KR101989195B1 - 조성물 및 광학 필름 - Google Patents

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Abstract

[과제] 기재 또는 편광막과 광학 필름과의 사이에 우수한 밀착성을 발현하는 광학 필름 제조용 조성물 및 이 조성물로 제조되는 광학 필름을 제공하는 것.
[해결 수단] 이하의 (A), (B) 및 (C)를 포함하는 조성물 및 이 조성물로 형성되는 광학 필름의 제공.
(A) 중합성 액정 화합물
(B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
(C) 광중합 개시제
상기 (B)는 활성 수소 반응성 기로서 이소시아나토기를 갖는 화합물이면 바람직하다.

Description

조성물 및 광학 필름{COMPOSITION AND OPTICAL FILM}
본 발명은 조성물 및 광학 필름에 관한 것이다.
플랫 패널 표시 장치(FPD)에는 편광판 및 위상차 필름 등의 광학 필름을 포함하는 부재가 이용되고 있다. 광학 필름으로서, 중합성 액정 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하는 조성물을 기재 상에 도포함으로써 제조된 것이 알려져 있다. 예컨대, 특허문헌 1에는, 배향 처리를 실시한 기재 상에 조성물을 도포하여 도포막을 얻고, 도포막에 포함되는 중합성 액정 화합물을 배향시킨 후, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 광학 필름이 기재되어 있다.
특허문헌 1: 일본 특허공개 2007-148098호 공보
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] 이하의 (A), (B) 및 (C)를 포함하는 조성물.
(A) 중합성 액정 화합물
(B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
(C) 광중합 개시제
[2] (B)가 활성 수소 반응성 기로서 이소시아나토기를 갖는 화합물인 [1]에 기재한 조성물.
[3] (B)가 하기 식(X)으로 나타내어지는 화합물인 [1]에 기재한 조성물.
Figure 112013004687520-pat00001
[식(X)에서,
n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 5∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이며, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
식(X)에서의 R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
[4] (A)가 식(A)으로 나타내어지는 화합물인 [1]∼[3] 중 어느 것에 기재한 조성물.
Figure 112013004687520-pat00002
[식(A)에서,
X1은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR1-을 나타낸다. R1은 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
Y1은 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 6∼12의 1가의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 3∼12의 1가의 방향족 복소환식 기를 나타낸다.
Q3 및 Q4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 1∼20의 1가의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3∼20의 지환식 탄화수소기, 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 6∼20의 1가의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR2R3 또는 -SR2를 나타내거나, Q3 및 Q4가 서로 결합하여, 이들이 각각 결합하는 탄소 원자와 함께 방향환 또는 방향족 복소환을 형성하고 있다. R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
D1 및 D2는 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-O-, -C(=S)-O-, -CR4R5-, -CR4R5-CR6R7-, -O-CR4R5-, -CR4R5-O-CR6R7-, -CO-O-CR4R5-, -O-CO-CR4R5-, -CR4R5-O-CO-CR6R7-, -CR4R5-CO-O-CR6R7- 또는 -NR4-CR5R6- 또는 -CO-NR4-을 나타낸다.
R4, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5∼8의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 이 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 -NH-로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환되어 있더라도 좋다.
L1 및 L2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 한쪽이 중합성 기를 갖는 유기기이다.]
[5] (A)는. 식(A)의 L1이 식(A1)으로 나타내어지는 기이며, 또한 L2가 식(A2)으로 나타내어지는 기인 화합물인 [4]에 기재한 조성물.
P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)
[식(A1) 및 식(A2)에서,
B1, B2, E1 및 E2는 각각 독립적으로 -CR4R5-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CS-O-, -O-CS-O-, -CO-NR1-, -O-CH2-, -S-CH2- 또는 단결합을 나타낸다.
A1 및 A2는 각각 독립적으로 탄소수 5∼8의 2가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 -NH-로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환되어 있더라도 좋다.
k 및 l은 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타낸다. k가 2 이상의 정수인 경우, 복수의 B1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋고, 복수의 A1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다. l이 2 이상의 정수인 경우, 복수의 B2는 서로 동일하더라도 다르더라도 좋고, 복수의 A2는 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.
F1 및 F2는 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.
P1은 중합성 기를 나타낸다.
P2는 수소 원자 또는 중합성 기를 나타낸다.
R1, R4 및 R5는 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
[6] [1]∼[5] 중 어느 것에 기재한 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성되는 광학 필름.
[7] 이하의 (1) 및 (2)를 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
(1) [1]∼[5] 중 어느 것에 기재한 조성물을 기재 상에 도포하는 공정;
(2) (1)에 의해 기재 상에 도포된 도포막 중에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 광학 필름을 형성하는 공정
[8] 기재가 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 [7]에 기재한 광학 필름의 제조 방법.
[9] 수산기를 갖는 재료가 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료인 [8]에 기재한 광학 필름의 제조 방법.
[10] 기재가 그 표면에 광배향성 폴리머로 형성된 배향막이 마련된 것인 [7]∼[9] 중 어느 것에 기재한 광학 필름의 제조 방법.
[11] 배향막은 광배향성 폴리머가 광 조사에 의해 가교 구조를 형성하여 마련된 것인 [10]에 기재한 광학 필름의 제조 방법.
[12] [7]∼[11] 중 어느 것에 기재한 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름.
[13] 위상차성을 갖는 [6] 또는 [12]에 기재한 광학 필름.
[14] [6], [12] 또는 [13]에 기재한 광학 필름을 포함하는 편광판.
[15] [6], [12] 또는 [13]에 기재한 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.
[16] 이하의 (D) 및 (B)를 포함하는 조성물.
(D) 광배향성 폴리머
(B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
[17] (D)가 광 조사에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 광배향성 폴리머인 [16]에 기재한 조성물.
[18] (B)가 활성 수소 반응성 기로서 이소시아나토기를 갖는 화합물인 [16] 또는 [17]에 기재한 조성물.
[19] (B)가 하기 식(X)으로 나타내어지는 화합물인 [16] 또는 [17]에 기재한 조성물.
Figure 112013004687520-pat00003
[식(X)에서,
n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 5∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이고, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
[20] [16]∼[19] 중 어느 것에 기재한 조성물에 포함되는 광배향성 폴리머를 가교하여 형성되는 광학 필름.
[21] 이하의 (1) 및 (2)를 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
(1) [16]∼[19] 중 어느 것에 기재한 조성물을 기재 상에 도포하는 공정;
(2) (1)에 의해 기재 상에 도포된 도포막 중에 포함되는 광배향성 폴리머를 가교시킴으로써 광학 필름을 형성하는 공정
[22] 기재가 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 [21]에 기재한 광학 필름의 제조 방법.
[23] 수산기를 갖는 재료가 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료인 [22]에 기재한 광학 필름의 제조 방법.
[24] [21]∼[23] 중 어느 것에 기재한 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름.
[25] [20] 또는 [24]에 기재한 광학 필름 상에 광학 이방성층을 더 형성하여 이루어지는 위상차판.
[26] [20] 또는 [24]에 기재한 광학 필름을 포함하는 편광판.
[27] [20] 또는 [24]에 기재한 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.
[28] 기재, 조성물(A)로 형성된 A층 및 조성물(B)로 형성된 B층을 이 순서로 적층하여 이루어지는 광학 필름으로서,
조성물(A)은 이하의 (D) 및 (B-1)을 함유하고, 조성물(B)은 이하의 (A), (B-2) 및 (C)를 함유하는 광학 필름.
(D) 광배향성 폴리머
(B-1) 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
(A) 중합성 액정 화합물
(B-2) 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
(C) 광중합 개시제
[29] (D)가 광 조사에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 광배향성 폴리머인 [28]에 기재한 광학 필름.
[30] (B-1) 및 (B-2)는 함께 활성 수소 반응성 기로서 이소시아나토기를 갖는 화합물인 [28] 또는 [29]에 기재한 조성물.
[31] (B-1) 및 (B-2)가 각각 독립적으로 하기 식(X)으로 나타내어지는 화합물인 [28] 또는 [29]에 기재한 광학 필름.
Figure 112013004687520-pat00004
[식(X)에서,
n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 5∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이며, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
[32] A층은 조성물(A) 중에 함유되는 (D)가 가교하여 형성된 것인 [28]∼[31] 중 어느 것에 기재한 광학 필름.
[33] 기재가 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 [28]∼[32] 중 어느 것에 기재한 광학 필름.
[34] 수산기를 갖는 재료가 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료인 [33]에 기재한 광학 필름.
[35] 위상차성을 갖는 [28]∼[34] 중 어느 것에 기재한 광학 필름.
[36] 이하의 <1>∼<4>의 공정을 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
<1> 이하의 (D) 및 (B-1)을 함유하는 조성물(A)을 기재 상에 도포함으로써, 기재 상에 제1 도포막을 형성하는 공정;
(D) 광배향성 폴리머
(B-1) 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
<2> <1>에 의해 기재 상에 도포된 제1 도포막 중에 포함되는 (D)를 가교시킴으로써, 제1 도포막을 A층으로 전환하는 공정;
<3> <2>에 의해 형성된 A층 상에, 이하의 (A), (B-2) 및 (C)를 함유하는 조성물(B)을 도포함으로써, A층 상에 제2 도포막을 형성하는 공정;
(A) 중합성 액정 화합물
(B-2) 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
(C) 광중합 개시제
<4> <3>에 의해 형성된 제2 도포막 중에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하는 공정
[37] [36]에 기재한 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름.
[38] [28]∼[35] 중 어느 것 또는 [37]에 기재한 광학 필름을 포함하는 편광판.
[39] [28]∼[35] 중 어느 것 또는 [37]에 기재한 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.
도 1은 본 발명에 따른 편광판의 일례를 도시하는 단면 모식도이다.
도 2는 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 일례를 도시하는 단면 모식도이다.
도 3은 본 발명에 따른 유기 EL 표시 장치의 일례를 도시하는 단면 모식도이다.
I. 본 발명의 제1 형태
1. 본 발명의 제1 조성물(이하, 본 발명의 제1 조성물을 경우에 따라 「본 조성물(1)」이라고 하고, 본 조성물(1)로 제조되는 광학 필름을 경우에 따라 「본 광학 필름(1)」이라고 함)
본 조성물(1)은 (A) 중합성 액정 화합물, (B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물(B)」이라고 함) 및 (C) 광중합 개시제를 포함한다.
1-1. 화합물(B)
화합물(B)은 그 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는다. 「활성 수소 반응성 기」란, 카르복실기(-COOH), 수산기(-OH), 아미노기(-NH2) 등의 활성 수소를 갖는 기에 대하여 반응성을 갖는 기를 의미하며, 글리시딜기, 옥사졸린기, 카르보디이미드기, 아지리딘기, 이미드기, 이소시아나토기, 티오이소시아나토기, 무수 말레산기 등을 들 수 있다. 화합물(B)이 갖는 탄소-탄소 불포화 결합 및 활성 수소 반응성 기의 개수는 각각 1∼20개, 바람직하게는 1∼10개이다.
화합물(B)은 활성 수소 반응성 기를 적어도 2개 가지면 바람직하다. 복수 존재하는 활성 수소 반응성 기는 동일하더라도 다른 것이라도 좋다.
화합물(B)이 갖는 탄소-탄소 불포화 결합이란, 탄소-탄소 이중 결합 또는 탄소-탄소 삼중 결합 혹은 이들의 조합이라도 좋지만, 탄소-탄소 이중 결합이면 바람직하다. 그 중에서도 비닐기 및/또는 (메트)아크릴기가 바람직하다. 또한, 활성 수소 반응성 기가 에폭시기, 글리시딜기 및 이소시아나토기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 아크릴기와 이소시아나토기를 갖는 화합물(B)이 특히 바람직하다.
화합물(B)의 구체예로서는, 메타크릴록시글리시딜에테르나 아크릴록시글리시딜에테르 등의 (메트)아크릴기와 에폭시기를 갖는 화합물; 옥세탄아크릴레이트나 옥세탄메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴기와 옥세탄기를 갖는 화합물; 락톤아크릴레이트나 락톤메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴기와 락톤기를 갖는 화합물; 비닐옥사졸린이나 이소프로페닐옥사졸린 등의 비닐기와 옥사졸린기를 갖는 화합물; 이소시아나토메틸아크릴레이트, 이소시아나토메틸메타크릴레이트, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트 및 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴기와 이소시아나토기를 갖는 화합물의 올리고머 등을 들 수 있다. 또한, 메타크릴산 무수물, 아크릴산 무수물, 무수 말레산 및 비닐 무수 말레산 등의 비닐기나 비닐렌기와 산무수물을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 메타크릴록시글리시딜에테르, 아크릴록시글리시딜에테르, 이소시아나토메틸아크릴레이트, 이소시아나토메틸메타크릴레이트, 비닐옥사졸린, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트 및 올리고머가 바람직하고, 이소시아나토메틸아크릴레이트, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트 및 올리고머가 특히 바람직하다.
바람직한 화합물(B)은 예컨대 하기 식(X)으로 나타내어진다.
Figure 112013004687520-pat00005
[식(X)에서,
n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 5∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이며, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
식(X)에서의 R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
식(X)으로 나타내어지는 화합물(B) 중에서도, 하기 식(XX)으로 나타내어지는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물(XX)」이라고 함)이 특히 바람직하다(한편, n은 상기와 같은 의미임).
Figure 112013004687520-pat00006
화합물(XX)은 시장에서 용이하게 입수할 수 있는 시판 제품을 그대로 또는 필요에 따라서 정제하여 이용할 수도 있다. 시판 제품으로서는 예컨대 Laromer(등록상표) LR-9000(BASF사 제조) 등을 들 수 있다.
본 조성물(1)에 있어서의 화합물(B)의 함유량은 본 조성물(1)의 총 질량에 대하여 0.01∼10 질량%가 바람직하고, 0.1∼5 질량%가 보다 바람직하다.
1-2. 중합성 액정 화합물
중합성 액정 화합물이란, 중합성 기를 지니고 또한 액정 상태를 보이는 화합물이다. 중합성 기란, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 관여하는 기를 의미한다.
중합성 액정 화합물의 적합한 예의 하나는 예컨대 식(A)으로 나타내어지는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물(A)」이라고 함)이다.
Figure 112013004687520-pat00007
[식(A)에서,
X1은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR1-을 나타낸다. R1은 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
Y1은 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 6∼12의 1가의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 3∼12의 1가의 방향족 복소환식 기를 나타낸다.
Q3 및 Q4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 1∼20의 1가의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3∼20의 지환식 탄화수소기, 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 6∼20의 1가의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR2R3 또는 -SR2를 나타내거나, Q3 및 Q4가 서로 결합하여, 이들이 각각 결합하는 탄소 원자와 함께 방향환 또는 방향족 복소환을 형성하고 있다. R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
D1 및 D2는 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-O-, -C(=S)-O-, -CR4R5-, -CR4R5-CR6R7-, -O-CR4R5-, -CR4R5-O-CR6R7-, -CO-O-CR4R5-, -O-CO-CR4R5-, -CR4R5-O-CO-CR6R7-, -CR4R5-CO-O-CR6R7- 또는 -NR4-CR5R6- 또는 -CO-NR4-을 나타낸다.
R4, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5∼8의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 이 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 -NH-로 치환되어 있더라도 좋고, 이 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환되어 있더라도 좋다.
L1 및 L2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 한쪽이 중합성 기를 갖는 유기기이다.]
R1로 나타내어지는 탄소수 1∼4의 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 및 sec-부틸기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 탄소수 1∼3의 알킬기가 바람직하고, 메틸기 및 에틸기가 보다 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.
Y1로 나타내어지는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기 등의 단환계 방향족 탄화수소기; 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기 및 비페닐기 등의 다환계 방향족 탄화수소기(축합 다환계 방향족 탄화수소기를 포함함)를 들 수 있다. 그 중에서도 Y1로 나타내어지는 방향족 탄화수소기로서는 페닐기 및 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.
Y1로 나타내어지는 방향족 복소환식 기로서는, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기 및 티아졸릴기 등의 단환계 방향족 복소환기; 벤조티아졸릴기, 벤조푸릴기 및 벤조티에닐기 등의 다환계 방향족 복소환기(축합 다환계 방향족 복소환기를 포함함) 등의 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 하나 포함하는 방향족 복소환식 기를 들 수 있다. 그 중에서도 푸릴기, 티에닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조푸릴기 및 벤조티에닐기가 바람직하다.
Y1로 나타내어지는 방향족 탄화수소기 및 방향족 복소환식 기는 치환기(이하, 경우에 따라 「치환기 Z1」이라고 함)를 갖고 있더라도 좋다. 치환기 Z1로서는 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 니트로소기, 카르복시기, 탄소수 1∼6의 알킬술피닐기, 탄소수 1∼6의 알킬술포닐기, 탄소수 1∼6의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼6의 알킬술파닐기, 탄소수 1∼6의 N-알킬아미노기, 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1∼6의 N-알킬술파모일기 및 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬술파모일기 등을 들 수 있다.
치환기 Z1 중, 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있고, 불소 원자, 염소 원자 및 브롬 원자가 바람직하다.
