JP5949392B2 - 光学フィルム、光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、例えば画像表示パネルに配置して、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルム、光学フィルムの製造方法に関するものである。

従来、画像表示パネル等に関して、画像表示パネルの出射面に光学フィルムを配置し、この光学フィルムによる偏光面の制御により外来光の反射を低減する方法が提案されている。この光学フィルムは、直線偏光板、円偏光板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く円偏光板により円偏光に変換する。ここで、この円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。

この光学フィルムに関して、特許文献１等には、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて円偏光板を構成することにより、この光学フィルムを正の分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性により光学フィルムを構成することができる。

ところで、このような光学フィルムは、例えば、基材上に、１／４波長板として機能する１／４波長板用位相差層、１／２波長板に係る配向層、１／２波長板として機能する１／２波長板用位相差層を順に積層した転写層を形成した転写フィルムを構成することが考えられる。しかし、１／４波長板用位相差層及び１／２波長板に係る配向層間で十分な密着力を得られない場合があった。

特開平１０−６８８１６号公報

本発明の課題は、波長板用位相差層及び波長板用の配向層間で分離するのを抑制することができる光学フィルム、光学フィルムの製造方法を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、位相差層形成樹脂を特定の範囲の反応率で硬化させる、との着想に至り、本発明を完成するに至った。

（１） 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルムであって、前記１／４波長板用位相差層は、位相差層形成樹脂を硬化させて成膜し、支持体上に形成され、前記１／２波長板用配向層は、配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用位相差層の上に形成され、前記１／２波長板用位相差層は、前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用配向層の上に形成され、前記１／４波長板用位相差層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比が０．２５以上０．６５以下であること、を特徴とする光学フィルム。

（２） 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層とを備える光学フィルムであって、前記１／２波長板用位相差層は、位相差層形成樹脂を硬化させて成膜し、支持体上に形成され、前記１／４波長板用配向層は、配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用位相差層の上に形成され、前記１／４波長板用位相差層は、前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用配向層の上に形成され、前記１／２波長板用位相差層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比が０．２５以上０．６５以下であること、を特徴とする光学フィルム。

（３） 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルムの製造方法であって、位相差層形成樹脂を硬化させて基材に成膜し、前記１／４波長板用位相差層を支持体上に形成する１／４波長板形成工程と、配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用配向層を前記１／４波長板用位相差層の上に形成する１／２配向層形成工程と、前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用位相差層を前記１／２波長板用配向層の上に形成する１／２波長板形成工程とを備え、前記１／４波長板形成工程は、前記位相差層形成樹脂を、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比が０．２５以上０．６５以下となるように硬化させること、を特徴とする光学フィルムの製造方法。

（４） 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層とを備える光学フィルムの製造方法であって、位相差層形成樹脂を硬化させて基材に成膜し、前記１／２波長板用位相差層を支持体上に形成する１／２波長板形成工程と、配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用配向層を前記１／２波長板用位相差層の上に形成する１／４配向層形成工程と、前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用位相差層を前記１／４波長板用配向層の上に形成する１／４波長板形成工程とを備え、前記１／２波長板形成工程は、前記位相差層形成樹脂を、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比が０．２５以上０．６５以下となるように硬化させること、を特徴とする光学フィルムの製造方法。

本発明によれば、１／４波長板用位相差層と１／２波長板用の配向層とを、又は、１／２波長板用位相差層と１／４波長板用の配向層とを十分に密着させることができ、転写層が分離してしまうのを抑制することができる。

本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。 図１の画像表示装置に設けられる光学フィルムの説明に供する図である。 図１の画像表示装置に設けられる光学フィルムに適用される転写フィルムを示す図である。 図１の画像表示装置に設けられる光学フィルムの製造工程を示す図である。 図３の転写フィルムの製造工程を示す図である。 図５の続きを示す図である。 本発明の第２実施形態に係る転写フィルムを示す図である。 図７の転写フィルムの製造工程を示す図である。 本発明の第３実施形態に係る画像表示装置を示す図である。 図９の画像表示装置に設けられる光学フィルムに適用される転写フィルムを示す図である。 本発明の第４実施形態に係る画像表示装置を示す図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１では、画像表示パネル２のパネル面に、光学フィルム３が配置される。画像表示パネル２は、可撓性を有するシート形状による有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。

