JP2014071190A - 光学フィルム用転写体、光学フィルム及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】転写法により各種の光学フィルムを作製する場合、支持体から転写層を確実に剥離可能に構成することができるようにする。
【解決手段】被転写基材への積層に供する転写層（６）と、前記転写層（６）を支持する支持体基材２１とを備えた光学フィルム転写体２０において、前記転写層（６）が、前記支持体基材２１上に形成された配向膜材料層（１０）による第１の配向膜１１と、前記第１の配向膜１１に係る第１の位相差層８とである。支持体基材２１が、ＰＥＴフィルムであり、配向膜材料層１０が、トリメチロールプロパントリアクリレートと、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーと、ブチルアクリレートとを含む混合組成物により作製された。
【選択図】図３

Description

本発明は、偏光面の制御により外来光の反射を低減する反射防止フィルム等の光学フィルムに関し、転写法により作製する場合に関するものである。

近年、フラットパネルディスプレイ等は、各種の光学フィルムを使用している。またこの種の光学フィルムの中には、例えば偏光面の制御により外来光の反射を低減する反射防止フィルム、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム等において、液晶材料の配向により透過光に位相差を付与する光学フィルムが提案されている。

ここでこの反射防止フィルムは、直線偏光板、円偏光板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く円偏光板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。

この光学フィルムに関して、特許文献１等には、１／２波長板、１／４位相差板を組み合わせて円偏光板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。

これに対してパターン位相差フィルムは、パッシブ方式の３次元画像表示に適用される光学フィルムである。パッシブ方式では、画像表示パネルの垂直方向又は水平方向に連続する画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動する。これによりパッシブ方式では、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なおこれにより画像表示パネルの画面は、帯状の領域により、右目用の映像を表示する領域と左目用の映像を表示する領域とに表示画面が交互に区分される。

パターン位相差フィルムは、この右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換して出射する。これによりパターン位相差フィルムは、対応する偏光フィルタを備えてなるめがねを装着するだけで、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することができるように、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。

これらの反射防止フィルム、パターン位相差フィルム等の光学フィルムは、透明基材に設けられた配向膜の配向規制力により液晶材料が配向し、その後硬化され、この液晶材料層により透過光に所望の位相差を付与する位相差層が作製される。

ところでこの種の光学フィルムにおいては、いわゆる転写法により作製することが考えられる。ここで転写法とは、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である（特許文献２〜５）。

このように転写法によりこの種の光学フィルムを作製する場合、支持体から転写層を確実に剥離可能に構成することが必要である。

特開平１０−６８８１６号公報 特開２００５−３０９２９０号公報 特開２００６−３２３３４９号公報 特開２００５−３０９２９０号公報 特開２００６−３２３３４９号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、各種の光学フィルムを転写法により作製する場合に、支持体から転写層を確実に剥離することができる光学フィルム転写体等を提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、支持体基材上に配向膜、位相差層を順次積層して転写層を作製する構成において、トリメチロールプロパントリアクリレート、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーからなる組成物に、ブチルアクリレートを混合させて支持体からの剥離性を向上させる、との着想に至り、本発明を完成するに至った。

（１） 被転写基材への積層に供する転写層と、前記転写層を支持する支持体基材とを備えた光学フィルム転写体であって、
前記転写層が、
前記支持体基材上に形成された配向膜材料層による第１の配向膜と、
前記第１の配向膜に係る第１の位相差層とであり、
前記支持体基材が、
ＰＥＴフィルムであり、
前記配向膜材料層が、
トリメチロールプロパントリアクリレートと、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーと、ブチルアクリレートとを含む混合組成物により作製された。

（１)によれば、配向膜材料を充分かつ安定に塗工して配向膜材料層を作製できるようにして、充分に剥離力を低減することができ、これにより支持体から転写層を確実に剥離することができる。

（２） （１）において、
前記トリメチロールプロパントリアクリレートと前記ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーとに対する前記ブチルアクリレートの質量比が、７：３以下、５：５以上である。

（２）によれば、黒輝度の劣化を有効に回避して、支持体から転写層を確実に剥離することができる。

（３） （１）又は（２）において、
前記第１の配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。

（３）によれば、黒輝度に係る傾きのばらつき３σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。

（４） （１）、（２）、又は（３）において、
前記第１の配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である。

（４）によれば、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、配向膜と位相差層との密着性を向上することができる。

（５） （１）、（２）、（３）、又は（４）において、
前記転写層は、
前記第１の位相差層に積層された第２の配向膜と、
前記第２の配向膜に係る第２の位相差層とをさらに備える。

（５）によれば、１／２位相差層及び１／４位相差層の積層により円偏光板を構成する場合等に適用することができる。

（６） 透明フィルム基材と、光学機能層と、転写層とが積層された光学フィルムであって、
当該転写層が、（１）、（２）、（３）、（４）、又は（５）に記載の光学フィルム転写体からの転写層である。