치환기 Z1 중, 알킬기의 구체예는, R1의 알킬기로서 예시한 것을 들 수 있다. 그 중에서도 메틸기 및 에틸기가 보다 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, 알킬술피닐기로서는 메틸술피닐기, 에틸술피닐기, 프로필술피닐기, 이소프로필술피닐기, 부틸술피닐기, 이소부틸술피닐기, sec-부틸술피닐기, tert-부틸술피닐기, 펜틸술피닐기 및 헥실술피닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 알킬술피닐기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알킬술피닐기가 보다 바람직하고, 메틸술피닐기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, 알킬술포닐기로서는 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 이소프로필술포닐기, 부틸술포닐기, 이소부틸술포닐기, sec-부틸술포닐기, tert-부틸술포닐기, 펜틸술포닐기 및 헥실술포닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 알킬술포닐기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알킬술포닐기가 보다 바람직하고, 메틸술포닐기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, 플루오로알킬기로서는 플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기 및 노나플루오로부틸기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 플루오로알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 플루오로알킬기가 보다 바람직하고, 트리플루오로메틸기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, 알콕시기로서는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기 및 헥실옥시기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알콕시기가 보다 바람직하고, 메톡시기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, 알킬술파닐기로서는 메틸술파닐기, 에틸술파닐기, 프로필술파닐기, 이소프로필술파닐기, 부틸술파닐기, 이소부틸술파닐기, sec-부틸술파닐기, tert-부틸술파닐기, 펜틸술파닐기 및 헥실술파닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 알킬술파닐기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알킬술파닐기가 보다 바람직하고, 메틸술파닐기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, N-알킬아미노기로서는 N-메틸아미노기, N-에틸아미노기, N-프로필아미노기, N-이소프로필아미노기, N-부틸아미노기, N-이소부틸아미노기, N-sec-부틸아미노기, N-tert-부틸아미노기, N-펜틸아미노기 및 N-헥실아미노기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 N-알킬아미노기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 N-알킬아미노기가 보다 바람직하고, N-메틸아미노기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, N,N-디알킬아미노기로서는 N,N-디메틸아미노기, N-메틸-N-에틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-디프로필아미노기, N,N-디이소프로필아미노기, N,N-디부틸아미노기, N,N-디이소부틸아미노기, N,N-디펜틸아미노기 및 N,N-디헥실아미노기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 2∼8의 N,N-디알킬아미노기가 바람직하고, 탄소수 2∼4의 N,N-디알킬아미노기가 보다 바람직하고, N,N-디메틸아미노기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, N-알킬술파모일기로서는 N-메틸술파모일기, N-에틸술파모일기, N-프로필술파모일기, N-이소프로필술파모일기, N-부틸술파모일기, N-이소부틸술파모일기, N-sec-부틸술파모일기, N-tert-부틸술파모일기, N-펜틸술파모일기 및 N-헥실술파모일기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 N-알킬술파모일기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 N-알킬술파모일기가 보다 바람직하고, N-메틸술파모일기가 특히 바람직하다.
치환기 Z1 중, N,N-디알킬술파모일기로서는, N,N-디메틸술파모일기, N-메틸-N-에틸술파모일기, N,N-디에틸술파모일기, N,N-디프로필술파모일기, N,N-디이소프로필술파모일기, N,N-디부틸술파모일기, N,N-디이소부틸술파모일기, N,N-디펜틸술파모일기 및 N,N-디헥실술파모일기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 2∼8의 N,N-디알킬술파모일기가 바람직하고, 탄소수 2∼4의 N,N-디알킬술파모일기가 보다 바람직하고, N,N-디메틸술파모일기가 특히 바람직하다.
그 중에서도, 치환기 Z1은 할로겐 원자, 탄소수 1∼2의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1∼2의 알킬술포닐기, 탄소수 1∼2의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼2의 알콕시기, 탄소수 1∼2의 알킬술파닐기, 탄소수 1∼2의 N-알킬아미노기, 탄소수 2∼4의 N,N-디알킬아미노기 및 탄소수 1∼2의 알킬술파모일기가 바람직하고, 할로겐 원자, 메틸기, 시아노기, 니트로기, 술포기, 카르복시기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 메틸술파닐기, N,N-디메틸아미노기 및 N-메틸아미노기가 특히 바람직하다.
Y1이 치환기를 갖고 있더라도 좋은 단환계 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 단환계 방향족 복소환기인 경우, 그 적합한 예는 식(Y-1)∼식(Y-6)으로 각각 나타내어지는 기를 들 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00008
[식(Y-1)∼식(Y-6)에서,
*은 결합수를 나타내고, Z1은 상기 치환기 Z1을 나타낸다.
a1은 0∼5의 정수, a2는 0∼4의 정수, b1은 0∼3의 정수, b2는 0∼2의 정수를 각각 나타낸다. R8은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.
한편, a1, a2, b1 및 b2가 2 이상의 정수인 경우, 동일 기에 존재하는 복수의 Z1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.]
Y1은 식(Y-1) 또는 식(Y-3)으로 나타내어지는 기이면, 화합물(A)을 용이하게 제조할 수 있는 점이나 비용의 점에서 특히 바람직하다.
Y1이 치환기를 갖고 있더라도 좋은 다환계 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 다환계 방향족 복소환기인 경우, 그 적합한 예는 식(Y1-1)∼식(Y1-7)으로 각각 나타내어지는 기를 들 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00009
[식(Y1-1)∼식(Y1-7)에서,
*은 결합수를 나타내고, Z1은 상기 치환기 Z1을 나타낸다.
V1 및 V2는 각각 독립적으로 -CO-, -S-, -NR9-, -O-, -Se- 또는 -SO2-를 나타낸다. R9는 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
W1∼W5는 각각 독립적으로 -CH= 또는 -N=을 나타낸다.
단, V1, V2 및 W1∼W5 중 적어도 하나는 S, N, O 또는 Se와 같은 헤테로 원자 또는 이 헤테로 원자를 포함하는 기를 나타낸다.
a는 0∼3의 정수를 나타낸다.
b는 0∼2의 정수를 나타낸다.
한편, a, b가 2 이상의 정수인 경우, 동일 기에 존재하는 복수의 Z1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.]
V1 및 V2는 각각 독립적으로 -S-, -NR9- 또는 -O-이 바람직하고, W1∼W5는 각각 독립적으로 -CH= 또는 -N=이 바람직하다.
a는 0 또는 1인 것이 바람직하고, b는 0인 것이 바람직하다.
또한, Y1이 치환기를 갖고 있더라도 좋은 다환계 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 다환계 방향족 복소환기인 경우로 말하자면, 식(Y2-1)∼식(Y2-6)으로 나타내어지는 기인 것이 보다 바람직하다.
Figure 112013004687520-pat00010
[식(Y2-1)∼식(Y2-6)에서,
*, Z1, a, b, V1, V2 및 W1은 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
식(Y2-1)∼식(Y2-6)으로 각각 나타내어지는 기에 있어서는, Z1로서는 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 술포기, 니트로소기, 카르복시기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 메틸술파닐기, N,N-디메틸아미노기 및 N-메틸아미노기가 바람직하고, 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기가 보다 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 펜틸기 및 헥실기가 특히 바람직하다.
Q3 및 Q4로 나타내어지는 지방족 탄화수소기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 1-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, 헥실기, 1-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 헵틸기, 1-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 옥틸기, 1-메틸헵틸기, 노닐기, 1-메틸옥틸기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기, 노나데실기 및 에이코실기 등을 들 수 있다. 탄소수 1∼12의 알킬기가 바람직하고, 메틸기 및 에틸기가 특히 바람직하다.
Q3 및 Q4로 나타내어지는 지환식 탄화수소기로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기 및 시클로데실기 등을 들 수 있고, 탄소수 3∼12의 환상 알킬기가 바람직하다.
Q3 및 Q4로 나타내어지는 방향족 탄화수소기로서는 페닐기, 비페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 1-플루오레닐기, 2-플루오레닐기 및 3-플루오레닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 6∼14의 방향족 탄화수소기가 바람직하다.
Q3 및 Q4로 나타내어지는 지방족 탄화수소기, 지환식 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기는 각각 치환기를 갖고 있더라도 좋다. 치환기로서는 Z1로서 예시한 것을 들 수 있다.
R2 및 R3은 탄소수 1∼6의 알킬기이며, 그 중에서도 탄소수 1∼4의 알킬기가 바람직하고, 메틸기 및 에틸기가 보다 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.
Q3 및 Q4는 서로 결합하여 방향환 또는 방향족 복소환을 형성하고 있더라도 좋다. Q3과 Q4가 형성하는 환으로서는 방향족 복소환이 바람직하고, 예컨대 화합물(A) 중의 식(Q')
Figure 112013004687520-pat00011
으로 나타내어지는 부분 구조가 식(Q)으로 나타내어지는 구조이면 보다 바람직하다.
Figure 112013004687520-pat00012
[식(Q)에서,
X2는 식(A)에서 X1로서 예시한 원자 또는 기와 같고, Y2는 식(A)에서 Y1로서 예시한 기와 같다.]
X1, Y1, Q3 및 Q4 조합의 구체예를 화합물(A)에서의 식(ar)
Figure 112013004687520-pat00013
으로 나타내어지는 부분 구조로 나타내면, 이하의 식(ar-1)∼식(ar-135)으로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 들 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00014
Figure 112013004687520-pat00015
Figure 112013004687520-pat00016
Figure 112013004687520-pat00017
Figure 112013004687520-pat00018
Figure 112013004687520-pat00019
Figure 112013004687520-pat00020
Figure 112013004687520-pat00021
Figure 112013004687520-pat00022
Figure 112013004687520-pat00023
Figure 112013004687520-pat00024
Figure 112013004687520-pat00025
Figure 112013004687520-pat00026
Figure 112013004687520-pat00027
Figure 112013004687520-pat00028
Figure 112013004687520-pat00029
Figure 112013004687520-pat00030
Figure 112013004687520-pat00031
Figure 112013004687520-pat00032
Figure 112013004687520-pat00033
Figure 112013004687520-pat00034
Figure 112013004687520-pat00035
Figure 112013004687520-pat00036
Figure 112013004687520-pat00037
Figure 112013004687520-pat00038
Figure 112013004687520-pat00039
Figure 112013004687520-pat00040
식(ar)으로 나타내어지는 부분 구조 중에서는, 식(ar-86)으로 나타내어지는 구조를 포함하는 화합물(A)이, 화합물(A) 자체의 제조가 보다 용이하고 화합물(A)을 포함하는 본 조성물로 형성되는 광학 필름의 위상차의 파장 분산성을 제어하기 쉽기 때문에 바람직하다.
식(A)에서의 D1 및 D2는 각각 독립적으로 -O-C(=O)-, -O-C(=S)-, -O-CR4R5-, -NR4-CR5R6- 또는 -NR4-CO-가 바람직하고, 보다 바람직하게는 *-O-C(=O)-, *-O-C(=S)-, *-O-CR4R5-, *-NR4-CR5R6- 또는 *-NR4-CO-, 더욱 바람직하게는 *-O-C(=O)-, *-O-C(=S)- 또는 *-NR4-CO-(*은 식(ar)으로 나타내어지는 부분 구조에 있어서의, Q1 및 Q2가 결합하고 있는 벤젠환과의 결합수를 나타냄)이다.
R4, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기인 것이 보다 바람직하다.
G1 및 G2로 나타내어지는 2가의 지환식 탄화수소기로서는, 단환식 탄화수소기나 가교환식 탄화수소기를 들 수 있고, 5원환 또는 6원환인 것이 바람직하다. 이 지환식 탄화수소기는 포화라도 불포화라도 좋지만 포화 지환식 탄화수소기가 바람직하다. 또한, G1 및 G2로 나타내어지는 지환식 탄화수소기는 그것을 구성하는 -CH2-가 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되는 경우나, 그것을 구성하는 메틴기가 제3급 질소 원자로 치환되는 경우도 있다. 즉, G1 및 G2는 헤테로 원자를 포함하는 기라도 좋다. G1 및 G2의 구체예를 들면, 식(g-1)∼식(g-10)으로 각각 나타내어지는 것이다.
Figure 112013004687520-pat00041
G1 및 G2로 나타내어지는 2가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 치환기(이하, 경우에 따라 「치환기 Z2」라고 함)로 치환되어 있더라도 좋다. 치환기 Z2로서는 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, tert-부틸기 등의 탄소수 1∼4의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼4의 알콕시기; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1∼4의 플루오로알킬기; 트리플루오로메톡시기 등의 탄소수 1∼4의 플루오로알콕시기; 시아노기; 니트로기; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자를 들 수 있다.
G1 및 G2로서는 식(g-1)으로 나타내어지는 2가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하다. 그 중에서도 G1 및 G2가 함께 시클로헥산-1,4-디일기인 것이 보다 바람직하고, trans-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 특히 바람직하다.
식(A)에서의 L1 및 L2는 각각 독립적으로 1가의 유기기이며, L1 및 L2 중 적어도 한쪽이 중합성 기를 갖는 유기기이다.
보다 바람직하게는, L1은 식(A1)으로 나타내어지는 기(이하, 경우에 따라 「기(A1)」라고 함)이며, L2는 식(A2)으로 나타내어지는 기(이하, 경우에 따라 「기(A2)」라고 함)이다.
P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)
[식(A1) 및 식(A2)에서,
B1, B2, E1 및 E2는 각각 독립적으로 -CR4R5-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CS-O-, -O-CS-O-, -CO-NR1-, -O-CH2-, -S-CH2- 또는 단결합을 나타낸다.
A1 및 A2는 각각 독립적으로 탄소수 5∼8의 2가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 -NH-로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환되어 있더라도 좋다.
k 및 l은 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타낸다. k가 2 이상의 정수인 경우, 복수의 B1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋고, 복수의 A1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다. l이 2 이상의 정수인 경우, 복수의 B2는 서로 동일하더라도 다르더라도 좋고, 복수의 A2는 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.
F1 및 F2는 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.
P1은 중합성 기를 나타낸다.
P2는 수소 원자 또는 중합성 기를 나타낸다.
R4 및 R5는 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
기(A1) 및 기(A2)에 있어서, A1 및 A2로 나타내어지는 2가의 지환식 탄화수소기의 구체예는 G1 및 G2의 2가의 지환식 탄화수소기로서 예시한 것으로, 그 적합한 예도 G1 및 G2의 적합한 예와 같다. A1 및 A2로 나타내어지는 2가의 방향족 탄화수소기는 단환식이라도 다환식(복수의 방향환이 단결합으로 연결되어 있는 다환식 및 축합 다환식을 포함함)이라도 좋다. A1 및 A2로 나타내어지는 2가의 방향족 탄화수소기로서는 예컨대 식(a-1)∼식(a-8)으로 각각 나타내어지는 것을 들 수 있다. 또한, A1 및 A2로 나타내어지는 방향족 탄화수소기로서는 대칭축 또는 대칭면이 있는 기가 바람직하다.
Figure 112013004687520-pat00042
A1 및 A2로 나타내어지는 지환식 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 치환기로 치환되어 있더라도 좋다. 치환기로서는, G1 및 G2로 나타내어지는 지환식 탄화수소기가 임의로 갖는 경우도 있는 치환기 Z2로서 예시한 것을 들 수 있다.
A1 및 A2로서는 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기 또는 시클로헥산-1,4-디일인 것이 바람직하고, 화합물(A)의 제조가 보다 용이하게 된다는 점에서 1,4-페닐렌기인 것이 바람직하다.
B1 및 B2는 화합물(A)의 제조가 용이하게 되는 경향이 있으므로 같은 종류의 기인 것이 바람직하다. 또한, k, l이 2 이상의 정수인 경우, 2개의 A1 사이에 있는 B1, 2개의 A2 사이에 있는 B2는 -CH2-CH2-, -C(=O)-O-, -CO-NH-, -O-CH2- 또는 단결합이면, 화합물(A)의 제조가 보다 용이하게 되는 경향이 있어 바람직하다. 높은 액정성을 보이는 본 광학 필름을 형성하기 쉽다고 하는 점에서 2개의 A1 사이에 있는 B1, 2개의 A2 사이에 있는 B2는 함께 -C(=O)-O-인 것이 바람직하다.
F1과 결합하고 있는 B1 및 F2와 결합하고 있는 B2는 각각 독립적으로 -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 단결합인 것이 보다 바람직하다.
k 및 l은 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타내는 것이 바람직하고, k 및 l은 0∼2인 것이 보다 바람직하다. k 및 l의 합계는 4 이하가 보다 바람직하다. k 및 l이 상기 범위이면, 화합물(A)이 보다 액정성을 보이기 쉽게 되는 경향이 있다.
F1 및 F2는 각각 독립적으로 탄소수 1∼12의 알칸디일기인 것이 바람직하고, 직쇄의 알칸디일기인 것이 보다 바람직하다. 특히, 무치환의 알칸디일기가 바람직하다. 상기 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는 탄소수 1∼5의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있더라도 좋다. 또한, 상기 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있더라도 좋다.
P1 및 P2는 수소 원자 또는 중합성 기이며, 적어도 한쪽이 중합성 기이다. 경도가 보다 우수한 본 광학 필름을 얻고자 하는 경우에는 P1 및 P2가 함께 중합성 기인 것이 바람직하다.
중합성 기란, 화합물(A)을 중합시킬 수 있는 특성기를 의미하며, 구체적으로는 비닐기, 비닐옥시기, 스티릴기, p-(2-페닐에테닐)페닐기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 등의 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 기; 카르복시기; 아세틸기; 히드록시기; 카르바모일기; 탄소수 1∼4의 알킬아미노기; 아미노기; 옥시라닐기; 옥세타닐기, 포르밀기, 이소시아나토기 또는 이소티오시아나토기 등이 예시된다.
중합성 기로서는 화합물(A)을 광중합시키는 데 알맞은 라디칼 중합성 기 및 양이온 중합성 기가 바람직하고, 특히 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 및 메타크릴로일옥시기가 바람직하다. 그 중에서도 중합성 기가 각각 독립적으로 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 바람직하고, 특히 아크릴로일옥시기인 것이 바람직하다.
