JP2000206331A - 位相差板および楕円偏光板 - Google Patents
位相差板および楕円偏光板Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用する波長領域全体でλ/4またはλ/2
を達成することができる位相差板を提供する。 【解決手段】 少なくとも二つの光学異方性層Aおよび
Bが積層されている位相差板において、波長450nm
および550nmで測定した光学異方性層Aのレターデ
ーション値であるRe450AおよびRe550Aと、
波長450nmおよび550nmで測定した光学異方性
層Bのレターデーション値であるRe450BおよびR
e550Bとを下記式(1)および(2)を満足させ、
さらに光学異方性層Aの面内の屈折率が最大となる方向
と光学異方性層Bの面内の屈折率が最大となる方向とが
実質的に直交させる。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.1
を達成することができる位相差板を提供する。 【解決手段】 少なくとも二つの光学異方性層Aおよび
Bが積層されている位相差板において、波長450nm
および550nmで測定した光学異方性層Aのレターデ
ーション値であるRe450AおよびRe550Aと、
波長450nmおよび550nmで測定した光学異方性
層Bのレターデーション値であるRe450BおよびR
e550Bとを下記式(1)および(2)を満足させ、
さらに光学異方性層Aの面内の屈折率が最大となる方向
と光学異方性層Bの面内の屈折率が最大となる方向とが
実質的に直交させる。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学異方性層を有
する位相差板およびそれを用いた楕円偏光板に関する。
特に本発明は、反射型液晶表示装置において使用される
λ/4板またはλ/2板、光ディスクの書き込み用のピ
ックアップに使用されるλ/4板、あるいは反射防止膜
として利用されるλ/4板として有効な位相差板に関す
る。
する位相差板およびそれを用いた楕円偏光板に関する。
特に本発明は、反射型液晶表示装置において使用される
λ/4板またはλ/2板、光ディスクの書き込み用のピ
ックアップに使用されるλ/4板、あるいは反射防止膜
として利用されるλ/4板として有効な位相差板に関す
る。
【0002】
【従来の技術】λ/4板およびλ/2板は、非常に多く
の用途を有しており、既に実際に使用されている。しか
し、λ/4板あるいはλ/2板と称していても、ある特
定波長でλ/4やλ/2を達成しているだけであって、
使用する波長領域全体でλ/4やλ/2を達成している
ものはなかった。波長分散の異なる位相差フイルムを積
層することにより、狭い範囲でλ/4やλ/2を達成で
きることは知られている。しかし、位相差フイルムの積
層体は、位相差フイルムをカットして得られるチップを
直交するように積層する。そのため、フイルムの積層に
煩雑な処理を必要とし、コストが増大するため実用化さ
れていない。反射型LCD(液晶表示装置)の用途で
は、波長分散の小さいノルボルネンポリマーフイルムか
らなるλ/4板やλ/2板が位相差板として使用されて
いる。しかし、このような位相差板は、特定の波長(多
くは550nm近辺)においてλ/4またはλ/2にな
るように設計されており、その波長を外れるとλ/4ま
たはλ/2の条件が満たされない。そのため、光漏れが
起きて、装置の表示画像の品位に問題が生じる。防眩用
の反射防止膜として利用されるλ/4板についても、反
射型LCDと同様の問題がある。光ディスク(例、C
D、DVD)の書き込み用のピックアップに使用される
λ/4板に関しては、光ディスクの書き込み波長が各社
各様であることが問題である。そこで、各社それぞれの
仕様に合わせて削りだした水晶板を、λ/4板として使
用している。そのように製造する水晶板は、非常に価格
が高い。
の用途を有しており、既に実際に使用されている。しか
し、λ/4板あるいはλ/2板と称していても、ある特
定波長でλ/4やλ/2を達成しているだけであって、
使用する波長領域全体でλ/4やλ/2を達成している
ものはなかった。波長分散の異なる位相差フイルムを積
層することにより、狭い範囲でλ/4やλ/2を達成で
きることは知られている。しかし、位相差フイルムの積
層体は、位相差フイルムをカットして得られるチップを
直交するように積層する。そのため、フイルムの積層に
煩雑な処理を必要とし、コストが増大するため実用化さ
れていない。反射型LCD(液晶表示装置)の用途で
は、波長分散の小さいノルボルネンポリマーフイルムか
らなるλ/4板やλ/2板が位相差板として使用されて
いる。しかし、このような位相差板は、特定の波長(多
くは550nm近辺)においてλ/4またはλ/2にな
るように設計されており、その波長を外れるとλ/4ま
たはλ/2の条件が満たされない。そのため、光漏れが
起きて、装置の表示画像の品位に問題が生じる。防眩用
の反射防止膜として利用されるλ/4板についても、反
射型LCDと同様の問題がある。光ディスク(例、C
D、DVD)の書き込み用のピックアップに使用される
λ/4板に関しては、光ディスクの書き込み波長が各社
各様であることが問題である。そこで、各社それぞれの
仕様に合わせて削りだした水晶板を、λ/4板として使
用している。そのように製造する水晶板は、非常に価格
が高い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】特開平5−27118
号公報には、波長450nmの光に対するレターデーシ
ョン/波長550nmの光に対するレターデーションが
1.00〜1.05で、レターデーションが大きい複屈
折性フイルムと、前記の比が1.05〜1.20で、レ
ターでションが小さい複屈折率フイルムとが、それらの
光軸が交差した状態で積層されてなる位相差板が開示さ
れている。同公報の記載によれば、そのような位相差板
は、可視光域の全体にわたりλ/4板やλ/2板として
ほぼ機能しうる。しかし、本発明者が研究を進めたとこ
ろ、同公報記載の位相差板では、二枚のフイルムのレタ
ーデーションの差が小さいため、可視光域の全体にわた
ってλ/4板やλ/2板として充分に機能しているとは
言えない。本発明の目的は、使用する波長領域全体でλ
/4またはλ/2を達成することができる位相差板を提
供することである。
号公報には、波長450nmの光に対するレターデーシ
ョン/波長550nmの光に対するレターデーションが
1.00〜1.05で、レターデーションが大きい複屈
折性フイルムと、前記の比が1.05〜1.20で、レ
ターでションが小さい複屈折率フイルムとが、それらの
光軸が交差した状態で積層されてなる位相差板が開示さ
れている。同公報の記載によれば、そのような位相差板
は、可視光域の全体にわたりλ/4板やλ/2板として
ほぼ機能しうる。しかし、本発明者が研究を進めたとこ
ろ、同公報記載の位相差板では、二枚のフイルムのレタ
ーデーションの差が小さいため、可視光域の全体にわた
ってλ/4板やλ/2板として充分に機能しているとは
言えない。本発明の目的は、使用する波長領域全体でλ
/4またはλ/2を達成することができる位相差板を提
供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
[1]〜[5]の位相差板および下記[6]の楕円偏光
板により達成された。 [1]少なくとも二つの光学異方性層AおよびBが積層
されている位相差板であって、波長450nmおよび5
50nmで測定した光学異方性層Aのレターデーション
値であるRe450AおよびRe550Aと、波長45
0nmおよび550nmで測定した光学異方性層Bのレ
ターデーション値であるRe450BおよびRe550
Bとが下記式(1)および(2)を満足し、さらに光学
異方性層Aの面内の屈折率が最大となる方向と光学異方
性層Bの面内の屈折率が最大となる方向とが実質的に直
交していることを特徴とする位相差板。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08 [2]光学異方性層Aが液晶性分子からなり、液晶性分
子が実質的に均一に配向している[1]に記載の位相差
板。 [3]光学異方性層Aの液晶性分子が実質的に均一に配
向している状態で固定されている[2]に記載の位相差
板。 [4]重合反応により液晶性分子が固定されている
[3]に記載の位相差板。 [5]光学異方性層の液晶性分子が、ディスコティック
液晶性分子であって、ディスコティック液晶性分子がポ
リマーフイルム面に対して実質的に垂直に配向している
[2]に記載の位相差板。 [6]少なくとも二つの光学異方性層AおよびBと偏光
膜とが積層されている楕円偏光板であって、波長450
nmおよび550nmで測定した光学異方性層Aのレタ
ーデーション値であるRe450AおよびRe550A
と、波長450nmおよび550nmで測定した光学異
方性層Bのレターデーション値であるRe450Bおよ
びRe550Bとが下記式(1)および(2)を満足
し、さらに光学異方性層Aの面内の屈折率が最大となる
方向と光学異方性層Bの面内の屈折率が最大となる方向
とが実質的に直交していることを特徴とする楕円偏光
板。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08
[1]〜[5]の位相差板および下記[6]の楕円偏光
板により達成された。 [1]少なくとも二つの光学異方性層AおよびBが積層
されている位相差板であって、波長450nmおよび5
50nmで測定した光学異方性層Aのレターデーション
値であるRe450AおよびRe550Aと、波長45
0nmおよび550nmで測定した光学異方性層Bのレ
ターデーション値であるRe450BおよびRe550
Bとが下記式(1)および(2)を満足し、さらに光学
異方性層Aの面内の屈折率が最大となる方向と光学異方
性層Bの面内の屈折率が最大となる方向とが実質的に直
交していることを特徴とする位相差板。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08 [2]光学異方性層Aが液晶性分子からなり、液晶性分
子が実質的に均一に配向している[1]に記載の位相差
板。 [3]光学異方性層Aの液晶性分子が実質的に均一に配
向している状態で固定されている[2]に記載の位相差
板。 [4]重合反応により液晶性分子が固定されている
[3]に記載の位相差板。 [5]光学異方性層の液晶性分子が、ディスコティック
液晶性分子であって、ディスコティック液晶性分子がポ
リマーフイルム面に対して実質的に垂直に配向している
[2]に記載の位相差板。 [6]少なくとも二つの光学異方性層AおよびBと偏光
膜とが積層されている楕円偏光板であって、波長450
nmおよび550nmで測定した光学異方性層Aのレタ
ーデーション値であるRe450AおよびRe550A
と、波長450nmおよび550nmで測定した光学異
方性層Bのレターデーション値であるRe450Bおよ
びRe550Bとが下記式(1)および(2)を満足
し、さらに光学異方性層Aの面内の屈折率が最大となる
方向と光学異方性層Bの面内の屈折率が最大となる方向
とが実質的に直交していることを特徴とする楕円偏光
板。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08
【0005】
【発明の効果】本発明者の研究の結果、少なくとも二つ
の光学異方性層AおよびBを積層し、光学異方性層Aお
よびBの光学的性質を調節するとの簡単な手段により、
使用する波長領域全体でλ/4またはλ/2を達成でき
ることが判明した。光学的性質の調節とは、上記式
(1)と(2)を満足すること、および光学異方性層A
およびBの面内の屈折率が最大となる方向の調節であ
る。前述した特開平5−27118号公報記載の位相差
板では、上記式(2)で定義されるRe450A/Re
550AとRe450B/Re550Bとの差の値が小
さく、使用する波長領域全体でλ/4板やλ/2板とし
て充分に機能させることが難しかった。本発明では、こ
の差の値を0.08を超える値とすることにより、使用
する波長領域全体でλ/4またはλ/2を達成する。
の光学異方性層AおよびBを積層し、光学異方性層Aお
よびBの光学的性質を調節するとの簡単な手段により、
使用する波長領域全体でλ/4またはλ/2を達成でき
ることが判明した。光学的性質の調節とは、上記式
(1)と(2)を満足すること、および光学異方性層A
およびBの面内の屈折率が最大となる方向の調節であ
る。前述した特開平5−27118号公報記載の位相差
