と、発光源である有機機能層３６と、カソード電極３７とからなるＥＬ素子について説明する。有機機能層３６は、それぞれ少なくとも１層のホール輸送層及び発光層を有し、例えば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層及び正孔注入層を順次有する。

画素電極３５としては、例えば、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）、ＩＧＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２及びＩｎ_２Ｏ_３などが挙げられるが、特にＩＴＯやＩＺＯが好ましい。画素電極３５の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すればよく、１０～５００ｎｍ程度とすることが好ましい。
画素電極３５は、蒸着法（好ましくはスパッタ法）により形成することができる。スパッタガスとしては、特に制限するものではなく、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒ及びＸｅなどの不活性ガス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。

カソード電極３７の構成材料としては例えば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ及びＺｒなどの金属元素が用いられればよいが、電極の作動安定性を向上させるためには、例示した金属元素から選ばれる２成分又は３成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａｇ：１～２０ａｔ％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．３～１４ａｔ％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０～８０ａｔ％）及びＡｌ・Ｃａ（Ｃａ：５～２０ａｔ％）などが好ましい。
カソード電極３７は、蒸着法及びスパッタ法などにより形成される。カソード電極３７の厚さは、０．１ｎｍ以上、好ましくは１～５００ｎｍ以上であることが好ましい。

正孔注入層は、画素電極３５からの正孔の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を輸送する機能及び電子を妨げる機能を有し、電荷注入層や電荷輸送層とも称される。
発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層とを併せた厚さ、及び電子注入輸送層の厚さは特に限定されず、形成方法によっても異なるが、５～１００ｎｍ程度とすることが好ましい。正孔注入層や正孔輸送層には、各種有機化合物を用いることができる。正孔注入輸送層、発光層及び電子注入輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できる点で真空蒸着法を用いることができる。

発光源である有機機能層３６としては、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するもの、３重項励起子からの発光（燐光）を利用するもの、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するものと３重項励起子からの発光（燐光）を利用するものとを含むもの、有機物によって形成されたもの、有機物によって形成されたものと無機物によって形成されたものとを含むもの、高分子の材料、低分子の材料、高分子の材料と低分子の材料とを含むものなどを用いることができる。ただし、これに限定されず、ＥＬ素子用として公知の様々なものを用いた有機機能層３６を、本ＥＬ表示装置３０に用いることができる。

カソード電極３７と封止フタ３９との空間には乾燥剤３８を配置する。これは、有機機能層３６は湿度に弱いためである。乾燥剤３８により水分を吸収し有機機能層３６の劣化を防止する。

図４は、本ＥＬ表示装置３０の別態様の断面構成を表す概略図である。この本ＥＬ表示装置３０は、薄膜封止膜４２を用いた封止構造を有し、アレイ基材の反対面からも出射光を得ることができる。
薄膜封止膜４２としては電解コンデンサのフィルムにＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）を蒸着したＤＬＣ膜を用いることが好ましい。ＤＬＣ膜は水分浸透性が極めて悪いという特性があり、防湿性能が高い。また、ＤＬＣ膜などをカソード電極３７の表面に直接蒸着して形成してもよい。また、樹脂薄膜と金属薄膜とを多層に積層して、薄膜封止膜４１を形成してもよい。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

＜密着力の測定方法＞
密着力は、引張り試験機を用いて、試験片の長さ方向一端をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）２００ｍｍ／分で、ＪＩＳ Ｋ ６８５４－１:１９９９「接着剤－はく離接着強さ試験方法－第１部：９０度はく離」に準拠した９０°剥離試験を行い測定した。尚、試験片の幅は２５ｍｍとした。

実施例１
［液晶硬化膜形成用組成物（１）の調製］
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、位相差膜形成用組成物を得た。