화합물(A)의 제조상의 용이성을 고려하면, 기(A1)와 기(A2)는 동일한 것, 즉 L1과 L2는 동일한 것이 바람직하다.
마찬가지로, 화합물(A)에 있어서, D1과 D2는 동일하고, G1과 G2는 동일한 것 즉, 화합물(A)에 있어서, -D1-G1-L1로 나타내어지는 기와 -D2-G2-L2로 나타내어지는 기가 동일하면 바람직하다. 이 경우, 화합물(A)을 보다 용이하게 제조할 수 있다.
L1이 식(A1)으로 나타내어지는 기인 경우의 -D1-G1-L1의 구체예 및 L2가 식(A2)으로 나타내어지는 기인 경우의 -D2-G2-L2의 구체예로서는 하기 식(R-1)∼식(R-134)으로 각각 나타내어지는 기 등을 들 수 있다.
한편, 식(R-1)∼식(R-134)에 있어서의 n은 2∼12의 정수를 나타내며, 바람직하게는 3∼10, 더욱 바람직하게는 4∼8이다.
Figure 112013004687520-pat00043
Figure 112013004687520-pat00044
Figure 112013004687520-pat00045
Figure 112013004687520-pat00046
Figure 112013004687520-pat00047
Figure 112013004687520-pat00048
Figure 112013004687520-pat00049
Figure 112013004687520-pat00050
Figure 112013004687520-pat00051
Figure 112013004687520-pat00052
Figure 112013004687520-pat00053
Figure 112013004687520-pat00054
L1이 기(A1)이고, L2가 기(A2)인 화합물(A)은 또한 식(1) 및 식(2)의 관계를 함께 만족하는 것이 바람직하다.
(Nπ-4)/3<k+l+4 (1)
12≤Nπ≤22 (2)
[식(1) 및 식(2) 중, Nπ은 식(A)에 있어서, -D1-G1-L1, -D2-G2-L2를 제외한 부분이 갖는 방향환에 포함되는 π 전자의 수를 나타낸다. k 및 l은 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
화합물(A)로서는 예컨대 하기 화합물(i)∼화합물(xxvii)을 들 수 있다. 한편, 표에서의 L1은 -D1-G1-L1을, L2는 -D2-G2-L2를 나타낸다.
Figure 112017107014836-pat00179
표에 있어서, 예컨대 (i)로 나타내는 화합물(A)(이하, 이 화합물(A)을 표에서의 번호에 따라서 「화합물(xvi)」과 같이 말함)은 식(ar)으로 나타내어지는 부분 구조가 식(ar-39)으로 나타내어지는 구조이고, -D1-G1-L1로 나타내어지는 기가 (R-1)∼(R-48), (R-56)∼(R-120) 및 (R-129)∼(R-131)로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, -D2-G2-L2로 나타내어지는 기가 (R-1)∼(R-48) 및 (R-56)∼(R-131)로 이루어지는 군에서 선택되는 기인 화합물을 의미한다.
예컨대, 화합물(xvi)은 식(ar)으로 나타내어지는 부분 구조가 식(ar-39)으로 나타내어지는 구조이고, -D1-G1-L1로 나타내어지는 기가 (R-1)∼(R-48), (R-56)∼(R-120) 및 (R-129)∼(R-131)로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, -D2-G2-L2로 나타내어지는 기가 (R-1)∼(R-48) 및 (R-56)∼(R-131)로 이루어지는 군에서 선택되는 기인 화합물과, 식(ar-40)으로 나타내어지는 구조이고, -D1-G1-L1로 나타내어지는 기가 (R-1)∼(R-48), (R-56)∼(R-120) 및 (R-129)∼(R-131)로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, -D2-G2-L2로 나타내어지는 기가 (R-1)∼(R-48) 및 (R-56)∼(R-131)로 이루어지는 군에서 선택되는 기인 화합물과의 혼합물, 즉 화합물(xvi)은 2종의 화합물(A)의 혼합물을 의미한다.
표의 화합물(A)의 구체예로서는 예컨대 다음과 같은 화합물을 들 수 있다. 표에서 나타낸 화합물(A) 중에서는 화합물(i), 화합물(iii), 화합물(iv), 화합물(v), 화합물(viii), 화합물(ix), 화합물(x), 화합물(xv), 화합물(xvii), 화합물(xviii), 화합물(xix), 화합물(xx), 화합물(xxii), 화합물(xxiii), 화합물(xxiv) 및 화합물(xxv)의 대표적인 구조식을 예시한다. 이하의 화학식은 모든 입체 이성체를 포함하는 것으로 한다. 또한, 화합물(i)∼화합물(xxv)은 시클로헥산-1,4-디일기가 전부 trans-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 바람직하다.
Figure 112013004687520-pat00056
Figure 112013004687520-pat00057
Figure 112013004687520-pat00058
Figure 112013004687520-pat00059
Figure 112013004687520-pat00060
Figure 112013004687520-pat00061
Figure 112013004687520-pat00062
Figure 112013004687520-pat00063
Figure 112013004687520-pat00064
Figure 112013004687520-pat00065
Figure 112013004687520-pat00066
Figure 112013004687520-pat00067
Figure 112013004687520-pat00068
또한, 화합물(A)로서는 식(A1)∼식(A61)으로 각각 나타내어지는 것도 들 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00069
(식(A1)에서의 2개의 *는 (A1-1)∼(A1-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00070
(식(A2)에서의 2개의 *는 (A2-1)∼(A2-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00071
(식(A3)에서의 2개의 *는 (A3-1)∼(A3-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00072
(식(A4)에서의 2개의 *는 (A4-1)∼(A4-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00073
(식(A5)에서의 2개의 *는 (A5-1)∼(A5-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00074
(식(A6)에서의 2개의 *는 (A6-1)∼(A6-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00075
(식(A7)에서의 2개의 *는 (A7-1)∼(A7-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00076
(식(A8)에서의 2개의 *는 (A8-1)∼(A8-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00077
(식(A9)에서의 2개의 *는 (A9-1)∼(A9-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00078
(식(A10)에서의 2개의 *는 (A10-1)∼(A10-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00079
(식(A11)에서의 2개의 *는 (A11-1)∼(A11-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00080
(식(A12)에서의 2개의 *는 (A12-1)∼(A12-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00081
(식(A13)에서의 2개의 *는 (A13-1)∼(A13-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00082
(식(A14)에서의 2개의 *는 (A14-1)∼(A14-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00083
(식(A15)에서의 2개의 *는 (A15-1)∼(A15-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00084
(식(A16)에서의 2개의 *는 (A16-1)∼(A16-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00085
(식(A17)에서의 2개의 *는 (A17-1)∼(A17-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00086
(식(A18)에서의 2개의 *는 (A18-1)∼(A18-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00087
(식(A19)에서의 2개의 *는 (A19-1)∼(A19-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00088
(식(A20)에서의 2개의 *는 (A20-1)∼(A20-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00089
(식(A21)에서의 2개의 *는 (A21-1)∼(A21-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00090
(식(A22)에서의 2개의 *는 (A22-1)∼(A22-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00091
(식(A23)에서의 2개의 *는 (A23-1)∼(A23-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00092
(식(A24)에서의 2개의 *는 (A24-1)∼(A24-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00093
(식(A25)에서의 2개의 *는 (A25-1)∼(A25-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00094
(식(A26)에서의 2개의 *는 (A26-1)∼(A26-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00095
(식(A27)에서의 2개의 *는 (A27-1)∼(A27-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00096
(식(A28)에서의 2개의 *는 (A28-1)∼(A28-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00097
(식(A29)에서의 2개의 *는 (A29-1)∼(A29-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00098
(식(A30)에서의 2개의 *는 (A30-1)∼(A30-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00099
(식(A31)에서의 2개의 *는 (A31-1)∼(A31-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00100
(식(A32)에서의 2개의 *는 (A32-1)∼(A32-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00101
(식(A33)에서의 2개의 *는 (A33-1)∼(A33-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00102
(식(A34)에서의 2개의 *는 (A34-1)∼(A34-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00103
(식(A35)에서의 2개의 *는 (A35-1)∼(A35-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00104
(식(A36)에서의 2개의 *는 (A36-1)∼(A36-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00105
(식(A37)에서의 2개의 *는 (A37-1)∼(A37-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00106
(식(A38)에서의 2개의 *는 (A38-1)∼(A38-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00107
(식(A39)에서의 2개의 *는 (A39-1)∼(A39-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00108
(식(A40)에서의 2개의 *는 (A40-1)∼(A40-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00109
(식(A41)에서의 2개의 *는 (A41-1)∼(A41-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00110
(식(A42)에서의 2개의 *는 (A42-1)∼(A42-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00111
(식(A43)에서의 2개의 *는 (A43-1)∼(A43-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00112
(식(A44)에서의 2개의 *는 (A44-1)∼(A44-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00113
(식(A45)에서의 2개의 *는 (A45-1)∼(A45-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00114
(식(A46)에서의 2개의 *는 (A46-1)∼(A46-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00115
(식(A47)에서의 2개의 *는 (A47-1)∼(A47-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00116
(식(A48)에서의 2개의 *는 (A48-1)∼(A48-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00117
(식(A49)에서의 2개의 *는 (A49-1)∼(A49-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00118
(식(A50)에서의 2개의 *는 (A50-1)∼(A50-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00119
(식(A51)에서의 2개의 *는 (A51-1)∼(A51-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00120
(식(A52)에서의 2개의 *는 (A52-1)∼(A52-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00121
(식(A53)에서의 2개의 *는 (A53-1)∼(A53-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00122
(식(A54)에서의 2개의 *는 (A54-1)∼(A54-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00123
(식(A55)에서의 2개의 *는 (A55-1)∼(A55-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00124
(식(A56)에서의 2개의 *는 (A56-1)∼(A56-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00125
(식(A57)에서의 2개의 *는 (A57-1)∼(A57-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00126
(식(A58)에서의 2개의 *는 (A58-1)∼(A58-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00127
(식(A59)에서의 2개의 *는 (A59-1)∼(A59-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00128
(식(A60)에서의 2개의 *는 (A60-1)∼(A60-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
Figure 112013004687520-pat00129
(식(A61)에서의 2개의 *는 (A61-1)∼(A61-8) 중 어느 *와 결합하고 있음)
또한, 화합물(A)로서는 이하의 것도 사용할 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00130
Figure 112013004687520-pat00131
Figure 112013004687520-pat00132
Figure 112013004687520-pat00133
Figure 112013004687520-pat00134
Figure 112013004687520-pat00135
Figure 112013004687520-pat00136
Figure 112013004687520-pat00137
Figure 112013004687520-pat00138
화합물(A)은 Methoden der Organischen Chemie, Organic Reactions, Organic Syntheses, Comprehensive Organic Synthesis, 신실험화학강좌 등에 기재되어 있는, 축합 반응, 에스테르화 반응, 윌리암슨 반응, 울만 반응, 비티히 반응, 시프 염기 생성 반응, 벤질화 반응, 소노가시라 반응, 스즈키-미야우라 반응, 네기시 반응, 쿠마다 반응, 히야마 반응, Buchwald-Hartwig 반응, Friedel-Crafts 반응, 헤크 반응, 알돌 반응 등을 그 구조에 따라서 적절하게 조합함으로써 제조할 수 있다.
D1 및 D2가 *-O-CO-인 경우의 화합물(A)을 예로 들어 그 제조 방법을 간단히 설명한다. 우선, 식(1-1)으로 나타내어지는 화합물(화합물(1-1)) 및 식(1-2)으로 나타내어지는 화합물(화합물(1-2))을 각각 준비하여 화합물(1-1)과 화합물(1-2)을 반응시킴으로써 식(1-3)으로 나타내어지는 화합물(화합물(1-3))을 얻는다.
Figure 112013004687520-pat00139
[식에서, X1, Y1, Q1 및 Q2는 식(A)에서와 같은 의미를 나타낸다.]
Figure 112013004687520-pat00140
[식에서, G1, E1, A1, B1, F1, P1 및 k는 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
Figure 112013004687520-pat00141
[식에서, X1, Y1, Q1, Q2, G1, E1, A1, B1, F1, P1 및 k는 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
이어서, 얻어진 화합물(1-3)과 식(1-4)으로 나타내어지는 화합물(화합물(1-4))을 반응시킴으로써 화합물(A)을 제조할 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00142
[식에서, G2, E2, A2, B2, F2, P2 및 l은 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
화합물(1-1)과 화합물(1-2)과의 반응 및 화합물(1-3)과 화합물(1-4)과의 반응은 에스테르화제의 존재 하에서 실시하는 것이 바람직하다.
에스테르화제(축합제)로서는 1-시클로헥실-3-(2-모르폴리노에틸)카르보디이미드메트-파라-톨루엔술포네이트, 디시클로헥실카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염(일부 수용성 카르보디이미드: Water Soluble Carbodiimide로서 시판되고 있음), 비스(2,6-디이소프로필페닐)카르보디이미드, 비스(트리메틸실릴)카르보디이미드, 비스이소프로필카르보디이미드 등의 카르보디이미드; 2-메틸-6-니트로안식향산 무수물, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸, 1,1'-옥살릴디이미다졸, 디페닐포스포릴아지드, 1-(4-니트로벤젠술포닐)-1H-1,2,4-트리아졸, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄헥사플루오로포스페이트, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄헥사플루오로포스페이트, N,N,N',N'-테트라메틸-O-(N-숙신이미딜)우로늄테트라플루오로보레이트, N-(1,2,2,2-테트라클로로에톡시카르보닐옥시)숙신이미드, N-카르보벤족시숙신이미드, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄테트라플루오로보레이트, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, 2-브로모-1-에틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로리드, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1-메틸피리디늄아이오다이드, 2-클로로-1-메틸피리디늄 파라-톨루엔술포네이트, 2-플루오로-1-메틸피리디늄 파라-톨루엔술포네이트, 트리클로로아세트산펜타클로로페닐에스테르 등을 들 수 있다. 그 중에서도 반응성, 비용, 광범위한 용매를 사용할 수 있다는 점에서, 축합제로서는 디시클로헥실카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염, 비스(2,6-디이소프로필페닐)카르보디이미드, 비스(트리메틸실릴)카르보디이미드, 비스이소프로필카르보디이미드, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸이 바람직하다.
본 조성물(1)이 중합성 액정 화합물로서 화합물(A)을 포함하는 경우, 그 함유량은 본 조성물(1)의 고형분에 대한 함유 비율로 나타내어, 10∼99.9 질량%가 바람직하고, 20∼99 질량%가 보다 바람직하고, 50∼97 질량%가 더욱 바람직하고, 80∼95 질량%가 특히 바람직하다. 화합물(A)의 함유량이 상기 범위라면, 얻어지는 광학 필름(1)은 넓은 파장 영역에 있어서 똑같은 편광 변환이 가능한 것으로 된다. 고형분이란, 본 조성물(1)에서 용제 등의 저휘발 성분을 제외한 성분의 합계량을 말한다. 본 조성물(1)에서는, 화합물(A)은 단독으로 이용하더라도 좋고, 표의 화합물(xvi)로 나타낸 것과 같이 2종 이상의 화합물(A)을 병용하더라도 좋다.
중합성 액정 화합물로서는, 액정편람(액정편람편집위원회 편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물, 일본 특허공개 2010-31223호 공보, 일본 특허공개 2010-270108호 공보, 일본 특허공개 2011-6360호 공보 및 일본 특허공개 2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물로서는 예컨대 식(3)으로 나타내어지는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물(3)」이라고 함) 등을 들 수 있다.
P11-E11-(B11-A11)t-B12-G (3)
[식(3)에서,
A11은 치환기를 갖고 있더라도 좋은 방향족 복소환, 치환기를 갖고 있더라도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 지환식 탄화수소기를 나타낸다.
B11 및 B12는 각각 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -CS-, -O-CO-O-, -CR13R14-, -CR13R14-CR15R16-, -O-CR13R14-, -CR13R14-O-CR15R16-, -CO-O-CR13R14-, -O-CO-CR13R14-, -CR13R14-O-CO-CR15R16-, -CR13R14-CO-O-CR15R16-, -NR13-CR14R15-, -CH=N-, -N=N-, -CO-NR16-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-CO-O- 또는 단결합을 나타낸다. R13∼R16은 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
G는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼13의 알킬기, 탄소수 1∼13의 알콕시기, 탄소수 1∼13의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼13의 N-알킬아미노기, 시아노기, 니트로기 또는 -E12-P12를 나타낸다.
E11 및 E12는 탄소수 1∼18의 알칸디일기를 나타내고, 이 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 알칸디일기에 포함되는 메틸렌기는 산소 원자 또는 -CO-로 치환되어 있더라도 좋다.
P11 및 P12는 중합성 기를 나타낸다.
t는 1∼5의 정수를 나타낸다. t가 2 이상의 정수인 경우, 복수의 B11은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋고, 복수의 A11은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.]
A11로 나타내어지는 방향족 탄화수소환으로서는 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 페난트롤린환 등을 들 수 있고, 방향족 복소환으로서는 푸란환, 피롤환, 티오펜환, 피리딘환, 티아졸환 및 벤조티아졸환 등을 들 수 있다. 그 중에서도 벤젠환, 티아졸환 및 벤조티아졸환이 바람직하다. A11로 나타내어지는 방향족 탄화수소환 또는 방향족 복소환으로서는 예컨대 식(Ara-1)∼식(Ara-11)으로 각각 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00143
[식(Ara-1)∼식(Ara-11)에서,
X3은 식(A)에서의 X3과 같은 의미를 나타낸다. 동일 기 중에 존재하는 복수의 X1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.
Y3은 식(A)에서의 Y1로서 예시한 기와 같은 것을 나타낸다.