光学フィルム３は、偏光面の制御により、画像表示パネル２に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムである。このため光学フィルム３は、直線偏光板５、円偏光板６を積層して構成される。光学フィルム３は、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による粘着層４を露出させた後、この粘着層４により、画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられて保持される。また直線偏光板５及び円偏光板６は、粘着層７を介して一体化される。

円偏光板６は、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４位相差板として機能する部位８（１／４波長板用位相差層と呼ぶ）と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２位相差板として機能する部位９（１／２波長板用位相差層と呼ぶ）との積層体により構成される。これにより円偏光板６は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、光学フィルム３は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。

これらにより画像表示装置１では、画像表示パネル２の表示画面側より、順次、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９、直線偏光板５が配置される。また図２に示すように、矢印により示す直線偏光板５の透過軸に対して、１／２波長板用位相差層９及び１／４波長板用位相差層８の遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回りに１５度、７３度の角度を成すように配置される。

より具体的に、１／４波長板用位相差層８は、面内位相差（Ｒｅ）が１２５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下により作成され、１／２波長板用位相差層９は面内位相差（Ｒｅ）が２３５ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下により作成される。これにより光学フィルム３は、直線偏光板５側より入射する可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光を、楕円率０．８以上の円偏光により出射する。

円偏光板６は、画像表示パネル２側から、順次、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が設けられる。
１／４波長板用賦型樹脂層１０は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお、この紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。１／４波長板用賦型樹脂層１０は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、円偏光板６は、この１／４波長板用賦型樹脂層１０の表面形状により１／４波長板用配向膜１１が形成される。１／４波長板用賦型樹脂層１０に１／４波長板用配向膜１１が形成されることによって、１／４波長板用位相差層８に係る配向層（１／４波長板用配向層）が形成される。

１／４波長板用位相差層８は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、円偏光板６は、この液晶材料の配向を１／４波長板用配向膜１１の配向規制力によりパターンニングする。

また続いて円偏光板６は、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次設けられる。
１／２波長板用賦型樹脂層１２は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂にが適用される。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、円偏光板６は、この１／２波長板用賦型樹脂層１２の表面形状により１／２波長板用配向膜１３が形成される。１／２波長板用賦型樹脂層１２に１／２波長板用配向膜１３が形成されることによって、１／２波長板用位相差層９に係る配向層（１／２波長板用配向層）が形成される。

１／２波長板用位相差層９は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、円偏光板６は、この液晶材料の配向を１／２波長板用配向膜１３の配向規制力によりパターンニングする。

また、これら１／２波長板用配向膜１３及び１／４波長板用配向膜１１に係る微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が直線偏光板５の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに１５度、７３度の角度を成す方向となるように作成される。

直線偏光板５は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材１５の下面側が鹸化処理された後、光学機能層１６が配置される。なお基材１５は、これに代えてポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。

光学機能層１６は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。

しかして光学フィルム３の円偏光板６に係る構成において、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９はそれぞれ厚み１μｍ、２μｍ程度により作成することができる。また各賦型樹脂層１０、１２は、厚み２μｍ程度、粘着層４は、厚み１５μｍ以下により作成することができる。また直線偏光板５に係る構成において、基材１５は、厚み３０μｍ程度により構成することができ、光学機能層１６、粘着層７は、それぞれ厚み２０μｍ以下、１５μｍ程度により構成することができる。これらにより光学フィルム３は、全体として厚みを８７μｍ以下により十分に薄く作成することができる。これにより光学フィルム３は、十分な可撓性を確保することができる。

〔転写体〕
光学フィルム３は、粘着層７を介してこれら円偏光板６、直線偏光板５が一体化され、この一体化の処理に、転写法が適用される。

ここで、転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。

この実施形態では、直線偏光板５に、円偏光板６に係る層構成を転写法により積層する。従って被転写基材は、直線偏光板５であり、転写に供する層（転写層）は、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９の積層体である。

図３は、この転写体である転写フィルム２０の構成を示す図である。転写フィルム２０は、支持体基材２１上に、順次、円偏光板６に係る１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が設けられる。

