JP2014071381A - 光学フィルム用転写体、光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにする。
【解決手段】薄型の１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２を形成する。このために、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層１０２と、１／２波長板用位相差層１０２と直接接触し、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層１０１とを有する転写層と、この転写層を保持する支持体基材３０１と、を備えるようにする。そして、１／２波長板用位相差層１０２を、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層とし、１／４波長板用位相差層１０１を、一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層とする。
【選択図】図３

Description

本発明は、例えば画像表示パネルに配置して、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関するものである。

従来、画像表示パネル等に関して、画像表示パネルの出射面に光学フィルムを配置し、この光学フィルムによる偏光面の制御により外来光の反射を低減する方法が提案されている。この光学フィルムは、直線偏光板、円偏光板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く円偏光板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。

この光学フィルムに関して、特許文献１等には、１／２位相差板、１／４位相差板を組み合わせて円偏光板を構成することにより、この光学フィルムを正の分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性により光学フィルムを構成することができる。

ところで有機ＥＬパネルを使用した画像表示装置においては、近年、可撓性を有するシート形状によるものが提供されつつある。このような可撓性を有するシート形状による画像表示装置では、例えば全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で、画像を表示することができ、従来に比して一段と画像表示装置の適用分野を拡大し得ると考えられる。

ただし、全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で画像表示する場合には、従来に比して格段的に外来光の反射を低減することが必要になる。これによりこのような可撓性を有するシート形状による画像表示装置においては、上述の光学フィルムを配置することにより、外来光による影響を有効に回避することが必要であると考えられる。特に有機ＥＬパネルでは、内部電極による外来光の反射が著しいことにより、この種の光学フィルムを適用することが望まれる。

しかしながら、従来の光学フィルムを単純に可撓性を有するシート形状の画像表示パネルに適用したのでは、画像表示パネルの可撓性を著しく損なう問題がある。

特開平１０−６８８１６号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすること目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、転写の手法を適用して光学フィルムを作成することにより、全体の厚みを薄くする、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
（１） 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、
前記１／２波長板用位相差層と直接接触し、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、を少なくとも有する多層構造による転写層と、
前記転写層を保持する支持体と、を備え、
前記１／２波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記１／４波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である。
（１）によれば、１／２波長板用位相差層と１／４波長板用位相差層とが液晶層であり、直接接触するように構成されるので、転写層の薄膜化に有利な光学フィルム用転写体を提供することができる。
また、（１）によれば、液晶層のみが１／２波長板用位相差層、１／４波長板用位相差層を形成するので、別途配向膜を設ける必要がなく、転写層を製造するための工程数を少なくすることができる。
（２） 透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項１に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である。
（２）によれば、（１）によって得られる効果に加え、円偏光板の薄膜化に有利であり、ひいては薄型の反射防止膜を構成できる光学フィルムを提供することができる。
（３） 複数の光学膜を積層して構成された積層体と、
前記積層体に転写された円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層と、
を備え、
前記円偏光板の光学機能層は、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層と直接接触し、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、を含み、
前記１／２波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記１／４波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である。
（３）によれば、（１）によって得られる効果に加え、基材のない円偏光板を積層体に転写して光学フィルムを構成することができるから、いっそう薄膜化に有利な光学フィルムを提供することができる。
（４） 請求項２または３に記載の光学フィルムを配置した画像表示装置。
（４）によれば、薄膜化された光学フィルムを配置することにより、表示画面の可撓性が損なわれることがない画像表示装置を提供することができる。
（５） 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透明基材に第１液晶材料を直接塗布する第１塗布工程と、
前記第１塗布工程において塗布された前記第１液晶材料を乾燥させる第１乾燥工程と、
前記第１乾燥工程において乾燥された前記第１液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第１結晶材料を配向させた状態で固化して第１位相差層を形成する第１位相差層形成工程と、
前記第１位相差層に第２液晶材料を直接塗布する第２塗布工程と、
前記第２塗布工程において塗布された前記第２液晶材料を乾燥させる第２乾燥工程と、
前記第２乾燥工程において乾燥された前記第２液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第２結晶材料を配向させた状態で固化して第２位相差層を形成する第２位相差層形成工程と、を含む。
（５）によれば、基材、あるいは第１位相差に液晶材料を直接塗布し、液晶材料を配向させて位相差層を形成することができる。このため、より少ない工程で光学フィルムを製造することができ、光学フィルムの製造にかかる効率を高め、コストを低減することができる。
（６） 前記第１位相差層が透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層であり、前記第２位相差層が透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層である。
（６）によれば、公知の技術よりも少ない工程で円偏光板を製造することができ、円偏光板を備える光学フィルムの製造にかかる効率を高め、コストを低減することができる。

偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすることができる。

本発明の一実施形態の光学フィルムと、光学フィルムが配置された画像表示装置を示す図である。 図１に示した１／４波長板用位相差層、１／２波長板用位相差層、直線偏光板の遅層軸を説明するための図である。 本発明の一実施形態の転写体である転写フィルムの構成を示す図である。 本発明の一実施形態の光学フィルムの製造工程を説明するための図である。 本発明の一実施形態の転写フィルムの製造工程を説明するための図である。 本発明の一実施形態の転写フィルムが適用される反射防止膜を例示した図

以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
［光学フィルム及び画像表示装置］
図１は、本実施形態の光学フィルム１と、光学フィルム１が配置された画像表示装置１００を示す図である。光学フィルム１は、画像表示装置１００のディスプレイの表面（画像表示パネル面）に配置される。画像表示パネル５は、可撓性を有するシート形状による有機ＥＬパネルである。

光学フィルム１は、偏光面の制御により、画像表示パネル５に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムであり、直線偏光板１０３、円偏光板１０４を積層して構成される。直線偏光板１０３と円偏光板１０４とは、粘着層１２１ａによって貼り合わされている。
また、円偏光板１０４の画像表示パネル５と接する面（裏面）には粘着層１２１ｂが設けられている。粘着層１２１ｂから図示しないセパレータフィルムを剥離して粘着層１２１ｂを露出させ、画像表示パネル５の表面と接触させることにより、光学フィルム１が画像表示パネル５に貼り付けられる。なお、本実施形態の粘着層１２１ａ、１２１ｂは、感圧接着剤を塗布して形成された層である。

円偏光板１０４は、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２位相差板として機能する部位（１／２波長板用位相差層と呼ぶ）１０２と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４位相差板として機能する部位（１／４波長板用位相差層と呼ぶ）１０１とを積層することによって構成される。本実施形態では、画像表示パネル５の表示画面側より、順次、１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２、直線偏光板１０３が配置される。
円偏光板１０４は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、光学フィルム１は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。

図２は、図１に示した１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２、直線偏光板１０３の遅層軸を説明するための図である。図２に示したように、矢印により示す直線偏光板１０３の透過軸に対して、１／４波長板用位相差層１０１及び１／２波長板用位相差層１０２の遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回りに１５度、７３度の角度を成すように配置される。

より具体的には、１／４波長板用位相差層１０１の面内位相差（Ｒｅ）は１１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であり、１／２波長板用位相差層１０２の面内位相差（Ｒｅ）は２３５ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下である。このような１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２により、光学フィルム１は、直線偏光板１０３側より入射する可視光域波長域（３８０〜７８０ｎｍ）の透過光に、楕円率０．８以上の円偏光を施して出射する。

円偏光板１０４は、画像表示パネル５側から順に設けられた、１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２によって構成されている。１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成されている。１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２の表面には、賦型処理により表面に微細なライン状の凹凸が形成されている。以降、１／４波長板用位相差層１０１の凹凸を有する表面を賦型面１０１ａ、１／２波長板用位相差層１０２の凹凸を有する表面を賦型面１０２ａと記す。

賦型面１０１ａ、賦型面１０２ａの微細な凹凸は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸によって形成される。賦型面１０１ａのライン状の凹凸は、ラインが直線偏光板１０３の吸収軸（遅相軸）に対して反時計回りに７３度の角度を成すように作成される。賦型面１０２ａのライン状の凹凸は、ラインが直線偏光板１０３の吸収軸（遅相軸）に対して反時計回りに１５度の角度を成すように作成される。