（６）によれば、転写法により作製される光学フィルムに関して、支持体から転写層を確実に剥離することができることにより、生産性、歩留まりを向上することができる。

（７） （６）に記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した画像表示装置。

（７）によれば、生産性、歩留まりを向上してなる光学フィルムを使用した画像表示装置を提供することができる。

光学フィルムの生産に使用される転写法に係る光学フィルム用転写体に関して、支持体から転写層を確実に剥離することができる。

本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。 図１の画像表示装置に設けられる光学フィルムの説明に供する図である。 図２の光学フィルムに適用される転写フィルムを示す図である。 図２の光学フィルムの製造工程を示す図である。 図３の転写フィルムの製造工程を示す図である。 図５の続きを示す図である。 ロール版の製造工程を示す図である。 黒輝度の説明に供する図である。 ラビング処理時間によるばらつきを示す図である。 ラビング処理時間による黒輝度を示す図である。 二乗平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。 十点平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。 実施例と比較結果とを示す図表である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１では、画像表示パネル２のパネル面に、光学フィルム３が配置される。画像表示パネル２は、例えば可撓性を有するシート形状による有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。

光学フィルム３は、偏光面の制御により、画像表示パネル２に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムである。このため光学フィルム３は、直線偏光板５、円偏光板６を積層して構成される。光学フィルム３は、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による粘着層４を露出させた後、この粘着層４により、画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられて保持される。また直線偏光板５及び円偏光板６は、粘着層７を介して一体化される。

円偏光板６は、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４位相差板として機能する部位８（１／４波長板用位相差層と呼ぶ）と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２位相差板として機能する部位９（１／２波長板用位相差層と呼ぶ）との積層体により構成される。これにより円偏光板６は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で逆分散特性を確保し、光学フィルム３は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。

これらにより画像表示装置１では、画像表示パネル２の表示画面側より、順次、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９、直線偏光板５が配置される。また図２に示すように、矢印により示す直線偏光板５の透過軸に対して、１／２波長板用位相差層９及び１／４波長板用位相差層８の遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回りに１５度、７３度の角度を成すように配置される。なお係る角度は、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９の特性に応じて最適値が変化し、一般的には、１５度、７５度が最適な角度とされているものの、１３〜１７度の範囲、７１〜７６度の範囲で角度を成すように配置される。

より具体的に、１／４波長板用位相差層８は、面内位相差（Ｒｅ）が１１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下により作製され、１／２波長板用位相差層９は面内位相差（Ｒｅ）が２３５ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下により作製される。これにより光学フィルム３は、直線偏光板５側より入射する可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光を、楕円率０．８以上の円偏光により出射する。

円偏光板６は、画像表示パネル２側から、順次、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が設けられる。１／４波長板用賦型樹脂層１０は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なおこの紫外線硬化性樹脂について、詳細は後述する。１／４波長板用賦型樹脂層１０は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、円偏光板６は、この１／４波長板用賦型樹脂層１２の表面形状により１／４波長板用配向膜１１が形成される。１／４波長板用位相差層８は、屈折率異方性を保持した状態で重合・固化（硬化）された液晶材料により形成される。なおこれにより１／４波長板用賦型樹脂層１０は、配向膜１１に係る配向膜材料層を構成することになる。

また続いて円偏光板６は、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次設けられる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なおこの紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、円偏光板６は、この１／２波長板用賦型樹脂層１２の表面形状により１／２波長板用配向膜１３が形成される。１／２波長板用位相差層９は、屈折率異方性を保持した状態で重合・固化（硬化）された液晶材料により形成される。これにより１／２波長板用賦型樹脂層１２は、配向膜１３に係る配向膜材料層を構成することになる。

ここでこれら１／２波長板用配向膜１３及び１／４波長板用配向膜１１に係る微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が直線偏光板５の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに１５度、７３度の角度を成す方向となるように作製される。

直線偏光板５は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材１５の下面側が鹸化処理された後、光学機能層１６が配置される。なお基材１５は、これに代えてポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。

光学機能層１６は、この図１の例では直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。

〔転写体〕
光学フィルム３は、粘着層７を介してこれら円偏光板６、直線偏光板５が一体化され、この一体化の処理に、転写法が適用されて、直線偏光板５に、円偏光板６に係る層構成を転写法により積層する。従って被転写基材は、直線偏光板５であり、転写に供する層（転写層）は、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９の積層体である。

図３は、この転写体である転写フィルムの構成を示す図である。転写フィルム２０は、支持体基材２１上に、順次、円偏光板６に係る１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が設けられる。

ここで支持体基材２１は、転写に供する層（転写層）を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、透明フィルム材であるＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）フィルムが適用され、これにより転写フィルム２０は、光学特性を検査可能に構成される。なおＰＥＴフィルムは、コロナ処理され、これにより後述する離型層との間の密着力が適切に設定されてもよい。

なおこの実施形態において、転写層との剥離性を向上する目的で、支持体基材２１には、転写層側に、剥離を促進する離型層を設けてもよい。ここで離型層は、相対的に、支持体基材２１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層との密着性は低い（剥離性は高い）材料を適用することができる。この実施形態では、転写層の最下層が紫外線硬化性樹脂による１／４波長板用賦型樹脂層１０であることにより、上述の支持体基材２１に対して、例えばシリコン樹脂（有機珪素系高分子化合物）、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂（アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等）との混合物が用いられる。