ここで支持体基材２１は、転写に供する層（転写層）を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、透明フィルム材であるＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）フィルムが適用され、これにより転写フィルム２０は、光学特性を検査可能に構成される。なおＰＥＴフィルムは、コロナ処理され、これにより後述する離型層との間の密着力を適切に設定する。なお支持体基材２１は、全体の形状をシート形状としても良い。また支持体基材２１は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお支持体基材２１の厚みは、２０〜１００μｍである。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、支持体基材２１には、転写層側に、剥離を促進する離型層を設ける。

離型層は、相対的に、支持体基材２１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層との密着性は低い（剥離性は高い）材料を適用することができる。この実施形態では、転写層の最下層が紫外線硬化性樹脂による１／４波長板用賦型樹脂層１０であることにより、上述の支持体基材２１に対して、例えばシリコン樹脂（有機珪素系高分子化合物）、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂（アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等）との混合物が用いられる。この実施形態では、上述したＰＥＴフィルムによる支持体基材２１上に、メラミン樹脂による離型層を設け、離型層の上に設ける紫外線硬化性樹脂の塗布液に対する濡れ性を確保する。

なお、このようにコロナ処理したＰＥＴフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないＰＥＴフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。またこれに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないＴＡＣフィルムを支持体基材に適用して、離型層を省略してもよい。このようにすると構成を簡略化することができる。

因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材２１と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層は、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く（剥離性は高く）、剥離層との密着性が高い（剥離性は低い）材料を適用することができる。より具体的には、この実施形態において、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した２種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した１種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、１〜１０μｍ程度である。また剥離層は、支持体基材２１に設けても良く、剥離層に設けてもよい。

１／４波長板用賦型樹脂層１０は、この支持体基材２１の上に、又は支持体基材２１の上に形成された剥離層の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／４波長板用配向膜１１は、賦型に供する微細凹凸形状を周側面に形成した賦型用金型（ロール版）を用いて１／４波長板用賦型樹脂層１０を賦型処理して作成される。１／４波長板用位相差層８は、１／４波長板用配向膜１１上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。

１／２波長板用賦型樹脂層１２は、１／４波長板用位相差層８の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／２波長板用配向膜１３は、１／４波長板用配向膜１１と同様に、賦型用金型を用いて１／２波長板用賦型樹脂層１２を賦型処理して作成される。１／２波長板用位相差層９は、１／２波長板用配向膜１３上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。しかして転写体では、これら円偏光板に係る層構成である、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が、転写に供する転写層である。

さらに転写フィルム２０は、円偏光板６に係る層構成に係る転写層の上に、粘着層７、セパレータフィルム２３が設けられる。

ここで粘着層７は、転写層と被転写基材とを接着するための層である。転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。この実施形態では、アセチルセルロース（酢酸纖維素）、ニトロセルロース（硝酸纖維素又は硝化綿）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース（纖維素）系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。接着剤層の厚みは、１〜３０μｍ程度である。
なお、粘着層７は、紫外線硬化性樹脂を使用してもよく、この場合は、光学フィルムの厚みを一段と薄くすることができる。

セパレータフィルム２３は、粘着層７の表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム２３は、粘着層７が露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。

〔光学フィルムの製造工程〕
図４は、光学フィルム３の製造工程を示す図である。この製造工程３０は、直線偏光板５に係る鹸化処理が実行された基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材が供給ロール３１、３２により提供される。また転写フィルム２０が供給リール３３により提供される。この工程３０は、供給リール３３から転写フィルム２０を引き出し、剥離ロール３４によりセパレータフィルム２３を剥離して粘着層７を露出させる。なお剥離したセパレータフィルム２３は、巻き取りリール３６に巻き取られる。

この工程３０は、供給ロール３１、３２からそれぞれ基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材を引き出し、セパレータフィルム２３を剥離した転写フィルム２０と積層し、押圧ローラ３８Ａ、３８Ｂにより押圧する。これによりこの工程３０は、基材１５、光学機能層１６、転写層を一体化する（直線偏光板の製造工程、転写工程）。

続いて、この工程３０は、剥離ローラ３９により支持体基材２１を剥離する。なお剥離した支持体基材２１は、巻き取りロール４０に巻き取られる。また続いて粘着層４に係る粘着剤を塗付した後、供給リール４１より供給されるセパレータフィルム４２を加圧ローラ４３Ａ、４３Ｂにより貼り付け、巻き取りリール４４に巻き取る。