Z3은 식(A)에서의 Z1로서 예시한 기와 같은 것을 나타낸다.
Wa 및 Wb는 각각 독립적으로 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
m은 0∼6의 정수를 나타낸다.
n은 0∼4의 정수를 나타낸다.
o는 0∼2의 정수를 나타낸다.
m, n 및 o가 2 이상의 정수인 경우, 동일 기 중에 존재하는 복수의 Z3은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.]
A11로 나타내어지는 방향족 탄화수소환 또는 방향족 복소환으로서는 식(Ara-1) 및 식(Ara-7)으로 각각 나타내어지는 기가 바람직하고, 구체적으로는 하기의 기가 예시된다.
Figure 112013004687520-pat00144
A11로 나타내어지는 지환식 탄화수소기의 탄소수는 예컨대 3∼18이며, 5∼12인 것이 바람직하고, 5 또는 6인 것이 특히 바람직하다. A11로 나타내어지는 지환식 탄화수소기로서는 시클로헥산-1,4-디일기 등을 들 수 있다. 이 지환식 탄화수소기가 갖고 있더라도 좋은 치환기로서는 할로겐 원자, 플루오로기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 1∼6의 알킬기, 플루오로기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 1∼6의 알콕시기, 니트로기 및 시아노기를 들 수 있다.
P11 및 P12로 나타내어지는 중합성 기로서는 화합물(A)의 P1 및 P2로 나타내어지는 중합성 기로서 예시한 것과 같은 기를 들 수 있다. 보다 저온에서 중합할 수(경화할 수) 있으므로 광 중합성 기가 바람직하고, 라디칼 중합성 기 또는 양이온 중합성 기가 더욱 바람직하고, 특히 취급이 용이한데다, 화합물(3)의 제조도 용이하므로, P11 및 P12로 나타내어지는 중합성 기로서는 식(P-1)∼(P-5)으로 각각 나타내어지는 기가 바람직하다.
Figure 112013004687520-pat00145
[식(P-1)∼(P-5)에서,
R17∼R21은 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. *는 B11과의 결합수를 나타낸다.]
E11 및 E12는 탄소수 1∼18의 알칸디일기이며, 직쇄상이거나 분기점이 한 곳인 탄소수 1∼12의 알칸디일기가 바람직하다.
화합물(3)로서는 예컨대 이하의 것을 들 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00146
본 조성물(1)이 중합성 액정 화합물로서 화합물(3) 및/또는 화합물(A)을 포함하는 경우, 그 함유량은 예컨대 화합물(A)과 화합물(3)의 합계량 100 질량부에 대하여 화합물(3)이 90 질량부 이하이고, 바람직하게는 70 질량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 40 질량부 이하이다. 한편, 예컨대 화합물(A)에 유래하는 구조 단위의 함유량 및 화합물(3)에 유래하는 구조 단위의 함유량을 조정함으로써 원하는 파장 분산 특성을 갖는 본 광학 필름(1)을 형성할 수 있다. 본 광학 필름(1)은, 화합물(A)에 유래하는 구조 단위의 함유량을 증가시키면, 보다 역파장 분산 특성을 보이는 경향이 있다. 원하는 파장 분산 특성을 갖는 본 광학 필름(1)을 형성하기 위해서는, 화합물(A)에 유래하는 구조 단위의 함유량이 다른 본 조성물(1)을 2∼5 종류 정도 조제하고, 각각의 본 조성물(1)에 관해서, 같은 막 두께의 광학 필름을 제조하여 그 위상차 값을 구한다. 그리고, 결과로부터 화합물(A)에 유래하는 구조 단위의 함유량과 광학 필름의 위상차 값과의 상관을 구하여, 얻어진 상관 관계로부터 상기 막 두께에 있어서의 광학 필름에 원하는 위상차 값을 부여하기 위해서 필요한 화합물(A)에 유래하는 구조 단위의 함유량을 결정하면 된다.
중합성 액정 화합물로서는 예컨대 식(X1)으로 나타내어지는 기를 포함하는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물(X1)」이라고 함) 등을 들 수 있다.
P11-B11-E11-B12-A11-B13-* (X1)
(식(X1)에서, P11은 중합성 기를 나타낸다.
A11은 2가의 지환식 탄화수소기 또는 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 이 2가의 지환식 탄화수소기 및 2가의 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 탄소수 1∼6의 알킬기 및 상기 탄소수 1∼6 알콕시기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있더라도 좋다.
B11은 -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타낸다. R16은 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
B12 및 B13은 각각 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR16-, -NR16-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH- 또는 단결합을 나타낸다.
E11은 탄소수 1∼12의 알칸디일기를 나타내고, 이 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는 탄소수 1∼5의 알콕시기로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 알콕시기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있더라도 좋다. 또한, 상기 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있더라도 좋다.
*는 결합수를 나타낸다)
A11의 방향족 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기의 탄소수는 예컨대 3∼18이며, 5∼12인 것이 바람직하고, 5 또는 6인 것이 특히 바람직하다. A11로서는 시클로헥산-1,4-디일기, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.
E11로서는 직쇄상의 탄소수 1∼12의 알칸디일기가 바람직하다. 이 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는 -O-로 치환되어 있더라도 좋다.
구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기 및 도데칸-1,12-디일기 등의 탄소수 1∼12의 직쇄상 알칸디일기; -CH2-CH2-O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 및 -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 등이다.
P11로 나타내어지는 중합성 기로서는 중합 반응성, 특히 광중합 반응성이 높다고 하는 점에서 라디칼 중합성 기 또는 양이온 중합성 기가 바람직하고, 취급이 용이한데다 액정 화합물의 제조 자체도 용이하므로, 중합성 기로서 하기의 식(P-11)∼식(P-15)으로 나타내어지는 기인 것이 바람직하다.
Figure 112013004687520-pat00147
[식(P-11)∼(P-15)에서,
R17∼R21은 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다.]
식(P-11)∼식(P-15)으로 나타내어지는 기를 더욱 구체적으로 예시하면, 하기의 식(P-16)∼식(P-20)으로 나타내어지는 기를 들 수 있다.
Figure 112013004687520-pat00148
P11은 식(P-14)∼식(P-20)으로 나타내어지는 기인 것이 바람직하고, 비닐기, p-스틸벤기, 에폭시기, 옥세타닐기 등이 한층 더 바람직하다.
특히 바람직하게는, P11-B11-로 나타내어지는 기가 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.
화합물(X1)로서는 예컨대 식(I), 식(II), 식(III), 식(IV), 식(V) 또는 식(VI)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (III)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)
(식에서,
A12∼A14는 A11과 동의이고, B14∼B16은 B12와 동의이고, B17은 B11과 동의이고, E12는 E11과 동의이다.
F11은 수소 원자, 탄소수 1∼13의 알킬기, 탄소수 1∼13의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 히드록시기, 메틸올기, 포르밀기, 술포기(-SO3H), 카르복시기, 탄소수 1∼10의 알콕시카르보닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 알콕시기를 구성하는 -CH2-는 -O-로 치환되어 있더라도 좋다)
화합물(X1)의 구체예로서는 예컨대 이하의 식(I-1)∼식(I-4), 식(II-1)∼식(II-4), 식(III-1)∼식(III-26), 식(IV-1)∼식(IV-19), 식(V-1)∼식(V-2), 식(VI-1)∼식(VI-6)으로 각각 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있다. 단, 식에서, k1 및 k2는 2∼12의 정수를 나타낸다. 이들 화합물이라면, 화합물 자체의 제조가 용이하거나 시판되고 있거나 하는 등 입수가 용이하므로 바람직하다.
Figure 112013004687520-pat00149
Figure 112013004687520-pat00150
Figure 112013004687520-pat00151
Figure 112013004687520-pat00152
Figure 112013004687520-pat00153
Figure 112013004687520-pat00154
Figure 112013004687520-pat00155
Figure 112013004687520-pat00156
본 조성물(1)에 있어서의 화합물(X1)의 함유량은 조성물(1)의 고형분량에 대한 함유 비율로 나타내며, 10∼99.9 질량%가 바람직하고, 20∼99 질량%가 보다 바람직하고, 50∼98 질량%가 더욱 바람직하고, 80∼97 질량%가 특히 바람직하다. 상기 범위 내라면, 본 광학 필름의 제조시에 있어서, 기재에 대한 도포성(도공성)이 우수한 조성물로서 사용할 수 있다. 고형분이란, 조성물(B)에서 용제 등의 저휘발 성분을 제외한 성분의 합계량을 말한다.
1-3. 광중합 개시제
광중합 개시제는 빛의 작용에 의해 활성 라디칼을 발생하여, 중합성 액정 화합물의 중합을 시작할 수 있는 화합물이다. 광중합 개시제로서는 알킬페논 화합물, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물 및 옥심 화합물 등을 들 수 있다.
알킬페논 화합물로서는 α-아미노알킬페논 화합물, α-히드록시알킬페논 화합물 및 α-알콕시알킬페논 화합물을 들 수 있다.
α-아미노알킬페논 화합물로서는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 등을 들 수 있다. α-아미노알킬페논 화합물은 이르가큐어(등록상표) 369, 379EG, 907(이상, BASF재팬(주) 제조) 및 세이크올(등록상표) BEE(세이코가가쿠사 제조) 등의 시판 제품을 이용하더라도 좋다.
α-히드록시알킬페논 화합물로서는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(2-히드록시에톡시)페닐〕프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(1-메틸비닐)페닐〕프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. α-히드록시알킬페논 화합물은 이르가큐어 184, 2959, 127(이상, BASF재팬(주) 제조) 및 세이크올 Z(세이코가가쿠사 제조) 등의 시판 제품을 이용하더라도 좋다.
α-알콕시알킬페논 화합물로서는 디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다. α-알콕시알킬페논 화합물은 이르가큐어 651(이상, BASF재팬(주) 제조) 등의 시판 제품을 이용하더라도 좋다.
알킬페논 화합물로서는 α-아미노알킬페논 화합물이 바람직하고, 식(C-1)으로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다. 이 화합물을 포함함으로써, 얻어지는 광학 필름의 내열성 및 내습열성이 우수한 경향이 있다.
Figure 112013004687520-pat00157
[식(C-1)에서, Q3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
벤조인 화합물로서는 예컨대 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.
벤조페논 화합물로서는 예컨대 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드 및 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.
옥심 화합물로서는 N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민 및 N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민 등을 들 수 있다. 옥심 화합물로서는 이르가큐어 OXE-01, OXE-02(이상, BASF재팬사 제조), N-1919(ADEKA사 제조) 등의 시판 제품을 이용하더라도 좋다.
광중합 개시제는 아세토페논 화합물, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 옥심 화합물 등을 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다. 그 중에서도 광중합 개시제로서 아세토페논 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 아세토페논 화합물의 사용량은 광중합 개시제 전량에 대하여 90 질량부 이상인 것이 바람직하고, 광중합 개시제 전량이 아세토페논 화합물인 것이 보다 바람직하다.
본 조성물(1)에 있어서의 광중합 개시제의 함유량은 본 조성물(1)의 고형분에 대하여 바람직하게는 0.1 질량%∼30 질량%이며, 보다 바람직하게는 0.5 질량%∼10 질량%이다. 상기 범위 내라면, 본 조성물(1)에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합할 때에, 화합물(A)의 배향을 어지럽히는 것을 보다 억제할 수 있다. 한편, 고형분이란, 본 조성물(1)에서 용매 등의 저휘발 성분을 제외한 성분의 합계량을 말한다.
1-4. 유기 용제
본 조성물(1)은, 광학 필름 제조의 조작성을 양호하게 하기 위해서, 용제, 특히 유기 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 유기 용제로서는 본 조성물(1)의 구성 성분을 용해할 수 있는 유기 용제가 바람직하고, 나아가서는 본 조성물(1)에 포함되는 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제가 보다 바람직하다. 구체적으로는 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 및 페놀 등의 알코올계 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 및 젖산에틸 등의 에스테르계 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 및 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제; 펜탄, 헥산 및 헵탄 등의 비염소계 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔 및 크실렌 등의 비염소계 방향족 탄화수소 용제; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용제; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용제; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소계 용제; 등을 들 수 있다. 유기 용제는 단독으로 이용하더라도 좋고, 복수 종을 조합시켜 이용하더라도 좋다. 그 중에서도 알코올계 용제, 에스테르계 용제, 케톤계 용제, 비염소계 지방족 탄화수소 용제 및 비염소계 방향족 탄화수소 용제가 바람직하다. 특히, 본 조성물의 구성 성분이 상용성이 우수하고, 알코올계 용제, 에스테르계 용제, 케톤계 용제, 비염소계 지방족 탄화수소 용제 및 염소계 방향족 탄화수소 용제 등에도 용해할 수 있으므로, 클로로포름 등의 염소계 용제를 이용하지 않더라도, 적당한 기재 상에 도포하여 본 광학 필름을 제조할 수 있는 본 조성물을 얻을 수 있다.
본 조성물(1)이 유기 용제를 포함하는 경우, 그 함유량은 고형분 100 질량부에 대하여 10 질량부∼10000 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 질량부∼5000 질량부이다. 또한, 본 조성물(1) 중의 고형분 농도는 바람직하게는 2 질량%∼50 질량%이며, 보다 바람직하게는 5∼50 질량%이다. 고형분이란 본 조성물(1)에서 용매 등의 저휘발 성분을 제외한 성분의 합계량을 말한다.
본 조성물(1)은 광증감제, 레벨링제, 카이럴제, 중합금지제 등의 첨가제를 포함하고 있더라도 좋다.
1-5. 광증감제
광증감제로서는 크산톤 및 티오크산톤 등의 크산톤류; 안트라센 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류; 페노티아진; 루브렌을 들 수 있다.
광증감제를 이용함으로써 중합성 액정 화합물 등의 중합을 고감도화할 수 있다. 또한, 광증감제의 사용량은 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 예컨대 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다.
1-6. 레벨링제
레벨링제로서는 유기 변성 실리콘 오일계, 폴리아크릴레트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제 등을 들 수 있다. 구체적으로는 예컨대 DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123(이상, 전부 도오레다우코닝(주) 제조), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001(이상, 전부 신에츠가가쿠고교(주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(이상, 전부 모멘티브퍼포먼스머티리얼즈재팬합동회사 제조), 플로리나아트(fluorinert)(등록상표) FC-72, 동 FC-40, 동 FC-43, 동 FC-3283(이상, 전부 스미토모쓰리엠(주) 제조), 메가파크(등록상표) R-08, 동 R-30, 동 R-90, 동 F-410, 동 F-411, 동 F-443, 동 F-445, 동 F-470, 동 F-477, 동 F-479, 동 F-482, 동 F-483(이상, 모두 DIC(주) 제조), 에프톱(상품명) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352(이상, 전부 미쓰비시머티리얼덴시가세이(주) 제조), 서플론(등록상표) S-381, 동 S-382, 동 S-383, 동 S-393, 동 SC-101, 동 SC-105, KH-40, SA-100(이상, 전부 AGC세이미케미칼(주) 제조), 상품명 E1830, 동 E5844((주)다이킨파인케미칼겐큐쇼 제조), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353, BYK-361N(모두 상품명: BM Chemie사 제조) 등을 들 수 있다. 레벨링제는 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다.
레벨링제를 이용함으로써, 얻어지는 광학 필름을 보다 평활화할 수 있다. 또한 광학 필름의 제조 과정에서 조성물의 유동성을 제어하거나 중합성 액정 화합물을 중합하여 얻어지는 광학 필름의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 또한 레벨링제의 사용량은 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 예컨대 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.1 질량부∼10 질량부이다.
1-7. 카이럴제
카이럴제로서는 공지된 카이럴제(예컨대, 액정 디바이스 핸드북, 제3장 4-3항, TN, STN용 카이럴제, 199 페이지, 일본학술진흥회(JSPS) 제142 위원회 편, 1989에 기재)를 이용할 수 있다.
카이럴제는 일반적으로 비대칭 탄소 원자를 포함하지만, 비대칭 탄소 원자를 포함하지 않는 축성(軸性) 비대칭 화합물 혹은 면성(面性) 비대칭 화합물도 카이럴제로서 이용할 수 있다. 축성 비대칭 화합물 또는 면성 비대칭 화합물의 예로는 비나프틸, 헬리센, 파라시클로판 및 이들의 유도체를 들 수 있다.
예컨대, 일본 특허공개 2007-269640호 공보, 일본 특허공개 2007-269639호 공보, 일본 특허공개 2007-176870호 공보, 일본 특허공개 2003-137887호 공보, 일본 특허공표 2000-515496호 공보, 일본 특허공개 2007-169178호 공보, 일본 특허공표 평9-506088호 공보에 기재되어 있는 것과 같은 화합물을 들 수 있으며, 바람직하게는 BASF재팬(주) 제조의 paliocolor(등록상표) LC756을 들 수 있다.
카이럴제의 사용량은 예컨대 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 1.0 질량부∼25 질량부이다. 상기 범위 내라면, 본 조성물(1)에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합할 때에, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히는 것을 보다 억제할 수 있다.
1-8. 중합금지제
중합금지제로서는 예컨대 히드로퀴논 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 히드로퀴논류; 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류; 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시라디칼 등의 라디칼 보족제; 티오페놀류;β-나프틸아민류 혹은 β-나프톨류 등을 들 수 있다.
중합금지제를 이용함으로써 중합성 액정 화합물의 중합을 제어할 수 있어, 광학 필름(1)의 안정성을 향상시킬 수 있다. 중합금지제의 함유량은 예컨대 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 0.1 질량부∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다. 상기 범위 내라면, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히는 일없이 중합성 액정 화합물을 중합시킬 수 있다.