板では、上記式(2)で定義されるRe450A/Re
550AとRe450B/Re550Bとの差の値が小
さく、使用する波長領域全体でλ/4板やλ/2板とし
て充分に機能させることが難しかった。本発明では、こ
の差の値を0.08を超える値とすることにより、使用
する波長領域全体でλ/4またはλ/2を達成する。
【0006】
【発明の実施の形態】[位相差板の光学的性質]第1
に、波長550nmで測定した光学異方性層Bのレター
デーション値(Re550B)を波長550nmで測定
した光学異方性層Aのレターデーション値(Re550
A)よりも大きな値に調節する。すなわち、Re550
AとRe550Bとが下記式(1)を満足するようにす
る。 (1)Re550A<Re550B λ/4板の用途では、Re550AとRe550Bとの
差は、100乃至180nmであることが好ましく、1
20乃至160nmであることがさらに好ましく、13
0乃至150nmであることが最も好ましい。λ/2板
の用途では、Re550AとRe550Bとの差は、2
00乃至360nmであることが好ましく、240乃至
320nmであることがさらに好ましく、260乃至3
00nmであることが最も好ましい。
に、波長550nmで測定した光学異方性層Bのレター
デーション値(Re550B)を波長550nmで測定
した光学異方性層Aのレターデーション値(Re550
A)よりも大きな値に調節する。すなわち、Re550
AとRe550Bとが下記式(1)を満足するようにす
る。 (1)Re550A<Re550B λ/4板の用途では、Re550AとRe550Bとの
差は、100乃至180nmであることが好ましく、1
20乃至160nmであることがさらに好ましく、13
0乃至150nmであることが最も好ましい。λ/2板
の用途では、Re550AとRe550Bとの差は、2
00乃至360nmであることが好ましく、240乃至
320nmであることがさらに好ましく、260乃至3
00nmであることが最も好ましい。
【0007】第2に、波長450nmで測定した光学異
方性層Bのレターデーション値(Re450B)と波長
550nmで測定した光学異方性層Bのレターデーショ
ン値(Re550B)との比(Re450B/Re55
0B)よりも、波長450nmで測定した光学異方性層
Aのレターデーション値(Re450A)と波長550
nmで測定した光学異方性層Aのレターデーション値
(Re550A)との比(Re450A/Re550
A)の方が大きな値となるように調節して、さらにその
差を0.1を越える値にする。すなわち、Re450
A、Re550A、Re450BおよびRe550Bが
下記式(2)を満足するようにする。 (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08 Re450A、Re550A、Re450BおよびRe
550Bは、下記式(2a)を満足することが好まし
い。また、Re450A、Re550A、Re450B
およびRe550Bは、下記式(2b)および(2B)
を満足することが好ましく、下記式(2c)および(2
C)を満足することがさらに好ましく、下記式(2d)
および(2D)を満足することが最も好ましい。 (2a)Re450A/Re550A−Re450B/
Re550B>0.1 (2b)Re450B/Re550B<1.2 (2B)1.3<Re450A/Re550A (2c)Re450B/Re550B<1.15 (2C)1.45<Re450A/Re550A (2d)Re450B/Re550B<1.1 (2D)1.6<Re450A/Re550A
方性層Bのレターデーション値(Re450B)と波長
550nmで測定した光学異方性層Bのレターデーショ
ン値(Re550B)との比(Re450B/Re55
0B)よりも、波長450nmで測定した光学異方性層
Aのレターデーション値(Re450A)と波長550
nmで測定した光学異方性層Aのレターデーション値
(Re550A)との比(Re450A/Re550
A)の方が大きな値となるように調節して、さらにその
差を0.1を越える値にする。すなわち、Re450
A、Re550A、Re450BおよびRe550Bが
下記式(2)を満足するようにする。 (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08 Re450A、Re550A、Re450BおよびRe
550Bは、下記式(2a)を満足することが好まし
い。また、Re450A、Re550A、Re450B
およびRe550Bは、下記式(2b)および(2B)
を満足することが好ましく、下記式(2c)および(2
C)を満足することがさらに好ましく、下記式(2d)
および(2D)を満足することが最も好ましい。 (2a)Re450A/Re550A−Re450B/
Re550B>0.1 (2b)Re450B/Re550B<1.2 (2B)1.3<Re450A/Re550A (2c)Re450B/Re550B<1.15 (2C)1.45<Re450A/Re550A (2d)Re450B/Re550B<1.1 (2D)1.6<Re450A/Re550A
【0008】第3に、光学異方性層Aの面内の屈折率が
最大となる方向(遅相軸)と光学異方性層Bの面内の屈
折率が最大となる方向(遅相軸)とを実質的に直交させ
る。実質的に直交させるとは、二つの方向間の角度が7
5乃至105゜であることを意味する。二つの方向間の
角度は、80乃至100゜であることが好ましく、85
乃至95゜であることがさらに好ましく、87乃至93
゜であることが最も好ましい。
最大となる方向(遅相軸)と光学異方性層Bの面内の屈
折率が最大となる方向(遅相軸)とを実質的に直交させ
る。実質的に直交させるとは、二つの方向間の角度が7
5乃至105゜であることを意味する。二つの方向間の
角度は、80乃至100゜であることが好ましく、85
乃至95゜であることがさらに好ましく、87乃至93
゜であることが最も好ましい。
【0009】式(1)および(2)におけるレターデー
ション値は、光学異方性層の法線方向から入射した光に
対する面内のレターデーション値を意味する。具体的に
は、下記式(3)により定義される値である。 (3)レターデーション値(Re)=(nx−ny)×
d 式中、nxおよびnyは光学異方性層の面内の主屈折率
であり、そしてdは光学異方性層の厚み(nm)であ
る。
ション値は、光学異方性層の法線方向から入射した光に
対する面内のレターデーション値を意味する。具体的に
は、下記式(3)により定義される値である。 (3)レターデーション値(Re)=(nx−ny)×
d 式中、nxおよびnyは光学異方性層の面内の主屈折率
であり、そしてdは光学異方性層の厚み(nm)であ
る。
【0010】位相差板が以上のような光学的性質を有す
ることで、必要とされる波長領域全体でλ/4またはλ
/2が達成できる。必要とされる波長領域とは、一般に
可視領域、すなわち300乃至900nmの範囲から選
択される。可視領域から任意の100nm以上の波長範
囲で調べてもλ/4またはλ/2が達成できることが望
ましい。また、必要に応じて、200nm以上あるいは
300nm以上の可視領域全体でもλ/4またはλ/2
が達成できる。λ/4またはλ/2が達成できるとは、
特定の領域での位相差が±15%の範囲内であることを
意味する。位相差は、±10%の範囲内であることが好
ましく、±5%の範囲内であることがさらに好ましい。
任意の波長範囲については特に制限はない(例えば、3
00〜400nmあるいは450〜550nm)。
ることで、必要とされる波長領域全体でλ/4またはλ
/2が達成できる。必要とされる波長領域とは、一般に
可視領域、すなわち300乃至900nmの範囲から選
択される。可視領域から任意の100nm以上の波長範
囲で調べてもλ/4またはλ/2が達成できることが望
ましい。また、必要に応じて、200nm以上あるいは
300nm以上の可視領域全体でもλ/4またはλ/2
が達成できる。λ/4またはλ/2が達成できるとは、
特定の領域での位相差が±15%の範囲内であることを
意味する。位相差は、±10%の範囲内であることが好
ましく、±5%の範囲内であることがさらに好ましい。
任意の波長範囲については特に制限はない(例えば、3
00〜400nmあるいは450〜550nm)。
【0011】[位相差板の構成]図1は、本発明の位相
差板の代表的な構成を示す断面模式図である。図1に示
すように、代表的な位相差板は、光学異方性層B
(B)、配向膜(1)および光学異方性層A(A)を、
この順に積層した構成を有する。光学異方性層A(A)
の面内の屈折率が最大となる方向(a)と光学異方性層
B(B)の面内の屈折率が最大となる方向(b)は、直
交している。図1に示す光学異方性層A(A)はディス
コティック液晶性分子(2)を含む。ディスコティック
液晶性分子(2)は垂直に配向している。ディスコティ
ック液晶性分子(2)の円盤面の方向が、光学異方性層
A(A)の面内の屈折率が最大となる方向(a)に相当
する。図1に示す光学異方性層B(B)は、一軸延伸フ
イルムである。使用するポリマーの固有複屈折が正の場
合には、フイルムの延伸方向は、ポリマーフイルムの面
内の屈折率が最大となる方向(b)に相当する。使用す
るポリマーの固有複屈折が負の場合には、フイルムの延
伸方向は、ポリマーフイルムの面内の屈折率が最大とな
る方向(b)に垂直な方向(a)に相当する。
差板の代表的な構成を示す断面模式図である。図1に示
すように、代表的な位相差板は、光学異方性層B
(B)、配向膜(1)および光学異方性層A(A)を、
この順に積層した構成を有する。光学異方性層A(A)
の面内の屈折率が最大となる方向(a)と光学異方性層
B(B)の面内の屈折率が最大となる方向(b)は、直
交している。図1に示す光学異方性層A(A)はディス
コティック液晶性分子(2)を含む。ディスコティック
液晶性分子(2)は垂直に配向している。ディスコティ
ック液晶性分子(2)の円盤面の方向が、光学異方性層
A(A)の面内の屈折率が最大となる方向(a)に相当
する。図1に示す光学異方性層B(B)は、一軸延伸フ
イルムである。使用するポリマーの固有複屈折が正の場
合には、フイルムの延伸方向は、ポリマーフイルムの面
内の屈折率が最大となる方向(b)に相当する。使用す
るポリマーの固有複屈折が負の場合には、フイルムの延
伸方向は、ポリマーフイルムの面内の屈折率が最大とな
る方向(b)に垂直な方向(a)に相当する。
【0012】[ポリマーフイルムからなる光学異方性
層]光学異方性層Bは、ポリマーフイルムからなること
が好ましい。ポリマーフイルムは、フイルムに光学異方
性を付与できるポリマーから形成する。そのようなポリ
マーの例には、ポリオレフィン(例、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ノルボルネン系ポリマー)、ポリビニル
アルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル
酸エステルおよびセルロースエステルが含まれる。ま
た、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合
物を用いてもよい。フイルムの光学異方性は、延伸によ
り得ることが好ましい。延伸は一軸延伸であることが好
ましい。一軸延伸は、2つ以上のロールの周速差を利用
した縦一軸延伸またはポリマーフイルムの両サイドを掴
んで幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。なお、
二枚以上のポリマーフイルムを用いて、二枚以上のフイ
ルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。
使用するポリマーの固有複屈折が正の場合には、ポリマ
ーフイルムの面内の屈折率が最大となる方向は、フイル
ムの延伸方向に相当する。使用するポリマーの固有複屈
折が負の場合には、ポリマーフイルムの面内の屈折率が
最大となる方向は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に
相当する。ポリマーフイルムは、複屈折のムラを少なく
するためにソルベントキャスト法により製造することが
好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、20乃至500
nmであることが好ましく、50乃至200nmである
ことがさらに好ましく、50乃至100nmであること
が最も好ましい。
層]光学異方性層Bは、ポリマーフイルムからなること