〔転写体の製造工程〕
図５及び図６は、転写フィルム２０の製造工程を示す略線図である。この製造工程５０は、支持体基材２１を供給リール５１から引き出し、ダイ５２により紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程５０において、ロール版５３は、１／４波長板用配向膜１１に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程５０は、紫外線硬化性樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ５４によりロール版５３に押圧し、高圧水銀燈（紫外線ランプ）からなる紫外線照射装置５５による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させる。これにより製造工程５０は、ロール版５３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する。その後、剥離ローラ５６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ５９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置５７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール５８に巻き取る（１／４波長板形成工程）。この一連の処理により支持体基材２１の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が形成される。

続いて図６に示すように、製造工程６０において、巻き取りリール５８から巻き取った支持体基材２１を引き出し、ダイ６２により紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程６０において、ロール版６３は、１／２波長板用配向膜１３に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程６０は、紫外線硬化性樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ６４によりロール版６３に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置６５による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させる（１／２配向層形成工程）。これにより製造工程６０は、ロール版６３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する。その後、剥離ローラ６６によりロール版６３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ６９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置６７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール６８に巻き取る（１／２波長板形成工程）。この工程６０の一連の処理により、支持体基材２１に形成された１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８の上に、さらに１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次作成され、これらにより支持体基材２１の上に円偏光板６に係る構成が作成される。転写体は、さらに粘着層７、セパレータフィルム２３が配置される。

〔１／４波長板形成工程における液晶材料の反応率〕
上述のように、１／４波長板形成工程において、１／４波長板用位相差層８は、ダイ５９により１／４波長板用賦型樹脂層１０上に液晶材料が塗布され、紫外線照射装置５７により液晶材料が硬化されることによって形成される。
ここで、紫外線照射装置５７は、紫外線を照射する紫外線ランプが４灯設けられており、そのそれぞれに、光量調整用のＵＶカットフィルタが設けられている。紫外線照射装置５７は、ＵＶカットフィルタにより、紫外線ランプから照射される紫外線の光量を調整することができる。また、紫外線照射装置５７には、紫外線照射領域を窒素に置換する、いわゆる窒素パージを行うことができる。

紫外線照射装置５７は、紫外線照射量と、窒素パージの有無等を変化させることにより、塗布された液晶材料の反応率（硬化度）を調整することができる。この反応率を調整することによって、１／４波長板用位相差層８を適正に形成するとともに、１／４波長板用位相差層８の上に形成される１／２波長板用賦型樹脂層１２との密着性を良好にすることができる。
反応率とは、液晶材料（位相差層形成樹脂）の通常の硬化に使用する紫外線照射量に対する実際に照射する紫外線照射量の比率をいう。また、反応率に係る紫外線照射量は、紫外線ランプの照射光量の照射時間による積分値である。なお、照射時間は、支持体基材２１の送り速度により調整される。

ここで、１／４波長板用位相差層８を形成する液晶材料の赤外吸収ピーク比に対する、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）の密着性と、硬化不足による１／４波長板用位相差層８の表面のタック性（粘着性）との関係の評価結果を以下の表１に示す。
表１における赤外吸収ピーク比は、１／４波長板用位相差層８における、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比によって特定される。ここで、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとは、紫外線照射による反応で消失しないエステル結合のピークを示し、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとは、紫外線照射による反応で消失するＣ＝Ｃに起因するピークを示す。
なお、赤外線吸収ピークは、赤外吸収スペクトル測定におけるＡＴＲ法によって測定される。本実施形態では、製造した転写フィルム２０の１／２波長板用位相差層９及び１／２波長板用賦型樹脂層１２を切削加工や、エッチング処理等をして、１／４波長板用位相差層８を表出させる。そして、上述の赤外吸収スペクトル測定におけるＡＴＲ法によって、表出した１／４波長板用位相差層８の赤外線吸収ピークを測定する。なお、本実施形態の赤外吸収スペクトル測定は、日本分光株式会社製のＦＴ−ＩＲ（６１０）を使用した。