重合性液晶化合物Ａ１および重合性液晶化合物Ａ２は、特開２０１０－３１２２３号公報記載の方法で合成した。
重合性液晶化合物Ａ１（８０部）：

重合性液晶化合物Ａ２（２０部）：

重合開始剤（６部）：
２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア（登録商標）３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製） レベリング剤（０．１部）：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製
溶剤（４００部）：シクロペンタノン

［光配向膜形成用組成物（１）の調製］
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。
光配向性材料（５部）：

溶剤（９５部）：シクロペンタノン

［粘着剤の調製］
下記成分を窒素雰囲気下で５５℃で混合して、アクリル樹脂を得た。
アクリル酸ブチル ７０部
アクリル酸メチル ２０部
アクリル酸 １．０部
開始剤：アゾビスイソブチロニトリル ０．２部
溶剤（８０部）：酢酸エチル
さらに、コロネート（登録商標）Ｌ（トリレンジイソシアネ－トのトリメチロールプロパン付加物の７５％酢酸エチル溶液、１分子中のイソシアネート基数：３個、日本ポリウレタン工業株式会社製）０.５部、シランカップリング剤Ｘ-１２-９８１（信越シリコーン株式会社製）を０.５部混合し、最後に全固形分濃度が１０％となるように酢酸エチルを添加して、粘着剤を得た。

［光学異方性シートの製造］
１．配向膜の形成
基材にシクロオレフィン系フィルムであるＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム（日本ゼオン株式会社製）を用いた。該基材に、コロナ処理を施し光配向膜形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、６０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光ＵＶ照射処理を施して基材表面に光配向膜（１）を形成した。偏光ＵＶ処理は、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３６５ｎｍで測定した強度が１００ｍＪである条件で行った。得られた光配向膜（１）の膜厚は１００ｎｍであった。

２．液晶硬化膜の形成
光配向膜（１）の表面に、液晶硬化膜形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、１２０℃のオーブンで１分間加熱乾燥した後、室温まで冷却し乾燥被膜を得た。得られた乾燥被膜に、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射し重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜（１）を形成した。形成された液晶硬化膜の厚さをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社社製 ＯＬＳ３０００）により測定したところ、２．０μｍであった。

３．剥離フィルム付き粘着剤の製造
粘着剤を、離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック株式会社製）の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚さが１０μmとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して、剥離フィルム付き粘着剤（１）を得た。
この粘着剤をコロナ処理を施したＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルムに圧着させた後、得られたフィルムを２５mm×１５０mmの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、ガラス基板〔コーニング社製のＥａｇｌｅ ＸＧ（商品名）〕上に圧着した。この後、Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルムを取り除いたところ、ガラス基板と粘着剤との間で剥離を生じた。この際の剥離力を、上記密着力の測定方法にて測定したところ、４Ｎ／２５ｍｍであった。

４．粘着剤層の形成
液晶硬化膜（１）の表面に、剥離フィルム付き粘着剤（１）の粘着剤面を圧着し、光学異方性シート（１）を得た。

５．面内リタデーション測定
光学異方性シート（１）を３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がした面をガラス基板〔コーニング社製のＥａｇｌｅ ＸＧ（商品名）〕に圧着した後、光学異方性シートの基材を取り除いて測定サンプルとした。この測定サンプルの位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて、４５０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において測定し、装置付属プログラムで波長４５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（４５０）、波長５５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（５５０）、波長６５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（６５０）を算出したところ、以下に示す値であった。
Ｒｅ（４５０）＝ １３４ ｎｍ
Ｒｅ（５５０）＝ １４５ ｎｍ
Ｒｅ（６５０）＝ １５１ ｎｍ
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝ ０．９３
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝ １．０４

６．光学異方性フィルムの転写
光学異方性シート（１）を２５mm×１５０mmの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、ガラス基板〔コーニング社製のＥａｇｌｅ ＸＧ（商品名）〕上に圧着した。この後、光学異方性シート（１）の基材を取り除き、ガラス上に光学異方性フィルムを転写した。この際の粘着剤を含む光学異方性フィルムの膜厚は１２μｍであった。
液晶硬化膜と粘着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）及び配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも大きく、前記（Ｆ３）が最も小さかったため、配向膜と液晶硬化膜の間で剥離を生じ基材が取り除かれた。前記（Ｆ３）の密着力は０．３０Ｎ／２５ｍｍであった。すなわち、Ｆ２及びＦ３は０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、Ｆ２又はＦ３は１Ｎ／２５ｍｍ未満であった。