が好ましい。ポリマーフイルムは、フイルムに光学異方
性を付与できるポリマーから形成する。そのようなポリ
マーの例には、ポリオレフィン(例、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ノルボルネン系ポリマー)、ポリビニル
アルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル
酸エステルおよびセルロースエステルが含まれる。ま
た、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合
物を用いてもよい。フイルムの光学異方性は、延伸によ
り得ることが好ましい。延伸は一軸延伸であることが好
ましい。一軸延伸は、2つ以上のロールの周速差を利用
した縦一軸延伸またはポリマーフイルムの両サイドを掴
んで幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。なお、
二枚以上のポリマーフイルムを用いて、二枚以上のフイ
ルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。
使用するポリマーの固有複屈折が正の場合には、ポリマ
ーフイルムの面内の屈折率が最大となる方向は、フイル
ムの延伸方向に相当する。使用するポリマーの固有複屈
折が負の場合には、ポリマーフイルムの面内の屈折率が
最大となる方向は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に
相当する。ポリマーフイルムは、複屈折のムラを少なく
するためにソルベントキャスト法により製造することが
好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、20乃至500
nmであることが好ましく、50乃至200nmである
ことがさらに好ましく、50乃至100nmであること
が最も好ましい。
【0013】[液晶性分子からなる光学異方性層]光学
異方性層Aは、液晶性分子からなることが好ましい。液
晶性分子としては、棒状液晶性分子またはディスコティ
ック液晶性分子が好ましく、ディスコティック液晶性分
子が特に好ましい。液晶性分子は、実質的に均一に配向
していることが好ましく、実質的に均一に配向している
状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応
により液晶性分子が固定されていることが最も好まし
い。液晶性分子の配向は、光学異方性層の面内の屈折率
が最大となる方向とポリマーフイルムの面内の屈折率が
最大となる方向とが実質的に直交するように調整する。
ディスコティック液晶を使用する場合には、ポリマーフ
イルムの面内の屈折率が最大となる方向に液晶のダイレ
クタが向くようなホモジニアス配向にする。棒状液晶を
使用する場合には、ポリマーフイルムの面内の屈折率が
最大となる方向と直交する方向にダイレクタが向くよう
なホモジニアス配向にする。棒状液晶性分子としては、
アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シア
ノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘ
キサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニル
シクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、
アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキ
サン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベン
ゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分
子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いる
ことができる。
異方性層Aは、液晶性分子からなることが好ましい。液
晶性分子としては、棒状液晶性分子またはディスコティ
ック液晶性分子が好ましく、ディスコティック液晶性分
子が特に好ましい。液晶性分子は、実質的に均一に配向
していることが好ましく、実質的に均一に配向している
状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応
により液晶性分子が固定されていることが最も好まし
い。液晶性分子の配向は、光学異方性層の面内の屈折率
が最大となる方向とポリマーフイルムの面内の屈折率が
最大となる方向とが実質的に直交するように調整する。
ディスコティック液晶を使用する場合には、ポリマーフ
イルムの面内の屈折率が最大となる方向に液晶のダイレ
クタが向くようなホモジニアス配向にする。棒状液晶を
使用する場合には、ポリマーフイルムの面内の屈折率が
最大となる方向と直交する方向にダイレクタが向くよう
なホモジニアス配向にする。棒状液晶性分子としては、
アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シア
ノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘ
キサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニル
シクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、
アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキ
サン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベン
ゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分
子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いる
ことができる。
【0014】特に好ましいディスコティック液晶性分子
について、さらに説明する。ディスコティック液晶性分
子は、ポリマーフイルム面に対して実質的に垂直(50
乃至90度の範囲の平均傾斜角)に配向させることが好
ましい。ディスコティック液晶性分子は、様々な文献
(C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vo
l. 71, page 111 (1981) ;日本化学会編、季刊化学総
説、No.22、液晶の化学、第5章、第10章第2節
(1994);B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. C
omm., page 1794 (1985);J. Zhang et al., J. Am.Che
m. Soc., vol. 116, page 2655 (1994))に記載されて
いる。ディスコティック液晶性分子の重合については、
特開平8−27284公報に記載がある。ディスコティ
ック液晶性分子を重合により固定するためには、ディス
コティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重
合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに
重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を
保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基
との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有す
るディスコティック液晶性分子は、下記式(I)で表わ
される化合物であることが好ましい。
について、さらに説明する。ディスコティック液晶性分
子は、ポリマーフイルム面に対して実質的に垂直(50
乃至90度の範囲の平均傾斜角)に配向させることが好
ましい。ディスコティック液晶性分子は、様々な文献
(C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vo
l. 71, page 111 (1981) ;日本化学会編、季刊化学総
説、No.22、液晶の化学、第5章、第10章第2節
(1994);B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. C
omm., page 1794 (1985);J. Zhang et al., J. Am.Che
m. Soc., vol. 116, page 2655 (1994))に記載されて
いる。ディスコティック液晶性分子の重合については、
特開平8−27284公報に記載がある。ディスコティ
ック液晶性分子を重合により固定するためには、ディス
コティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重
合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに
重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を
保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基
との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有す
るディスコティック液晶性分子は、下記式(I)で表わ
される化合物であることが好ましい。
【0015】(I)D(−L−P)n 式中、Dは円盤状コアであり;Lは二価の連結基であ
り;Pは重合性基であり;そして、nは4乃至12の整
数である。式(I)の円盤状コア(D)の例を以下に示
す。以下の各例において、LP(またはPL)は、二価
の連結基(L)と重合性基(P)との組み合わせを意味
する。
り;Pは重合性基であり;そして、nは4乃至12の整
数である。式(I)の円盤状コア(D)の例を以下に示
す。以下の各例において、LP(またはPL)は、二価
の連結基(L)と重合性基(P)との組み合わせを意味
する。
【0016】
【化1】
【0017】
【化2】
【0018】
【化3】
【0019】
【化4】
【0020】
【化5】
【0021】
【化6】
【0022】
【化7】
【0023】
【化8】
【0024】
【化9】
【0025】式(I)において、二価の連結基(L)
は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
CO−、−NH−、−O−、−S−およびそれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であること
が好ましい。二価の連結基(L)は、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アリーレン基、−CO−、−NH−、−
O−および−S−からなる群より選ばれる二価の基を少
なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好まし
い。二価の連結基(L)は、アルキレン基、アルケニレ
ン基、アリーレン基、−CO−および−O−からなる群
より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基
であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数
は、1乃至12であることが好ましい。アルケニレン基
の炭素原子数は、2乃至12であることが好ましい。ア
リーレン基の炭素原子数は、6乃至10であることが好
ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレ
ン基は、置換基(例、アルキル基、ハロゲン原子、シア
ノ、アルコキシ基、アシルオキシ基)を有していてもよ
い。
は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
CO−、−NH−、−O−、−S−およびそれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であること
が好ましい。二価の連結基(L)は、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アリーレン基、−CO−、−NH−、−