ここで、密着性の評価は、形成した複数の転写体の表面にテープを貼付し、テープを介して転写層を支持体基材２１から剥がそうとしたときに、１／４波長板用位相差層８と１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）との間で分離するか否かを実験した結果であり、○は検査した全品が分離しなかった場合を示し、×は全品分離してしまった場合を示す。
また、タック性（粘着性）の評価は、ロール化した場合にブロッキング（ハリツキ）が生じているか否かにより判断されるものであり、○は、１／４波長板用位相差層８の表面に十分なタック性が認められた状態を示し、×は、タック性が認められなかった状態を示す。

表１に示すＵＶ照射光量は、４灯の紫外線ランプによる光量を示すため、例えば、実施例１の場合、ＵＶ照射光量は、３０４ｍＪ／ｃｍ^２（７６×４）となる。また、各紫外線ランプにはＵＶカットフィルタが設けられているため、表１に記載のＵＶカットフィルタ条件に記載のカット率に基づいて、ＵＶ照射光量は、低減される。例えば、実施例１の場合、前述の計算により、紫外線ランプによる総照射光量が３０４ｍＪ／ｃｍ^２であり、カット率が１０％であるので、実際に照射される紫外線の照射光量は、２７３．６ｍＪ／ｃｍ^２（３０４×（１−０．１））となる。

表１に示すように、比較例１は、紫外線照射光量が１９×４（７６）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが１０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．７４となり、配向層との密着は良好であるが、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められなかった。
比較例２は、紫外線照射光量が７６×４（３０４）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが５０％であり、窒素パージがある場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．１６となり、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められたが、配向層との密着性が低かった。
比較例３は、紫外線照射光量が９５×４（３８０）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが５０％であり、窒素パージがある場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．１２となり、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められたが、配向層との密着性が低かった。

比較例４は、紫外線照射光量が１９×４（７６）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが５０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．７８となり、配向層との密着は良好であるが、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められなかった。
比較例５は、紫外線照射光量が１９×４（７６）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．８２となり、配向層との密着は良好であるが、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められなかった。

これに対して、実施例１では、紫外線照射光量が７６×４（３０４）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが１０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．４２となり、配向層との密着が良好であるとともに、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められた。
実施例２は、紫外線照射光量が９５×４（３８０）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが１０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．３３となり、配向層との密着が良好であるとともに、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められた。
実施例３は、紫外線照射光量が１９×４（７６）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが５０％であり、窒素パージがある場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．２７となり、配向層との密着が良好であるとともに、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められた。
実施例４は、紫外線照射光量が７６×４（３０４）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが５０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．６１となり、配向層との密着が良好であるとともに、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められた。

実施例５は、紫外線照射光量が９５×４（３８０）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが５０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．５６となり、配向層との密着が良好であるとともに、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められた。
実施例６は、紫外線照射光量が７６×４（３０４）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．４７となり、配向層との密着が良好であるとともに、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められた。
実施例７は、紫外線照射光量が９５×４（３８０）［ｍＪ／ｃｍ^２］であり、ＵＶカットフィルタが０％であり、窒素パージが無い場合であり、この場合、液晶材料の赤外吸収ピーク比が０．３７となり、配向層との密着が良好であるとともに、１／４波長板用位相差層８に十分なタック性が認められた。

以上の評価結果により、１／４波長板用位相差層８と１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）との密着性及びタック性（粘着性）を確保するには、１／４波長板用位相差層８を形成する液晶材料を、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比（赤外吸収ピーク比）を０．２５以上、０．６５以下にすることが好適であることが確認された。

以上より、本実施形態の発明は、１／４波長板形成工程において１／４波長板用位相差層８を形成する液晶材料（位相差層形成樹脂）を、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比（赤外吸収ピーク比）を０．２５以上、０．６５以下で硬化させるので、１／４波長板用位相差層８に対して１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）が密着した状態にすることができる。これにより、支持体基材から転写体を剥離する場合に、転写体が１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）間で分離してしまうのを抑制することができ、製造される光学フィルムの歩留まりが低下してしまうのを向上させることができる。