2. 광학 필름
본 광학 필름(1)은 중합성 액정 화합물을 중합하여 이루어지는 것이다. 본 광학 필름(1)은 빛을 투과할 수 있는 필름이며, 광학적인 기능을 갖는 필름이다. 광학적인 기능이란, 굴절, 복굴절 등을 의미한다.
본 광학 필름(1) 중에서도, 가시광 영역에 있어서의 투명성이 우수한 것이 다양한 표시 장치용 부재로서 사용할 수 있기 때문에 바람직하다. 본 광학 필름(1)의 두께는 본 광학 필름(1)의 용도에 따라 적절하게 조절할 수 있으며, 0.1 ㎛∼10 ㎛인 것이 바람직하고, 광탄성을 작게 한다는 점에서 0.2 ㎛∼5 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.
표시 장치에 본 광학 필름(1)을 이용하는 경우, 본 광학 필름(1)은 단층으로 이용할 수도 있고, 본 광학 필름(1) 여러 장을 적층시켜 적층체로 하여도 좋고, 다른 필름과 조합하더라도 좋다. 다른 필름과 조합하여 이용함으로써, 위상차 필름, 시야각 보상 필름, 시야각 확대 필름, 반사 방지 필름, 편광 필름, 원편광 필름, 타원편광 필름 및 휘도 향상 필름 등에 이용할 수 있다.
특히, 본 광학 필름(1)은 본 조성물(1)의 중합성 액정 화합물로서 화합물(A) 및 화합물(3)을 합쳐서 이용하여, 양자의 배향 상태에 따라서 광학 특성을 변화시킴으로써, VA(vertical alignment) 모드, IPS(in-plane switching) 모드, OCB(optically compensated bend) 모드, TN(twisted nematic) 모드, STN(super twisted nematic) 모드 등, 여러 가지 액정 표시 장치용의 위상차 필름으로서 조정할 수 있다.
2-1. 위상차 필름
광학 필름의 일종인 위상차 필름은 본 광학 필름(1)의 적합한 실시형태의 하나이다. 위상차 필름은 직선편광을 원편광이나 타원편광으로 변환하거나, 반대로 원편광 또는 타원편광을 직선편광으로 변환하거나, 직선편광의 편광 방향을 변환하거나 하기 위해서 이용된다.
위상차 필름(1)으로서는, 면내의 지상축 방향의 굴절율을 nx, 면내의 지상축과 직교하는 방향(진상축 방향)의 굴절율을 ny, 두께 방향의 굴절율을 nz로 한 경우, 다음과 같이 분류할 수 있다는 것이 알려져 있다. 즉,
nx>ny≒nz의 포지티브 A 플레이트,
nx≒ny>nz의 네가티브 C 플레이트,
nx≒ny<nz의 포지티브 C 플레이트,
nx≠ny≠nz의 포지티브 O 플레이트 및 네가티브 O 플레이트를 들 수 있다.
위상차 필름(1)의 위상차 값은 이용되는 표시 장치에 따라 30∼300 nm에서 적절하게 선택하면 된다.
위상차 필름(1)을 광대역 λ/4판으로서 이용하는 경우는, Re(549)는 113∼163 nm, 바람직하게는 130∼150 nm로 조정하면 된다. 광대역 λ/2판으로서 이용하는 경우는, Re(549)는 250∼300 nm, 바람직하게는 265∼285 nm로 조정하면 된다. 위상차 값이 상기한 값이라면, 광범위한 파장의 빛에 대하여 똑같이 편광 변환할 수 있는 경향이 있어 바람직하다. 광대역 λ/4판이란, 각 파장의 빛에 대하여 그 1/4의 위상차 값을 발현하는 위상차 필름이며, 광대역 λ/2판이란, 각 파장의 빛에 대하여 그 1/2의 위상차 값을 발현하는 위상차 필름이다.
한편, 본 조성물(1)에 포함되는 중합성 액정 화합물의 함유량을 적절하게 조정함으로써 원하는 위상차를 부여하도록 막 두께를 조제할 수 있다. 얻어지는 위상차 필름의 위상차 값(리타데이션 값, Re(λ))은 식(4)과 같이 결정되므로, 원하는 Re(λ)를 얻기 위해서는 Δn(λ)와 막 두께 d를 적절하게 조정하면 된다.
Re(λ)=d×Δn(λ) (4)
(식에서, Re(λ)는 파장 λ nm에 있어서의 위상차 값을 나타내고, d는 막 두께를 나타내고, Δn(λ)는 파장 λ nm에 있어서의 복굴절율을 나타낸다)
2-2. 본 광학 필름(1)의 제조 방법
본 광학 필름(1)은, 적당한 기재를 준비하고, 기재 상에 본 조성물(1)을 도포하고 건조하여 본 조성물(1)에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 제조할 수 있다.
2-2-0. 기재
본 광학 필름의 제조에 이용할 수 있는 기재로서는 예컨대 유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 필름, 투광성 필름이 바람직하다. 투광성 필름으로서는 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 필름; 폴리비닐알코올 필름; 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름; 폴리메타크릴산에스테르 필름; 폴리아크릴산에스테르 필름; 셀룰로오스에스테르 필름; 폴리에틸렌나프탈레이트 필름; 폴리카보네이트 필름; 폴리술폰 필름; 폴리에테르술폰 필름; 폴리에테르케톤 필름; 폴리페닐렌술피드 필름 및 폴리페닐렌옥사이드 필름 등을 들 수 있다.
본 광학 필름(1)의 제조에 이용하는 기재는 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 것이 바람직하고, 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름인 것이 보다 바람직하다. 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름은 수산기를 갖는 재료를 성막하여 얻어지는 필름이라도 좋고, 수산기의 전구기를 갖는 재료를 성막하여 필름(전구 필름)으로 한 후, 전구 필름에 포함되는 전구기를 수산기로 개질하더라도 좋다. 이러한 개질에는 예컨대 진공이나 대기압 하에서의 플라즈마 처리, 레이저 처리, 오존 처리, 비누화 처리 또는 화염 처리 등을 들 수 있다. 또한, 수산기 또는 그 전구기를 갖지 않는 재료로 이루어지는 필름을 준비하여 필름 표면에 커플링제를 도포하는 프라이머 처리, 수산기를 갖는 모노머나 수산기를 갖는 폴리머를 표면에 부착시킨 후, 방사선, 플라즈마, 자외선을 조사하여 반응시키는 그라프트 중합을 하는 방법으로 얻어진 것이라도 좋다. 필름 표면에 수산기를 갖는 재료를 배치한 필름도 본 명세서에서는 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름으로 한다. 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름(기재)을 이용하면, 기재와 본 광학 필름과의 사이의 밀착성이 보다 높아지는 경향이 있다.
수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름(기재) 중에서도, 트리아세틸셀룰로오스 필름을 비누화 처리함으로써 얻어지는 필름이 바람직하다. 트리아세틸셀룰로오스 필름을 비누화 처리함으로써 필름 속의 트리아세틸셀룰로오스가 비누화되어 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름을 용이하게 얻을 수 있어, 비용, 제조시의 취급의 점에서도 특히 바람직하다.
또한, 본 광학 필름(1)의 제조에 이용하는 기재의 본 광학 필름을 형성하는 표면에는 배향막이 마련되어 있으면 바람직하다. 배향막의 배향 방향에 따라, 본 광학 필름 속의 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 배향시킨 후, 중합성 액정 화합물을 중합시킬 수 있다. 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 기재를 이용하는 경우에는 기재 상에 배향막을 마련하면 좋다.
2-2-1. 미중합 필름의 제작
기재 상에 또는 배향막 상에 본 조성물(1)을 도포함으로써, 기재 상에 미중합 필름을 얻을 수 있다. 미중합 필름이 네마틱상 등의 액정상을 보이는 경우, 모노도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다.
본 조성물(1)의 기재 상에의 도포 방법으로서는 예컨대 압출코팅법, 다이렉트그라비아코팅법, 리버스그라비아코팅법, CAP(캡)코팅법, 다이코팅법, 잉크젯법, 딥코팅법, 슬릿코팅법, 스핀코팅법 및 바코터에 의한 도포 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 롤투롤(Roll to Roll) 형식으로 연속적으로 기재 상에 본 조성물을 도포할 수 있다는 점에서, CAP코팅법, 잉크젯법, 딥코팅법, 슬릿코팅법, 다이코팅법 및 바코터에 의한 도포가 바람직하다.
본 광학 필름(1)은 기재와 적층한 상태에서 취급할 수도 있다. 본 광학 필름에 기재를 적층해 둠으로써 필름의 운반, 보관 등을 할 때에, 본 광학 필름이 파손되는 것이 억제되어, 용이하게 취급할 수 있다.
기재 상에는 미리 배향막을 형성시켜 두고 나서 배향막 위에 본 조성물(1)을 도포하면, 본 광학 필름(1)에 대하여 연신에 의한 굴절율 제어를 할 필요가 없기 때문에, 복굴절의 면내 변동이 작아진다. 그 때문에, 플랫 패널 표시 장치(FPD)의 대형화에도 대응할 수 있는 큰 본 광학 필름을 제조할 수 있다.
배향막을 형성하는 방법으로서는, 러빙에 의해서 배향 규제력이 부여되는 배향성 폴리머를 이용하는 방법(이하, 경우에 따라 「러빙법」이라고 함), 편광을 조사함으로써 배향 규제력이 부여되는 광배향성 폴리머를 이용하는 방법(이하, 경우에 따라 「광배향법」이라고 함), 기재 표면에 산화규소를 사방(斜方) 증착하는 방법, 및 랭뮤어-블로드젯법(LB법)을 이용하여 장쇄 알킬기를 갖는 단분자 막을 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 본 조성물(1)에 포함되는 중합성 액정 화합물의 배향 균일성, 본 광학 필름 제조의 처리 시간 및 처리 비용의 관점에서, 광배향법이 보다 바람직하다. 배향막으로서는, 그 위에 본 조성물을 도포하더라도 본 조성물(1)에 포함되는 성분, 예컨대 본 조성물(1)에 포함되는 용제에 용해되지 않을 정도의 내용제성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 배향막에는, 미건조 필름으로부터의 용제의 제거나 중합성 액정 화합물의 액정 배향시의 열처리에 대한 내열성도 요구된다.
광배향법에 관해서는 본 발명의 제2 형태에 있어서 설명하는 바와 같다.
기재 상에 형성되는 배향막의 막 두께는 예컨대 10 nm∼10000 nm이며, 바람직하게는 10 nm∼1000 nm이다. 상기 범위라면, 본 조성물(1)에 포함되는 중합성 액정 화합물을 원하는 각도로 배향시킬 수 있다.
2-2-2. 미중합 필름의 중합
기재 상 또는 배향막 상에 형성된 미중합 필름에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하여 경화시킴으로써 본 광학 필름(1)을 얻을 수 있다. 본 광학 필름(1)은 중합성 액정 화합물의 배향성이 고정화되어 있어, 열에 의한 복굴절 변화의 영향을 받기 어렵다.
중합성 액정 화합물을 중합시키는 방법으로서는 광중합법이 바람직하다. 광중합법에 따르면, 저온에서 중합을 실시할 수 있기 때문에, 이용하는 기재의 내열성의 선택폭이 넓어진다. 광중합 반응은 미중합 필름에 가시광, 자외광 또는 레이저광을 조사함으로써 행해진다. 취급의 점에서 자외광이 특히 바람직하다.
기재 상 또는 배향막 상에 본 조성물(1)을 도포하여 형성된 미중합 필름에 대하여 그대로 광 조사를 하여 미중합 필름을 경화시킬 수도 있지만, 미중합 필름을 건조하여 미중합 필름으로부터 용제를 제거해 두는 것이 바람직하다.
용제의 제거는 중합 반응과 병행하여 행하더라도 좋지만, 중합을 행하기 전에 용제를 제거해 두는 것이 바람직하다. 그 제거 방법으로서는 예컨대 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조 또는 감압 건조 등, 혹은 이들을 조합시킨 방법을 들 수 있다. 그 중에서도 자연 건조 또는 가열 건조가 바람직하고, 자연 건조 또는 가열 건조를 행할 때의 온도는 0℃∼250℃가 바람직하고, 50℃∼220℃가 보다 바람직하고, 80℃∼170℃가 더욱 바람직하다. 가열 시간은 10초간∼60분간이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30초간∼30분간이다. 가열 온도 및 가열 시간이 상기 범위 내라면, 기재로서 내열성이 반드시 충분하지 않은 것을 이용할 수 있다.
기재를 박리함으로써 배향막과 본 광학 필름이 적층된 필름(적층 필름)을 얻을 수 있다. 또한, 배향막을 박리하여 단층의 본 광학 필름(1)을 얻을 수 있다. 또한, 다른 기재(필름 또는 판)를 적층 필름에 접합해 두고 나서 본 광학 필름(1)에 적층되어 있던 기재나 배향막을 박리함으로써 전사를 할 수도 있다.
3. 편광판
본 광학 필름(1)은 편광판 제조에 이용할 수 있다. 본 발명의 편광판은 본 위상차 필름(1)을 적어도 하나 갖는다. 본 위상차 필름(1)을 이용하는 편광판에 대해서 설명한다.
편광판으로서는 도 1(a)∼도 1(e)에 도시하는 것과 같이, (1) 본 위상차 필름(1)과 편광 필름층(2)이 직접 적층된 편광판(4a)(도 1(a)); (2) 본 위상차 필름(1)과 편광 필름층(2)이 접착제층(3')을 통해 접합된 편광판(4b)(도 1(b)); (3) 본 위상차 필름(1)과 본 위상차 필름(1')을 적층시키고, 또한, 본 위상차 필름(1')과 편광 필름층(2)을 적층시킨 편광판(4c)(도 1(c)); (4) 본 위상차 필름(1)과 본 위상차 필름(1')을 접착제층(3)을 통해 접합시키고, 또한, 본 위상차 필름(1') 상에 편광 필름층(2)을 적층시킨 편광판(4d)(도 1(d)); 및 (5) 본 위상차 필름(1)과 본 위상차 필름(1')을 접착제층(3)을 통해 접합시키고, 또한 본 위상차 필름(1')과 편광 필름층(2)을 접착제층(3')을 통해 서로 부착시킨 편광판(4e)(도 1(e)) 등을 들 수 있다. 접착제란, 접착제 및/또는 점착제를 총칭하는 것이다.
편광 필름층(2)는 편광 기능을 갖는 필름이면 되며, 예컨대 폴리비닐알코올계 필름에 요오드나 이색성 색소를 흡착시켜 연신한 필름, 폴리비닐알코올계 필름을 연신하여 옥소나 이색성 색소를 흡착시킨 필름 등을 들 수 있다.
편광 필름층(2)에는 또한 필요에 따라서 보호 필름이 되는 필름을 갖추고 있더라도 좋다. 보호 필름으로서는 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리메타크릴산에스테르 필름, 폴리아크릴산에스테르 필름, 셀룰로오스에스테르 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리에테르케톤 필름, 폴리페닐렌술피드 필름 및 폴리페닐렌옥사이드 필름 등을 들 수 있다.
접착제층(3) 및 접착제층(3')에 이용되는 접착제는 투명성이 높고 내열성이 우수한 접착제인 것이 바람직하다. 그와 같은 접착제로서는 예컨대 아크릴계 접착제, 에폭시계 접착제 혹은 우레탄계 접착제 등이 이용된다.
또한, 편광판에 있어서는 도 1(c)∼도 1(e)에 도시하는 것과 같이 본 광학 필름(1)을 포함하는 2 이상의 본 위상차 필름(1)을 직접 또는 접착제층을 통해 접합시키더라도 좋다.
4. 플랫 패널 표시 장치
본 발명의 플랫 패널 표시 장치는 본 광학 필름(1)을 포함하며, 플랫 패널 표시 장치에 따른 부재로서 매우 유용하다. 예컨대, 본 광학 필름(1)과 액정 패널이 접합된 액정 패널을 구비하는 액정 표시 장치나, 본 광학 필름(1)과 발광층이 접합된 유기 일렉트로루미네센스(이하 「EL」이라고도 함) 패널을 구비하는 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다.
4-1. 액정 표시 장치
본 발명의 액정 표시 장치로서는 예컨대 도 2(a) 및 도 2(b)에 도시하는 것과 같은 액정 표시 장치 등을 들 수 있다. 도 2(a)에 도시하는 액정 표시 장치(10a)는 본 발명의 편광판(4)과 액정 패널(6)을 접착층(5)을 통해 접합시켜 이루어지는 것이고, 도 2(b)에 도시하는 액정 표시 장치(10b)는 본 발명의 편광판(4)과 본 발명의 편광판(4')을 액정 패널(6)의 양면에 접착층(5) 및 접착층(5')을 통해 접합시킨 것이다. 상기 구성에 따르면, 도시하지 않은 전극을 이용하여 액정 패널에 전압을 인가함으로써 액정 분자의 배향이 변화되어 흑백 표시를 할 수 있다.
4-2. 유기 EL 표시 장치
본 발명의 유기 EL 표시 장치로서는 도 3에 도시하는 유기 EL 표시 장치 등을 들 수 있다. 유기 EL 표시 장치로서는 본 발명의 편광판(4)과 유기 EL 패널(7)을 접착층(5)을 통해 접합시켜 이루어지는 유기 EL 표시 장치(11)를 들 수 있다. 유기 EL 패널(7)은 도전성 유기 화합물로 이루어지는 적어도 1층의 층이다. 상기 구성에 따르면, 도시하지 않은 전극을 이용하여 유기 EL 패널에 전압을 인가함으로써 유기 EL 패널이 갖는 발광층에 포함되는 화합물이 발광하여 흑백 표시를 할 수 있다.
