JP2014071209A - 光学フィルム用転写体、光学フィルム、光学フィルム用転写体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】支持体から転写層を適正に剥離することができる光学フィルム用転写体、光学フィルム、光学フィルム用転写体の製造方法を提供する。
【解決手段】光学フィルム用転写体２０は、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層９と、１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層１２と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層８とを少なくとも有する多層構造による転写層と、転写層を保持する支持体とを備え、支持体は、１／４波長板用位相差層８に係る１／４波長板用配向層２２が含まれており、１／４波長板用配向層２２及び１／２波長板用配向層１２は、配向層形成樹脂を硬化させて形成され、１／４波長板用配向層２２は、赤外線吸収ピークの比が１／２波長板用配向層１２よりも低い値で硬化されることを特徴とする。
【選択図】図３

Description

本発明は、例えば画像表示パネルに配置して、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルム用転写体、光学フィルム、光学フィルム用転写体の製造方法に関するものである。

従来、画像表示パネル等に関して、画像表示パネルの出射面に光学フィルムを配置し、この光学フィルムによる偏光面の制御により外来光の反射を低減する方法が提案されている。この光学フィルムは、直線偏光板、円偏光板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く円偏光板により円偏光に変換する。ここで、この円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。

この光学フィルムに関して、特許文献１等には、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて円偏光板を構成することにより、この光学フィルムを正の分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性により光学フィルムを構成することができる。

ところで、このような光学フィルムは、いわゆる転写法の手法を適用して作成することが考えられる。具体的には、支持体上に、１／４波長板として機能する１／４波長板用位相差層、１／２波長板に係る配向層、１／２波長板として機能する１／２波長板用位相差層を順に積層した転写層を形成した転写フィルムを構成し、この転写フィルムから転写層を転写して光学フィルムを作成することが考えられる。しかしながら、事件した結果によれば、支持体から転写層が適正に剥離することができない場合があった。

特開平１０−６８８１６号公報

本発明の課題は、支持体から転写層を適正に剥離することができる光学フィルム用転写体、光学フィルム、光学フィルム用転写体の製造方法を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、支持体基材に含まれる配向層形成樹脂を特定の範囲の反応率で硬化させる、との着想に至り、本発明を完成するに至った。

（１） 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層と、前記転写層を保持する支持体とを備え、前記支持体は、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層が含まれており、前記１／４波長板用配向層及び前記１／２波長板用配向層は、配向層形成樹脂を硬化させて形成され、前記１／４波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が、前記１／２波長板用配向層の前記比よりも低い値で硬化されること、を特徴とする光学フィルム用転写体。

（２） 前記１／２波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０以上であり、前記１／４波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０未満であること、を特徴とする請求項１に記載の光学フィルム用転写体。

（３） 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層と、前記転写層を保持する支持体とを備え、前記支持体は、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層が含まれており、前記１／４波長板用配向層及び前記１／２波長板用配向層は、配向層形成樹脂を硬化させて形成され、前記１／２波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が、前記１／４波長板用配向層の前記比よりも低い値で硬化されること、を特徴とする光学フィルム用転写体。

（４） 前記１／４波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０以上であり、前記１／２波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０未満であること、を特徴とする請求項３に記載の光学フィルム用転写体。

（５） 透明フィルムによる基材と、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層であること、を特徴とする光学フィルム。

（６） 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルム用転写体の製造方法であって、配向層形成樹脂を硬化させて基材上に成膜し、前記１／４波長板用配向層を形成する支持体形成工程と、位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用位相差層を前記１／４波長板用配向層の上に形成する１／４波長板形成工程と、前記配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用配向層を前記１／４波長板用位相差層の上に形成する１／２配向層形成工程と、前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用位相差層を前記１／２波長板用配向層の上に形成する１／２波長板形成工程とを備え、前記支持体形成工程は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）を、前記１／２波長板用配向層の前記比よりも低くして前記１／４波長板用配向層を形成すること、を特徴とする光学フィルム用転写体の製造方法。