〔第２実施形態〕
図７は、図３との対比により本発明の第２実施形態に係る転写フィルムを示す図である。この転写フィルム７０は、ＰＥＴフィルムによる支持体基材２１に代えて、セパレータフィルム７１、粘着層４の積層体が配置され、このセパレータフィルム７１が支持体を構成すると共に、粘着層４が転写層の一部を構成する。ここでセパレータフィルム７１及び粘着層４は、図１について上述した画像表示パネル２への光学フィルム３の配置に係る構成である。この実施形態は、このセパレータフィルム７１、粘着層４に関する構成が異なる点を除いて、第１実施形態と同一に構成される。

このためこの実施形態では、図５及び図６において括弧書により示すように、転写体の製造工程において、支持体基材２１に代えて、セパレータフィルム７１、粘着層４の積層体が供給リール５１から供給されて、順次円偏光板６に係る層構造が作成され、転写フィルム７０が生産される。

またこれにより図４との対比により図８に示すように、光学フィルムの製造工程では、支持体基材２１を剥離する構成（３９、４０：図４参照）、粘着層、セパレータフィルム４２を配置する構成（４１、４２、４３Ａ、４３Ｂ：図４参照）が省略されて、転写フィルム７０より光学フィルム３が生産される。

以上より、本実施形態では、光学フィルム３に係る粘着層４及びセパレータフィルムの積層体を適用して転写体を生産するようにしても、上述の第１実施形態と同様に、１／４波長板形成工程において１／４波長板用位相差層８を形成する液晶材料（位相差層形成樹脂）を、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比（赤外吸収ピーク比）を０．２５以上、０．６５以下で硬化させるので、１／４波長板用位相差層８に対して１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）が密着した状態にすることができる。これにより、転写層が、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）間で分離してしまうのを防ぐことができる。また、この場合、転写層を転写した後、改めて、光学フィルムの粘着層、セパレータフィルムを設けなくても良いことにより、生産材の消費を低減して効率良く光学フィルムを生産することができる。また工程も簡略化することができる。

〔第３実施形態〕
図９は、図１との対比により本発明の第３実施形態に係る光学フィルムを示す図である。図１０は、図３との対比により本発明の第３実施形態に係る転写フィルムを示す図である。なお、以下の説明及び図面において、前述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
本実施形態の光学フィルム１０３は、第１実施形態の光学フィルム３と相違して、円偏光板１０６に１／４波長板用賦型樹脂層１０が省略されており、円偏光板１０６は、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９から構成されている。
また、これに関連して本実施形態では、転写フィルム１２０の転写に供する層（転写層）は、図１０に示すように、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９の積層体である。
支持体基材２１は、透明フィルム材であるＰＥＴフィルムが適用され、これにより転写フィルム２０は、光学特性を検査可能に構成される。なお、ＰＥＴフィルムは、コロナ処理され、続く１／４波長板用賦型樹脂層２２との間で十分な密着力が確保される。

ここで、このように順次、１／４波長板用賦型樹脂層１１０、１／４波長板用配向膜１１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９を積層して作成される転写フィルム１２０において、１／４波長板用賦型樹脂層１１０、１／４波長板用配向膜１１１及び１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３は、それぞれ１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用位相差層９を作成するための構成と言え、円偏光板１０６は、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用位相差層９だけあれば光学的には十分に機能することになる。

従って、円偏光板１０６の光学的機能を担保する上で、１／４波長板用賦型樹脂層１１０、１／４波長板用配向膜１１１、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３は不要な層であると言える。しかしながら、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３は、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用位相差層９を保持する層間の部材としての機能も有する。

これにより、この実施形態では、転写に供する転写層を、上述したように、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９に設定し、支持体には、支持体基材２１、１／４波長板用賦型樹脂層１１０、１／４波長板用配向膜１１１が割り当てられる。また、これにより支持体側の構成にあっては、直線偏光板５への転写の際に、その一部でも転写層と共に直線偏光板５側に転写（移行）しないように、また転写層にあっては、その一部でも支持体側に取り残されないように構成される。

具体的には、１／４波長板用賦型樹脂層１１０にあっては、その表面形状が、１／４波長板用配向膜１１１として十分に機能し、かつ、支持体を転写層から剥離する際に、離型層として十分に機能するように構成される。これにより、１／４波長板用賦型樹脂層１１０は、１／４波長板用配向膜１１１を形成した状態で、支持体基材２１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層の最下層である１／４波長板用位相差層８との密着性は低い（剥離性は高い）材料が適用される。またさらに、転写フィルム１２０に形成される他の層間の密着力に比して、１／４波長板用位相差層８との間の密着力が十分に小さい材料が適用される。