実施例２
１．円偏光板の作製
光学異方性シート（１）を４０ｍｍ×４０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、反射板（鏡面アルミニウム板）に圧着した。この後、光学異方性シート（１）の基材を取り除き、さらにその上に、ヨウ素－ＰＶＡ偏光板（スミカラン 住友化学株式会社製 厚さ６５μｍ）を粘着剤を介して貼合した。この際、光学異方性フィルムの遅相軸と偏光板の吸収軸の為す角度を４５°とした。このようにして、総厚が９２μｍの円偏光板（１）を得た。

２．反射率の測定
円偏光板（１）の有用性を確認するため、以下のようにして反射率を測定した。分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）を用いて、波長４００から７００ｎｍの範囲の光を２ｎｍステップで、測定試料に対して法線方向１２°から入射し、反射した光の反射率を測定した。円偏光板（１）を貼合せずに反射板のみを配置して測定した際の反射率を１００％として、反射率を算出すると、４００～７００ｎｍの範囲の波長の光の反射率は１～１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られることが分かった。この反射防止原理は有機ＥＬディスプレイの金属電極での外光反射と同様の原理であるため、有機ＥＬディスプレイにも同様に好適に用いられる。

実施例３
［液晶硬化膜形成用組成物（２）の調製］
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、液晶硬化膜形成用組成物（２）を得た。重合性液晶化合物Ｂ１および重合性液晶化合物Ｂ２は、特許第４７１９１５６号公報記載の方法で合成した。
重合性液晶化合物Ｂ１（化合物（１－６）；７５部）

重合性液晶化合物Ｂ２（化合物（１－７）；２５部）

二色性色素；
ビスアゾ化合物（２－１－１） ２．５部

ビスアゾ化合物（２－１－２） ２．５部

ビスアゾ化合物（２－４－１） ２．５部

重合開始剤；
２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア（登録商標）３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製） ６部
レベリング剤；
ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）
１．５部
溶剤；シクロペンタノン ２５０部

［相転移温度の測定］
液晶硬化膜形成用組成物（２）を、ガラスに塗布し、乾燥して、測定用試料を作製した。測定試料を１４０℃まで昇温し、降温時の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察により確認したところ、１０８℃でネマチック相への相転移し、１０１℃でスメクチックＡ相への相転移し、７６℃でスメクチックＢ相への相転移することが、それぞれ確認された。

［光学異方性シートの製造］
１．液晶硬化膜の形成
実施例１と同様にして得た光配向膜表面に、液晶硬化膜形成用組成物（２）をバーコート法により塗布し、１２０℃のオーブンにて１分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。
ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１２００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）で紫外線照射し重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜（２）を形成した。形成された液晶硬化膜の厚さをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社社製 ＯＬＳ３０００）により測定したところ、１．８μｍであった。

２．Ｘ線回折測定
このようにして得られた液晶硬化膜の表面に対して、Ｘ線回折装置Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ ＭＰＤ（スペクトリス株式会社製）によりＸ線回折測定を行った。ターゲットとしてＣｕを用いてＸ線管電流４０ｍＡ、Ｘ線管電圧４５ｋＶの条件で発生したＸ線を固定発散スリット１／２°を介してラビング方向（予め、偏光層下にある配向層のラビング方向を求めておく。）から入射させ、走査範囲２θ＝４．０～４０．０°の範囲で２θ＝０．０１６７１°ステップで走査して測定を行った。その結果、２θ＝２０．１２°付近にピーク半価幅（ＦＷＨＭ）＝約０．２９°のシャープな回折ピーク（ブラッグピーク）が得られた。また、ラビング垂直方向からＸ線を入射させて測定した場合も同等な結果を得た。
ピーク位置から求めた秩序周期（ｄ）は約４．４Åであり、高次スメクチック相を反映した構造を形成していることがわかった。