直線偏光板１０３は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材１３２の下面側が鹸化処理された後、光学機能層１３１が配置される。なお基材１３２は、これに代えてポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。

光学機能層１３１は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。
上記した円偏光板１０４において、１／４波長板用位相差層１０１の厚さは１μｍ程度である。１／２波長板用位相差層１０２の厚さは２μｍ程度、粘着層１２１ｂの厚さは１５μｍ以下となる。このため、本実施形態では、円偏光板１０４の厚さを１８μｍ以下とすることができる。また、直線偏光板１０３において、基材１３２の厚さは３０μｍ程度であり、光学機能層１３１の厚さは２０μｍ以下、粘着層１２１ａの厚さは１５μｍ以下となる。このため、本実施形態では、直線偏光板１０３の厚さを、６５μｍ以下とすることができる。

以上のことから、本実施形態では、全体の厚みが８５μｍ以下の光学フィルム１を提供することができる。このような光学フィルム１は、十分な可撓性を確保することができる。

［転写体］
図１に示した円偏光板１０４は、粘着層１２１ａを介して直線偏光板１０３と一体化され、光学フィルム１となる。円偏光板１０４と直線偏光板１０３とを一体化する処理には、転写法が適用される。
この転写法では、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。

本実施形態では、直線偏光板１０３に、円偏光板１０４に係る層構成を転写法により積層する。このとき、被転写基材は直線偏光板１０３であり、転写に供する層（転写層）は賦型面１０１ａを有する１／４波長板用位相差層１０１、賦型面１０２ａを有する１／２波長板用位相差層１０２を積層した円偏光板１０４になる。
図３は、本実施形態の転写体である転写フィルム３の構成を示す図である。転写フィルム３は、支持体基材３０１上に、１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２を順次設けることによって構成される。

支持体基材３０１は、転写に供する層（転写層）を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。本実施形態では、支持体基材３０１に、例えば透明フィルム材であるＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルムが適用される。支持体基材３０１に透明フィルム材を適用したことによって、転写フィルム３の光学特性の検査が可能になる。
なお、ＰＥＴフィルムは、後述する離型層との間の密着力を調整するためにコロナ処理される。支持体基材３０１は、全体の形状をシート形状としてもよい。また支持体基材３０１は、ＰＥＴフィルムに限定されるものでなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお支持体基材３０１の厚みは、２０〜１００μｍである。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、転写層側に剥離を促進する離型層を設けるようにしてもよい。

離型層としては、相対的に、支持体基材３０１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層との密着性は低い（剥離性は高い）材料を適用することができる。本実施形態では、離型層として、例えば、シリコン樹脂（有機珪素系高分子化合物）、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂（アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等）との混合物が用いられる。

なお、本実施形態では、コロナ処理したＰＥＴフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないＰＥＴフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。またこれに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないＴＡＣフィルムを支持体基材に適用して、離型層を省略してもよい。このようにすると構成を簡略化することができる。

因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材３０１と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層としては、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く（剥離性は高く）、剥離層との密着性が高い（剥離性は低い）材料を適用することができる。より具体的には、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した２種以上の混合物、或いは以上の中から選択した１種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、１〜１０μｍ程度である。また剥離層は、支持体基材３０１に設けられるものであっても、離型層に設けられるものであってもよい。

賦型面１０１ａは、周側面に微細なライン状の凹凸が形成された賦型用金型（ロール版）を使い、１／４波長板用位相差層１０１の表面に凹凸を設けることによって作成される。また、賦型面１０２ａは、周側面に微細なライン状の凹凸が形成されたロール版を使い、１／２波長板用位相差層１０２の表面に凹凸を設けることによって作成される。このような１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２の詳細な製造方法については、後に説明する。

さらに転写フィルム３は、円偏光板１０４に係る転写層の上に、粘着層１２１ａ、セパレータフィルム３０２が設けられる。粘着層１２１ａは、転写層と被転写基材とを接着するための層である。粘着層１２１ａの材料としては、転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。本実施形態の粘着層１２１ａには、例えば、アセチルセルロース（酢酸纖維素）、ニトロセルロース（硝酸纖維素又は硝化綿）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース（纖維素）系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。粘着層１２１ａの厚みは、１〜３０μｍ程度である。