１／４波長板用賦型樹脂層１１０、１／４波長板用位相差層８には、賦型処理に供する紫外線硬化性樹脂、光学フィルムに供される液晶材料からこれらの条件を満足する材料が選択されて、又はこれらの条件を満足するように調製されて適用される。ここで、上述の第１実施形態と同様に、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９には、フッ素化合物が添加された液晶材料が、１／２波長板用賦型樹脂層１２には、フッ素化合物が添加された紫外線硬化性樹脂がそれぞれ適用される。

なお、このような各材料の選定、調整に代えて、別途、１／４波長板用賦型樹脂層１１０の表面に、離型層を設けるようにしてもよい。このような離型層としては、例えば、シリコン樹脂（有機珪素系高分子化合物）、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂（アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等）との混合物を適用することができる。

また、離型層による剥離性が不十分な場合、離型層の支持体側に剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお、剥離層は、相対的に、１／４波長板用賦型樹脂層１１０との密着性が低く（剥離性は高く）、剥離層との密着性が高い（剥離性は低い）材料を適用することができる。より具体的には、この実施形態において、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した２種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した１種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。

この実施形態では、転写体の製造工程において、第１実施形態と同様に、支持体基材２１が供給リール５１から供給されて、順次円偏光板６に係る層構造が作成され、転写フィルム１２０が生産される（図５、図６参照）。

以上より、本実施形態では、上述の第１実施形態と同様に、１／４波長板形成工程において１／４波長板用位相差層８を形成する液晶材料（位相差層形成樹脂）を、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比（赤外吸収ピーク比）を０．２５以上、０．６５以下で硬化させるので、１／４波長板用位相差層８に対して１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）が密着した状態にすることができる。これにより、転写層が、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）間で分離してしまうのを防ぐことができる。また、第１実施形態の光学フィルム３に比べ１／４波長板用賦型樹脂層が省略されるので、層構成が簡略化され、薄型化された光学フィルム１０３を生産することができる。

〔第４実施形態〕
図１１は、第４実施形態に係る画像表示装置を示す図である。
本実施形態の転写フィルム２２０は、第１実施形態の転写フィルム２０と相違して、セパレータフィルム２３を剥離して画像表示パネル２に貼付され、支持体基材２１を剥離して直線偏光板５に接着される。
転写フィルム２２０は、図１１に示すように、支持体基材２１の上面に、順次、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が設けられ、さらにその上に、粘着層４及びセパレータフィルム２３が設けられる。
転写フィルム２２０は、支持体基材２１を転写層から剥がして、粘着層７が設けられた直線偏光板５に貼付され、また、セパレータフィルム２３を粘着層４から剥がして、粘着層４により画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられることによって、画像表示装置１が形成される。

この実施形態の転写フィルム２２０は、第１実施形態の転写体の製造工程と同様の要領で、まず、支持体基材２１の上に、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が形成され、更にその上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が形成される。
ここで、本実施形態の転写フィルム２２０の構成の場合、１／２波長板用位相差層９と１／４波長板用賦型樹脂層１０との密着性が問題となるので、１／２波長板用位相差層９の形成工程（１／２波長板形成工程）において、液晶材料の反応率を、上述の実施形態と同様に調整して１／２波長板用位相差層９を形成する必要がある。

以上より、本実施形態では、１／２波長板形成工程において、１／２波長板用位相差層９を形成する液晶材料（位相差層形成樹脂）を、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークと、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとの比（赤外吸収ピーク比）を０．２５以上、０．６５以下で硬化させるので、１／２波長板用位相差層９に対して１／４波長板用賦型樹脂層１０（配向層）が密着した状態にすることができる。これにより、転写層が、１／２波長板用位相差層９及び１／４波長板用賦型樹脂層１０（配向層）間で分離してしまうのを防ぐことができる。

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。

（１）各実施形態において、光学フィルムは、転写層を支持体基材から剥離する転写体から構成される例を説明したが、これに限定されず、円偏光板を構成する各層を積層した支持体基材から構成されるようにしてよい。