３．粘着剤層の形成
実施例１と同様にして、液晶硬化膜（２）の表面に剥離フィルム付き粘着剤（１）の粘着剤面を圧着し、光学異方性シート（２）を作製した。

４．光学異方性フィルムの転写
光学異方性シート（２）を２５mm×１５０mmの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、ガラス基板〔コーニング社製のＥａｇｌｅ ＸＧ（商品名）〕上に圧着した。この後、光学異方性シートの基材を取り除き、ガラス上に光学異方性フィルムを転写した。この際の粘着剤を含む光学異方性フィルムの厚さは１１．８μｍであった。
液晶硬化膜と粘着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）及び配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも大きく、前記（Ｆ３）が最も小さかったため、配向膜と液晶硬化膜の間で剥離を生じ基材が取り除かれた。前記（Ｆ３）の密着力は０．３２Ｎ／２５ｍｍであった。すなわち、Ｆ２及びＦ３は０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、Ｆ２又はＦ３は１Ｎ／２５ｍｍ未満であった。

実施例４
１．円偏光板の作製
実施例１で得た剥離フィルム付き粘着剤（１）を位相差フィルム（一軸延伸フィルムＷＲＦ－Ｓ（変性ポリカーボネート系樹脂）、位相差値１４１ｎｍ、厚み５０μｍ、帝人化成（株）製）に圧着し、４０ｍｍ×４０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、反射板（鏡面アルミニウム板）に圧着した。さらに、その上に、実施例３に記載の光学異方性シート（２）を圧着し、光学異方性シートの基材を取り除き、位相差フィルム上に光学異方性フィルムを転写し、円偏光板を得た。この際、位相差フィルムの遅相軸と光学異方性フィルムの吸収軸の為す角度を４５°とした。このようにして、反射板上に、粘着剤を含めた総厚が７１．８μｍの非常に薄い円偏光板を形成した。

２．反射率の測定
円偏光板（２）の有用性を確認するため、以下のようにして反射率を測定した。分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）を用いて、波長４００から７００ｎｍの範囲の光を２ｎｍステップで、測定試料に対して法線方向１２°から入射し、反射した光の反射率を測定した。円偏光板（２）を貼合せずに反射板のみを配置して測定した際の反射率を１００％として、反射率を算出すると、４００～７００ｎｍの範囲の波長の光の反射率は１～１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られることが分かった。この反射防止原理は有機ＥＬディスプレイの金属電極での外光反射と同様の原理であるため、有機ＥＬディスプレイにも同様に好適に用いられる。

実施例５
１．円偏光板の作製
実施例１で得た光学異方性シート（１）を４０ｍｍ×４０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、反射板（鏡面アルミニウム板）に圧着した。この後、光学異方性シートの基材を取り除くことで、ガラス上に光学異方性フィルム（１）を転写した。さらに、実施例３で得た光学異方性シート（２）の剥離フィルムを剥がして、ガラス上に転写された光学異方性フィルム（１）の上に貼合し、光学異方性シートの基材を取り除き、光学異方性フィルム（１）上に光学異方性フィルム（２）を転写した。この際、光学異方性フィルム（１）の遅相軸と光学異方性フィルム（２）の吸収軸の為す角度を４５°とした。
このようにして、反射板上に粘着剤を含めた総厚が２３．８μｍの非常に薄い円偏光板（３）を形成した。