セパレータフィルム３０２は、粘着層１２１ａの表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム３０２は、粘着層１２１ａが露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。

［光学フィルムの製造工程］
図４は、光学フィルム１の製造工程を説明するための図であって、直線偏光板１０３と、図３に示した転写フィルム３とを一体化する工程を示している。この工程では、直線偏光板１０３に係る鹸化処理が施された基材１３２が供給リール４０３によって提供される。また、光学機能層１３１が供給リール４０４によって提供される。そして、転写フィルム３が供給リール４０６によって提供される。

転写フィルム３は、供給リール４０６から引き出され、剥離ローラ４０７によってセパレータフィルム３０２が剥離される。セパレータフィルム３０２の剥離により、粘着層１２１ａを露出される。なお、剥離したセパレータフィルム３０２は、巻き取りリール４０５によって巻き取られる。
また、基材１３２は供給リール４０３から引き出され、光学機能層１３１に係るフィルム部材は供給リール４０４から引き出される。セパレータフィルム３０２が剥離された転写フィルム３は、光学機能層１３１に係るフィルム部材及び基材１３２と積層され、押圧ローラ４０２Ａ、４０２Ｂによって押圧される。押圧された転写フィルム３（セパレータフィルム３０２剥離）、フィルム部材、基材１３２は一体化される。

続いて、フィルム部材、基材１３２と一体化された転写フィルム３（セパレータフィルム３０２剥離）から支持体基材３０１が剥離ローラ４０８によって剥離される。剥離された支持体基材３０１は、巻き取りリール４０によって巻き取られる。以上の工程により、図１に示した光学フィルム１が製造される。
光学フィルム１の支持体基材３０１が剥離された面には、後に粘着層１２１ｂとなる粘着剤が塗付される（図示せず）。粘着剤上に供給リール４１１から供給されたセパレータフィルム３０３が貼り付けられた後、光学フィルム１は加圧ローラ４０９Ａ、４０９Ｂによって加圧され、巻き取りリール４０１によって巻き取られる。

［転写体の製造工程］
次に、図３、４に示した転写フィルム３の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、１／２波長板用位相差層１０２、１／４波長板用位相差層１０１を同じラインで製造するものとして説明している。ただし、１／２波長板用位相差層１０２、１／４波長板用位相差層１０１は異なるラインで製造されるものであってもよい。
図５は、転写フィルム３の製造工程を説明するための図である。本実施形態では、先ず、支持体基材３０１が供給リール５０１から引き出される。支持体基材３０１表面には、工程Ａにおいて紫外線硬化型の液晶材料５２１が塗布される。

本実施形態では、液晶材料５２１の塗布を所謂グラビア印刷の手法を応用して行っている。この手法によれば、版胴５０３を液晶材料に浸漬し、回転させることによって液晶材料を支持体基材３０１との接触面に塗布する。支持体基材３０１の版胴５０３と接触する面の裏面には圧胴５０２が接触し、支持体基材３０１表面の液晶材料５２１の量が調整される。
液晶材料５２１が塗布された支持体基材３０１は、工程Ｂに送られる。工程Ｂでは、支持体基材３０１及び液晶材料５２１が乾燥炉５０５に送られて乾燥される。

以上の工程において、液晶材料５２１としては、例えば、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、具体的にはメルク社製Ａプレート形成材料が考えられる。また、本実施形態では、工程Ａから工程Ｂに向かう支持体基材３０１及び液晶材料５２１の搬送速度を０．５ｍ／ｍｉｎ〜４０ｍ／ｍｉｎ、工程Ｂにおける乾燥の温度を４０度〜１５０度、乾燥時間を１０秒〜１８０秒とする。なお、支持体基材３０１は１５０度に加熱されても損なわれることがない。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料５２１を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。