因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材２１と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層は、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く（剥離性は高く）、離型層との密着性が高い（剥離性は低い）材料を適用することができる。より具体的には、この実施形態において、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した２種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した１種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、１〜１０μｍ程度である。また剥離層は、支持体基材２１に設けても良く、離型層に設けてもよい。

１／４波長板用賦型樹脂層１０は、この支持体基材２１の上に、又は支持体基材２１の上に形成された離型層の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作製され、１／４波長板用配向膜１１は、賦型に供する微細凹凸形状を周側面に形成した賦型用金型（ロール版）を用いて１／４波長板用賦型樹脂層１０を賦型処理して作製される。１／４波長板用位相差層８は、１／４波長板用配向膜１１上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作製される。

１／２波長板用賦型樹脂層１２は、１／４波長板用位相差層８の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０と同様に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作製され、１／２波長板用配向膜１３は、１／４波長板用配向膜１１と同様に、賦型用金型を用いて１／２波長板用賦型樹脂層１２を賦型処理して作製される。１／２波長板用位相差層９は、１／２波長板用配向膜１３上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作製される。しかして転写体では、これら円偏光板に係る層構成である、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が、転写に供する転写層である。

さらに転写フィルム２０は、円偏光板６の層構成に係る転写層の上に、粘着層７、セパレータフィルム２３が設けられる。

ここで粘着層７は、転写層と被転写基材とを接着するための層である。転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。この実施形態では、アセチルセルロース（酢酸纖維素）、ニトロセルロース（硝酸纖維素又は硝化綿）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース（纖維素）系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。粘着剤層の厚みは、１〜３０μｍ程度である。なお粘着層７は、紫外線硬化性樹脂等を適用することも可能であり、紫外線硬化性樹脂を適用した場合には、一段と光学フィルム３の厚みを低減することができる。なおこの紫外線硬化性樹脂としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのアクリレート系や、アジピン酸とグリコール（エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリブチレングリコールなど）やトリオール（グリセリン、トリメチロールプロパンなど）、セバシン酸とグリコールやトリオールとの縮合生成物であるポリアジペートポリオールや、ポリセバシエートポリオールなどのエステル系、メチレン・ビス（ｐ−フェニレンジイソシアネート）、ヘキサメチレンジイソシアネート・ヘキサントリオールの付加体、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートトリメチロールプロパンのアダクト体、１，５−ナフチレンジイソシアネート、チオプロピルジイソシアネート、エチルベンゼン−２，４−ジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート二量体、水添キシリレンジイソシアネート、トリス（４−フェニルイソシアネート）ネオフォスフェートなどから選択したものと、ポリオキシテトラメチレングリコールなどのエーテル系ポリオール、ポリアジペートポリオール、ポリカーボネートポリオールなどのエステル系ポリオール、アクリル酸エステル類とヒドロキシエチルメタアクリレートとのコポリマーとの縮合生成物であるウレタン系に、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンなどのアルキルフェノン系、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド系などの光重合開始剤を混合させたものを用いることができる。また、上記モノマーをイソシアネート系硬化剤で硬化させたオリゴマーを混合させて用いることもできる。

セパレータフィルム２３は、粘着層７の表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム２３は、粘着層７が露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。

これらにより転写フィルム２０は、セパレータフィルム２３を剥離して粘着層７を露出させた後、この粘着層７により直線偏光板５と積層、一体化される。その後、支持体である支持体基材２１を剥離して光学フィルム３が構成される。

〔光学フィルムの製造工程〕
図４は、光学フィルム３の製造工程を示す図である。この製造工程３０は、直線偏光板５に係る鹸化処理が実行された基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材が供給ロール３１、３２により提供される。また転写フィルム２０が供給リール３３により提供される。この工程３０は、供給リール３３から転写フィルム２０を引き出し、剥離ロール３４によりセパレータフィルム２３を剥離して粘着層７を露出させる。なお剥離したセパレータフィルム２３は、巻き取りリール３６に巻き取られる。

この工程は、供給ロール３１、３２からそれぞれ基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材を引き出し、セパレータフィルム２３を剥離した転写フィルム２０と積層し、押圧ローラ３８Ａ、３８Ｂにより押圧する。これによりこの工程３０は、基材１５、光学機能層１６、転写層を一体化する。

続いてこの工程３０は、剥離ローラ３９により支持体基材２１を剥離する。なお剥離した支持体基材２１は、巻き取りロール４０に巻き取られる。また続いて粘着層４に係る粘着剤を塗付した後、供給リール４１より供給されるセパレータフィルム４２を加圧ローラ４３Ａ、４３Ｂにより貼り付け、巻き取りリール４４に巻き取る。