O−および−S−からなる群より選ばれる二価の基を少
なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好まし
い。二価の連結基(L)は、アルキレン基、アルケニレ
ン基、アリーレン基、−CO−および−O−からなる群
より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基
であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数
は、1乃至12であることが好ましい。アルケニレン基
の炭素原子数は、2乃至12であることが好ましい。ア
リーレン基の炭素原子数は、6乃至10であることが好
ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレ
ン基は、置換基(例、アルキル基、ハロゲン原子、シア
ノ、アルコキシ基、アシルオキシ基)を有していてもよ
い。
【0026】二価の連結基(L)の例を以下に示す。左
側が円盤状コア(D)に結合し、右側が重合性基(P)
に結合する。ALはアルキレン基またはアルケニレン基
を意味し、ARはアリーレン基を意味する。 L1:−AL−CO−O−AL− L2:−AL−CO−O−AL−O− L3:−AL−CO−O−AL−O−AL− L4:−AL−CO−O−AL−O−CO− L5:−CO−AR−O−AL− L6:−CO−AR−O−AL−O− L7:−CO−AR−O−AL−O−CO− L8:−CO−NH−AL− L9:−NH−AL−O− L10:−NH−AL−O−CO−
側が円盤状コア(D)に結合し、右側が重合性基(P)
に結合する。ALはアルキレン基またはアルケニレン基
を意味し、ARはアリーレン基を意味する。 L1:−AL−CO−O−AL− L2:−AL−CO−O−AL−O− L3:−AL−CO−O−AL−O−AL− L4:−AL−CO−O−AL−O−CO− L5:−CO−AR−O−AL− L6:−CO−AR−O−AL−O− L7:−CO−AR−O−AL−O−CO− L8:−CO−NH−AL− L9:−NH−AL−O− L10:−NH−AL−O−CO−
【0027】L11:−O−AL− L12:−O−AL−O− L13:−O−AL−O−CO− L14:−O−AL−O−CO−NH−AL− L15:−O−AL−S−AL− L16:−O−CO−AL−AR−O−AL−O−CO− L17:−O−CO−AR−O−AL−CO− L18:−O−CO−AR−O−AL−O−CO− L19:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−C
O− L20:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−A
L−O−CO− L21:−S−AL− L22:−S−AL−O− L23:−S−AL−O−CO− L24:−S−AL−S−AL− L25:−S−AR−AL−
O− L20:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−A
L−O−CO− L21:−S−AL− L22:−S−AL−O− L23:−S−AL−O−CO− L24:−S−AL−S−AL− L25:−S−AR−AL−
【0028】式(I)の重合性基(P)は、重合反応の
種類に応じて決定する。重合性基(P)の例を以下に示
す。
種類に応じて決定する。重合性基(P)の例を以下に示
す。
【0029】
【化10】
【0030】
【化11】
【0031】
【化12】
【0032】
【化13】
【0033】
【化14】
【0034】
【化15】
【0035】重合性基(P)は、不飽和重合性基(P
1、P2、P3、P7、P8、P15、P16、P1
7)またはエポキシ基(P6、P18)であることが好
ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、
エチレン性不飽和重合性基(P1、P7、P8、P1
5、P16、P17)であることが最も好ましい。式
(I)において、nは4乃至12の整数である。具体的
な数字は、ディスコティックコア(D)の種類に応じて
決定される。なお、複数のLとPの組み合わせは、異な
っていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類
以上のディスコティック液晶性分子(例えば、二価の連
結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子)
を併用してもよい。
1、P2、P3、P7、P8、P15、P16、P1
7)またはエポキシ基(P6、P18)であることが好
ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、
エチレン性不飽和重合性基(P1、P7、P8、P1
5、P16、P17)であることが最も好ましい。式
(I)において、nは4乃至12の整数である。具体的
な数字は、ディスコティックコア(D)の種類に応じて
決定される。なお、複数のLとPの組み合わせは、異な
っていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類
以上のディスコティック液晶性分子(例えば、二価の連
結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子)
を併用してもよい。
【0036】光学異方性層は、ディスコティック液晶性
分子あるいは下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む塗
布液を、垂直配向膜の上に塗布することで形成する。塗
布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好まし
く用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N
−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチ
ルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、
炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライ
ド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル
(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセト
ン、メチルエチルケトン)、エーテル(例、テトラヒド
ロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。ア
ルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の
有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方
法(例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビア
コーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダ
イコーティング法)により実施できる。
分子あるいは下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む塗
布液を、垂直配向膜の上に塗布することで形成する。塗
布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好まし
く用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N
−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチ
ルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、
炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライ
ド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル
(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセト
ン、メチルエチルケトン)、エーテル(例、テトラヒド
ロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。ア
ルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の
有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方
法(例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビア
コーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダ
イコーティング法)により実施できる。
【0037】垂直配向させたディスコティック液晶性分
子は、配向状態を維持して固定する。固定化は、ディス
コティック液晶性分子に導入した重合性基(P)の重合
反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱
重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる
光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重
合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許2
367661号、同2367670号の各明細書記
載)、アシロインエーテル(米国特許2448828号
明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合
物(米国特許2722512号明細書記載)、多核キノ
ン化合物(米国特許3046127号、同295175
8号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイ
マーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国
特許3549367号明細書記載)、アクリジンおよび
フェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、
米国特許4239850号明細書記載)およびオキサジ
アゾール化合物(米国特許4212970号明細書記
載)が含まれる。
子は、配向状態を維持して固定する。固定化は、ディス
コティック液晶性分子に導入した重合性基(P)の重合
反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱
重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる
光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重
合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許2
367661号、同2367670号の各明細書記
載)、アシロインエーテル(米国特許2448828号
明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合
物(米国特許2722512号明細書記載)、多核キノ
ン化合物(米国特許3046127号、同295175
8号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイ
マーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国
特許3549367号明細書記載)、アクリジンおよび
フェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、
米国特許4239850号明細書記載)およびオキサジ
アゾール化合物(米国特許4212970号明細書記
載)が含まれる。
【0038】光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分
の0.01乃至20重量%であることが好ましく、0.