乾燥炉５０５を出た支持体基材３０１、液晶材料５２１は、工程Ｃに送られる。液晶材料５２１は、工程Ｃにおいて、図示しないニップロールに支持体基材３０１の裏面から押圧されながらロール版５０７の周面と接触する。ロール版５０７は、賦型面１０１ａを形成するための微細な凹凸が周側面に形成された（一定方向にラビングされた）賦型用金型である。
ロール版５０７の周面に乾燥された液晶材料５２１の表面が接触することにより、液晶材料５２１の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料５２１は、工程Ｃにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線（ＵＶ：ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）照射を受ける。液晶材料５２１は、紫外線照射によって硬化（固化）して１／４波長板用位相差層１０１となり、その表面が賦型面１０１ａとなる。

なお、工程Ｃにおいては、液晶材料５２１が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらＵＶ照射を行うものとする。温度調整により、液晶材料５２１がロール版５０７上で配向し、その状態で硬化する。なお、温度調整は、例えば、液晶材料５２１が、４０度〜１５０度になるように行われる。
以上の工程により、支持体基材３０１上に、１／４波長板用位相差層１０１が直接形成される。支持体基材３０１及び１／４波長板用位相差層１０１は、巻き取りリール５０８によって巻き取られる。

次に、１／４波長板用位相差層１０１上に１／２波長板用位相差層１０２が形成される。このため、本実施形態では、工程Ｄにおいて、巻き取りリール５０８に巻き取られた支持体基材３０１及び１／４波長板用位相差層１０１が引き出される。引き出された１／４波長板用位相差層１０１上には、版胴５０３及び圧胴５０２によって液晶材料５２２が塗布される。なお、液晶材料５２２の塗布は、液晶材料５１１の塗布と同様に行われるものとする。

液晶材料５２２が塗布された支持体基材３０１及び１／４波長板用位相差層１０１は、工程Ｅに送られる。工程Ｅでは、支持体基材３０１、１／４波長板用位相差層１０１、液晶材料５２２（以下、液晶材料５２２等とも記す）が乾燥炉５０５に送られて乾燥される。
以上の工程において、液晶材料５２２としては、例えば、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、具体的にはメルク社製Ａプレート形成材料が考えられる。また、本実施形態では、工程Ｄから工程Ｅに向かう液晶材料５２２等の搬送速度を０．５ｍ／ｍｉｎ〜４０ｍ／ｍｉｎ、工程Ｅにおける乾燥の温度を４０度〜１５０度、乾燥時間を１０秒〜１８０秒とする。なお、支持体基材３０１は１５０度に加熱されても損なわれることがない。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料５２２を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。

乾燥炉５０５を出た液晶材料５２２等は、工程Ｆに送られる。工程Ｆでは、ロール版５０７が、周面がロール版５０７とは異なる方向にラビングされているロール版５１７に交換されている。なお、ロール版５０７の交換は、１／４波長板用位相差層１０１と１／２波長板用位相差層１０２とを同じラインを使って製造する場合に行われる。
液晶材料５２２等は、工程Ｆにおいて、図示しないニップロールに裏面から押圧されながらロール版５１７の周面と接触する。ロール版５１７は、賦型面１０２ａを形成するための微細な凹凸が周側面に形成された（一定方向にラビングされた）賦型用金型である。
ロール版５１７の周面に乾燥された液晶材料５２２の表面が接触することにより、液晶材料５２２の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料５２２は、工程Ｆにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線照射を受ける。液晶材料５２２は、紫外線照射によって硬化（固化）して１／２波長板用位相差層１０２となり、その表面が賦型面１０２ａとなる。

なお、工程Ｃにおいては、液晶材料５２１が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらＵＶ照射を行うものとする。温度調整により、液晶材料５２１がロール版５０７上で配向し、その状態で硬化する。なお、温度調整は、例えば、液晶材料５２１が、４０度〜１５０度になるように行われる。
以上の工程により、支持体基材３０１上に、１／２波長板用位相差層１０２が直接形成される。支持体基材３０１及び１／２波長板用位相差層１０２は、巻き取りリール５０８によって巻き取られる。

ロール版５１７周面と液晶材料５２２の表面とが接触することによって液晶材料５２２の表面に賦型面１０２ａが形成される。また、液晶材料５２２は、工程Ｆにおいて紫外線（ＵＶ：ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）照射を受けて硬化する。賦型面１０２ａの形成及び硬化により、液晶材料５２２が１／４波長板用位相差層１０１となる。
本実施形態では、工程Ｆにおいて、工程Ｃと同様に、液晶材料５２２が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらＵＶ照射を行うものとする。この際の温度調整は、例えば、液晶材料５２２が、４０度〜１５０度になるように行われる。