〔転写フィルムの製造工程〕
図５及び図６は、転写フィルム２０の製造工程を示す略線図である。この製造工程５０は、支持体基材２１を供給リール５１から引き出し、ダイ５２により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程５０において、ロール版５３は、１／４波長板用配向膜１１に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程５０は、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ５４によりロール版５３に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置５５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程５０は、ロール版５３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する。その後、剥離ローラ５６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ５９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置５７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール５８に巻き取る。この一連の処理により支持体基材２１の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が形成される。

続いて図６に示すように、転写体の製造工程は、続く製造工程６０において、巻き取りリール５８から巻き取った支持体基材２１を引き出し、ダイ６２により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程６０において、ロール版６３は、１／２波長板用配向膜１３に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程６０は、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ６４によりロール版６３に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置６５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程６０は、ロール版６３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する。その後、剥離ローラ６６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ６９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置６７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール６８に巻き取る。この工程６０の一連の処理により、支持体基材２１に形成された１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８の上に、さらに１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次作製され、これらにより支持体基材２１の上に円偏光板６に係る構成が作製される。転写体は、さらに粘着層７、セパレータフィルム２３が配置される。

〔ロール版製造工程〕
図７は、ロール版５３の製造工程を示す図である。なおここでロール版６３は、後述するラビング処理の方向が異なる点を除いて、このロール版５３と同一に構成されることにより、重複した説明は省略する。ここでこの製造工程では、母材７０の周側面を切削により平滑化した後、下地層７１が作製される（図７（ａ））。ここで母材７０は、ロール版の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材７０は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材７０は、銅が適用される。

下地層７１は、上層に設けられる材料層について、母材７０に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層７１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚５００ｎｍで作製される。

続いてこの工程は、下地層７１の表面に、無機材料層７２を作製する。この実施形態では、この無機材料層７２にニッケル層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍにより作製される。なお無機材料層７２には、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ_２、ＳｉＯｘ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどを適用することができる。

続いてこの工程は、図７（ｂ）に示すように、この無機材料層７２の全面にラビング処理により微小なライン状凹凸形状を形成する。ここでこの微小なライン状凹凸形状は、図２について上述した１／４波長板用位相差層８（ロール版６３では１／２波長板用位相差層９）の遅相軸の方向に対応する方向となるように作製される。これにより１／２波長板用位相差層９及び１／４波長板用位相差層８は、この無機材料層７２の表面形状が賦型処理により転写されてそれぞれ対応する配向膜１１、１３が作製され、この配向膜１１、１３の配向規制力により液晶材料が配向することになる。

この実施形態では、レーヨン布を巻着付けたロールによりラビングロールＲを構成し、このラビングロールＲを押し込み量０．５ｍｍ、回転数１００ｒｐｍにより回転された状態で、移動速度０．１ｍ／ｍｉｎにより一方向に移動させてラビングの処理を実行した。

〔剥離制の改善〕
ところで転写フィルム２０において、一般的な賦型処理、配向膜作製処理に供する紫外線硬化性樹脂を１／４波長板用賦型樹脂層１０に適用したのでは、剥離工程時に、支持体基材と賦型樹脂層との剥離力が大きいため、支持体基材に転写層の一部が残ることがあり、これにより確実に支持体から転写層を剥離可能に構成することが困難なことが判った。

そこでこの実施形態において、配向膜１１に係る１／４波長板用賦型樹脂層１０については、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)からなる紫外線硬化性樹脂による配向層用組成物に、ブチルアクリレート(BA)を適量混合した組成物により作製される。これにより転写フィルム２０は、支持体基材２１上に確実に配向膜１１に係る１／４波長板用賦型樹脂層１１を作製し、かつ支持体基材２１からの剥離性を向上させて確実に支持体基材２１から転写層６を剥離させる。

より具体的に、転写フィルム２０では、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー（Ｕ−ＰＥＴＡ）からなる配向層用組成物と、ブチルアクリレート（ＢＡ）とを、質量比７：３〜５：５に設定し、さらに任意成分を添加し、これにより支持体基材２１上に確実に配向膜１１に係る１／４波長板用賦型樹脂層１０を作製した。なおトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー（Ｕ−ＰＥＴＡ）との比率は、種々に変更することができるものの、好ましくは質量比で１：１である。これによりこの実施形態では、黒輝度の劣化を招来する配向性の劣化を有効に回避する。なお黒輝度については、後述する。

〔ラビング処理の改善：平均面粗さ〕
ところでこのようにして配向膜に係る１／４波長板用賦型樹脂層１１の剥離性を改善した場合、上層側である位相差層８との密着性の劣化が心配される。そこで上述のロール版製造工程におけるラビング処理を詳細に検討したところ、ラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することが判った。

すなわち何らラビング処理しない場合には、ラビング処理対象の表面は、無機材料層７２を構成する金属の粒界により覆われており、これによりこの金属の粒界による凹凸形状が表面に現れていることが判った。しかしながらラビングの回数の増大により、表面形状に粒界が引き伸ばされたような変形が見られ、全体的に表面が平坦になっているように観察される。

このようにラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することを前提に、ラビング処理対象の表面形状による配向膜の作製に供する一般的な重合性液晶材料との密着力を検討した結果、平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上確保することが必要であることが判った。これにより密着力を強化する観点から、ラビング処理の回数は、一定回数以下に制限することが必要であることが判った。

しかしながらラビング処理の回数を少なくすると、１／４波長板用賦型樹脂層１０に係る配向膜１１はもとより、配向膜１３においても、充分な配向規制力を付与できない恐れがある。すなわち位相差層の配向に供する凹凸形状は、極めて微細なものであり、ラビング処理の回数の増大により配向規制力が増大する。充分な配向規制力を確保する観点より、ラビング処理回数と配向規制力との関係を検討したところ、平均面粗さ（Ｒａ）が４ｎｍ以下となるまでラビング処理すると、充分な配向規制力を確保できることが判った。

なおこれらの平均面粗さ（Ｒａ）は、当然のことながらラビング処理した金型を使用した賦型処理により配向膜１１、１３を作製し、この配向膜１１、１３と配向膜の作製に供する一般的な重合性液晶材料との密着力を検討し、さらに配向規制力を検討したものである。また平均面粗さ（Ｒａ）は、規格JIS B 0601:2001に規定の算術平均面粗さであり、ラビング方向と直交する方向に測定したものである。

これらにより配向膜１１、１３において、少なくとも平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要であることが判った。ここでこの種の賦型処理においては、充分に賦型用金型の表面形状を転写することができることにより、賦型用金型であるロール版５３、６３の周側面にあっても、平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上用、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要である。なおラビング処理においては、ラビング布の押圧力等のラビング処理の条件によって、ラビング処理回数と表面粗さの変化との関係が変化する。従って十点平均粗さ（Ｒａ）を上述の範囲に設定する場合、ラビング処理回数は、ラビング処理の条件に応じて適宜選定することが必要である。

〔ラビング処理の改善：十点平均粗さ〕、
ところでさらに配向膜１１、１３の表面粗さについて検討を試みた。図８は、この配向膜の検討に供した測定装置の構成を示す図である。この測定装置では、直交ニコル配置による偏光板８０Ａ及び８０Ｂの間に測定対象である転写フィルム２０を配置する。この状態で、偏光板８０Ａ及び８０Ｂに対する転写フィルム２０の傾きθを変化させながら、透過光量を計測し、最も透過光量が小さくなる傾きθを計測する。なおこの最も透過光量が小さくなる場合の光量は、黒輝度とも呼ばれる。この実施形態では、１つの転写フィルム２０について、この黒輝度の光量、黒輝度に係る傾きを複数個所で計測し、計測結果を統計的に処理した。なおこの測定装置において、偏光板８０Ａ及び８０Ｂ、測定対象を配置しない状態で計測される光源の光度は、５００カンデラであった。また測定対象を配置しない状態で、偏光板８０Ａ及び８０Ｂのみをクロスニコルにより配置した場合、光度は、０．１カンデラであった。なおこの測定では、光源からの出射光を拡散板により拡散して光量を均一化した後、偏光板８０Ａ、測定対象、偏光板８０Ｂの積層体に入射し、測定対象から光度計までの距離Ｄは６０ｃｍに設定した。またさらにこの黒輝度の計測は、暗室内で実行した。

図９及び図１０は、この計測結果を示す図である。図９の測定結果は、ラビング処理の時間を横軸に取り、傾きθのばらつき３σを縦軸により示すものである。なおσは、標準偏差である。また符号Ｌ１により示す測定結果は、符号Ｌ２により示す測定結果に比して、ラビング処理時における母材に対するラビングクロスの変位速度を５倍に設定した場合の測定結果である。この図９による計測結果によれば、母材に対するラビングクロスの変位速度が低い程、またラビング処理時間が短い程、黒輝度に係る角度θのばらつき３σが小さいことが判った。特に、処理時間を一定時間より短くすると、ばらつき３σが急激に小さくなることが判る。

また図１０は、黒輝度を横軸に取り、傾きθのばらつき３σを縦軸により示すものである。なお横軸の単位はカンデラである。この図１０によれば、ばらつき３σが小さい程、黒輝度も小さくなることが判る。特に、ばらつき３σのほぼ１．０度を境にして、これよりばらつき３σが小さくなると、ばらつき３σの変化に対する黒輝度の変化量が小さくなる。このばらつき３σの１．０度を境にした測定結果の変化は、図９の測定結果でも見て取ることができる。

ここでこのばらつき３σが小さい場合、黒輝度が小さい場合には、光学フィルム３の円偏光板６で付与される位相差量にばらつきが小さいと言え、光学フィルム３では、精度良く透過光に所望の位相差を付与することができる。従って効率良く反射防止を図ることができる。

これらにより精度良く位相差層を作製するためには、母材とラビング布との相対速度を一定速度以下に設定して短い処理時間によりラビング処理することが必要であり、従来のラビング処理に係る考え方とは真逆の考え方によりラビング処理することが必要であることが判った。しかしてこのように相対速度を一定速度以下に設定して短い時間によりラビング処理する場合には、十分な深さによりライン状凹凸形状が作製されていないと考えられる。