5乃至5重量%であることがさらに好ましい。ディスコ
ティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を
用いることが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/
cm2 乃至50J/cm2 であることが好ましく、10
0乃至800mJ/cm2 であることがさらに好まし
い。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を
実施してもよい。光学異方性層の厚さは、0.1乃至1
0μmであることが好ましく、0.5乃至5μmである
ことがさらに好ましく、1乃至5μmであることが最も
好ましい。
の0.01乃至20重量%であることが好ましく、0.
5乃至5重量%であることがさらに好ましい。ディスコ
ティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を
用いることが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/
cm2 乃至50J/cm2 であることが好ましく、10
0乃至800mJ/cm2 であることがさらに好まし
い。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を
実施してもよい。光学異方性層の厚さは、0.1乃至1
0μmであることが好ましく、0.5乃至5μmである
ことがさらに好ましく、1乃至5μmであることが最も
好ましい。
【0039】[垂直配向膜]ディスコティック液晶性分
子を垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネルギ
ーを低下させることが重要である。具体的には、ポリマ
ーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下させ、
これによりディスコティック液晶性分子を立てた状態に
する。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基とし
ては、フッ素原子および炭素原子数が10以上の炭化水
素基が有効である。フッ素原子または炭化水素基を配向
膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側
鎖にフッ素原子または炭化水素基を導入することが好ま
しい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を0.05乃至
80重量%の割合で含むことが好ましく、0.1乃至7
0重量%の割合で含むことがより好ましく、0.5乃至
65重量%の割合で含むことがさらに好ましく、1乃至
60重量%の割合で含むことが最も好ましい。炭化水素
基は、脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせで
ある。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状のいず
れでもよい。脂肪族基は、アルキル基(シクロアルキル
基であってもよい)またはアルケニル基(シクロアルケ
ニル基であってもよい)であることが好ましい。炭化水
素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さない置
換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数は、
10乃至100であることが好ましく、10乃至60で
あることがさらに好ましく、10乃至40であることが
最も好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造また
はポリビニルアルコール構造を有することが好ましい。
子を垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネルギ
ーを低下させることが重要である。具体的には、ポリマ
ーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下させ、
これによりディスコティック液晶性分子を立てた状態に
する。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基とし
ては、フッ素原子および炭素原子数が10以上の炭化水
素基が有効である。フッ素原子または炭化水素基を配向
膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側
鎖にフッ素原子または炭化水素基を導入することが好ま
しい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を0.05乃至
80重量%の割合で含むことが好ましく、0.1乃至7
0重量%の割合で含むことがより好ましく、0.5乃至
65重量%の割合で含むことがさらに好ましく、1乃至
60重量%の割合で含むことが最も好ましい。炭化水素
基は、脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせで
ある。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状のいず
れでもよい。脂肪族基は、アルキル基(シクロアルキル
基であってもよい)またはアルケニル基(シクロアルケ
ニル基であってもよい)であることが好ましい。炭化水
素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さない置
換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数は、
10乃至100であることが好ましく、10乃至60で
あることがさらに好ましく、10乃至40であることが
最も好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造また
はポリビニルアルコール構造を有することが好ましい。
【0040】ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸と
ジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテ
トラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用い
て、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよ
い。フッ素原子または炭化水素基は、テトラカルボン酸
起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の
繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に
存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入す
る場合、ポリイミドの主鎖または側鎖にステロイド構造
を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロ
イド構造は、炭素原子数が10以上の炭化水素基に相当
し、ディスコティック液晶性分子を垂直に配向させる機
能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シ
クロペンタノヒドロフェナントレン環構造またはその環
の結合の一部が脂肪族環の範囲(芳香族環を形成しない
範囲)で二重結合となっている環構造を意味する。
ジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテ
トラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用い
て、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよ
い。フッ素原子または炭化水素基は、テトラカルボン酸
起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の
繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に
存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入す
る場合、ポリイミドの主鎖または側鎖にステロイド構造
を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロ
イド構造は、炭素原子数が10以上の炭化水素基に相当
し、ディスコティック液晶性分子を垂直に配向させる機
能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シ
クロペンタノヒドロフェナントレン環構造またはその環
の結合の一部が脂肪族環の範囲(芳香族環を形成しない
範囲)で二重結合となっている環構造を意味する。
【0041】フッ素変性ポリビニルアルコールも垂直配
向膜に好ましく用いることができる。フッ素変性ポリビ
ニルアルコールは、フッ素原子を含む繰り返し単位を5
乃至80モル%の範囲で含むことが好ましく、7乃至7
0モル%の範囲で含むことがさらに好ましい。好ましい
フッ素変性ポリビニルアルコールを、下記式(PV)で
表す。 (PV)−(VAl)x−(FRU)y−(VAc)z
− 式中、VAlは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り;FRUは、フッ素原子を含む繰り返し単位であり;
VAcは酢酸ビニル繰り返し単位であり;xは、20乃
至95モル%(好ましくは24乃至90モル%)であ
り;yは、5乃至80モル%(好ましくは7乃至70モ
ル%)であり;そして、zは0乃至30モル%(好まし
くは2乃至20モル%)である。好ましいフッ素原子を
含む繰り返し単位(FRU)を、下記式(FRU−I)
および(FRU−II)で表す。
向膜に好ましく用いることができる。フッ素変性ポリビ
ニルアルコールは、フッ素原子を含む繰り返し単位を5
乃至80モル%の範囲で含むことが好ましく、7乃至7
0モル%の範囲で含むことがさらに好ましい。好ましい
フッ素変性ポリビニルアルコールを、下記式(PV)で
表す。 (PV)−(VAl)x−(FRU)y−(VAc)z
− 式中、VAlは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り;FRUは、フッ素原子を含む繰り返し単位であり;
VAcは酢酸ビニル繰り返し単位であり;xは、20乃
至95モル%(好ましくは24乃至90モル%)であ
り;yは、5乃至80モル%(好ましくは7乃至70モ
ル%)であり;そして、zは0乃至30モル%(好まし
くは2乃至20モル%)である。好ましいフッ素原子を
含む繰り返し単位(FRU)を、下記式(FRU−I)
および(FRU−II)で表す。
【0042】
【化16】
【0043】式中、L1 は、−O−、−CO−、−SO
2 −、−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;L
2 は、単結合あるいは−O−、−CO−、−SO2 −、
−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;そしてR
f1 およびRf2 は、それぞれフッ素置換炭化水素基で
ある。アルキレン基およびアリーレン基はフッ素原子に
より置換されていてもよい。上記の組み合わせにより形
成される二価の連結基の例を、以下に示す。
2 −、−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;L
2 は、単結合あるいは−O−、−CO−、−SO2 −、
−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;そしてR
f1 およびRf2 は、それぞれフッ素置換炭化水素基で
ある。アルキレン基およびアリーレン基はフッ素原子に