以上の工程により、支持体基材３０１の上に円偏光板１０４が形成される。支持体基材３０１及び円偏光板１０４は、巻き取りリール５０８によって巻き取られる。
図示しない次の工程において、円偏光板１０４上には粘着層１２１ａが形成される。粘着層１２１ａ上には、セパレータフィルム３０２が配置され、図３に示した転写フィルム３が完成する。

以上説明した本実施形態によれば、１／２波長板用位相差層１０２の上（図２に示した画像表示パネル５を最下面とする）に直接１／４波長板用位相差層１０１を設けることにより、構成を簡略化し、さらには全体形状を薄型化して十分な可撓性を確保することができる。
また、本実施形態によれば、１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２以外の部材を含まず、最小限の厚みの円偏光板１０４を形成することができる。なお、このような本実施形態の具体的な効果については、後に述べるものとする。

［適用例］
図６（ａ）、（ｂ）は、以上説明した本実施形態の転写フィルム３が適用される反射防止膜を例示した図である。図６（ａ）に示した反射防止膜は、図３に示した転写フィルム（セパレータフィルム３０２、粘着層１２１ａ剥離）の支持体基材３０１のうち、円偏光板１０４が設けられていない面に感圧接着剤（ＰＳＡ）６０１、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）６０２、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）６０３、ＴＡＣ６０４、ハードコート材（ＨＣ）６０５を積層して構成されている。

なお、図６（ａ）の反射防止膜において、感圧接着剤６０１は紫外線硬化型の接着剤であってもよい。また、ＴＡＣ６０２は、アクリル樹脂性のフィルム、あるいはＺｅｒｏ Ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ ＴＡＣ（Ｚ−ＴＡＣ）であってもよい。
また、図６（ａ）に示した反射防止膜において、ＴＡＣ６０２を設けないように構成することも可能である。
図６（ｂ）に示した反射防止膜は、図３に示した転写フィルム（セパレータフィルム３０２、粘着層１２１ａ剥離）を、感圧接着剤６０１、ＴＡＣ６０２、ポリビニルアルコール６０３、ＴＡＣ６０４、ハードコート材６０５の積層体に転写して構成されたものである。図６（ｂ）に示した反射防止膜は、支持体基材３０１がないため、図６（ａ）に示した反射防止膜よりも膜の薄膜化に有利である。

［効果］
以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、樹脂材料の表面を直接賦型処理して１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２を形成することができる。また、１／４波長板用位相差層１０１と１／２波長板用位相差層１０２とが直接接するように１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２を形成することができる。

このため、本実施形態は、より薄膜化に有利であり、配置対象物の可撓性を損なわない光学フィルム、光学フィルム用転写体を提供することができる。また、本実施形態は、このような光学フィルムが配置された画像表示装置を提供することができる。
さらに、以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、例えば、１／４波長板用位相差層、１／２波長板用位相差層等の位相差相が、例えば液晶層と配向層とを別途形成する公知の技術よりも少ない工程で光学フィルムを製造することができる。
このため、本実施形態は、光学フィルム、光学フィルム用転写体の生産性を高め、製造にかかるコストをも低減することができる。

［実験例］
本発明の発明者らは、本実施形態の反射防止フィルムの効果を以下の実験によって検証した。以下、実験の条件を具体的に説明する。
実験では、先に作成されているＴＡＣ基材上の１／２波長板用位相差層に１／４波長板用位相差層を形成した（１／２波長板用位相差層の角度１５度、１／４波長板用位相差層７５度）。１／４波長板用位相差層の形成は、以下の手順で行われた。
ＴＡＣ原反上に形成された１／２波長板用位相差層の片面にミヤバー液晶（メルク社ＲＭＭ８９９）を塗工し、８０℃、１分間のオーブン乾燥によって乾燥させ、室温冷却した。さらに、表面が４５度ラビングされたバラード版（表面温度６５℃〜６７度にプレヒート済み）にハンドローラでラミネートし、ＴＡＣ原反の側から紫外線照射し、液晶層をＴＡＣ原反から剥離した。