（７） 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルム用転写体の製造方法であって、配向層形成樹脂を硬化させて基材上に成膜し、前記１／２波長板用配向層を形成する支持体形成工程と、位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用位相差層を前記１／２波長板用配向層の上に形成する１／２波長板形成工程と、前記配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用配向層を前記１／２波長板用位相差層の上に形成する１／４配向層形成工程と、前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用位相差層を前記１／４波長板用配向層の上に形成する１／４波長板形成工程とを備え、前記支持体形成工程は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）を、前記１／４波長板用配向層の前記比よりも低くして前記１／２波長板用配向層を形成すること、を特徴とする光学フィルム用転写体の製造方法。

本発明によれば、支持体から転写層を適正に剥離することができる。

本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。 図１の画像表示装置に設けられる光学フィルムの説明に供する図である。 図２の光学フィルムに適用される転写フィルムを示す図である。 図２の光学フィルムの製造工程を示す図である。 図３の転写フィルムの製造工程を示す図である。 図５の続きを示す図である。 １／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）を形成する紫外線硬化性樹脂の赤外吸収ピーク比に対する、１／４波長板用位相差層８の密着性及び転写性についての評価結果を示す図である。 第２実施形態の転写フィルムを示す図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１では、画像表示パネル２のパネル面に、光学フィルム３が配置される。画像表示パネル２は、可撓性を有するシート形状による有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。

光学フィルム３は、偏光面の制御により、画像表示パネル２に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムである。このため光学フィルム３は、直線偏光板５、円偏光板６を積層して構成される。光学フィルム３は、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による粘着層４を露出させた後、この粘着層４により、画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられて保持される。また直線偏光板５及び円偏光板６は、粘着層７を介して一体化される。

円偏光板６は、透過光に１／４波長分の位相差を付与して１／４位相差板として機能する部位８（１／４波長板用位相差層と呼ぶ）と、透過光に１／２波長分の位相差を付与して１／２位相差板として機能する部位９（１／２波長板用位相差層と呼ぶ）との積層体により構成される。これにより円偏光板６は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で円偏光版としての特性を確保し、光学フィルム３は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。

これらにより画像表示装置１では、画像表示パネル２の表示画面側より、順次、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９、直線偏光板５が配置される。また図２に示すように、矢印により示す直線偏光板５の透過軸又は吸収軸に対して、１／２波長板用位相差層９及び１／４波長板用位相差層８の遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回り又は時計回りに１３〜１７度の範囲、７１〜７６度の範囲で角度を成すように配置される。なおこの角度は、それぞれが反時計回り又は時計回りに１４〜１６度、７２〜７４度で配置されることがより好ましい。

より具体的に、１／４波長板用位相差層８は、面内位相差（Ｒｅ）が１０５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下により作成され、１／２波長板用位相差層９は面内位相差（Ｒｅ）が２２０ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下により作成される。なお１／４波長板用位相差層８は、面内位相差（Ｒｅ）が１１０ｎｍ以上、１３０ｎｍ以下により作成され、１／２波長板用位相差層９は面内位相差（Ｒｅ）が２３０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下により作成されることがより好ましい。これにより光学フィルム３は、直線偏光板５側より入射する可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光を、楕円率０．８以上の円偏光により出射する。

円偏光板６は、画像表示パネル２側に、１／４波長板用位相差層８が設けられる。ここで１／４波長板用位相差層８は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成される。円偏光板６は、後述する転写体において１／４波長板用賦型樹脂層に微細な凹凸形状が作成されて１／４波長板用配向膜が形成され、この１／４波長板用配向膜の配向規制力により液晶材料がパターンニングされて１／４波長板用位相差層８が形成される。なお、１／４波長板用配向膜２３が形成された１／４波長板用賦型樹脂層２２を配向層（１／４波長板用配向層）という。

また続いて円偏光板６は、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次設けられる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なおこの紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、円偏光板６は、この１／２波長板用賦型樹脂層１２の表面形状により１／２波長板用配向膜１３が形成される。１／２波長板用位相差層９は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、円偏光板６は、この液晶材料の配向を１／２波長板用配向膜１３の配向規制力によりパターンニングする。なお、１／２波長板用配向膜１３が形成された１／２波長板用賦型樹脂層１２を配向層（１／２波長板用配向層）という。