２．反射率の測定
円偏光板（３）の有用性を確認するため、以下のようにして反射率を測定した。分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）を用いて、波長４００から７００ｎｍの範囲の光を２ｎｍステップで、測定試料に対して法線方向１２°から入射し、反射した光の反射率を測定した。円偏光板（３）を貼合せずに反射板のみを配置して測定した際の反射率を１００％として、反射率を算出すると、４００～７００ｎｍの範囲の波長の光の反射率は１～１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られることが分かった。この反射防止原理は有機ＥＬディスプレイの金属電極での外光反射と同様の原理であるため、有機ＥＬディスプレイにも同様に好適に用いられる。

実施例６
１．円偏光板の作製
基材としてＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルムの代わりにポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は実施例１と同様の方法で光学異方性シート（３）を作製した。基材としてＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルムの代わりにポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は実施例３と同様の方法で光学異方性シート（４）を作製した。それぞれを４０ｍｍ×４０ｍｍの大きさに裁断し、光学異方性シート（３）の剥離フィルムを剥がして、反射板（鏡面アルミニウム板）に圧着し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを取り除くことで、反射板上に光学異方性フィルム（３）を転写した。さらに、その上に、光学異方性シート（４）を圧着し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを取り除くことで、位相差膜上に光学異方性フィルム（４）を転写した。この際、光学異方性フィルム（３）の遅相軸と光学異方性フィルム（４）の吸収軸の為す角度を４５°とした。このようにして、反射板上に粘着剤を含めた総厚が２３．８μｍの非常に薄い円偏光板（４）を作成した。

２．反射率の測定
円偏光板（４）の有用性を確認するため、以下のようにして反射率を測定した。分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）を用いて、波長４００から７００ｎｍの範囲の光を２ｎｍステップで、測定試料に対して法線方向１２°から入射し、反射した光の反射率を測定した。円偏光板（４）を貼合せずに反射板のみを配置して測定した際の反射率を１００％として、反射率を算出すると、４００～７００ｎｍの範囲の波長の光の反射率は１～１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られることが分かった。この反射防止原理は有機ＥＬディスプレイの金属電極での外光反射と同様の原理であるため、有機ＥＬディスプレイにも同様に好適に用いられる。

実施例７
[活性エネルギー線硬化型接着剤の調製]
以下の各成分を混合して、活性エネルギー線硬化型接着剤（１）を調製した。
３，４－エポキシシクロヘキシルメチル
３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート ４０部
ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル ６０部
ジフェニル（４－フェニルチオフェニル）スルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート（光カチオン重合開始剤） ４部

［光学異方性シートの製造］
１．配向膜の形成
基材にはポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂株式会社製、ダイアホイルＴ１４０Ｅ２５）を用いた。該基材に、光配向膜形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、６０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光ＵＶ照射処理を施して基材表面に光配向膜（１）を形成した。偏光ＵＶ処理は、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３６５ｎｍで測定した強度が１００ｍＪである条件で行った。得られた光配向膜（１）の膜厚は１００ｎｍであった。

２．液晶硬化膜の形成
光配向膜（１）の表面に、液晶硬化膜形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、１２０℃のオーブンで１分間加熱乾燥した後、室温まで冷却し乾燥被膜を得た。得られた乾燥被膜に、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射し重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜（３）を形成した。形成された液晶硬化膜の厚さをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社社製 ＯＬＳ３０００）により測定したところ、２．０μｍであった。

３．光学異方性フィルムの転写
得られた液晶硬化膜（３）の表面をコロナ処理した後、そこへ活性エネルギー線硬化型接着剤（１）をバーコート法により塗布し、光学異方性シート（５）を得た。光学異方性シート（５）の、接着剤側の表面に、表面をコロナ処理したＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム（位相差：０）を圧着し、該Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム側からＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射した。光学異方性シート（５）の基材を取り除き、Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム上に光学異方性フィルムを転写し、光学異方性フィルムを有するＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム（１０）を得た。この際の接着剤層を含む光学異方性フィルムの厚さは４．５μｍであった。
液晶硬化膜と接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）及び配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも大きく、前記（Ｆ３）が最も小さかったため、配向膜と液晶硬化膜で剥離を生じ基材が取り除かれた。前記（Ｆ３）の密着力は０．０８Ｎ／２５ｍｍであった。すなわち、Ｆ２及びＦ３は０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、Ｆ２又はＦ３は１Ｎ／２５ｍｍ未満であった。