より置換されていてもよい。上記の組み合わせにより形
成される二価の連結基の例を、以下に示す。
【0044】L1:−O−CO− L2:−O−CO−アルキレン基−O− L3:−O−CO−アルキレン基−CO−NH− L4:−O−CO−アルキレン基−NH−SO2 −アリ
ーレン基−O− L5:−アリーレン基−NH−CO− L6:−アリーレン基−CO−O− L7:−アリーレン基−CO−NH− L8:−アリーレン基−O− L9:−O−CO−NH−アリーレン基−NH−CO−
ーレン基−O− L5:−アリーレン基−NH−CO− L6:−アリーレン基−CO−O− L7:−アリーレン基−CO−NH− L8:−アリーレン基−O− L9:−O−CO−NH−アリーレン基−NH−CO−
【0045】フッ素置換炭化水素基の炭化水素基は、脂
肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。脂
肪族基は、環状、分岐状あるいは直線状のいずれでもよ
い。脂肪族基は、アルキル基(シクロアルキル基であっ
てもよい)またはアルケニル基(シクロアルケニル基で
あってもよい)であることが好ましい。脂肪族基は、フ
ッ素原子以外にも、他のハロゲン原子のような強い親水
性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の
炭素原子数は、1乃至100であることが好ましく、2
乃至60であることがさらに好ましく、3乃至40であ
ることが最も好ましい。炭化水素基の水素原子がフッ素
原子で置換されている割合は、50乃至100モル%で
あることが好ましく、70乃至100モル%であること
がより好ましく、80乃至100モル%であることがさ
らに好ましく、90乃至100モル%であることが最も
好ましい。
肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。脂
肪族基は、環状、分岐状あるいは直線状のいずれでもよ
い。脂肪族基は、アルキル基(シクロアルキル基であっ
てもよい)またはアルケニル基(シクロアルケニル基で
あってもよい)であることが好ましい。脂肪族基は、フ
ッ素原子以外にも、他のハロゲン原子のような強い親水
性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の
炭素原子数は、1乃至100であることが好ましく、2
乃至60であることがさらに好ましく、3乃至40であ
ることが最も好ましい。炭化水素基の水素原子がフッ素
原子で置換されている割合は、50乃至100モル%で
あることが好ましく、70乃至100モル%であること
がより好ましく、80乃至100モル%であることがさ
らに好ましく、90乃至100モル%であることが最も
好ましい。
【0046】炭素原子数が10以上の炭化水素基を有す
る変性ポリビニルアルコールも垂直配向膜に好ましく用
いることができる。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基
またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、
分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、
アルキル基(シクロアルキル基であってもよい)または
アルケニル基(シクロアルケニル基であってもよい)で
あることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のよ
うな強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。
炭化水素基の炭素原子数は、10乃至100であること
が好ましく、10乃至60であることがさらに好まし
く、10乃至40であることが最も好ましい。炭化水素
基を有する変性ポリビニルアルコールは、炭素原子数が
10以上の炭化水素基を有する繰り返し単位を2乃至8
0モル%の範囲で含むことが好ましく、3乃至70モル
%含むことがさらに好ましい。好ましい炭素原子数が1
0以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコール
を、下記式(PV)で表す。 (PV)−(VAl)x−(HyC)y−(VAc)z
− 式中、VAlは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り;HyCは、炭素原子数が10以上の炭化水素基を有
する繰り返し単位であり;VAcは酢酸ビニル繰り返し
単位であり;xは、20乃至95モル%(好ましくは2
5乃至90モル%)であり;yは、2乃至80モル%
(好ましくは3乃至70モル%)であり;そして、zは
0乃至30モル%(好ましくは2乃至20モル%)であ
る。好ましい炭素原子数が10以上の炭化水素基を有す
る繰り返し単位(HyC)を、下記式(HyC−I)お
よび(HyC−II)で表す。
る変性ポリビニルアルコールも垂直配向膜に好ましく用
いることができる。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基
またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、
分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、
アルキル基(シクロアルキル基であってもよい)または
アルケニル基(シクロアルケニル基であってもよい)で
あることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のよ
うな強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。
炭化水素基の炭素原子数は、10乃至100であること
が好ましく、10乃至60であることがさらに好まし
く、10乃至40であることが最も好ましい。炭化水素
基を有する変性ポリビニルアルコールは、炭素原子数が
10以上の炭化水素基を有する繰り返し単位を2乃至8
0モル%の範囲で含むことが好ましく、3乃至70モル
%含むことがさらに好ましい。好ましい炭素原子数が1
0以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコール
を、下記式(PV)で表す。 (PV)−(VAl)x−(HyC)y−(VAc)z
− 式中、VAlは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り;HyCは、炭素原子数が10以上の炭化水素基を有
する繰り返し単位であり;VAcは酢酸ビニル繰り返し
単位であり;xは、20乃至95モル%(好ましくは2
5乃至90モル%)であり;yは、2乃至80モル%
(好ましくは3乃至70モル%)であり;そして、zは
0乃至30モル%(好ましくは2乃至20モル%)であ
る。好ましい炭素原子数が10以上の炭化水素基を有す
る繰り返し単位(HyC)を、下記式(HyC−I)お
よび(HyC−II)で表す。
【0047】
【化17】
【0048】式中、L1 は、−O−、−CO−、−SO
2 −、−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;L
2 は、単結合あるいは−O−、−CO−、−SO2 −、
−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;そしてR
1 およびR2 は、それぞれ炭素原子数が10以上の炭化
水素基である。上記の組み合わせにより形成される二価
の連結基の例は、前記式(FRU−I)および(FRU
−II)で示した例と同様である。
2 −、−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;L
2 は、単結合あるいは−O−、−CO−、−SO2 −、
−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;そしてR
1 およびR2 は、それぞれ炭素原子数が10以上の炭化
水素基である。上記の組み合わせにより形成される二価
の連結基の例は、前記式(FRU−I)および(FRU
−II)で示した例と同様である。
【0049】垂直配向膜に用いるポリマーの重合度は、
200乃至5000であることが好ましく、300乃至
3000であることが好ましい。ポリマーの分子量は、
9000乃至200000であることが好ましく、13
000乃至130000であることがさらに好ましい。
二種類以上のポリマーを併用してもよい。垂直配向膜の
形成において、ラビング処理を実施することが好まし
い。ラビング処理は、上記のポリマーを含む膜の表面
を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施す
る。なお、垂直配向膜を用いてディスコティック液晶性
分子を垂直に配向させてから、その配向状態のままディ
スコティック液晶性分子を固定して光学異方性層を形成
し、光学異方性層のみをポリマーフイルム(または透明
支持体)上に転写してもよい。垂直配向状態で固定され
たディスコティック液晶性分子は、垂直配向膜がなくて
も配向状態を維持することができる。そのため、本発明
の位相差板では、垂直配向膜は(位相差板の製造におい
て必須ではあるが)必須の要素ではない。
200乃至5000であることが好ましく、300乃至
3000であることが好ましい。ポリマーの分子量は、
9000乃至200000であることが好ましく、13
000乃至130000であることがさらに好ましい。
二種類以上のポリマーを併用してもよい。垂直配向膜の
形成において、ラビング処理を実施することが好まし
い。ラビング処理は、上記のポリマーを含む膜の表面
を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施す
る。なお、垂直配向膜を用いてディスコティック液晶性
分子を垂直に配向させてから、その配向状態のままディ
スコティック液晶性分子を固定して光学異方性層を形成
し、光学異方性層のみをポリマーフイルム(または透明
支持体)上に転写してもよい。垂直配向状態で固定され
たディスコティック液晶性分子は、垂直配向膜がなくて
も配向状態を維持することができる。そのため、本発明
の位相差板では、垂直配向膜は(位相差板の製造におい
て必須ではあるが)必須の要素ではない。
【0050】[透明支持体]透明支持体を用いてもよ
い。透明支持体としては、波長分散が小さいポリマーフ
イルムを用いることが好ましい。透明支持体は、光学異
方性が小さいことも好ましい。支持体が透明であると
は、光透過率が80%以上であることを意味する。波長
分散が小さいとは、具体的には、Re400/Re70
0の比が1.2未満であることが好ましい。光学異方性
が小さいとは、具体的には、面内レターデーション(R
e)が20nm以下であることが好ましく、10nm以
下であることがさらに好ましい。なお、透明支持体が一
定の光学異方性を有する場合は、透明支持体と前述した
ポリマーフィルムとの積層体が全体として、前述したポ
リマーフィルムの光学的性質を満足する必要がある。ポ
リマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリ
レートおよびポリメタクリレートが含まれる。セルロー
スエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好
ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。ポリ
マーフイルムは、ソルベントキャスト法により形成する
ことが好ましい。透明支持体の厚さは、20乃至500
μmであることが好ましく、50乃至200μmである
ことがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられ
る層(接着層、垂直配向膜あるいは光学異方性層)との
接着を改善するため、透明支持体に表面処理(例、グロ
ー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火
