JP2014122984A - 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、画像表示装置 - Google Patents

光学フィルムの製造方法、光学フィルム、画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】厚さが薄く、しかも吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法を提供する
【解決手段】透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板１０２と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板１０１と、を含む多層構造による転写層を形成し、転写層を直線偏光板１０４に転写し、直線偏光板における、転写層が転写される側の面と反対の面に、スパッタリングによって形成された反射防止膜１０６を設ける。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、この光学フィルムを備えた画像表示装置に関する。
液晶や有機発光材料をディスプレイに用いた表示装置では、外光の内部反射を抑えるための反射防止フィルムが設けられる。反射防止フィルムには、１／４波長板と直線偏光板とを積層した円偏光板を用いるものがある。ただし、直線偏光板に１／４波長板を積層しただけでは、設計波長以外の波長の光が楕円偏光となり、可視光の全域における反射防止機能が低下する。
可視光全域の反射防止機能を向上させるためには、直線偏光板と１／４波長板との間に１／２波長板を配して広域帯位相差坂を構成する方法がある。このような方法は、例えば、特許文献１に記載されている。
また、ディスプレイの薄型化、低コスト化に伴って、反射防止フィルムを薄くすることが要求されている。反射防止膜を薄くするための構成としては、位相差層を延伸フィルムとすることが特許文献２に記載されている。また、円偏光板を偏光板に転写するものが、特許文献３に記載されている。また、光学フィルムを薄くするために、配向層と位相差層とを転写体とすることが、特許文献４に記載されている。
特開平１０−０６８８１６号公報 ＷＯ２００９／０５７７２６号 特開２００７−１５６２３４号公報 特開２００２−１５６５２６号公報
しかしながら、上記した既存の光学フィルムのうち、特許文献２に記載の技術では、１／２波長板、１／４波長板の厚みが共に５μｍ以上あり、接着層を除く偏光板の厚みが１００μｍを超えている。このため、特許文献２に記載の円偏光板では、その厚さを十分に薄くすることができなかった。
特許文献３に記載の技術では、複屈折層が転写される相手材が偏光板の保護フィルムであるから、円偏光板の厚さが厚くなる点が反射防止フィルムを薄くすることに不利であった。また、特許文献４に記載の技術では、仮支持体と配向層との間に剥離層を設ける必要があり、このための工程を追加する必要がある。また、剥離層を設ける工程においては、大面積の剥離層上に配向層を均一に塗工することが困難であった。さらに、剥離層に含まれる低分子成分が配向層を透過して位相差層の配向性に影響を及ぼすおそれがあった。
以上のように、既存の反射防止フィルム、あるいは光学フィルムは、いずれも十分な薄さを得られるものではなかった。
また、既存の技術によって反射防止フィルムの厚さを十分に薄くできたとしても、特に、薄い反射防止フィルムでは、反射防止フィルムに用いられる直線偏光板の保護フィルムとなるＴＡＣ（Tri Acetyl Cellulose）フィルムや偏光板となるＰＶＡ（polyvinyl alcohol）フィルムなどは湿度による伸び縮みが大きく、経時により表示装置から剥離する原因になったり、ディスプレイを反らせたりし、これにより吸湿による製品品質が劣化する問題になる。
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、厚さが薄く、しかも吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法、光学フィルム、この光学フィルムを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
本発明の発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、転写の手法を適用して作成された光学フィルムにおいて、反射防止膜に水蒸気バリア層の機能を付与する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
（１） 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、を含む多層構造による転写層を形成する転写層の作製工程と、
前記転写層を偏光板に転写する転写の工程と、
前記偏光板における、前記転写層が転写される側の面と反対の面に、水分の浸入を防ぐための水蒸気バリア機能を有する反射防止膜を設ける反射防止膜の作製工程と、を含むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
（１）によれば、反射防止膜の水蒸気バリア機能により、偏光板の吸湿を抑圧することができ、これにより吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法を提供することができる。
（２） 前記反射防止膜の作製工程は、スパッタリングにより前記反射防止膜を設けることを特徴とする（１）に記載の光学フィルムの製造方法。
（２）によれば、スパッタリングによる各種の反射防止膜により、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法を提供することができる。
（３） 前記反射防止膜は、少なくとも、ＳｉＯ2と、Ｎｂ2Ｏ5と、ＩＴＯと、を含む薄膜を有することを特徴とする（１）または（２）に記載の光学フィルムの製造方法。
（３）によれば、より具体的構成により、反射防止膜に蒸気バリアの機能を付与し、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法を提供することができる。
（４） 前記転写層の作製工程は、前記１／２波長板及び前記１／４波長板の少なくとも一方を、表面に凹凸形状を有する版を使用して液晶材料を配向させることによって作成する工程を含むことを特徴とする（１）または（２）の光学フィルムの製造方法。
（４）によれば、表面に凹凸形状を有する版を使用して直接、１／２波長板、１／４波長板の液晶材料を配向させることができ、配向膜を設けることなく／２波長板、１／４波長板を作製して、光学フィルムの厚さを薄くすることができる。
（５） 前記転写層の作製工程は、前記１／２波長板及び前記１／４波長板の少なくとも一方を配向させる配向層を形成する工程を含むことを特徴とする（１）または（２）に記載の光学フィルムの製造方法。
（５）によれば、配向層によって１／２波長板、１／４波長板の液晶材料を配向させることにより、既存の設備を有効に利用することができる光学フィルムの製造方法を提供刷ることができる。
（６） 前記反射防止膜が、無機微粒子含有有機高分子層を含む反射防止膜であることを特徴とする（１）に記載の光学フィルムの製造方法。
（６）によれば、反射防止膜に水蒸気バリアの機能を付与し、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法を提供することができる。
（７） 前記反射防止膜は、少なくとも、無機微粒子と紫外線によって硬化された有機高分子とを含む薄膜を有することを特徴とする（６）に記載の光学フィルムの製造方法。
（７）によれば、より具体的構成により、射防止膜に水蒸気バリアの機能を付与し、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法を提供することができる。