４．面内リタデーション測定
光学異方性フィルムを有するＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム（１０）の位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて、４５０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において測定し、装置付属プログラムで波長４５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（４５０）、波長５５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（５５０）、波長６５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（６５０）を算出したところ、以下に示す値であった。なお、Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルムの位相差は略０のため、下記位相差値Ｒｅには影響しない。
Ｒｅ（４５０）＝ １２１ ｎｍ
Ｒｅ（５５０）＝ １３０ ｎｍ
Ｒｅ（６５０）＝ １３５ ｎｍ
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝ ０．９３
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝ １．０４

実施例８
１．円偏光板の作製
実施例７で得た光学異方性シート（５）と、ヨウ素－ＰＶＡ偏光板（スミカラン 住友化学株式会社製 厚さ６５μｍ）とを接着剤を介して貼合し、光学異方性シート（５）の基材を取り除いた。この際、光学異方性フィルムの遅相軸と偏光板の吸収軸の為す角度を４５°とした。このようにして、総厚が９３μｍの円偏光板（５）を得た。

２．反射率の測定
円偏光板（５）の有用性を確認するため、以下のようにして反射率を測定した。分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）を用いて、波長４００から７００ｎｍの範囲の光を２ｎｍステップで、測定試料に対して法線方向１２°から入射し、反射した光の反射率を測定した。円偏光板（５）を貼合せずに反射板のみを配置して測定した際の反射率を１００％として、反射率を算出すると、４００～７００ｎｍの範囲の波長の光の反射率は１～１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られることが分かった。この反射防止原理は有機ＥＬディスプレイの金属電極での外光反射と同様の原理であるため、有機ＥＬディスプレイにも同様に好適に用いられる。

実施例９
［配向性ポリマー組成物（１）の調製］
配向性ポリマー組成物（１）の組成を、表１に示す。市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ－６１０（日産化学工業株式会社製）にＮ－メチル－２－ピロリドン、２－ブトキシエタノールおよびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を加えて配向性ポリマー組成物（１）を得た。

表１における値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。ＳＥ－６１０については、固形分量を納品仕様書に記載の濃度から換算した。

［液晶硬化膜形成用組成物（３）の調製］
液晶硬化膜形成用組成物（３）の組成を表２に示す。各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却し、液晶硬化膜形成用組成物（３）を得た。

表２における括弧内の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。
表２におけるＬＲ９０００は、ＢＡＳＦジャパン社製のＬａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００を、Ｉｒｇ９０７は、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア（登録商標）９０７を、ＢＹＫ３６１Ｎは、ビックケミージャパン製のレベリング剤を、ＬＣ２４２は、下記式で示されるＢＡＳＦ社製の重合性液晶化合物を、ＰＧＭＥＡは、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセタートを表す。

１．配向膜の形成
基材にはポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂株式会社製、ダイアホイルＴ１４０Ｅ２５）を用いた。該基材に、配向性ポリマー組成物（１）をバーコート法により塗布し、９０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、配向膜（１）を形成した。得られた配向膜（１）の厚みは４０ｎｍであった。

２．液晶硬化膜の形成
配向膜（１）の表面に液晶硬化膜形成用組成物（３）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、重合性液晶化合物が基材面内に対して垂直方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜（４）を形成した。形成された液晶硬化膜の厚さをレーザー顕微鏡により測定したところ、０．５μｍであった。