ここでこれら１／２波長板用配向膜１３及び１／４波長板用配向膜に係る微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、位相差層８、９における遅相軸の設定に対応するように、この一方向に延長する方向が直線偏光板５の透過軸に対して、それぞれ反時計回り又は時計回りに約１５度、約７３度の角度を成すように作成される。

直線偏光板５は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材１５の下面側が鹸化処理された後、光学機能層１６が配置される。なお基材１５は、これに代えてポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。

光学機能層１６は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。

しかして光学フィルム３の円偏光板６に係る構成において、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９は、それぞれ液晶性材料を用いることにより、それぞれ厚み１μｍ、２μｍ程度により作成することができる。なおこの位相差層８、９の材料は、液晶性を有する材用であれば、円盤状液晶、棒状液晶等を適宜適用できる。液晶性材料の正面リタデーション（Ｒｅ）の波長分散性は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるＲｅをそれぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）とすると、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を１．２以下に、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）を０．９以上にすることが好ましい。また賦型樹脂層１２は、厚み２μｍ程度、粘着層４は、厚み１５μｍ以下により作成することができる。また直線偏光板５に係る構成において、基材１５は、厚み３０μｍ程度により構成することができ、光学機能層１６は、厚み２０μｍ以下により構成することができる。また粘着層７は、厚み１５μｍ程度により構成することができる。これらにより光学フィルム３は、全体として厚みを８５μｍ以下により十分に薄く作成することができる。これにより光学フィルム３は、十分な可撓性を確保することができる。

〔転写体〕
光学フィルム３は、粘着層７を介してこれら円偏光板６、直線偏光板５が一体化され、この一体化の処理に、転写法が適用される。

ここで転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。

この実施形態では、直線偏光板５に、円偏光板６に係る層構成を転写法により積層する。従って被転写基材は、直線偏光板５である。転写に供する層（転写層）は、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９の積層体である。

図３は、この転写体である転写フィルムの構成を示す図である。転写フィルム２０は、支持体基材２１上に、順次、円偏光板６に係る１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が設けられる。

ここで支持体基材２１は、転写に供する層（転写層）を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、透明フィルム材であるＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）フィルムが適用され、これにより転写フィルム２０は、光学特性を検査可能に構成される。なおＰＥＴフィルムは、コロナ処理され、続く１／４波長板用賦型樹脂層２２との間で十分な密着力が確保される。なお支持体基材２１は、全体の形状をシート形状としても良い。また支持体基材２１は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお支持体基材２１の厚みは、２０〜１００μｍである。

１／４波長板用賦型樹脂層２２は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なおこの紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。１／４波長板用賦型樹脂層２２は、支持体基材２１の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成される。

１／４波長板用配向膜２３は、微細凹凸形状を周側面に形成した賦型用金型（ロール版）を用いた賦型処理により、この１／４波長板用賦型樹脂層２２の表面に微細な凹凸形状が形成されて作成される。しかして光学フィルム３について（図１）上述した１／４波長板用位相差層８は、１／４波長板用配向膜２３上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。

１／２波長板用賦型樹脂層１２は、１／４波長板用位相差層８の上に、１／４波長板用賦型樹脂層２２と同様に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／２波長板用配向膜１３は、１／４波長板用配向膜２３と同様に、賦型用金型を用いて１／２波長板用賦型樹脂層１２を賦型処理して作成される。１／２波長板用位相差層９は、１／２波長板用配向膜１３上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。

さらに転写フィルム２０は、転写層の上に、粘着層７、セパレータフィルム２４が設けられる。

ここで粘着層７は、転写層と被転写基材とを接着するための層である。転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。この実施形態では、アセチルセルロース（酢酸纖維素）、ニトロセルロース（硝酸纖維素又は硝化綿）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース（纖維素）系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。接着剤層の厚みは、１〜３０μｍ程度である。
なお、粘着層７は、紫外線硬化性樹脂を使用してもよく、この場合は、光学フィルムの厚みを一段と薄くすることができる。

セパレータフィルム２４は、粘着層７の表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム２４は、粘着層７が露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。

ここでこのように順次、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９を積層して作成される転写フィルム２０において、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３及び１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３は、それぞれ１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用位相差層９を作成するための構成と言え、円偏光板６は、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用位相差層９だけあれば光学的には十分に機能することになる。