炎処理)を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層
(下塗り層)を設けてもよい。
い。透明支持体としては、波長分散が小さいポリマーフ
イルムを用いることが好ましい。透明支持体は、光学異
方性が小さいことも好ましい。支持体が透明であると
は、光透過率が80%以上であることを意味する。波長
分散が小さいとは、具体的には、Re400/Re70
0の比が1.2未満であることが好ましい。光学異方性
が小さいとは、具体的には、面内レターデーション(R
e)が20nm以下であることが好ましく、10nm以
下であることがさらに好ましい。なお、透明支持体が一
定の光学異方性を有する場合は、透明支持体と前述した
ポリマーフィルムとの積層体が全体として、前述したポ
リマーフィルムの光学的性質を満足する必要がある。ポ
リマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリ
レートおよびポリメタクリレートが含まれる。セルロー
スエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好
ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。ポリ
マーフイルムは、ソルベントキャスト法により形成する
ことが好ましい。透明支持体の厚さは、20乃至500
μmであることが好ましく、50乃至200μmである
ことがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられ
る層(接着層、垂直配向膜あるいは光学異方性層)との
接着を改善するため、透明支持体に表面処理(例、グロ
ー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火
炎処理)を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層
(下塗り層)を設けてもよい。
【0051】[位相差板の用途]本発明の位相差板は、
反射型液晶表示装置において使用されるλ/4板または
λ/2板、光ディスクの書き込み用のピックアップに使
用されるλ/4板、あるいは反射防止膜として利用され
るλ/4板として、特に有利に用いられる。なお、λ/
4板またはλ/2板は、一般に偏光膜と組み合わせて使
用される。よって、位相差板と偏光膜とを組み合わせた
楕円偏光板として構成しておくと、容易に反射型液晶表
示装置のような用途とする装置に組み込むことができ
る。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる
染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光
膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール
系フイルムを用いて製造する。偏光膜の透過軸は、フイ
ルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。偏光膜は、一
般に保護膜を有する。ただし、本発明では、ポリマーフ
イルムからなる光学異方性層または透明支持体を偏光膜
の保護膜として機能させることができる。それらとは別
に偏光膜の保護膜を用いる場合は、保護膜として光学的
等方性が高いセルロースエステルフイルム、特にトリア
セチルセルロースフイルムを用いることが好ましい。
反射型液晶表示装置において使用されるλ/4板または
λ/2板、光ディスクの書き込み用のピックアップに使
用されるλ/4板、あるいは反射防止膜として利用され
るλ/4板として、特に有利に用いられる。なお、λ/
4板またはλ/2板は、一般に偏光膜と組み合わせて使
用される。よって、位相差板と偏光膜とを組み合わせた
楕円偏光板として構成しておくと、容易に反射型液晶表
示装置のような用途とする装置に組み込むことができ
る。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる
染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光
膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール
系フイルムを用いて製造する。偏光膜の透過軸は、フイ
ルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。偏光膜は、一
般に保護膜を有する。ただし、本発明では、ポリマーフ
イルムからなる光学異方性層または透明支持体を偏光膜
の保護膜として機能させることができる。それらとは別
に偏光膜の保護膜を用いる場合は、保護膜として光学的
等方性が高いセルロースエステルフイルム、特にトリア
セチルセルロースフイルムを用いることが好ましい。
【0052】
【実施例】[実施例1]632.8nmでのレターデー
ションがほぼゼロのトリアセチルセルロースフイルムを
透明支持体として用いた。ステロイド変性ポリアミック
酸の希釈液をバーコーターを用いて透明支持体の上に1
μmの厚さに塗布した。塗布層を、60℃の温風で2分
間乾燥し、その表面をラビング処理して、下記の変性ポ
リイミドからなる垂直配向膜を形成した。
ションがほぼゼロのトリアセチルセルロースフイルムを
透明支持体として用いた。ステロイド変性ポリアミック
酸の希釈液をバーコーターを用いて透明支持体の上に1
μmの厚さに塗布した。塗布層を、60℃の温風で2分
間乾燥し、その表面をラビング処理して、下記の変性ポ
リイミドからなる垂直配向膜を形成した。
【0053】
【化18】
【0054】垂直配向膜の上に、下記の組成の塗布液を
塗布し、ディスコティック液晶性分子をホモジニアスに
垂直配向させた。形成された層の厚さは、6.2μmで
あった。次に、500w/cm2 の照度の水銀ランプで
紫外線を1秒間照射してディスコティック液晶性分子を
重合させた。このようにして光学異方性層Aを形成し
た。ディスコティック液晶性分子は、透明支持体の長手
方向に光軸(ダイレクタ)を有するようにホモジニアス
配向をしていた。また、光学異方性層Aは、透明支持体
の幅方向に遅相軸を有していた。
塗布し、ディスコティック液晶性分子をホモジニアスに
垂直配向させた。形成された層の厚さは、6.2μmで
あった。次に、500w/cm2 の照度の水銀ランプで
紫外線を1秒間照射してディスコティック液晶性分子を
重合させた。このようにして光学異方性層Aを形成し
た。ディスコティック液晶性分子は、透明支持体の長手
方向に光軸(ダイレクタ)を有するようにホモジニアス
配向をしていた。また、光学異方性層Aは、透明支持体
の幅方向に遅相軸を有していた。
【0055】 ──────────────────────────────────── 光学異方性層A塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のディスコティック液晶性分子(1) 32.6重量% セルロースアセテートブチレート 0.7重量% 下記の変性トリメチロールプロパントリアクリレート 3.2重量% 下記の増感剤 0.4重量% 下記の光重合開始剤 1.1重量% メチルエチルケトン 62.0重量% ────────────────────────────────────
【0056】
【化19】
【0057】
【化20】
【0058】
【化21】
【0059】波長450nmおよび550nmで光学異
方性層Aのレターデーション値を測定した。結果を以下
に示す。 Re450A:412.5nm Re550A:355nm Re450A/Re550A:1.162 さらに、光学異方性層Aのレターデーション値の波長依
存性を測定した。結果を図2に示す。
方性層Aのレターデーション値を測定した。結果を以下
に示す。 Re450A:412.5nm Re550A:355nm Re450A/Re550A:1.162 さらに、光学異方性層Aのレターデーション値の波長依
存性を測定した。結果を図2に示す。
【0060】次に、ポリカーボネートのペレットをメチ
レンクロライドに溶解し、金属製のバンド上に流延し、
続いて乾燥することにより厚さ100μmのポリカーボ
ネートフイルムを得た。ポリカーボネートフイルムを1
75℃の温度条件で長手方向に11%の一軸延伸を行
い、波長632.8nmでのレターデーションが491
nmの延伸複屈折率フイルムを得た。得られた延伸複屈
折率フイルムを光学異方性層Bとして用いた。光学異方
性層Bは、長手方向に遅相軸を有していた。波長450
nmおよび550nmで光学異方性層Bのレターデーシ
ョン値を測定した。結果を以下に示す。 Re450B:535nm Re550B:500nm Re450B/Re550B:1.07 Re450A/Re550A−Re450B/Re55
0B:0.092 さらに、光学異方性層Bのレターデーション値の波長依
存性を測定した。結果を図2に示す。
レンクロライドに溶解し、金属製のバンド上に流延し、
続いて乾燥することにより厚さ100μmのポリカーボ
ネートフイルムを得た。ポリカーボネートフイルムを1
75℃の温度条件で長手方向に11%の一軸延伸を行
い、波長632.8nmでのレターデーションが491
nmの延伸複屈折率フイルムを得た。得られた延伸複屈
折率フイルムを光学異方性層Bとして用いた。光学異方
性層Bは、長手方向に遅相軸を有していた。波長450
nmおよび550nmで光学異方性層Bのレターデーシ
ョン値を測定した。結果を以下に示す。 Re450B:535nm Re550B:500nm Re450B/Re550B:1.07 Re450A/Re550A−Re450B/Re55
0B:0.092 さらに、光学異方性層Bのレターデーション値の波長依
存性を測定した。結果を図2に示す。
【0061】光学異方性層Aを形成した透明支持体と、
光学異方性層Bとを、それぞれの長手方向が一致するよ
うに積層して、本発明に従う位相差板を得た。得られた
位相差板の波長依存性を測定した。結果を図2に示す。
図2は、実施例1で作製した光学異方性層A、光学異方
性層Bおよび位相差板の波長依存性を示すグラフであ
る。
光学異方性層Bとを、それぞれの長手方向が一致するよ
うに積層して、本発明に従う位相差板を得た。得られた
位相差板の波長依存性を測定した。結果を図2に示す。
図2は、実施例1で作製した光学異方性層A、光学異方
性層Bおよび位相差板の波長依存性を示すグラフであ
る。
【0062】[実施例2]実施例1で使用したステロイ
ド変性ポリアミック酸の希釈溶液を、バーコーターを用
いて実施例1で作製した光学異方性層Bの上に1μmの
厚さに塗布した。塗布層を、60℃の温風で2分間乾燥
し、その表面をラビング処理して、実施例1に示した変
性ポリイミドからなる垂直配向膜を形成した。垂直配向
膜の上に、実施例1で使用した塗布液を塗布し、ディス
コティック液晶性分子をホモジニアスに垂直配向させ
た。形成された層の厚さは、6.2μmであった。次
に、500w/cm2 の照度の水銀ランプで紫外線を1
秒間照射してディスコティック液晶性分子を重合させ
た。このようにして光学異方性層Aを形成した。ディス
コティック液晶性分子は、光学異方性層Bの長手方向
(遅相軸の方向)に光軸(ダイレクタ)を有するように
ホモジニアス配向をしていた。また、光学異方性層A
は、光学異方性層Bの幅方向に遅相軸を有していた。波
長450nmおよび550nmで測定した光学異方性層
AおよびBのレターデーション値は、実施例1と同様で
あった。得られた位相差板の波長依存性を測定した。結
果を図3に示す。図3は、実施例2で作製した位相差板
の波長依存性を示すグラフである。
ド変性ポリアミック酸の希釈溶液を、バーコーターを用
いて実施例1で作製した光学異方性層Bの上に1μmの
厚さに塗布した。塗布層を、60℃の温風で2分間乾燥
し、その表面をラビング処理して、実施例1に示した変
性ポリイミドからなる垂直配向膜を形成した。垂直配向
膜の上に、実施例1で使用した塗布液を塗布し、ディス
コティック液晶性分子をホモジニアスに垂直配向させ