３．光学異方性フィルムの転写
得られた液晶硬化膜（４）の表面をコロナ処理した後、そこへ活性エネルギー線硬化型接着剤（１）をバーコート法により塗布し、光学異方性シート（６）を得た。光学異方性シート（６）の、接着剤側の表面に、表面をコロナ処理したＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム（位相差：０）を圧着し、該Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム側からＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射した。光学異方性シート（６）の基材を取り除き、Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム上に光学異方性フィルムを転写し、光学異方性フィルムを有するＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム（１１）を得た。この際の接着剤層を含む光学異方性フィルムの厚さは３．０μｍであった。
液晶硬化膜と接着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）及び配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも大きく、前記（Ｆ３）が最も小さかったため、配向膜と液晶硬化膜間で剥離を生じ基材が取り除かれた。前記（Ｆ３）の密着力は０．０８Ｎ／２５ｍｍであった。すなわち、Ｆ２及びＦ３は０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、Ｆ２又はＦ３は１Ｎ／２５ｍｍ未満であった。

４．面内リタデーション測定
光学異方性フィルムを有するＺｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルム（１１）の位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて測定したところ、波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところＲｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝－７０ｎｍであった。すなわち、液晶硬化膜（４）は下記式（４）で表される光学特性を有する。なお、Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標）フィルムの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該光学特性には影響しない。
ｎ_z＞ｎ_x≒ｎ_y （４）

実施例１０
［液晶硬化膜形成用組成物（４）の調製］
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、液晶硬化膜形成用組成物（４）を得た。

重合性液晶化合物Ｘ１は、特開２０１０－２４４３８号公報記載の方法で合成した。
重合性液晶化合物Ａ１（９３部）：

重合性液晶化合物Ｘ１（７部）：

重合開始剤（６部）：
２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア（登録商標）３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製） レベリング剤（０．１部）：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製
溶剤（８００部）：Ｎ－メチル－２－ピロリジノン
添加剤（５部）：Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００（ＢＡＳＦ社製）

［光学異方性シートの製造］
１．配向膜の形成
基材にポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂株式会社製、ダイアホイルＴ１４０Ｅ２５）を用いた。該基材に、光配向膜形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、６０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光ＵＶ照射処理を施して基材表面に光配向膜（１）を形成した。偏光ＵＶ処理は、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３６５ｎｍで測定した強度が１００ｍＪである条件で行った。得られた光配向膜（１）の膜厚は１００ｎｍであった。

２．液晶硬化膜の形成
光配向膜（１）の表面に、液晶硬化膜形成用組成物（４）をバーコート法により塗布し、１２０℃のオーブンで１分間加熱乾燥した後、室温まで冷却し乾燥被膜を得た。得られた乾燥被膜に、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射し重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜（５）を形成した。形成された液晶硬化膜の厚さをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社社製 ＯＬＳ３０００）により測定したところ、２．２μｍであった。

４．粘着剤層の形成
液晶硬化膜（５）の表面に、剥離フィルム付き粘着剤（５）の粘着剤面を圧着し、光学異方性シート（３）を得た。

５．面内リタデーション測定
光学異方性シート（３）を３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がした面をガラス基板〔コーニング社製のＥａｇｌｅ ＸＧ（商品名）〕に圧着した後、光学異方性シートの基材を取り除いて測定サンプルとした。この測定サンプルの位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて、４５０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において測定し、装置付属プログラムで波長４５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（４５０）、波長５５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（５５０）、波長６５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（６５０）を算出したところ、以下に示す値であった。
Ｒｅ（４５０）＝ １１８ ｎｍ
Ｒｅ（５５０）＝ １３９ ｎｍ
Ｒｅ（６５０）＝ １４２ ｎｍ
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝ ０．８５
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝ １．０２