한편, 유기 EL 표시 장치(11)에 있어서 편광판(4)은 광대역 원편광판으로서 기능하는 것이 바람직하다. 광대역 원편광판으로서 기능하는 것이면, 유기 EL 표시 장치(11)의 표면에 있어서 외광의 반사를 방지할 수 있다.
본 발명에 따르면, 밀착성이 우수한 광학 필름 제조용의 조성물 및 조성물을 이용하는 광학 필름의 제조 방법, 광학 필름을 제공할 수 있다.
II. 본 발명의 제2 형태
1. 본 발명의 제2 조성물(이하, 본 발명의 제2 조성물을 경우에 따라 「본 조성물(2)」이라고 하고, 본 조성물(2)로 제조되는 광학 필름을 경우에 따라 「본 광학 필름(2)」이라고 함)
본 조성물(2)은 (D) 광배향성 폴리머(이하, 경우에 따라 「폴리머(D)」라고 함) 및 (B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물(B)」이라고 함)을 포함한다.
1-1. 폴리머(D)
폴리머(D)는 본 조성물(2)로 제조되는 본 광학 필름(2) 상에 광학 이방성층을 형성할 때, 액정 화합물을 배향시키기 위해서 이용된다.
액정 화합물을 배향시키기 위해서 이용되는 본 광학 필름(2)(배향막인 본 광학 필름(2))을 형성하는 방법으로서는 러빙에 의해서 폴리머(D)에 배향 규제력을 부여하는 방법(러빙법), 편광을 조사함으로써 폴리머(D)에 배향 규제력을 부여하는 방법(이하, 경우에 따라 「광배향법」이라고 함) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 액정 화합물의 배향 균일성, 처리 시간 및 처리 비용의 관점에서 본 조성물(2)에 포함되는 폴리머(D)의 능력을 살린 광배향법이 바람직하다. 이 경우의 본 광학 필름(2)으로서는 액정 화합물을 도포하더라도 용해되지 않을 정도의 내용제성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 본 광학 필름(2)을 제조할 때에, 미건조 필름으로부터의 용제의 제거나 액정 화합물 배향시의 열처리에 대한 내열성을 가질 것도 요구된다.
폴리머(D)로서는 감광성 구조를 갖는 폴리머가 이용된다. 감광성 구조를 갖는 폴리머(D)에 편광을 조사하면, 조사된 부분의 감광성 구조가 이성화 또는 가교함으로써 폴리머(D)가 배향되어, 얻어지는 본 광학 필름(2)에 배향 규제력이 부여된다. 감광성 구조로서는 예컨대 아조벤젠 구조, 말레이미드 구조, 칼콘 구조, 계피산 구조, 1,2-비닐렌 구조, 1,2-아세틸렌 구조, 스피로피란 구조, 스피로벤조피란 구조 및 풀기드 구조 등을 들 수 있다. 감광성 구조를 갖는 폴리머(D)는 단독으로 본 조성물(2)에 이용하더라도 좋고, 2 종류 이상 병용하더라도 좋다. 한편, 폴리머(D)는 감광성 구조를 갖는 단량체를 이용하여, 탈수나 탈아민 등에 의한 중축합이나 라디칼 중합, 음이온 중합, 양이온 중합 등의 연쇄 중합, 배위 중합이나 개환 중합 등에 의해 얻을 수 있다. 또한, 다른 감광성 구조를 갖는 단량체를 복수 종 이용하여, 이들의 공중합체라도 좋다. 폴리머(D)로서는 일본 특허 제4450261호, 일본 특허 제4011652호, 일본 특허공개 2010-49230호 공보, 일본 특허 제4404090호, 일본 특허공개 2007-156439호 공보, 일본 특허공개 2007-232934호 공보 등에 기재된 광배향성 폴리머를 들 수 있다.
폴리머(D)로서는 광 조사에 의해서 가교 구조를 형성하는 것이라면 특히 바람직하다. 폴리머(D)가 가교 구조를 형성하는 것이라면, 광학 이방성층을 형성할 때, 광학 이방성층 형성용 조성물의 도포시에 충분한 내구성을 확보할 수 있다.
본 조성물(2)에 있어서의 폴리머(D)의 함유량은 본 조성물(2)의 총 질량에 대하여 0.1∼30 질량%가 바람직하고, 0.2∼15 질량%가 보다 바람직하다.
본 조성물(2)을 기재 상에 도포함으로써 본 광학 필름(2)을 제조할 수 있다. 기재로서는 본 발명의 제1 형태에 있어서 예로 든 기재를 들 수 있다.
기재 상에 본 광학 필름(2)을 제조하기 위해서는, 용제를 포함하는 본 조성물(2)을 이용하면, 본 광학 필름의 제조가 간편해지기 때문에 바람직하다. 본 조성물(2)에 포함되는 용제로서는 물 및 유기 용제를 들 수 있다. 유기 용제로서는 본 발명의 제1 형태에 있어서 예로 든 유기 용제를 들 수 있다. 용제를 포함하는 본 조성물(2)을 이용하는 경우, 용제는 단독으로 이용하더라도 좋고, 복수 종을 조합시켜 이용하더라도 좋다.
본 조성물(2)이 용제를 포함하는 경우, 그 함유량은 본 조성물(2)의 고형분 100 질량부에 대하여 100 질량부∼20000 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 200 질량부∼15000 질량부이다. 고형분이란, 본 조성물(2)에서 용제 등의 저휘발 성분을 제외한 성분의 합계량을 말한다.
1-2. 화합물(B)
화합물(B)로서는 본 발명의 제1 형태에 있어서 설명한, 본 조성물(1)에 포함되는 화합물(B)과 같은 것을 들 수 있다.
본 조성물(2)에 있어서의 화합물(B)의 함유량은 본 조성물(2)의 총 질량에 대하여 0.01∼10 질량%가 바람직하고, 0.02∼5 질량%가 보다 바람직하다. 상기 범위 내라면, 본 조성물(2) 중의 폴리머(D)의 반응성을 저하시키는 일이 없다.
2. 본 광학 필름(2)
본 광학 필름(2)은 본 조성물(2)에 포함되는 폴리머(D)를 가교하여 이루어지는 것이 바람직하다.
본 조성물(2)로부터 본 광학 필름 제조용의 도포막(미건조 필름)을 형성하기 위해서는 우선 기재 상에 본 조성물(2)을 도포한다. 기재 상에의 도포 방법으로서는 본 발명의 제1 형태에 있어서 설명한 본 조성물(1)의 기재 상에 도포하는 방법을 들 수 있다.
이어서, 기재 상에 도포한 도포막을 건조하여 도포막에 포함되는 용제 등의 저비점 성분을 제거한다.
건조 방법으로서는 예컨대 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조 또는 감압 건조등 혹은 이들을 조합시킨 방법을 들 수 있다. 건조 온도는 10∼250℃인 것이 바람직하고, 25∼200℃인 것이 더욱 바람직하다. 또한 건조 시간은 5초간∼60분간인 것이 바람직하고, 10초간∼30분간인 것이 보다 바람직하다. 건조 온도 및 건조 시간이 상기 범위 내라면, 기재 중 어느 것을 이용한 경우, 기재에 대한 손상을 억제할 수 있다.
2-1. 배향막으로서의 본 광학 필름
본 광학 필름(2) 중, 폴리머(D)를 편광 조사함으로써 가교시킨 것은 배향막으로서 기능한다. 구체적으로는, 용제를 포함하는 본 조성물(2)을 기재 상에 도포하여, 얻어진 도포막에 편광 조사를 하여 폴리머(D)를 가교시키면, 얻어지는 본 광학 필름(2)은 배향막이 된다. 도포막(미건조 필름)은 편광 조사를 하기 전에 건조하여 건조 필름으로 해 놓는 것이 바람직하다.
광배향법에 의해 배향 규제력을 부여하기 위해서는, 본 조성물(2)로 형성된 도포막 상에 편광 조사(예컨대, 직선편광 자외선)를 한다. 편광 조사는 예컨대 일본 특허공개 2006-323060호 공보에 기재된 장치를 이용하여 행할 수 있다. 또한, 본 조성물(2)로 형성된 도포막 상에서, 원하는 복수 영역에 대응한 포토마스크를 준비하여, 그 영역마다 포토마스크를 통한 편광 조사(예컨대, 직선편광 자외선)를 반복하여 행함으로써 패턴화 배향막을 형성할 수도 있다. 포토마스크로서는 예컨대 석영 유리, 소다 라임 유리 또는 폴리에스테르 등의 필름 상에 차광 패턴을 형성한 것이 이용된다. 차광 패턴으로 덮여 있는 부분은 노광되는 빛이 차단되고, 덮여 있지 않은 부분은 노광되는 빛이 투과된다. 열팽창의 영향이 작기 때문에, 포토마스크에 이용되는 기재로서는 석영 유리가 바람직하다.
패턴화 배향막을 제조하는 예를 든다. 우선, 본 조성물(2)로 형성된 도포막에 제1 패턴 영역에 대응한 공극부를 갖는 제1 포토마스크(나머지 영역은 차광 패턴으로 되어 있음)를 통해, 제1 편광 방향을 갖는 제1 편광을 조사한다(제1 편광 조사). 제1 편광 조사에 의해서, 제1 패턴 영역의 배향 규제력의 방향을 제1 편광방향에 대응시킨다. 이어서, 제2 패턴 영역에 대응한 공극부를 갖는 제2 포토마스크(나머지 영역은 차광 패턴으로 되어 있음)를 통해, 제1 편광 방향과는 다른 제2 편광 방향(예컨대, 제1 편광 방향에 대하여 수직인 방향)을 갖는 제2 편광을 조사한다(제2 편광 조사). 제2 편광 조사에 의해서, 제2 패턴 영역의 배향 규제력의 방향을 제2 편광 방향에 대응시킨다. 이에 따라, 서로 배향 규제력의 방향이 다른 복수의 패턴 영역을 갖는 배향막을 얻을 수 있다. 또한, 3 종류 이상의 포토마스크를 통해 편광 조사를 반복해서 행함으로써, 서로 배향 규제력의 방향이 다른 3가지 이상의 패턴 영역을 갖는 패턴화 배향막을 작성할 수도 있다. 폴리머(D)의 반응성이라는 점에서, 각 편광 조사 모두 조사하는 빛은 자외선인 것이 바람직하다.
본 광학 필름(2)의 막 두께는 예컨대 10 nm∼10000 nm이며, 바람직하게는 10 nm∼1000 nm이다. 상기 범위로 하면, 본 광학 필름(2) 상에 광학 이방성층을 형성할 때 액정 화합물을 원하는 각도로 배향시킬 수 있다.
2-2. 위상차 필름(2)
본 광학 필름(2) 상에 광학 이방성층을 형성하여 위상차성을 발현시킨 것은 위상차 필름(이하, 경우에 따라 「본 위상차 필름(2)」이라고 함)으로 된다. 광학 이방성층 형성용의 조성물을 이하 경우에 따라 「광학 이방성층 형성용 조성물」이라고 한다.
2-2-1. 액정 화합물
광학 이방성층은 예컨대 액정 화합물을 배향시킴으로써 형성할 수 있으며, 광학 이방성층 형성용 조성물은 이러한 액정 화합물, 바람직하게는 중합성 액정 화합물을 포함한다. 광학 이방성층 형성용 조성물로는 액정 화합물 1종을 포함하는 것이라도 좋고, 다른 2종 이상의 액정 화합물을 포함하는 것이라도 좋다.
액정 화합물로서는 예컨대 본 발명의 제1 형태에 있어서 설명한 중합성 액정 화합물을 들 수 있으며, 식(X1)으로 나타내어지는 기를 포함하는 화합물이 바람직하다.
2-2-2. 첨가제
광학 이방성층 형성용 조성물에는 액정 화합물 외에, 광중합 개시제, 중합금지제, 광증감제, 광중합 개시제, 용제, 카이럴제 등의 첨가제를 포함하고 있더라도 좋다. 특히 광학 이방성층 형성시에 광학 이방성층 형성용 조성물 자체의 성막이 용이하게 된다는 점에서는 용제 특히 유기 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 액정 화합물이 중합성 액정 화합물인 경우, 광학 이방성층 형성용 조성물을 성막한 필름을 경화하는 기능을 갖는 중합개시제를 광학 이방성층 형성용 조성물이 포함하고 있으면 바람직하다.
각 첨가제로서는 본 발명의 제1 형태에서 예로 든 첨가제를 들 수 있다.
본 광학 필름(2) 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 도포함으로써, 본 광학 필름(2) 상에 미중합 필름을 얻을 수 있다. 미중합 필름이 네마틱상 등의 액정상을 보이는 경우, 모노도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다.
본 광학 필름(2) 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 도포하는 방법으로서는 본 조성물(2)을 기재 상에 도포하는 방법으로서 예시한 방법을 적용할 수 있다. 그 중에서도 롤투롤 형식으로 연속적으로 본 광학 필름 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 도포할 수 있다는 점에서, CAP코팅법, 잉크젯법, 딥코팅법, 슬릿코팅법, 다이코팅법 및 바코터에 의한 도포가 바람직하다. 예컨대 롤투롤 형식의 경우, 기재 상에 본 조성물(2)을 도포하여, 기재 상에 본 광학 필름(2)을 형성하고, 또한 얻어진 본 광학 필름(2) 상에 광학 이방성층을 형성하는 것을 연속적으로 실시할 수도 있다.
본 광학 필름(2)은 기재와 적층된 상태로 사용하더라도 좋다. 본 광학 필름(2)에 기재를 적층해 둠으로써 필름을 운반하거나 보관하거나 할 때에 본 광학 필름(2)이 파손되는 것이 억제되어 용이하게 취급할 수 있다.
본 광학 필름(2) 상에 형성된 광학 이방성층 형성용 도포막(미중합 필름)에 포함되는 액정 화합물을 중합하여 경화시킴으로써 본 위상차 필름(2)을 얻을 수 있다. 위상차 필름(2)은 액정 화합물의 배향성이 고정화되어 있으며, 열에 의한 복굴절 변화의 영향을 받기 어렵다.
액정 화합물을 중합하여 경화시키는 방법으로서는 본 발명의 제1 형태에서 예로 든 방법을 들 수 있다.
본 위상차 필름(2)은 본 광학 필름(2)의 사용의 적합한 실시형태의 하나이다. 본 위상차 필름(2)은 직선편광을 원편광이나 타원편광으로 변환하거나 반대로 원편광 또는 타원편광을 직선편광으로 변환하거나 직선편광의 편광방향을 변환하거나 하기 위해서 이용된다.
본 위상차 필름(2)의 특성은 본 발명의 제1 형태에 있어서 설명한 본 위상차 필름(1)의 특성과 마찬가지다.
4. 편광판
본 광학 필름(2)은 편광판 제조에 이용할 수 있다.
편광판으로서는 본 발명의 제1 형태에서 설명한 편광판과 같은 것을 들 수 있다.
5. 플랫 패널 표시 장치
본 발명의 플랫 패널 표시 장치는 본 광학 필름(2)을 포함한다.
플랫 패널 표시 장치로서는 본 발명의 제1 형태에 있어서 설명한 플랫 패널 표시 장치와 같은 것을 들 수 있다.
본 발명에 따르면, 밀착성이 우수한 광학 필름 제조용의 조성물 및 조성물을 이용하는 광학 필름의 제조 방법, 광학 필름을 제공할 수 있다.
III. 본 발명의 제3 형태
본 발명의 제3 형태는, 기재, 조성물(A)로 형성된 A층 및 조성물(B)로 형성된 B층을 이 순서로 적층하여 이루어지는 광학 필름(이하, 경우에 따라 「본 광학 필름(3)」이라고 함)이다.
1. 기재
기재로서는 예컨대 본 발명의 제1 형태에서 설명한 기재와 같은 것을 들 수 있다.
기재는 본 발명의 제1 형태에 있어서 설명한 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름(기재)인 것이 보다 바람직하다. 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름(기재)을 이용하면, A층/B층 사이의 밀착성에 더하여 기재/A층 사이의 밀착성도 보다 높아지는 경향이 있기 때문에, 보다 고품질의 본 광학 필름을 얻을 수 있다.
수산기를 갖는 재료로 이루어지는 필름 중, 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료로 이루어지는 필름을 이용하면, 조성물(A)과의 상승 효과에 의해 기재/A층 사이의 밀착성이 보다 양호하게 되므로 바람직하다. 또한, 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료로 이루어지는 필름은 그 전구 필름인 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 필름(트리아세틸셀룰로오스 필름) 자신을 시장에서 용이하게 입수할 수 있다는 점에서도 바람직하다.
2. 조성물(A)
조성물(A)은 본 발명의 제2 형태에 있어서 설명한 조성물(2)이다. 조성물(A)에 있어서의 (D) 광배향성 폴리머는 조성물(2)에 있어서의 폴리머(D)에 상당하고, 조성물(A)에 있어서의 (B-1) 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물은 조성물(2)에 있어서의 화합물(B)에 상당한다.
3. 조성물(B)
조성물(B)은 본 발명의 제1 형태에 있어서 설명한 조성물(1)이다. 조성물(B)에 있어서의 중합성 액정 화합물은 조성물(1)에 있어서의 중합성 액정 화합물에 상당하고, 조성물(B)에 있어서의 (B-1) 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물은 조성물(1)에 있어서의 화합물(B)에 상당하고, 조성물(B)에 있어서의 (C) 광중합 개시제는 조성물(1)에 있어서의 (C) 광중합 개시제에 상당한다.