（２）各実施形態において、賦型処理により配向膜を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも適用することができる。

（３）各実施形態では、転写層側に粘着層７を設けるようにして、この粘着層７により直線偏光板５と転写層とを一体化する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、この粘着層７を直線偏光板５側に設けるようにしてもよい。

（４）各実施形態では、ロール版により賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。

（５）各実施形態では、ロール材の連続した処理により粘着層４、セパレータの配置を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状により切り出した後に配置するようにしてもよい。

１ 画像表示装置
２ 画像表示パネル
３、１０３ 光学フィルム
４、７ 粘着層
５ 直線偏光板
６、１０６ 円偏光板
８ １／４波長板用位相差層
９ １／２長板用位相差層
１０、１１０ １／４波長板用賦型樹脂層
１１、１１１ １／４波長板用配向膜
１２ １／２波長板用賦型樹脂層
１３ １／２波長板用配向膜
１５ 基材
１６ 光学機能層
２０、７０、１２０ 転写フィルム
２１ 支持体基材
２３、４２、７１ セパレータフィルム
３０、５０、６０ 製造工程
３１、３２、３３、４１、５１ 供給リール
３４ 剥離ロール
３６、４０、４４、５８、６８ 巻き取りリール
３８Ａ、３８Ｂ 押圧ローラ
３９ 剥離ローラ
４３Ａ、４３Ｂ、５４、６４ 加圧ローラ
５２、５８、６２、６９ ダイ
５３、６３ ロール版
５５、５７、６５、６７ 紫外線照射装置
５６、６６ 剥離ローラ

Claims (4)

1. 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルムであって、
   前記１／４波長板用位相差層は、位相差層形成樹脂により構成され、支持体上に設けられ、
   前記１／２波長板用配向層は、配向層形成樹脂により構成され、前記１／４波長板用位相差層の上に設けられ、
   前記１／２波長板用位相差層は、前記位相差層形成樹脂により構成され、前記１／２波長板用配向層の上に設けられ、
   前記１／４波長板用位相差層は、ＡＴＲ法によって測定された波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）に対する、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）の比率（Ｐ２／Ｐ１）が０．２５以上０．６５以下であること、
   を特徴とする光学フィルム。
2. 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層とを備える光学フィルムであって、
   前記１／２波長板用位相差層は、位相差層形成樹脂により構成され、支持体上に設けられ、
   前記１／４波長板用配向層は、配向層形成樹脂により構成され、前記１／２波長板用位相差層の上に設けられ、
   前記１／４波長板用位相差層は、前記位相差層形成樹脂により構成され、前記１／４波長板用配向層の上に設けられ、
   前記１／２波長板用位相差層は、ＡＴＲ法によって測定された波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）に対する、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）の比率（Ｐ２／Ｐ１）が０．２５以上０．６５以下であること、
   を特徴とする光学フィルム。
3. 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルムの製造方法であって、
   位相差層形成樹脂を硬化させて成膜し、前記１／４波長板用位相差層を支持体上に形成する１／４波長板形成工程と、
   配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用配向層を前記１／４波長板用位相差層の上に形成する１／２配向層形成工程と、
   前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用位相差層を前記１／２波長板用配向層の上に形成する１／２波長板形成工程とを備え、
   前記１／２波長板形成工程後における前記１／４波長板位相差層は、ＡＴＲ法によって測定された波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）に対する、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）の比率（Ｐ２／Ｐ１）が０．２５以上０．６５以下となるように硬化していること、
   を特徴とする光学フィルムの製造方法。
4. 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層とを備える光学フィルムの製造方法であって、
   位相差層形成樹脂を硬化させて成膜し、前記１／２波長板用位相差層を支持体上に形成する１／２波長板形成工程と、
   配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用配向層を前記１／２波長板用位相差層の上に形成する１／４配向層形成工程と、
   前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用位相差層を前記１／４波長板用配向層の上に形成する１／４波長板形成工程とを備え、
   前記１／４波長板形成工程後における前記１／２波長板位相差層は、ＡＴＲ法によって測定された波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）に対する、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）の比率（Ｐ２／Ｐ１）が０．２５以上０．６５以下となるように硬化していること、
   を特徴とする光学フィルムの製造方法。

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