６．光学異方性フィルムの転写
光学異方性シート（３）を２５mm×１５０mmの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、ガラス基板〔コーニング社製のＥａｇｌｅ ＸＧ（商品名）〕上に圧着した。この後、光学異方性シート（３）の基材を取り除き、ガラス上に光学異方性フィルム及び光配向膜層を転写した。この際の粘着剤を含む光学異方性フィルムの膜厚は１２．３μｍであった。
液晶硬化膜と粘着剤層との密着力（Ｆ１）が、基材と配向膜との密着力（Ｆ２）及び配向膜と液晶硬化膜との密着力（Ｆ３）よりも大きく、前記（Ｆ２）が最も小さかったため、配向膜と液晶硬化膜の間で剥離を生じ基材が取り除かれた。前記（Ｆ２）の密着力は０．０３Ｎ／２５ｍｍであった。すなわち、Ｆ２及びＦ３は０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、Ｆ２又はＦ３は１Ｎ／２５ｍｍ未満であった。
実施例１１
１．円偏光板の作製
実施例１で得た光学異方性シート（３）を４０ｍｍ×４０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がして、反射板（鏡面アルミニウム板）に圧着した。この後、光学異方性シートの基材を取り除くことで、ガラス上に光学異方性フィルム（５）を転写した。さらに、実施例３で得た光学異方性シート（２）の剥離フィルムを剥がして、ガラス上に転写された光学異方性フィルム（５）の上に貼合し、光学異方性シートの基材を取り除き、光学異方性フィルム（５）上に光学異方性フィルム（２）を転写した。この際、光学異方性フィルム（５）の遅相軸と光学異方性フィルム（２）の吸収軸の為す角度を４５°とした。
このようにして、反射板上に粘着剤を含めた総厚が２４．０μｍの非常に薄い円偏光板（６）を形成した。

２．反射率の測定
円偏光板（６）の有用性を確認するため、以下のようにして反射率を測定した。分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）を用いて、波長４００から７００ｎｍの範囲の光を２ｎｍステップで、測定試料に対して法線方向１２°から入射し、反射した光の反射率を測定した。円偏光板（６）を貼合せずに反射板のみを配置して測定した際の反射率を１００％として、反射率を算出すると、４００～７００ｎｍの範囲の波長の光の反射率は１～１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られることが分かった。この反射防止原理は有機ＥＬディスプレイの金属電極での外光反射と同様の原理であるため、有機ＥＬディスプレイにも同様に好適に用いられる。

本発明の光学異方性シートは、薄型の光学異方性フィルムを得るのに有用である。

１ 液晶硬化膜が偏光膜である光学異方性フィルム
２ 液晶硬化膜が位相差膜である光学異方性フィルム
３ 粘接着剤層
４ 位相差フィルム
５ 偏光フィルム
１０ 液晶表示装置
１２ａ、１２ｂ 偏光膜
１３ａ、１３ｂ 位相差膜
１４ａ、１４ｂ 基材
１５ カラーフィルタ
１６ 透明電極
１７ 液晶層
１８ 層間絶縁膜
１９ バックライトユニット
２０ ブラックマトリクス
２１ 薄膜トランジスタ
２２ 画素電極
２３ スペーサ
３０ ＥＬ表示装置
３１ 円偏光板
３３ 基材
３４ 層間絶縁膜
３５ 画素電極
３６ 有機機能層
３７ カソード電極
３８ 乾燥剤
３９ 封止フタ
４０ 薄膜トランジスタ
４１ リブ

Claims (2)

1. 第一の液晶硬化膜と、第一の粘接着剤層と、第二の液晶硬化膜と、第二の粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板であって、
   第一の液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であって、二色性色素として３種類以上のアゾ化合物を含む膜であり、
   第一の粘接着剤層が、乾燥固化型接着剤又は活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層であり、第二の粘接着剤層が、活性エネルギー線硬化型接着剤から形成された粘接着剤層であり、
   第一の粘接着剤層及び第二の粘接着剤層が、それぞれ第二の液晶硬化膜に直接積層され、
   第二の液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であって、下記式（１）、（２）及び（３）を満たす波長分散特性を有する液晶硬化膜である、円偏光板。
   Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
   １．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
   １００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （３）
   Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内リタデーションを表す
2. 第一の液晶硬化膜の表面にさらに配向膜を有し、該配向膜が高分子化合物からなる厚さが５００ｎｍ以下の膜である、請求項１に記載の円偏光板。

Images