図１１及び図１２は、このような観点より配向膜の表面形状とばらつき３σとの関係を測定した結果である。なおこの測定結果は、図９及び図１０の測定に供した転写フィルムについて、紫外線硬化性樹脂を塗付する前の段階で配向膜１１、１３の表面形状を測定したものである。図１１は、二乗平均粗さＲＭＳ（Ｒｑ）を横軸に取り、ばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。この図１１の測定結果によれば、ばらつき３σが小さい場合には、二乗平均粗さによる粗さも小さいことが判るものの、図９及び図１０の測定結果について上述したばらつき３σの１．０度に係る境界については、見て取ることができない。

これに対して図１２は、十点平均粗さＲｚを横軸に取り、ばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。これら図１１及び図１２の測定結果によれば、表面粗さが粗い場合程、すなわち配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作製されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判る。換言すれば、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いと言える。

またさらにこの図１２の測定結果によれば、図９及び図１０の測定結果との対比により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下であるようにラビング処理すれば、ばらつき３σが１．２度以下であるようにラビング処理することができ、また黒輝度も十分に抑圧できることが判る。なお、十点平均粗さの下限値は、位相差層に適用される液晶分子の大きさの１０倍程度は必要であり、これにより１ｎｍ以上は必要である。しかしながらさらに実用的な余裕を確保する観点から、好ましくは下限値は、１０ｎｍ以上は必要である。

これらにより充分にばらつきを小さくして液晶層を十分に配向させるために、配向膜は、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることが必要であることが判った。これによりこの実施形態では、ラビングの処理回数、ラビング処理速度の設定により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように設定した。またこれによりこの実施形態では、ロール版の周側面の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように作製される。

〔検討結果〕
図１３は、具体的に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーからなる配向層用組成物と、ブチルアクリレートとの混合比（質量比）を変化させて剥離性を確認し、黒輝度により配向性を確認した結果を示す図である。なおこの図１３において、剥離力（ＰＥＴ／配向層剥離力）は、剥離速度３０ｃｍ／ｍｉｎ時の剥離強度０．５Ｎ／インチを判定基準値に設定し、それぞれｎ回の測定でｎ回とも剥離強度が判定基準値より小さい場合、符号Ａを記した。またｎ回の測定で剥離強度が判定基準値を超えるものがあるものの、平均値を取れば剥離強度が判定基準値以下の場合、符号Ｂを記した。またｎ回の測定で剥離強度が判定基準値以下のものがあるものの、平均値が判定基準値を超える場合、符号Ｃを記した。

また配向は、黒輝度が５カンデラ以下の場合を符号Ａにより示し、黒輝度が６カンデラから７カンデラの場合を符号Ｂにより示し、黒輝度が８カンデラから９カンデラの場合を符号Ｃにより示した。また黒輝度が１０カンデラ以上の場合、符号Ｄにより示した。なおこの図１３において、十点平均粗さ（Ｒｚ）、平均面粗さ（Ｒａ）の未記載箇所は、測定を省略した箇所である。また黒輝度において、×の印は、測定限界を超える場合である。

〔実施例１〕
ここで実施例１は、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（Ｅ５１００、東洋紡製）を支持体基材２１に適用し、バーコーターを用いて配向層用組成物Ａが乾燥厚み５μｍになるように塗工、乾燥した後、上述のロール版５３を使用したと同等の賦型処理により１／４波長板用配向膜１１を作製した。なおここで１／４波長板用配向膜１１は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が２５ｎｍであり、平均面粗さ（Ｒａ）１．２ｎｍであった（図１３）。なおここで配向層用組成物Ａは、以下に記述の混合物である。

配向層用組成物Ａ
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA) ：３０質量部
ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA) ：３０質量部
ブチルアクリレート（ＢＡ） ：４０質量部
ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド ： ６質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：１５質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） ：１５質量部

また実施例１は、続いて乾燥後の波長５９０ｎｍにおける面内位相差値が１２０ｎｍになるよう、位相差層用塗工液Ａをバーコータを用いて配向膜１１上に塗工し、１００℃で３分間乾燥させた後、紫外線を照射して位相差層用塗工液Ａを重合させ、位相差層８を作製した。なおここで位相差層用組成物Ａは、以下に記述の混合物である。

位相差層用組成物Ａ
ＲＭＭ３４（重合性液晶化合物、メルク製） ：２４質量部
２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルフォリノフェニル）-ブタノン-１
： １質量部
トルエン ：４０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：３５質量部

なおこの実施例１では、念のためこの中間製品の段階でも、剥離力及び黒輝度を測定した。剥離力は、乾燥厚みが５μｍとなるよう、位相差層８の上に、接着剤Ａをバーコータを用いて塗工、乾燥し、厚み１ｍｍのガラスと貼り合わせ、このガラス側から紫外線を照射し、接着剤Ａを重合させた後、支持体機基材２１を剥離して測定した。剥離時に問題はみられず、剥離強度も０．５Ｎ／インチ以下であった。また黒輝度は、３ｃｄであった。また接着剤Ａには、以下に記述の接着層用組成物を適用した。