これにより円偏光板６の光学的機能を担保する上で、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３は不要な層であると言える。しかしながら１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３は、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用位相差層９を保持する層間の部材としての機能も有する。

これによりこの実施形態では、転写に供する転写層を、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９に設定し、支持体には、支持体基材２１、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３が割り当てられる。またこれにより支持体側の構成にあっては、直線偏光板５への転写の際に、その一部でも転写層と共に直線偏光板５側に転写（移行）しないように、また転写層にあっては、その一部でも支持体側に取り残されないように構成される。

具体的に、１／４波長板用賦型樹脂層２２にあっては、その表面形状が、１／４波長板用配向膜２３として十分に機能し、かつ支持体を転写層から剥離する際に、離型層として十分に機能するように構成される。これにより１／４波長板用賦型樹脂層２２は、１／４波長板用配向膜２３を形成した状態で、支持体基材２１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層の最下層である１／４波長板用位相差層８との密着性は低い（剥離性は高い）材料が適用される。またさらに、転写フィルム２０に形成される他の層間の密着力に比して、１／４波長板用位相差層８との間の密着力が十分に小さい材料が適用される。

１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用位相差層９には、賦型処理に供する紫外線硬化性樹脂、光学フィルムに供される液晶材料からこれらの条件を満足する材料が選択されて、又はこれらの条件を満足するように調製されて適用される。

〔光学フィルムの製造工程〕
図４は、光学フィルム３の製造工程を示す図である。この製造工程３０は、直線偏光板５に係る鹸化処理が実行された基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材が供給ロール３１、３２により提供される。また転写フィルム２０が供給リール３３により提供される。この工程３０は、供給リール３３から転写フィルム２０を引き出し、剥離ロール３４によりセパレータフィルム２４を剥離して粘着層７を露出させる。なお剥離したセパレータフィルム２４は、巻き取りリール３６に巻き取られる。

この工程は、供給ロール３１、３２からそれぞれ基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材を引き出し、セパレータフィルム２４を剥離した転写フィルム２０と積層し、押圧ローラ３８Ａ、３８Ｂにより押圧する。これによりこの工程３０は、基材１５、光学機能層１６、転写層を一体化する。

続いてこの工程３０は、剥離ローラ３９により支持体（支持体基材２１、１／４波長板用賦型樹脂層２２）を剥離する。なお剥離した支持体は、巻き取りロール４０に巻き取られる。また続いて粘着層４に係る粘着剤を塗付した後、供給リール４１より供給されるセパレータフィルム４２を加圧ローラ４３Ａ、４３Ｂにより貼り付け、巻き取りリール４４に巻き取る。

〔転写フィルムの製造工程〕
図５及び図６は、転写フィルム２０の製造工程を示す略線図である。この製造工程５０は、支持体基材２１を供給リール５１から引き出し、ダイ５２により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程５０において、ロール版５３は、１／４波長板用配向膜２３に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程５０は、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ５４によりロール版５３に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置５５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程５０は、ロール版５３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する（支持体形成工程）。その後、剥離ローラ５６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ５９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置５７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール５８に巻き取る（１／４波長板形成工程）。この一連の処理により支持体基材２１の上に、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／４波長板用位相差層８が形成される。

続いて図６に示すように、転写フィルムの製造工程は、続く製造工程６０において、巻き取りリール５８から巻き取った支持体基材２１を引き出し、ダイ６２により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程６０において、ロール版６３は、１／２波長板用配向膜１３に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程６０は、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ６４によりロール版６３に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置６５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程６０は、ロール版６３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する（１／２配向層形成工程）。その後、剥離ローラ６６によりロール版６３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ６９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置６７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール６８に巻き取る（１／２波長板形成工程）。この工程６０の一連の処理により、支持体基材２１に形成された１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／４波長板用位相差層８の上に、さらに１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次作成され、これらにより支持体基材２１の上に円偏光板６に係る構成が作成される。転写フィルムは、さらに粘着層７、セパレータフィルム２４が配置される。

以上の構成によれば、転写の手法を適用して光学フィルム３を作成することにより、光学フィルム３は、直線偏光板５側の１枚の基材１５により直線偏光板に係る光学機能層、１／２位相差板に係る光学機能層、１／４位相差板に係る光学機能層を一体に保持することができ、これにより構成を簡略化し、さらには全体形状を薄型化して十分な可撓性を確保することができる。またこのとき、下層側の１／４波長板用賦型樹脂層２２を支持体側の構成とすることにより、一段と全体形状を薄型化して可撓性を十分に確保することができる。