上記した実験によって作成された液晶層をＯＬＥＤパネルに貼り付けたところ、外光反射機能を有することが確認できた。また、上記実験において、ＴＡＣ基材をＰＥＴに変更しても、同様に外光反射防止機能を持った円偏光板を得ることができた。
なお、本実験では、１／２波長板用位相差層の紫外線照射量が少なくすることによって液晶層の反応率が下がり、ハーフキュアのような状態になり、１／４波長板用位相差層との密着性が向上することが分かった。

［他の実施形態］
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
すなわち、上述の実施形態では、転写層側に粘着層を設け、この粘着層によって直線偏光板と転写層とを一体化している。しかし、本発明はこれに限らず、粘着層を直線偏光板側に設けるようにしてもよい。

また、上述の実施形態では、１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２となる液晶材料をグラビア印刷の手法で塗布している。しかし、本発明はこれに限らず、ダイコーター、マイクログラビア、コンマコーターを使って液晶材料を基材に塗布するものであってもよい。
また上述の実施形態では、１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２に紫外線硬化性樹脂を適用しているが、本発明はこれに限らず、熱硬化樹脂を使って１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２を製造することもできる。

また上述の実施形態では、ロール版により１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２を賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。
また上述の実施形態では、賦型処理により１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２の表面を配向膜としているが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、１／４波長板用位相差層１０１、１／２波長板用位相差層１０２のいずれか一方のみを光配向膜により作成してもよく、双方を光配向膜により作成してもよい。

また上述の実施形態では、ロール材の連続した処理により粘着層１２１ｂ、セパレータフィルム３０３を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状に切り出した後、転写フィルム３上に配置するようにしてもよい。
また上述の実施形態では、可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに光学フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶表示パネル等による一般の画像表示装置に適用することができる。さらには、各種の部材に配置して反射防止を図る場合に広く適用することができる。

１ 光学フィルム
３ 転写フィルム
５ 画像表示パネル
１００ 画像表示装置
１０１ １／４波長板用位相差層
１０１ａ，１０２ａ 賦型面
１０２ １／２波長板用位相差層
１０３ 直線偏光板
１０４ 円偏光板
１２１ａ、１２１ｂ 粘着層
１３１ 光学機能層
１３２ 基材
３０１ 支持体基材
３０２，３０３ セパレータフィルム

Claims (6)

1. 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、
   前記１／２波長板用位相差層と直接接触し、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、を少なくとも有する多層構造による転写層と、
   前記転写層を保持する支持体と、を備え、
   前記１／２波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記１／４波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である
   光学フィルム用転写体。
2. 透明フィルムによる基材と、
   直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
   円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
   前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項１に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である
   光学フィルム。
3. 複数の光学膜を積層して構成された積層体と、
   前記積層体に転写された円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層と、
   を備え、
   前記円偏光板の光学機能層は、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、前記１／２波長板用位相差層と直接接触し、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層と、を含み、
   前記１／２波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記１／４波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である
   光学フィルム。
4. 請求項２または３に記載の光学フィルムを配置した
   画像表示装置。
5. 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
   透明基材に第１液晶材料を直接塗布する第１塗布工程と、
   前記第１塗布工程において塗布された前記第１液晶材料を乾燥させる第１乾燥工程と、
   前記第１乾燥工程において乾燥された前記第１液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第１結晶材料を配向させた状態で固化して第１位相差層を形成する第１位相差層形成工程と、
   前記第１位相差層に第２液晶材料を直接塗布する第２塗布工程と、
   前記第２塗布工程において塗布された前記第２液晶材料を乾燥させる第２乾燥工程と、
   前記第２乾燥工程において乾燥された前記第２液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第２結晶材料を配向させた状態で固化して第２位相差層を形成する第２位相差層形成工程と、を含む
   光学フィルムの製造方法。
6. 前記第１位相差層が透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層であり、前記第２位相差層が透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層である
   請求項５に記載の光学フィルムの製造方法。

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