接着層用組成物Ａ
ウレタンアクリレートオリゴマー ：１０質量部
アクリル系重合体 ：１０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ：８０質量部
ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド ： ６質量部
トルエン ：３０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：３０質量部

実施例１は、さらに位相差層８の上に、乾燥膜厚が５μｍになるように、バーコーターを用いて配向層用組成物Ｂを塗工、乾燥した。その後、ロール版６３を使用したと同等の賦型処理により１／２波長板用配向膜１３を作製した。なおここで１／２波長板用配向膜１３は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が２５ｎｍであり、平均面粗さ（Ｒａ）１．２ｎｍであった（図１３）。また配向層用組成物Ｂは、以下に記述の混合物である。

配向層用組成物Ｂ
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA) ：５０質量部
ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA) ：５０質量部
ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド ：６質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：１５質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） ：１５質量部

実施例１は、位相差層８を作製した場合と同様にして位相差層９を作製した。但し、位相差層９が、乾燥後の波長５９０ｎｍにおける面内位相差値が２４０ｎｍになるように作製される。

続いて上述した接着用組成物Ａをバーコーターを用いて乾燥厚み５μｍにより塗工、乾燥し、直線偏光板（スミカラン、住友化学製）５と貼り合わせ、支持体基材２１側から紫外線を照射し、接着剤Ａを重合させた後、支持体基材２１を剥離した。

この実施例１の場合、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)との質量比は、１：１となり、これらトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)による配向層組成物とブチルアクリレート(BA)との質量比は、６０：４０となる（図１３）。この場合、実用上充分な剥離力を確保することができ、また黒輝度も充分に小さくすることができる。

〔実施例２〕
実施例２は、配向層用組成物Ａの代わりに、配向層用組成物Ｃを用いた点を除いて、実施例１と同一に構成される。ここで配向層用組成物Ｃは、以下のように構成され、これによりトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)による配向層組成物とブチルアクリレート(BA)との質量比が、７０：３０に設定される点を除いて、実施例１と同一に構成される。

配向層用組成物Ｃ
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA) ：３５質量部
ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA) ：３５質量部
ブチルアクリレート(BA) ：３０質量部
ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド ： ６質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：１５質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） ：１５質量部

この実施例２では、実施例１に比して剥離力が若干大きくなるものの、実用に供する範囲に剥離力を低減することができた。また黒輝度も充分に小さな値に維持することができた。

〔実施例３〕
実施例３は、配向層用組成物Ａの代わりに、配向層用組成物Ｄを用いた点を除いて、実施例１と同一に構成される。ここで配向層用組成物Ｄは、以下のように構成され、これによりトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)による配向層組成物とブチルアクリレート(BA)との質量比が、５０：５０に設定される点を除いて、実施例１と同一に構成される。

配向層用組成物Ｄ
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA) ：２５質量部
ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA) ：２５質量部
ブチルアクリレート(BA) ：５０質量部
ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド ： ６質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：１５質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） ：１５質量部

この実施例３では、実施例１と同様に剥離力を低減することができ、黒輝度は若干劣化するものの、実用上充分な範囲に維持することができた。

〔比較例１〕
比較例１は、配向層用組成物Ａの代わりに、配向層用組成物Ｅを用いた点を除いて、実施例１と同一に構成される。ここで配向層用組成物Ｅは、以下のように構成され、これによりトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)による配向層組成物とブチルアクリレート(BA)との質量比が、８０：２０に設定される点を除いて、実施例１と同一に構成される。

配向層用組成物Ｅ
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA) ：４０質量部
ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA) ：４０質量部
ブチルアクリレート(BA) ：２０質量部
ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド ： ６質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：１５質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） ：１５質量部

この比較例１では、黒輝度は充分に小さくすることができるものの、剥離力が大きく、これにより剥離力の点で実用上未だ不十分な欠点があった。

〔比較例２〕
比較例２は、配向層用組成物Ａの代わりに、配向層用組成物Ｆを用いた点を除いて、実施例１と同一に構成される。ここで配向層用組成物Ｅは、以下のように構成され、これによりトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)による配向層組成物とブチルアクリレート(BA)との質量比が、１０：９０に設定される点を除いて、実施例１と同一に構成される。

配向層用組成物Ｆ
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA) ： ５質量部
ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA) ： ５質量部
ブチルアクリレート(BA) ：９０質量部
ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド ： ６質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ：１５質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） ：１５質量部

この比較例２では、剥離力充分に小さくできるものの、黒輝度が大きく、これにより実用上未だ不十分な欠点があった。

〔参考例１〕
参考例１は、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)による配向層組成物とブチルアクリレート(BA)との質量比が、１００：０に設定される点を除いて、実施例１と同一に構成される。

この参考例１においては、配向性は優れるものの、剥離力が大きく、これにより実用に供し得ないことが判る。

〔参考例２〕
また参考例２は、参考例１とは逆に、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)とウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー(U-PETA)による配向層組成物とブチルアクリレート(BA)との質量比を、０：１００に設定したものである。