〔支持体形成工程〕
上述のように、支持体形成工程において、１／４波長板用賦型樹脂層２２は、ダイ５２により支持体基材２１上に紫外線硬化性樹脂（配向層形成樹脂）が塗布され、紫外線照射装置５５により紫外線硬化性樹脂を硬化させることによって形成される。
１／４波長板用賦型樹脂層２２は、支持体と転写層を剥離する離型層として十分に機能させるために、紫外線硬化性樹脂を特定の反応率で硬化させることによって形成される。一般に、反応率を高くして紫外線硬化性樹脂を硬化させ、賦型樹脂層を形成すると、反応率が低い場合に比べ、紫外線硬化性樹脂の未架橋な部分が少なくなるため、その賦型樹脂層の上に形成される他の層（位相差層）との密着性が低くなり、転写性（剥離性）が向上する。

そのため、本実施形態では、１／４波長板用賦型樹脂層２２の反応率を、密着性を十分に有する場合の紫外線硬化性樹脂の反応率よりも高くすることで、１／４波長板用賦型樹脂層２２の１／４波長板用位相差層８との密着性を弱くし、支持体と転写層の転写性（剥離性）を向上させる。具体的には、１／２波長板用位相差層９に対して十分に密着性を有した１／２波長板用賦型樹脂層１２の反応率に比べて、１／４波長板用賦型樹脂層２２の反応率を高くする。
ここで、反応率は、紫外線硬化性樹脂（配向層形成樹脂）の通常の硬化に使用する紫外線照射量に対する実際に照射する紫外線照射量の比率で特定する。また、反応率に係る紫外線照射量は、紫外線照射装置５５の照射光量の照射時間による積分値である。なお、照射時間は、支持体基材２１の送り速度により調整される。本実施形態では、配向層の反応率を赤外線ピークの比率で規定する。

次に、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）を形成する紫外線硬化性樹脂の赤外吸収ピーク比に対する、１／４波長板用位相差層８の密着性及び転写性について評価する。
図７は、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）を形成する紫外線硬化性樹脂の赤外吸収ピーク比に対する、１／４波長板用位相差層８の密着性及び転写性についての評価結果を示す図である。
図７における赤外吸収ピーク比（Ｐ２／Ｐ１）は、１／４波長板用賦型樹脂層２２における、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比によって特定される。ここで、波数が１７２０から１７５０ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとは、紫外線照射による反応で消失しないエステル結合のピークを示し、波数が８２０から８００ｃｍ^−１間の赤外線吸収ピークとは、紫外線照射による反応で消失するＣ＝Ｃに起因するピークを示す。
なお、赤外線吸収ピークは、赤外吸収スペクトル測定におけるＡＴＲ法によって測定される。本実施形態では、製造した転写フィルム２０の１／２波長板用位相差層９、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／４波長板用位相差層８を切削加工や、エッチング処理等をして、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）を表出させる。そして、上述の赤外吸収スペクトル測定におけるＡＴＲ法によって、表出した１／４波長板用賦型樹脂層２２の赤外線吸収ピークを測定する。なお、本実施形態の赤外吸収スペクトル測定は、日本分光株式会社製のＦＴ−ＩＲ（６１０）を使用した。

ここで、密着性の評価は、形成した複数の転写体の表面にテープを貼付し、テープを介して転写層を支持体基材２１から剥がそうとしたときに、１／４波長板用位相差層８と１／４波長板用賦型樹脂層１２（配向層）との間で分離するか否かを実験した結果であり、「高」は検査した全品が分離しなかった場合を示し、「中」は検査した多くが分離しなかった場合を示し、「低」は全品分離してしまった場合を示す。
また、転写性の評価は、上記密着性の評価に基づいて、転写可能であるか否かを評価しており、○は、十分に転写可能であることを示し、△は、ある程度転写可能であることを示し、×は、転写不可能であることを示す。

