JP6504227B2 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層と、前記1/2波長板用位相差層に係る1/2波長板用配向膜と、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層とを少なくとも有し、これらが順に積層された多層構造による転写層を、支持体基材と前記1/4波長板用位相差層に係る1/4波長板用配向膜との積層体である支持体上に前記1/4波長板用位相差層が前記1/4波長板用配向膜上となるように形成して転写体を形成する転写体の製造工程と、
透明基材に、直線偏光板としての機能を担う光学機能層を形成する直線偏光板の製造工程と、
前記直線偏光板の前記光学機能層に、前記転写体の製造工程で生産した前記転写体を、前記1/2波長用位相差層を前記光学機能層側として積層し、前記支持体を剥離して前記転写層を転写する転写工程とを備える。
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置1では、画像表示パネル2のパネル面に、光学フィルム3が配置される。画像表示パネル2は、可撓性を有するシート形状による有機ELパネルであり、所望のカラー画像を表示する。
光学フィルム3は、粘着層7を介してこれら円偏光板6、直線偏光板5が一体化され、この一体化の処理に、転写法が適用される。
図4は、光学フィルム3の製造工程を示す図である。この製造工程30は、直線偏光板5に係る鹸化処理が実行された基材15、光学機能層16に係るフィルム材が供給ロール31、32により提供される。また転写フィルム20が供給リール33により提供される。この工程30は、供給リール33から転写フィルム20を引き出し、剥離ロール34によりセパレータフィルム24を剥離して粘着層7を露出させる。なお剥離したセパレータフィルム24は、巻き取りリール36に巻き取られる。
図5及び図6は、転写フィルム20の製造工程を示す略線図である。この製造工程50は、支持体基材21を供給リール51から引き出し、ダイ52により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程50において、ロール版53は、1/4波長板用配向膜23に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程50は、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材21を加圧ローラ54によりロール版53に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置55による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程50は、ロール版53の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材21に転写する。その後、剥離ローラ56によりロール版53から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材21を剥離し、ダイ59により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置57による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール58に巻き取る。この一連の処理により支持体基材21の上に、1/4波長板用賦型樹脂層22、1/4波長板用配向膜23、1/4波長板用位相差層8が形成される。
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
2 画像表示パネル
3 光学フィルム
4、7 粘着層
5 直線偏光板
6 円偏光板
8 1/4波長板用位相差層
9 1/2長板用位相差層
12 1/2波長板用賦型樹脂層
13 1/2波長板用配向膜
15 基材
16 光学機能層
20 転写フィルム
21 支持体基材
22 1/4波長板用賦型樹脂層
23 1/4波長板用配向膜
24、42 セパレータフィルム
30、50、60 製造工程
31、32、33、41、51 供給リール
34 剥離ロール
36、40、44、58、68 巻き取りリール
38A、38B 押圧ローラ
39 剥離ローラ
43A、43B、54、64 加圧ローラ
52、58、62、69 ダイ
53、63 ロール版
55、57、65、67 紫外線照射装置
56、66 剥離ローラ
Claims (1)
- 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透過光に1/2波長分の位相差を付与する厚さが2μmの1/2波長板用位相差層と、前記1/2波長板用位相差層に係る1/2波長板用配向膜と、前記1/2波長板用配向膜を形成する厚さが2μmの1/2波長板用賦型樹脂層と、透過光に1/4波長分の位相差を付与する厚さが1μmの1/4波長板用位相差層とを少なくとも有し、これらが順に積層された多層構造による転写層を、支持体基材と前記1/4波長板用位相差層に係る1/4波長板用配向膜との積層体である支持体上に前記1/4波長板用位相差層が前記1/4波長板用配向膜上となるように形成して転写体を形成する転写体の製造工程と、
厚さが30μmの透明基材に、直線偏光板としての機能を担う厚さが20μm以下の光学機能層を形成する直線偏光板の製造工程と、
前記直線偏光板の前記光学機能層に、前記転写体の製造工程で生産した前記転写体を、前記1/2波長板用位相差層を前記光学機能層側として積層し、前記支持体を剥離して前記転写層を転写する転写工程とを備える
光学フィルムの製造方法。
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JP2017200229A JP6504227B2 (ja) | 2017-10-16 | 2017-10-16 | 光学フィルムの製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2017-10-16 JP JP2017200229A patent/JP6504227B2/ja active Active
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