この参考例２においては、剥離力は低減できるものの、配向性が著しく劣化し、これにより実用に供し得ないことが判る。

これらによりトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー（Ｕ−ＰＥＴＡ）からなる配向層用組成物と、ブチルアクリレート（ＢＡ）とを、質量比７：３〜５：５に設定することにより、剥離性を向上しつつ、黒輝度の劣化を招来する配向規制力の劣化を有効に回避できることが判る。

以上の構成によれば、転写フィルムにおいて、支持体基材が、ＰＥＴフィルムである場合に、トリメチロールプロパントリアクリレート及びウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーからなる組成物と、ブチルアクリレートとの混合組成物を含む材料により配向膜層を作製することにより、配向膜材料を充分かつ安定に塗工して配向膜材料層を作製できるようにして、かつ充分に剥離力を低減することができ、これにより支持体から転写層を確実に剥離することができる。

またこのとき配向層用組成物とブチルアクリレートとの質量比を、７：３以下、５：５以上に設定することにより、黒輝度の劣化を有効に回避して、支持体から転写層を確実に剥離することができる。

またさらに十点平均粗さ（Ｒｚ）が１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下により配向膜を作製することにより、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。

また平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上、４ｎｍ以下により配向膜を作製することにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、配向膜と位相差層との密着性を向上することができる。

これらにより光学特性に優れ、生産性、歩留まりに優れた円偏光板に係る光学フィルム転写体、反射防止用の光学フィルム、画像表示装置を提供することができる。

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらに組み合わせることができる。

すなわち上述の第１実施形態では、順次１／４位相差板として機能する位相差層、１／２位相差板として機能する位相差層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これとは逆に、順次、１／２位相差板として機能する位相差層、１／４位相差板として機能する位相差層を作製する場合にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、いわゆる光配向の手法により配向膜を作製する場合にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、ロール版により賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板による枚葉の処理により賦型処理する場合にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、１／２位相差層、１／４位相差層、これらの配向膜との積層体による転写層を転写する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、１／２位相差層及び配向膜の積層体、１／４位相差層及び配向膜との積層体、パターン位相差フィルムに係る位相差層と配向膜との積層体を転写する場合等、要は配向膜の配向規制力により位相差層に係る液晶を配向させて位相差層を作製する構成において、この位相差層と対応する配向膜とを一体に転写する場合に広く適用することができる。

１ 画像表示装置
２ 画像表示パネル
３ 光学フィルム
４、７ 粘着層
５ 直線偏光板
６ 円偏光板
８ １／４波長板用位相差層
９ １／２長板用位相差層
１０ １／４波長板用賦型樹脂層
１１ １／４波長板用配向膜
１２ １／２波長板用賦型樹脂層
１３ １／２波長板用配向膜
１５ 基材
１６ 光学機能層
２０、８０、８５、９０ 転写フィルム
２１ 支持体基材
２３ セパレータフィルム
３０、５０、６０ 製造工程
３１、３２、３３、４１、５１ 供給リール
３４ 剥離ロール
３６、４０、４４、５８、６８ 巻き取りリール
３８Ａ、３８Ｂ 押圧ローラ
３９ 剥離ローラ
４３Ａ、４３Ｂ、５４、６４ 加圧ローラ
５２、５９、６２、６９ ダイ
５３、６３ ロール版
５５、５７、６５、６７ 紫外線照射装置
５６、６６ 剥離ローラ
７０ 母材
７１ 下地層
７２ 無機材料層
８０Ａ、８０Ｂ 偏光板

Claims (7)

1. 被転写基材への積層に供する転写層と、前記転写層を支持する支持体基材とを備えた光学フィルム転写体であって、
   前記転写層が、
   前記支持体基材上に形成された配向膜材料層による第１の配向膜と、
   前記第１の配向膜に係る第１の位相差層とであり、
   前記支持体基材が、
   ＰＥＴフィルムであり、
   前記配向膜材料層が、
   トリメチロールプロパントリアクリレートと、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーと、ブチルアクリレートとを含む混合組成物により作製された
   光学フィルム用転写体。
2. 前記トリメチロールプロパントリアクリレートと前記ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマーとに対する前記ブチルアクリレートの質量比が、７：３以下、５：５以上である
   請求項１に記載の光学フィルム用転写体。
3. 前記第１の配向膜は、
   十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である
   請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム用転写体。
4. 前記第１の配向膜は、
   平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である
   請求項１、請求項２、又は請求項３の何れかに記載の光学フィルム用転写体。
5. 前記転写層は、
   前記第１の位相差層に積層された第２の配向膜と、
   前記第２の配向膜に係る第２の位相差層とをさらに備える
   請求項１、請求項２、請求項３、又は請求項４の何れかに記載の光学フィルム用転写体。
6. 透明フィルム基材と、光学機能層と、転写層とが積層された光学フィルムであって、
   当該転写層が、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４又は請求項５の何れかに記載の光学フィルム用転写体からの転写層である
   光学フィルム。
7. 請求項６に記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した
   画像表示装置。

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