図７において、配向層、位相差層のＵＶ照射条件に、「ｃｌｏｓｅ系」と「ｏｐｅｎ系」とがあるが、「ｃｌｏｓｅ系」とは、図５、６における各配向層の硬化の場合に、ロール版５３、６３と支持体基材２１、２２、２３とで紫外線硬化樹脂をパッキングした状態で硬化させる条件をいう。また、「ｏｐｅｎ系」とは、図５、６における紫外線照射装置５７、６７のように、紫外線硬化樹脂や液晶樹脂をパッキングせずに空気中（実際は窒素パージ環境下）で硬化させる条件をいう。
すなわち、配向層は、紫外線硬化樹脂を、支持体基材２１とロール版５３とでパッキングされた状態で硬化（ｃｌｏｓｅ系）させた後に、空気中（窒素パージ環境下）で硬化させている（ｏｐｅｎ系）。一方、位相差層は、液晶材料を、空気中（窒素パージ環境下）のみで硬化（ｏｐｅｎ系）させている。
なお、本評価では、図７に示すように、１／４波長板用賦型樹脂層２２の上に形成される１／４波長板用位相差層８の液晶材料に対するＵＶ照射条件は同一である。また、１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）は、上記比較例１と同様の条件で紫外線硬化性樹脂が硬化されているため、１／２波長板用賦型樹脂層１２と１／２波長板用位相差層９とは十分な強度で密着している。また、１／４波長板用位相差層８と１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）も、１／２波長板用賦型樹脂層１２及び１／２波長板用位相差層９間の密着強度と同程度の強度で密着されている。
本評価では、紫外線照射装置５５は、１００％で２３３９．８ｍＷ／ｃｍ^２の照射出力を有し、波長範囲がＵＶＶである。紫外線照射装置５７は、１００％で４７５．２ｍＷ／ｃｍ^２の照射出力を有し、波長範囲がＵＶＡである。

図７に示すように、比較例１は、配向層のＵＶ照射条件を、ｃｌｏｓｅ系において、紫外線照射装置５５の照射出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を１２．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を１回とし、ｏｐｅｎ系において、窒素パージを伴った紫外線照射装置５５の照射出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を１２．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を１回とした場合である。この場合、配向層の赤外吸収ピーク比が０．３１５となり、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）と１／４波長板用位相差層８との密着性は「高」となり、支持体から転写層の転写性（剥離性）は×となる。

比較例２は、配向層のＵＶ照射条件を、比較例１のｏｐｅｎ系における繰り返し照射回数を１回から３回に変更した場合であり、この場合、配向層の赤外吸収ピーク比が０．３１２となり、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）と１／４波長板用位相差層８との密着性は「高」となり、支持体から転写層の転写性（剥離性）は×となる。
比較例３は、配向層のＵＶ照射条件を、ｃｌｏｓｅ系において、紫外線照射装置５５の照射出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を６．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を３回とし、ｏｐｅｎ系において、窒素パージを伴った紫外線照射装置５５の照射の出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を６．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を３回とした場合である。この場合、配向層の赤外吸収ピーク比が０．３０５となり、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）と１／４波長板用位相差層８との密着性は「中」となり、支持体から転写層の転写性（剥離性）が△となる。

これに対して、実施例１は、配向層のＵＶ照射条件を、ｃｌｏｓｅ系において、紫外線照射装置５５の照射出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を６．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を２回とし、ｏｐｅｎ系において、窒素パージを伴って紫外線照射装置５５の照射出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を６．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を１回とした場合である。この場合、配向層の赤外吸収ピーク比が０．２３６となり、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）と１／４波長板用位相差層８との密着性は「低」となり、支持体から転写層の転写性（剥離性）は○となった。
また、実施例２は、配向層のＵＶ照射条件を、ｃｌｏｓｅ系において、紫外線照射装置５５の照射出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を６．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を５回とし、ｏｐｅｎ系において、窒素パージを伴って紫外線照射装置５５の照射出力を９０％にし、支持体基材２１の送り速度を６．５ｍ／ｍｉｎとし、繰り返し照射回数を３回とした場合である。この場合、配向層の赤外吸収ピーク比が０．２９４となり、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）と１／４波長板用位相差層８との密着性は「低」となり、支持体から転写層の転写性（剥離性）は○となった。