た。形成された層の厚さは、6.2μmであった。次
に、500w/cm2 の照度の水銀ランプで紫外線を1
秒間照射してディスコティック液晶性分子を重合させ
た。このようにして光学異方性層Aを形成した。ディス
コティック液晶性分子は、光学異方性層Bの長手方向
(遅相軸の方向)に光軸(ダイレクタ)を有するように
ホモジニアス配向をしていた。また、光学異方性層A
は、光学異方性層Bの幅方向に遅相軸を有していた。波
長450nmおよび550nmで測定した光学異方性層
AおよびBのレターデーション値は、実施例1と同様で
あった。得られた位相差板の波長依存性を測定した。結
果を図3に示す。図3は、実施例2で作製した位相差板
の波長依存性を示すグラフである。
【0063】[実施例3]ポリカーボネートのペレット
をメチレンクロライドに溶解し、金属製のバンド上に流
延し、続いて乾燥することにより厚さ100μmのポリ
カーボネートフイルムを得た。ポリカーボネートフイル
ムを175℃の温度条件で長手方向に6%の一軸延伸を
行い、波長632.8nmでのレターデーションが27
8nmの延伸複屈折率フイルムを得た。得られた延伸複
屈折率フイルムを光学異方性層Bとして用いた。光学異
方性層Bは、長手方向に遅相軸を有していた。波長45
0nmおよび550nmで光学異方性層Bのレターデー
ション値を測定した。結果を以下に示す。 Re450B:308nm Re550B:288nm Re450B/Re550B:1.07
をメチレンクロライドに溶解し、金属製のバンド上に流
延し、続いて乾燥することにより厚さ100μmのポリ
カーボネートフイルムを得た。ポリカーボネートフイル
ムを175℃の温度条件で長手方向に6%の一軸延伸を
行い、波長632.8nmでのレターデーションが27
8nmの延伸複屈折率フイルムを得た。得られた延伸複
屈折率フイルムを光学異方性層Bとして用いた。光学異
方性層Bは、長手方向に遅相軸を有していた。波長45
0nmおよび550nmで光学異方性層Bのレターデー
ション値を測定した。結果を以下に示す。 Re450B:308nm Re550B:288nm Re450B/Re550B:1.07
【0064】実施例1で使用したステロイド変性ポリア
ミック酸の希釈液を、バーコーターを用いて以上のよう
に作製した光学異方性層Bの上に1μmの厚さに塗布し
た。塗布層を、60℃の温風で2分間乾燥し、その表面
をラビング処理して、実施例1に示した垂直配向膜を形
成した。垂直配向膜の上に、下記の組成の塗布液を塗布
し、ディスコティック液晶性分子をホモジニアスに垂直
配向させた。形成された層の厚さは、1.5μmであっ
た。次に、500w/cm2 の照度の水銀ランプで紫外
線を1秒間照射してディスコティック液晶性分子を重合
させた。このようにして光学異方性層Aを形成した。デ
ィスコティック液晶性分子は、光学異方性層Bの長手方
向(遅相軸の方向)に光軸(ダイレクタ)を有するよう
にホモジニアス配向をしていた。また、光学異方性層A
は、光学異方性層Bの幅方向に遅相軸を有していた。
ミック酸の希釈液を、バーコーターを用いて以上のよう
に作製した光学異方性層Bの上に1μmの厚さに塗布し
た。塗布層を、60℃の温風で2分間乾燥し、その表面
をラビング処理して、実施例1に示した垂直配向膜を形
成した。垂直配向膜の上に、下記の組成の塗布液を塗布
し、ディスコティック液晶性分子をホモジニアスに垂直
配向させた。形成された層の厚さは、1.5μmであっ
た。次に、500w/cm2 の照度の水銀ランプで紫外
線を1秒間照射してディスコティック液晶性分子を重合
させた。このようにして光学異方性層Aを形成した。デ
ィスコティック液晶性分子は、光学異方性層Bの長手方
向(遅相軸の方向)に光軸(ダイレクタ)を有するよう
にホモジニアス配向をしていた。また、光学異方性層A
は、光学異方性層Bの幅方向に遅相軸を有していた。
【0065】 ──────────────────────────────────── 光学異方性層A塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のディスコティック液晶性分子(2) 32.6重量% セルロースアセテートブチレート 0.7重量% 実施例1で用いた変性トリメチロールプロパントリアクリレート 3.2重量% 実施例1で用いた増感剤 0.4重量% 実施例1で用いた光重合開始剤 1.1重量% メチルエチルケトン 62.0重量% ────────────────────────────────────
【0066】
【化22】
【0067】垂直配向膜の上に、実施例1で使用した塗
布液を塗布し、ディスコティック液晶性分子をホモジニ
アスに垂直配向させた。形成された層の厚さは、1.5
μmであった。次に、500w/cm2 の照度の水銀ラ
ンプで紫外線を1秒間照射してディスコティック液晶性
分子を重合させた。このようにして光学異方性層Aを形
成した。波長450nmおよび550nmで光学異方性
層Aのレターデーション値を測定した。結果を以下に示
す。 Re450A:182.6nm Re550A:143nm Re450A/Re550A:1.277 Re450A/Re550A−Re450B/Re55
0B:0.207 得られた位相差板の波長依存性を測定した。結果を図4
に示す。図4は、実施例3で作製した位相差板の波長依
存性を示すグラフである。
布液を塗布し、ディスコティック液晶性分子をホモジニ
アスに垂直配向させた。形成された層の厚さは、1.5
μmであった。次に、500w/cm2 の照度の水銀ラ
ンプで紫外線を1秒間照射してディスコティック液晶性
分子を重合させた。このようにして光学異方性層Aを形
成した。波長450nmおよび550nmで光学異方性
層Aのレターデーション値を測定した。結果を以下に示
す。 Re450A:182.6nm Re550A:143nm Re450A/Re550A:1.277 Re450A/Re550A−Re450B/Re55
0B:0.207 得られた位相差板の波長依存性を測定した。結果を図4
に示す。図4は、実施例3で作製した位相差板の波長依
存性を示すグラフである。
【図1】本発明の位相差板の代表的な構成を示す断面模
式図である。
式図である。
【図2】実施例1で作製した光学異方性層A、光学異方
性層Bおよび位相差板の波長依存性を示すグラフであ
る。
性層Bおよび位相差板の波長依存性を示すグラフであ
る。
【図3】実施例2で作製した位相差板の波長依存性を示
すグラフである。
すグラフである。
【図4】実施例3で作製した位相差板の波長依存性を示
すグラフである。
すグラフである。
A 光学異方性層A a 光学異方性層Aの面内の屈折率が最大となる方向 B 光学異方性層B b 光学異方性層Bの面内の屈折率が最大となる方向 1 配向膜 2 ディスコティック液晶性分子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1335 610 G02F 1/1335 610 Fターム(参考) 2H049 BA02 BA04 BA06 BA07 BA26 BA42 BB03 BB42 BB43 BC03 BC04 BC09 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 FD10 KA02 LA30 4H027 BA08 BA13 BE02 DM02
Claims (6)
- 【請求項1】 少なくとも二つの光学異方性層Aおよび
Bが積層されている位相差板であって、波長450nm
および550nmで測定した光学異方性層Aのレターデ
ーション値であるRe450AおよびRe550Aと、
波長450nmおよび550nmで測定した光学異方性
層Bのレターデーション値であるRe450BおよびR
e550Bとが下記式(1)および(2)を満足し、さ
らに光学異方性層Aの面内の屈折率が最大となる方向と
光学異方性層Bの面内の屈折率が最大となる方向とが実
質的に直交していることを特徴とする位相差板。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08 - 【請求項2】 光学異方性層Aが液晶性分子からなり、
液晶性分子が実質的に均一に配向している請求項1に記
載の位相差板。 - 【請求項3】 光学異方性層Aの液晶性分子が実質的に
均一に配向している状態で固定されている請求項2に記
載の位相差板。 - 【請求項4】 重合反応により液晶性分子が固定されて
いる請求項3に記載の位相差板。 - 【請求項5】 光学異方性層の液晶性分子が、ディスコ
ティック液晶性分子であって、ディスコティック液晶性
分子がポリマーフイルム面に対して実質的に垂直に配向
している請求項2に記載の位相差板。 - 【請求項6】 少なくとも二つの光学異方性層Aおよび
Bと偏光膜とが積層されている楕円偏光板であって、波
長450nmおよび550nmで測定した光学異方性層
Aのレターデーション値であるRe450AおよびRe
550Aと、波長450nmおよび550nmで測定し
た光学異方性層Bのレターデーション値であるRe45
0BおよびRe550Bとが下記式(1)および(2)
を満足し、さらに光学異方性層Aの面内の屈折率が最大
となる方向と光学異方性層Bの面内の屈折率が最大とな
る方向とが実質的に直交していることを特徴とする楕円
偏光板。 (1)Re550A<Re550B (2)Re450A/Re550A−Re450B/R
e550B>0.08
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11007272A JP2000206331A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | 位相差板および楕円偏光板 |
| US09/435,620 US6400433B1 (en) | 1998-11-06 | 1999-11-08 | Circularly polarizing plate comprising linearly polarizing membrane and quarter wave plate |
| US10/119,149 US6593984B2 (en) | 1998-11-06 | 2002-04-10 | Quarter wave plate comprising two optically anisotropic layers |
| US10/405,461 US6853423B2 (en) | 1998-11-06 | 2003-04-03 | Quarter wave plate comprising two optically anisotropic layers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11007272A JP2000206331A (ja) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | 位相差板および楕円偏光板 |
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|---|---|
| JP2000206331A true JP2000206331A (ja) | 2000-07-28 |
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ID=11661404
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|---|---|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000206331A (ja) |
Cited By (12)
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1999
- 1999-01-14 JP JP11007272A patent/JP2000206331A/ja not_active Withdrawn
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