화합물(B-1) 및 화합물(B-2)로서는 예컨대 화합물(2)이 바람직하며, 시판되는 Laromer(등록상표) LR-9000(BASF사 제조) 등을 들 수 있다. 한편, 조성물(A)에 함유되는 화합물(B-1)과 조성물(B)에 함유되는 화합물(B-2)은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋지만, 양자는 동일하면 바람직하다. 화합물(B-1) 및 화합물(B-2)이 함께 Laromer LR-9000 등의 시판 제품이라면, 조성물(A) 및 조성물(B)을 용이하게 조제할 수 있다는 점에서 바람직하다.
4. 본 광학 필름
본 광학 필름(3)은 빛을 투과할 수 있는 필름이며, 광학적인 기능을 갖는 필름이다. 광학적인 기능이란, 굴절, 복굴절 등을 의미한다.
본 광학 필름(3)은 가시광 영역에 있어서의 투명성이 우수한 것이 바람직하고, 다양한 표시 장치용 부재, 특히 플랫 패널 표시 장치용 부재로서 사용할 수 있다. 본 광학 필름(3)의 두께는 본 광학 필름의 용도에 따라 적절하게 조절할 수 있으며, 0.1∼10 ㎛인 것이 바람직하고, 광탄성을 작게 한다는 점에서 0.2∼5 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.
기재의 두께는 10∼200 ㎛가 바람직하고, 15∼100 ㎛가 더욱 바람직하다. 또한, A층의 두께(막 두께)는 0.01∼10 ㎛(10∼10000 nm)가 바람직하고, 0.01∼1 ㎛(10∼1000 nm)가 더욱 바람직하다. B층의 두께(막 두께)는 예컨대 0.1∼10 ㎛이며, 0.2∼5 ㎛가 바람직하다.
표시 장치에 본 광학 필름(3)을 이용하는 경우, 본 광학 필름은 단층으로 이용할 수도 있고, 본 광학 필름 여러 장을 적층시켜 적층체로 하여도 좋고, 다른 필름과 조합하더라도 좋다. 다른 필름과 조합하여 이용함으로써, 위상차 필름, 시야각 보상 필름, 시야각 확대 필름, 반사 방지 필름, 편광 필름, 원편광 필름, 타원편광 필름 및 휘도 향상 필름 등에 이용할 수 있다. 또한, 본 광학 필름은, 이미 예시한 기재의 구체예 중, 복수 종의 기재가 적층된 것이라도 좋고, 복수 층의 A층을 갖고 있더라도 좋고, 복수 층의 B층을 갖고 있더라도 좋다. 한편, 예컨대 복수 층의 A층을 갖고 있는 경우, 기재 상에 조성물(A)을 이용하여 제1의 A층을 형성한 후, B층을 형성하기 전에 제1의 A층 상에 조성물(A)과는 다른 조성물(A)을 이용하여 제2의 A층을 형성하는 것 등을 의미한다.
특히, 본 광학 필름은 B층 형성시에 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 따라서 광학 특성을 변화시킴으로써 VA(vertical alignment) 모드, IPS(in-plane switching) 모드, OCB(optically compensated bend) 모드, TN(twisted nematic) 모드, STN(super twisted nematic) 모드 등, 다양한 가지 액정 표시 장치용 위상차 필름으로서 조정할 수 있다.
4-1. 위상차 필름
위상차 필름은 본 광학 필름(3)의 사용의 적합한 실시형태의 하나이다.
위상차 필름으로서는 본 발명의 제1 형태에서 예로 든 위상차 필름을 들 수 있다.
4-2. 본 광학 필름의 제조 방법
본 광학 필름의 제조 방법은 예컨대 이하의 <1>∼<4>의 공정을 포함한다. 한편, 이 제조 방법은 조성물(A) 및 조성물(B)이 함께 용제를 함유하는 것을 이용하는 방법이며, 기재, A층 및 B층을 각각 1종 갖는 본 광학 필름의 제조 방법이다.
<1> 조성물(A)을 기재 상에 도포함으로써 기재 상에 제1 도포막을 형성하는 공정(제1 도포막 형성 공정);
<2> <1>에 의해 제1 도포막 중에 포함되는 (B-1)을 가교시킴으로써 제1 도포막을 A층으로 전환하는 공정(A층 형성 공정);
<3> <2>에 의해 형성된 A층 상에 조성물(B)을 도포함으로써, A층 상에 제2 도포막을 형성하는 공정(제2 도포막 형성 공정);
<4> <3>에 의해 형성된 제2 도포막 중에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하는 공정(B층 형성 공정)
제1 도포막 형성 공정은 기재를 준비하여 기재 상에 조성물(A)을 도포함으로써 기재 상에 제1 도포막을 형성하는 공정이다.
조성물(A)의 도포 방법은 본 발명의 제2 형태에서 예로 든 방법을 들 수 있다.
A층 형성 공정에서는, 제1 도포막 형성 공정에 의해, 기재 상에 형성된 제1 도포막, 바람직하게는 건조시킨 제1 도포막에 포함되는 광배향성 폴리머를 광배향(가교)시킴으로써 배향 규제력을 부여하여, 제1 도포막을 A층으로 전환한다. A층은 배향 규제력이 부여되어 있으므로 배향막(배향층)으로서 기능한다.
건조 방법으로서는 본 발명의 제2 형태에서 예로 든 방법을 들 수 있다.
광 배향에 의해 배향 규제력을 부여하는 방법으로서는 본 발명의 제2 형태에서 예로 든 방법을 들 수 있다.
제2 도포막 형성 공정은 A층 형성 공정에서 형성된 A층 상에 조성물(B)을 도포함으로써 제2 도포막(미중합 필름)을 형성하는 공정이다. 제2 도포막에 포함되는 중합성 액정 화합물이 네마틱상 등의 액정상을 보이는 경우, 모노도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다.
제2 도포막 형성 공정에 있어서의 A층 상에 조성물(B)을 도포하는 방법은 본 발명의 제1 형태에 있어서 예로 든 방법을 들 수 있다.
B층 형성 공정에서는, A층 상에 형성된 제2 도포막에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하여 경화시킴으로써 본 광학 필름(3)을 얻을 수 있다. B층은 중합성 액정 화합물의 배향성이 고정화되어 있어, 열에 의한 복굴절 변화의 영향을 받기 어렵다. 또한, A층 또는 제1 도포막에 포함되어 있는 화합물(B-1)과 B층 또는 제2 도포막에 포함되어 있는 화합물(B-2)의 효과에 의해 A층/B층 사이의 밀착성이 매우 우수한 것으로 된다.
중합성 액정 화합물을 중합시키는 방법으로서는 광중합법이 바람직하다. 광중합법에 따르면, 저온에서 중합을 실시할 수 있기 때문에, 이용하는 기재의 내열성의 선택폭이 넓어진다. 광중합 반응은 제2 도포막에 가시광, 자외광 또는 레이저광을 조사함으로써 행해진다. 취급의 점에서 자외광이 특히 바람직하다.
A층 상에 조성물(B)을 도포하여 형성된 제2 도포막에 대하여, 그대로 광을 조사하여 B층을 형성할 수도 있지만, 제2 도포막을 건조하여 제2 도포막으로부터 용제 등의 저휘발 성분을 제거해 두는 것이 바람직하다.
한편, 저휘발 성분의 제거는 중합 반응과 병행하여 행하더라도 좋지만, 중합을 하기 전에 대부분의 용제를 제거해 두는 것이 바람직하다. 그 제거 방법으로서는 제1 도포막의 건조 방법으로서 예시한 방법이 채용된다. 그 중에서도 자연 건조 또는 가열 건조가 바람직하고, 자연 건조 또는 가열 건조를 행할 때의 온도는 0℃∼250℃가 바람직하고, 50℃∼220℃가 보다 바람직하고, 80℃∼170℃가 더욱 바람직하다. 가열 시간은 10초간∼60분간이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30초간∼30분간이다. 가열 온도 및 가열 시간이 상기 범위 내라면, 기재 및/또는 A층이 내열성이 반드시 충분하지는 않은 것을 이용할 수 있다.
5. 본 광학 필름의 편광판으로서의 사용
본 광학 필름은 위상차 필름으로서 편광판 제조에 이용할 수 있다.
편광판으로서는 본 발명의 제1 형태에서 설명한 편광판과 같은 것을 들 수 있다.
6. 플랫 패널 표시 장치
본 발명의 플랫 패널 표시 장치는 본 광학 필름(3)을 포함한다.
플랫 패널 표시 장치로서는 본 발명의 제1 형태에서 설명한 플랫 패널 표시 장치와 같은 것을 들 수 있다.
본 발명에 따르면, 배향층과 광학 이방성층 사이의 밀착성이 우수한 광학 필름을 제공할 수 있다.
실시예
실시예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 예에서의 「%」 및 「부」는 특별히 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부이다.
<본 발명의 제1 형태>
1. 중합성 액정 화합물의 합성예
화합물(A11-1)은 하기의 반응식에 따라서 합성했다.
Figure 112013004687520-pat00158
1-1. 4,6-디메틸벤조푸란-2-카르복실산의 합성
4,6-디메틸살리실알데히드 146.6 g, 탄산칼륨 330.7 g을 N,N'-디메틸아세트아미드 700 mL 속에 분산시켰다. 얻어진 분산액을 80℃로 가온한 후, 브로모아세트산 tert-부틸 190.5 g을 30분 걸쳐 적하했다. 적하 후의 혼합액을 130℃에서 2시간 반응시켰다. 반응액을 실온까지 냉각한 후, 메틸이소부틸케톤 600 mL를 가하고, 순수 1200 mL를 이용하여 수세했다. 또한 유기층을 2회 1000 mL의 순수로 수세하고 유기층을 회수했다. 무수 황산나트륨으로 탈수한 후, 증발기로 용매를 유거했다. 잔사를 아세트산 240 g에 용해시키고, 브롬화수소산 수용액 72 g을 가하여, 40℃에서 1시간 교반했다. 실온까지 방냉한 후, 1 N(1 mol/L)-염산 150 g을 가하여 석출된 백색 분말을 여과하여 취했다. 얻어진 백색 분말을 1 N-염산으로 더 세정한 후, 진공 건조시킴으로써, 4,6-디메틸벤조푸란-2-카르복실산을 81.7 g 황색 분말로서 얻었다. 수율은 4,6-디메틸살리실알데히드 기준으로 44%였다.
1-2.화합물(11-a)의 합성
4,6-디메틸벤조푸란-2-카르복실산 80 g, 2,5-디메톡시아닐린 96.6 g 및 클로로포름 400 g을 혼합했다. 얻어진 현탁액을 빙욕으로 냉각한 후, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염 88.7 g과 클로로포름 300 g과의 혼합액을 4시간 걸쳐 가하여 실온에서 48시간 반응시켰다. 얻어진 혼합액을 농축하고, 1 N-염산, 물-메탄올의 혼합 용액(물 2 체적부, 메탄올 1 체적부)을 가하여 정석시켰다. 얻어진 침전물을 여과하여 취하여, 물-메탄올의 혼합 용액(물 2 체적부, 메탄올 1 체적부)을 가했다. 석출된 담황색 침전을 여과하여 취하고, 물-메탄올의 혼합 용액(물 2 체적부, 메탄올 1 체적부)으로 세정하고, 진공 건조하여, 담황색 분말로서 화합물(11-a)을 124.2 g 얻었다. 수율은 4,6-디메틸벤조푸란-2-카르복실산 기준으로 91%였다.
1-3. 화합물(11-b)의 합성
화합물(11-a) 123 g, 2,4-비스(4-메톡시페닐)-1,3-디티아-2,4-디포스페탄-2,4-디술피드(로손 시약) 9.2 g 및 톨루엔 1200 g을 혼합했다. 얻어진 혼합액을 110℃까지 승온한 후, 동 온도에서 8시간 반응시켰다. 실온까지 냉각 후, 1 N-수산화나트륨 수용액을 이용하여 세정했다. 유기층을 회수하고, n-헵탄 800 mL를 가했다. 석출된 황색 침전물을 여과하여 취하고, n-헵탄으로 세정, 진공 건조시킴으로써 선황색 분말로서 화합물(11-b)을 109.2 g 얻었다. 수율은 화합물(11-a) 기준으로 85%였다.
1-4. 화합물(11-c)의 합성
화합물(11-b) 60 g, 수산화칼륨 53.8 g 및 물 1000 g을 혼합했다. 얻어진 혼합액을 빙냉 하에서 교반했다. 이어서 페리시안화칼륨 133 g, 메탄올 51 g을 가하여 반응시켰다. 또한, 실온에서 36시간 반응시켜, 석출된 황색 침전물을 여과하여 취했다. 여과하여 취한 침전을 n-헵탄-톨루엔의 혼합 용매(n-헵탄 3 체적부, 톨루엔 1 체적부)로 세정하고, 얻어진 황색 분말을 진공 건조하여, 황색 고체로서 화합물(11-c)을 51.3 g 얻었다. 수율은 화합물(11-b) 기준으로 86%였다.
1-5. 화합물(11-d)의 합성
화합물(11-c) 40 g 및 염화피리디늄 400 g(10배 질량)을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 180℃로 승온하여, 동 온도에서 3시간 반응시켰다. 얻어진 혼합액을 얼음에 가하여, 석출된 침전물을 여과하여 취했다. 물에 의해 현탁 수세를 행한 후, 톨루엔으로 세정, 진공 건조시켜, 화합물(11-d)을 주성분으로 하는 황색 고체 36.6 g을 얻었다. 수율은 화합물(11-c) 기준으로 99%였다.
1-6. 화합물(R-1a)의 합성
화합물(R-1a)은 일본 특허공개 2010-31223호 공보의 단락 0244를 참고로 합성했다.
1-7. 화합물(A11-1)의 합성
화합물(11-d) 35 g, 화합물(R-1a) 98.8 g, 디메틸아미노피리딘 1.37 g 및 톨루엔 700 mL를 혼합했다. 얻어진 혼합액에 N,N'-디시클로헥실카르보디이미드 55.6 g을 빙냉 하에서 가했다. 얻어진 반응 용액을 실온에서 밤새 반응시키고, 실리카겔을 프리코트한 여과재를 이용하여 여과한 후, 감압 농축했다. 잔사에 메탄올을 가하여 결정화시켰다. 결정을 여과하여 취하여, 클로로포름에 재용해시키고 2.3 g의 활성탄을 가하여 실온에서 한 시간 교반했다. 용액을 여과하고 여액을 증발기로 체적이 1/3이 될 때까지 감압 농축한 후, 교반하면서 메탄올을 가하고, 석출된 백색 침전물을 여과하여 취하고, 헵탄으로 세정, 진공 건조하여 화합물(A11-1)을 백색 분말로서 74.5 g 얻었다. 수율은 화합물(11-d) 기준으로 60%였다.
1-8. 화합물(ix-1)의 합성
화합물(ix-1)은 일본 특허공개 2010-31223호 공보에 기재된 방법으로 합성했다.
1-9. 광배향성 폴리머(Z)의 합성
광배향성 폴리머(Z)를 Macromol. Chem. Phys. 197, 1919-1935(1996)에 기재된 방법으로 제조했다.
식(Z-a)으로 나타내어지는 모노머[모노머(Z-a)] 1.5부와 메타크릴산메틸 0.1부를 테트라히드로푸란 16부 속에 용해시켜, 60℃에서 24시간 반응시켰다. 이어서, 반응액을 실온까지 방냉한 후, 톨루엔과 메탄올과의 혼합액 속에 적하함으로써, 광배향성 폴리머(Z)를 얻었다. 광배향성 폴리머(Z)의 수평균 분자량은 33000이었다. 광배향성 폴리머(Z)에 있어서 모노머(Z-a)에 유래하는 구조의 함유율은 75 mol%였다.
Figure 112013004687520-pat00159
Figure 112013004687520-pat00160
얻어진 광배향성 폴리머(Z)의 폴리스티렌 환산 수평균 분자량(Mn)의 측정은 GPC법을 이용하여 이하의 조건에서 행했다.
장치; HLC-8220 GPC(도소(주) 제조)
컬럼; TOSOH TSKgel Multipore HXL-M
컬럼 온도; 40℃
용매; THF(테트라히드로푸란)
유속; 1.0 mL/min
검출기; RI
교정용 표준 물질; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-288, A-5000, A-500
2. 조성물의 조제
표에 나타내는 각 성분을 혼합하고, 얻어진 용액을 80℃에서 1시간 교반한 후, 실온까지 냉각하여 조성물을 조제했다.
Figure 112013004687520-pat00161
광중합 개시제는 Irg369(이르가큐어 369(BASF재팬사 제조)), 레벨링제에는 BYK361N(비크케미재팬 제조)을 이용했다. 중합성 액정 화합물(LC242)은 BASF사 제조이며, 하기 식의 화합물이다.
Figure 112013004687520-pat00162
3. 광학 필름의 제조예
비누화 처리를 실시한 트리아세틸셀룰로오스 필름 상에 광배향성 폴리머(Z)의 5% 톨루엔 용액을 도포하여, 건조한 후, 두께 300 nm의 막을 형성했다. 이어서, 면에 대하여 수직 방향에서, 편광 UV 조사 지그가 달린 스폿큐어(SP-7, 우시오덴키(주) 제조)를 이용하여, 조도 15 mW/㎠로 5분간 직선편광을 조사(편광 UV 조사)했다. 편광 UV 조사를 실시한 면에 표의 조성물을 바코터를 이용하여 도포하고, 130℃로 가열하여, 액정상으로 배향시킨 막을 얻었다. 그 후, 실온까지 냉각한 상태에서 자외선을 유니큐어(VB-15201BY-A, 우시오덴키(주) 제조)를 이용하여 파장 365 nm에 있어서 40 mW/㎠의 조도로 1분간 조사함으로써 광학 필름을 제작했다.