以上の評価結果より、各実施例は、各比較例に比べ、支持体基材２１の送り速度を遅くし、また、照射の繰り返し回数を増やしていることから、紫外線硬化樹脂に対する紫外線照射量を増やすことでき、紫外線硬化性樹脂の未架橋な部分を減少させることができる。従って、紫外線照射量を増やして１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）の赤外吸収ピーク比を０．３０未満にすることによって、１／４波長板用賦型樹脂層２２の１／４波長板用位相差層８との密着性を低くし、転写層と支持体の転写性（剥離性）を向上できることが確認された。

以上より、本実施形態の発明は、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）が、１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）より低い赤外吸収ピーク比で硬化されるので、１／４波長板用賦型樹脂層２２と１／４波長板用位相差層８との間で分離して、適正に支持体から転写層を剥離することができる。
また、１／２波長板用賦型樹脂層１２が、０．３０以上の赤外吸収ピーク比で硬化され、１／４波長板用賦型樹脂層２２が、０．３０未満の赤外吸収ピーク比で硬化されているので、より具体的に、支持体から転写層を剥離することができる転写フィルム２０を実現することができる。

〔第２実施形態〕
図８は、第２実施形態に係る転写フィルムを示す図である。
本実施形態の転写フィルム７０は、第１実施形態の転写フィルム２０と相違して、セパレータフィルム２４を剥離して画像表示パネル２に貼付され、支持体基材２１を剥離して直線偏光板５に接着される。この実施形態では、転写に供する転写層を、１／２波長板用位相差層９、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／４波長板用位相差層８に設定し、支持体には、支持体基材２１、１／２波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１が割り当てられる。

転写フィルム７０は、図８に示すように、支持体基材２１の上面に、順次、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／４波長板用位相差層８が設けられ、さらにその上に、粘着層４及びセパレータフィルム２４が設けられる。
転写フィルム７０は、支持体基材２１を転写層から剥がして、粘着層７が設けられた直線偏光板５に貼付され、また、セパレータフィルム２４を粘着層４から剥がして、粘着層４により画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられることによって、画像表示装置１が形成される。

この実施形態の転写フィルム７０は、第１実施形態の転写体の製造工程と同様の要領で、まず、支持体基材２１の上に、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が形成され、更にその上に、１／４波長板用賦型樹脂層２２、１／４波長板用配向膜２３、１／４波長板用位相差層８が形成される。
ここで、本実施形態の転写フィルム７０の構成の場合、支持体に割り当てられる１／２波長板用賦型樹脂層１２と、転写層に割り当てられる１／２波長板用位相差層９との密着性及び転写性が問題となるので、支持体形成工程において、紫外線硬化性樹脂を０．３０未満の赤外吸収ピーク比で１／２波長板用賦型樹脂層１２を形成する。なお、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）は、上記第１実施形態の比較例１と同様の条件（０．３０以上の赤外吸収ピーク比）で紫外線硬化性樹脂が硬化されているため、１／４波長板用賦型樹脂層２２と１／４波長板用位相差層８とは十分な強度で密着している。また、１／２波長板用位相差層９と１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）も、１／４波長板用賦型樹脂層２２及び１／４波長板用位相差層８間の密着強度と同程度の強度で密着されている。

以上より、本実施形態の発明は、１／２波長板用賦型樹脂層１２（配向層）が、１／４波長板用賦型樹脂層２２（配向層）より低い赤外吸収ピーク比で硬化されるので、１／２波長板用賦型樹脂層１２と１／２波長板用位相差層９との間で分離して、適正に支持体から転写層を剥離することができる。
また、１／４波長板用賦型樹脂層２２が、０．３０以上の赤外吸収ピーク比で硬化され、１／２波長板用賦型樹脂層１２が、０．３０未満の赤外吸収ピーク比で硬化されているので、より具体的に、支持体から転写層を剥離することができる転写フィルム７０を実現することができる。

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。

（１）各実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種賦型用樹脂を適用する場合、さらには加熱等により軟化させた基材を押し付けて賦型する場合等にも広く適用することができる。

（２）各実施形態では、転写層側に粘着層７を設けるようにして、この粘着層７により直線偏光板５と転写層とを一体化する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、この粘着層７を直線偏光板５側に設けるようにしてもよい。