[밀착성 평가]
JIS-K5600에 따라, 코테크(주) 제조 크로스컷트 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 mm 간격, 25 매스용)를 이용하여 박리 내성을 평가하여, 액정층의 잔존수를 카운트했다. 결과를 표에 나타낸다. 본 광학 필름은 밀착성이 우수하다는 것이 확인되었다.
[광학 특성의 측정]
광학 필름의 위상차 값을 측정기(KOBRA-WR, 오우지게이소쿠기키사 제조)에 의해 측정했다. 위상차 값은 파장(λ) 549 nm에 있어서 측정했다. 결과를 표에 나타낸다.
박리시험 후 잔존수 Re(549)
실시예 1 18 142.8
실시예 2 17 141.0
실시예 3 19 144.9
비교예 1 0 143.0
<본 발명의 제2 형태>
1. 합성예
본 발명의 제1 형태에 있어서의 「1-9. 광배향성 폴리머(Z)의 합성」과 같은 식으로 하여 광배향성 폴리머(Z)를 합성했다.
2. 조성물의 조제
표에 나타내는 각 성분을 혼합하여, 얻어진 용액을 80℃에서 1시간 교반한 후, 실온까지 냉각하여 조성물을 조제했다.
Figure 112013004687520-pat00164
화합물(B)은 Laromer(등록상표) LR-9000(BASF재팬사 제조)를 이용했다.
Figure 112013004687520-pat00165
광중합 개시제는 Irg369(이르가큐어 369(BASF재팬사 제조)), 레벨링제에는 BYK361N(비크케미재팬 제조)을 이용했다. LC242는 BASF사 제조이며, 하기 식의 화합물이다.
Figure 112013004687520-pat00166
3. 광학 필름의 제조예
비누화를 마친 트리아세틸셀룰로오스 필름 상에 실시예 3, 4 및 비교예 2에서 나타내어지는 조성물을 도포하여, 건조한 후, 두께 280 nm의 막을 형성했다. 이어서, 면에 대하여 수직 방향에서, 편광 UV 조사 지그가 달린 스폿큐어(SP-7, 우시오덴키(주) 제조)를 이용하여, 조도 15 mW/㎠로 5분간 직선편광을 조사했다. 편광 UV를 실시한 면에 표의 광학 이방성층 형성용 조성물을 바코터를 이용하여 도포하고, 120℃로 가열하여, 액정상으로 배향시킨 막을 얻었다. 그 후, 실온까지 냉각한 상태에서 자외선을 유니큐어(VB-15201BY-A, 우시오덴키(주) 제조)를 이용하여 파장 365 nm에 있어서 40 mW/㎠의 조도로 1분간 조사함으로써 광학 필름을 제작했다.
[밀착성 평가]
JIS-K5600에 따라, 코테크(주) 제조 크로스컷트 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 mm 간격, 25 매스용)를 이용하여 박리 내성을 평가하여, 액정층의 잔존수를 카운트했다. 결과를 표에 나타낸다. 본 광학 필름은 밀착성이 우수하다는 것이 확인되었다.
[광학 특성의 측정]
광학 필름의 위상차 값을 측정기(KOBRA-WR, 오우지게이소쿠기키사 제조)에 의해 측정했다. 위상차 값은 파장(λ) 549 nm에 있어서 측정했다. 결과를 표에 나타낸다.
Figure 112017107014836-pat00181
<본 발명의 제3 형태>
1. 합성예
본 발명의 제1 형태에 있어서의 「1-9. 광배향성 폴리머(Z)의 합성」과 같은 식으로 하여 광배향성 폴리머(Z)를 합성했다.
2. 조성물의 조제
표에 나타내는 각 성분을 혼합하여, 얻어진 용액을 80℃에서 1시간 교반한 후, 실온까지 냉각하여 조성물을 조제했다.
Figure 112013004687520-pat00168
화합물(B-1)은 Laromer(등록상표) LR-9000(BASF재팬사 제조)을 이용했다.
Figure 112013004687520-pat00169
광중합 개시제는 Irg369(이르가큐어 369(BASF재팬사 제조)), 레벨링제에는 BYK361N(비크케미재팬 제조)을 이용했다. LC242는 BASF사 제조이며, 하기 식의 화합물이다.
Figure 112013004687520-pat00170
3. 광학 필름의 제조예
비누화를 마친 트리아세틸셀룰로오스 필름 상에 조성물(A-1)을 도포하고, 건조한 후, 두께 280 nm의 막을 형성했다. 이어서, 면에 대하여 수직 방향에서, 편광 UV 조사 지그가 달린 스폿큐어(SP-7, 우시오덴키(주) 제조)를 이용하여 조도 15 mW/㎠로 5분간 직선편광을 조사했다. 편광 UV를 실시한 면에 조성물(B-1)을 바코터를 이용하여 도포하고, 120℃로 가열하여, 액정상으로 배향시킨 막을 얻었다. 그 후, 실온까지 냉각한 상태에서 자외선을 유니큐어(VB-15201BY-A, 우시오덴키(주) 제조)를 이용하여 파장 365 nm에 있어서 40 mW/㎠의 조도로 1분간 조사함으로써 광학 필름을 제작했다.
[밀착성 평가]
JIS-K5600에 따라, 코테크(주) 제조 크로스컷트 가이드 I 시리즈(CCI-1, 1 mm 간격, 25 매스용)를 이용하여 박리 내성을 평가하여, 액정층의 잔존수를 카운트했다. 결과를 표에 나타낸다. 본 광학 필름은 밀착성이 우수하다는 것이 확인되었다.
[광학 특성의 측정]
광학 필름의 위상차 값을 측정기(KOBRA-WR, 오우지게이소쿠기키사 제조)에 의해 측정했다. 위상차 값은 파장(λ) 549 nm에 있어서 측정했다. 결과를 표에 나타낸다.
Figure 112017107014836-pat00182
본 발명은 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치 등에 이용되는 광학 필름의 제조에 매우 유용하여, 산업상 가치가 높은 것이다.
1, 1', 12: 본 위상차 필름 2: 편광 필름층
3, 3': 접착제층 4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 4, 4': 편광판
5, 5': 접착층 6: 액정 패널
7: 유기 EL 패널 10a, 10b: 액정 표시 장치
11: 유기 EL 표시 장치

Claims (39)

  1. 이하의 (A), (B) 및 (C)를 포함하는 조성물로서,
    (A) 중합성 액정 화합물
    (B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 적어도 2개의 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
    (C) 광중합 개시제,
    (B)가 하기 식(X)으로 나타내어지는 화합물인 조성물.
    Figure 112019025119417-pat00183

    [식(X)에서, n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 6∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이며, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
    R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, (A)가 식(A)으로 나타내어지는 화합물인 조성물.
    Figure 112019025119417-pat00184

    [식(A)에서, X1은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR1-을 나타낸다. R1은 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
    Y1은 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 6∼12의 1가의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 3∼12의 1가의 방향족 복소환식 기를 나타낸다.
    Q3 및 Q4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 1∼20의 1가의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3∼20의 지환식 탄화수소기, 치환기를 갖고 있더라도 좋은 탄소수 6∼20의 1가의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR2R3 또는 -SR2를 나타내거나, Q3 및 Q4가 서로 결합하여, 이들이 각각 결합하는 탄소 원자와 함께 방향환 또는 방향족 복소환을 형성하고 있다. R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
    D1 및 D2는 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-O-, -C(=S)-O-, -CR4R5-, -CR4R5-CR6R7-, -O-CR4R5-, -CR4R5-O-CR6R7-, -CO-O-CR4R5-, -O-CO-CR4R5-, -CR4R5-O-CO-CR6R7-, -CR4R5-CO-O-CR6R7- 또는 -NR4-CR5R6- 또는 -CO-NR4-를 나타낸다.
    R4, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.
    G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5∼8의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 이 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 -NH-로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환되어 있더라도 좋다.
    L1 및 L2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 한쪽이 중합성 기를 갖는 유기기이다.]
  5. 제4항에 있어서, (A)는
    식(A)의 L1이 식(A1)으로 나타내어지는 기이며, 또한 L2가 식(A2)으로 나타내어지는 기인 화합물인 조성물.
    P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
    P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)
    [식(A1) 및 식(A2)에서, B1, B2, E1 및 E2는 각각 독립적으로 -CR4R5-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CS-O-, -O-CS-O-, -CO-NR1-, -O-CH2-, -S-CH2- 또는 단결합을 나타낸다.
    A1 및 A2는 각각 독립적으로 탄소수 5∼8의 2가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 -NH-로 치환되어 있더라도 좋고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환되어 있더라도 좋다.
    k 및 l은 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타낸다. k가 2 이상의 정수인 경우, 복수의 B1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋고, 복수의 A1은 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다. l이 2 이상의 정수인 경우, 복수의 B2는 서로 동일하더라도 다르더라도 좋고, 복수의 A2는 서로 동일하더라도 다르더라도 좋다.
    F1 및 F2는 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.
    P1은 중합성 기를 나타낸다.
    P2는 수소 원자 또는 중합성 기를 나타낸다.
    R1, R4 및 R5는 상기와 같은 의미를 나타낸다.]
  6. 제1항에 기재한 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성되는 광학 필름.
  7. 이하의 (1) 및 (2)를 포함하는 광학 필름의 제조 방법:
    (1) 제1항에 기재한 조성물을 기재 상에 도포하는 공정;
    (2) (1)에 의해 기재 상에 도포된 도포막 속에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 광학 필름을 형성하는 공정.
  8. 제7항에 있어서, 기재가 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 광학 필름의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 수산기를 갖는 재료가 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료인 광학 필름의 제조 방법.
  10. 제7항에 있어서, 기재가 그 표면에 광배향성 폴리머로 형성된 배향막이 마련된 것인 광학 필름의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서, 배향막은 광배향성 폴리머가 광 조사에 의해 가교 구조를 형성하여 마련된 것인 광학 필름의 제조 방법.
  12. 제7항에 기재한 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름.
  13. 제6항에 있어서, 위상차성을 갖는 광학 필름.
  14. 제6항에 기재한 광학 필름을 포함하는 편광판.
  15. 제6항에 기재한 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.
  16. 이하의 (D) 및 (B)를 포함하는 조성물로서,
    (D) 광배향성 폴리머
    (B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 적어도 2개의 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물,
    (B)가 하기 식(X)으로 나타내어지는 화합물인 조성물.
    Figure 112019025119417-pat00185

    [식(X)에서, n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 6∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이며, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
    R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
  17. 제16항에 있어서, (D)가 광 조사에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 광배향성 폴리머인 조성물.
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 제16항에 기재한 조성물에 포함되는 광배향성 폴리머를 가교하여 형성되는 광학 필름.
  21. 이하의 (1) 및 (2)를 포함하는 광학 필름의 제조 방법:
    (1) 제16항 또는 제17항에 기재한 조성물을 기재 상에 도포하는 공정;
    (2) (1)에 의해 기재 상에 도포된 도포막 속에 포함되는 광배향성 폴리머를 가교시킴으로써 광학 필름을 형성하는 공정.
  22. 제21항에 있어서, 기재가 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 광학 필름의 제조 방법.
  23. 제22항에 있어서, 수산기를 갖는 재료가 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료인 광학 필름의 제조 방법.
  24. 제21항에 기재한 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름.
  25. 제20항에 기재한 광학 필름 상에 광학 이방성층을 더 형성하여 이루어지는 위상차판.
  26. 제20항에 기재한 광학 필름을 포함하는 편광판.
  27. 제20항에 기재한 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.
  28. 기재, 조성물(A)로 형성된 A층 및 조성물(B)로 형성된 B층을 이 순서로 적층하여 이루어지는 광학 필름으로서,
    조성물(A)은 이하의 (D) 및 (B-1)을 함유하고, 조성물(B)은 이하의 (A), (B-2) 및 (C)를 함유하고,
    (D) 광배향성 폴리머
    (B-1) 탄소-탄소 불포화 결합과 적어도 2개의 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
    (A) 중합성 액정 화합물
    (B-2) 탄소-탄소 불포화 결합과 적어도 2개의 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
    (C) 광중합 개시제,
    (B-1) 및 (B-2)가 각각 독립적으로 하기 식(X)으로 나타내어지는 화합물인 광학 필름.
    Figure 112019025119417-pat00186

    [식(X)에서, n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 6∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이며, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
    R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
  29. 제28항에 있어서, (D)가 광 조사에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 광배향성 폴리머인 광학 필름.
  30. 삭제
  31. 삭제
  32. 제28항 또는 제29항에 있어서, A층은 조성물(A) 속에 함유되는 (D)가 가교하여 형성된 것인 광학 필름.
  33. 제28항 또는 제29항에 있어서, 기재가 수산기를 갖는 재료로 이루어지는 광학 필름.
  34. 제33항에 있어서, 수산기를 갖는 재료가 트리아세틸셀룰로오스를 비누화하여 얻어지는 재료인 광학 필름.
  35. 제28항 또는 제29항에 있어서, 위상차성을 갖는 광학 필름.
  36. 이하의 <1>∼<4>의 공정을 포함하는 광학 필름의 제조 방법으로서,
    <1> 이하의 (D) 및 (B-1)을 함유하는 조성물(A)을 기재 상에 도포함으로써 기재 상에 제1 도포막을 형성하는 공정;
    (D) 광배향성 폴리머
    (B-1) 탄소-탄소 불포화 결합과 적어도 2개의 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
    <2> <1>에 의해 기재 상에 도포된 제1 도포막 속에 포함되는 (D)를 가교시킴으로써 제1 도포막을 A층으로 전환하는 공정;
    <3> <2>에 의해 형성된 A층 상에 이하의 (A), (B-2) 및 (C)를 함유하는 조성물(B)을 도포함으로써 A층 상에 제2 도포막을 형성하는 공정;
    (A) 중합성 액정 화합물
    (B-2) 탄소-탄소 불포화 결합과 적어도 2개의 활성 수소 반응성 기를 갖는 화합물
    (C) 광중합 개시제
    <4> <3>에 의해 형성된 제2 도포막 속에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하는 공정,
    (B-1) 및 (B-2)가 각각 독립적으로 하기 식(X)으로 나타내어지는 화합물인 제조 방법.
    Figure 112019025119417-pat00187

    [식(X)에서, n은 1∼10의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기 혹은 탄소수 6∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는 한쪽이 -NH-이며, 다른 쪽이 -[N-C(=O)-R3']-으로 나타내어지는 기이다. R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
    R3' 중, 적어도 하나의 R3'은 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
  37. 제36항에 기재한 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 필름.
  38. 제28항 또는 제37항에 기재한 광학 필름을 포함하는 편광판.
  39. 제28항 또는 제37항에 기재한 광학 필름을 구비한 플랫 패널 표시 장치.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI653149B (zh) * 2013-08-09 2019-03-11 住友化學股份有限公司 Optical film
TWI645962B (zh) * 2013-08-09 2019-01-01 住友化學股份有限公司 光學異向性薄片
KR101657677B1 (ko) * 2013-09-30 2016-09-19 주식회사 엘지화학 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방체, 및 디스플레이 장치용 광학 소자
CN106371163B (zh) * 2015-07-24 2020-08-25 住友化学株式会社 液晶固化膜、包含液晶固化膜的光学膜及显示装置
JPWO2017130679A1 (ja) * 2016-01-29 2018-11-22 住友化学株式会社 チオカルボニル化合物の製造方法
JP2018077464A (ja) * 2016-11-01 2018-05-17 住友化学株式会社 化合物、液晶組成物、光学フィルム、偏光板および光学ディスプレイ
CN111164120A (zh) * 2017-08-03 2020-05-15 日产化学株式会社 固化膜形成用组合物、取向材及相位差材
JP6945052B2 (ja) * 2018-02-15 2021-10-06 富士フイルム株式会社 バインダー組成物、バインダー層、光学積層体および画像表示装置
KR20210100639A (ko) * 2018-12-11 2021-08-17 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 편광 필름 및 그 제조 방법
KR20210070042A (ko) * 2019-12-04 2021-06-14 주식회사 동진쎄미켐 중합성 화합물, 중합성 조성물 및 광학 필름
CN115286594B (zh) * 2022-07-24 2023-07-25 浙江工业大学 一种以s8为原料合成醌并噻唑类化合物的方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007086399A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Dainippon Printing Co Ltd 光学素子
JP2011256304A (ja) * 2010-06-10 2011-12-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 光学フィルム

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0756193B1 (de) * 1995-07-28 2016-02-17 Rolic AG Verfahren zur Erzeugung von Kippwinkeln in photoorientierten Polymernetzwerkschichten
JP4227680B2 (ja) * 1998-06-05 2009-02-18 新日本石油株式会社 液晶フィルムおよびその製造方法
JP4400163B2 (ja) * 2003-09-29 2010-01-20 旭硝子株式会社 高分子液晶の製造方法及び光学素子
JP2006220891A (ja) * 2005-02-10 2006-08-24 Fuji Photo Film Co Ltd 配向膜組成物、配向膜、光学フィルム、偏光板および液晶表示装置
TWI406061B (zh) * 2005-11-10 2013-08-21 Dainippon Ink & Chemicals 光配向膜用組成物、光學異向體及其製法
JP2007148098A (ja) 2005-11-29 2007-06-14 Nitto Denko Corp 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、および画像表示装置
TWI482769B (zh) * 2009-03-16 2015-05-01 Sumitomo Chemical Co 化合物、光學膜片及光學膜片之製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007086399A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Dainippon Printing Co Ltd 光学素子
JP2011256304A (ja) * 2010-06-10 2011-12-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 光学フィルム

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