（３）各実施形態では、ロール版により賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。

（４）各実施形態では、ロール材の連続した処理により粘着層４、セパレータの配置を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状により切り出した後に配置するようにしてもよい。

１ 画像表示装置
２ 画像表示パネル
３ 光学フィルム
４、７ 粘着層
５ 直線偏光板
６ 円偏光板
８ １／４波長板用位相差層
９ １／２長板用位相差層
１０ １／４波長板用賦型樹脂層
１１ １／４波長板用配向膜
２２ １／２波長板用賦型樹脂層
２３ １／２波長板用配向膜
１５ 基材
１６ 光学機能層
２０、７０ 転写フィルム
２１ 支持体基材
２４ セパレータフィルム
３０、５０、６０ 製造工程
３１、３２、３３、４１、５１ 供給リール
３４ 剥離ロール
３６、４０、４４、５８、６８ 巻き取りリール
３８Ａ、３８Ｂ 押圧ローラ
３９ 剥離ローラ
４３Ａ、４３Ｂ、５４、６４ 加圧ローラ
５２、５８、６２、６９ ダイ
５３、６３ ロール版
５５、５７、６５、６７ 紫外線照射装置
５６、６６ 剥離ローラ

Claims (7)

1. 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層と、
   前記転写層を保持する支持体とを備え、
   前記支持体は、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層が含まれており、
   前記１／４波長板用配向層及び前記１／２波長板用配向層は、配向層形成樹脂を硬化させて形成され、
   前記１／４波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が、前記１／２波長板用配向層の前記比よりも低い値で硬化されること、
   を特徴とする光学フィルム用転写体。
2. 前記１／２波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０以上であり、
   前記１／４波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０未満であること、
   を特徴とする請求項１に記載の光学フィルム用転写体。
3. 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層と、
   前記転写層を保持する支持体とを備え、
   前記支持体は、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層が含まれており、
   前記１／４波長板用配向層及び前記１／２波長板用配向層は、配向層形成樹脂を硬化させて形成され、
   前記１／２波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が、前記１／４波長板用配向層の前記比よりも低い値で硬化されること、
   を特徴とする光学フィルム用転写体。
4. 前記１／４波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０以上であり、
   前記１／２波長板用配向層は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）が０．３０未満であること、
   を特徴とする請求項３に記載の光学フィルム用転写体。
5. 透明フィルムによる基材と、
   直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
   円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
   前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層であること、
   を特徴とする光学フィルム。
6. 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルム用転写体の製造方法であって、
   配向層形成樹脂を硬化させて基材上に成膜し、前記１／４波長板用配向層を形成する支持体形成工程と、
   位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用位相差層を前記１／４波長板用配向層の上に形成する１／４波長板形成工程と、
   前記配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用配向層を前記１／４波長板用位相差層の上に形成する１／２配向層形成工程と、
   前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用位相差層を前記１／２波長板用配向層の上に形成する１／２波長板形成工程とを備え、
   前記支持体形成工程は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）を、前記１／２波長板用配向層の前記比よりも低くして前記１／４波長板用配向層を形成すること、
   を特徴とする光学フィルム用転写体の製造方法。
7. 透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、前記１／４波長板用位相差層に係る１／４波長板用配向層と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層に係る１／２波長板用配向層とを備える光学フィルム用転写体の製造方法であって、
   配向層形成樹脂を硬化させて基材上に成膜し、前記１／２波長板用配向層を形成する支持体形成工程と、
   位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／２波長板用位相差層を前記１／２波長板用配向層の上に形成する１／２波長板形成工程と、
   前記配向層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用配向層を前記１／２波長板用位相差層の上に形成する１／４配向層形成工程と、
   前記位相差層形成樹脂を硬化させて、前記１／４波長板用位相差層を前記１／４波長板用配向層の上に形成する１／４波長板形成工程とを備え、
   前記支持体形成工程は、波数が１７２０から１７５０ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ１）と、波数が８２０から８００ｃｍ−１間の赤外線吸収ピーク（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）を、前記１／４波長板用配向層の前記比よりも低くして前記１／２波長板用配向層を形成すること、
   を特徴とする光学フィルム用転写体の製造方法。

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