（８） 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、を含む多層構造による転写層と、
前記転写層が転写された偏光板と、
前記偏光板における、前記転写層が転写される側の面と反対の面に設けられた反射防止膜と、を含み、
前記反射防止膜は、水分の浸入を防ぐための水蒸気バリア機能を有することを特徴とする光学フィルム。
（８）によれば、反射防止膜に水蒸気バリアの機能を付与し、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムを提供することができる。
（９） 前記反射防止膜は、少なくとも、ＳｉＯ2薄膜と、Ｎｂ2Ｏ5薄膜と、ＩＴＯ薄膜と、を含むことを特徴とする（８）に記載の光学フィルム。
（９）によれば、より具体的構成により、反射防止膜に水蒸気バリアの機能を付与し、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムを提供することができる。
（１０） 前記反射防止膜は、少なくとも、無機微粒子と紫外線で硬化した有機高分子とを含むことを特徴とする（８）に記載の光学フィルム。
（１０）によれば、反射防止膜に水蒸気バリアの機能を付与し、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムを備えた画像表示装置を提供することができる。
（１１） （８）から（１０）のいずれか１項に記載の光学フィルムを配置したことを特徴とする画像表示装置。
（１１）によれば、反射防止膜に水蒸気バリアの機能を付与し、吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムを備えた画像表示装置を提供することができる。
上記した本発明によれば、厚さが薄く、しかも吸湿による製品品質の劣化を防止することができる光学フィルムの製造方法、光学フィルム、この光学フィルムを備えた画像表示装置を提供することができる。
本発明の第１実施形態の画像表示装置を示す図である。 １／４波長板、１／２波長板に形成される凹凸形状と直線偏光板１０４の透過軸との関係を説明するための図である。 図１に示した反射防止膜を製造する工程を示した図である。 図１に示した１／４波長位相差板の製造方法を説明するための図である。 図１に示した１／４波長位相差板の製造方法を説明するための他の図である。 図５に示した賦型ロール版を説明するための図である。 本発明の光学フィルムの製造方法の各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した図である。 本発明の光学フィルムの製造方法の各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した他の図である。 本発明の第１実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した他の図である。 本発明の第２実施形態の画像表示装置を示す図である。 図８に示した光学フィルムを製造する工程を説明するための図である。 図８に示した光学フィルムを製造する工程を説明するための他の図である。 本発明の第２実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した図である。 本発明の第２実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した他の図である。 本発明の第２実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した他の図である。 本発明の第３実施形態の第３実施形態の画像表示装置を示す図である。 本発明の第３実施形態の光学フィルムの製造方法を示す図である。 本発明の第３実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した他の図である。 図１２に示した光学フィルムを製造する工程を説明するための図である。 図１５に示した工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した他の図である。 第４実施形態の反射防止膜を製造する他の工程を示した図である。 本発明の効果を検証するために行った実験を説明するための図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。
［第１実施形態］
（光学フィルム、画像表示装置）
図１は、本発明の第１実施形態の画像表示装置を示す図である。画像表示装置１００では、画像表示パネル１００ａのパネル面に、光学フィルム１が配置される。画像表示パネル１００ａは、可撓性を有するシート形状による有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルであり、所望のカラー画像を表示する。なお画像表示パネル１００ａにあっては、液晶表示パネル等、種々の方式による画像表示パネルを適用することができる。
光学フィルム１は、偏光面の制御により、画像表示パネル１００ａに到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムである。このため光学フィルム１は、直線偏光板１０４、１／４波長位相差板１１を積層して構成される。光学フィルム１は、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による接着層１０８を露出させた後、この接着層１０８により、画像表示パネル１００ａのパネル面に貼り付けられて保持される。また直線偏光板１０４及び１／４波長位相差板１１は、接着層１０３を介して一体化される。
１／４波長位相差板１１は、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４位相差板として機能する部位（以下、１／４波長板と呼ぶ）１０１、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２位相差板として機能する部位（以下、１／２波長板と呼ぶ）１０２との積層体により構成される。これにより１／４波長位相差板１１は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で逆分散特性を確保し、光学フィルム１は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。
これらにより画像表示装置１００では、画像表示パネル１００ａの表示画面側より、順次、１／４波長板１０１、１／２波長板１０２、直線偏光板１０４が配置される。また図２に示すように、矢印により示す直線偏光板１０４の透過軸に対して、１／２波長板１０２及び１／４波長板１０１の遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回りに１５度、７５度の角度を成すように配置される。
より具体的に、１／４波長板１０１は、面内位相差（Ｒｅ）が１２５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下により作成され、１／２波長板１０２は面内位相差（Ｒｅ）が２３５ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下により作成される。これにより光学フィルム１は、直線偏光板１０４側より入射する可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光を、楕円率０．８以上の円偏光により出射する。
１／４波長位相差板１１は、画像表示パネル１００ａ側から、順次、１／４波長板１０１、１／２波長板１０２が設けられる。１／４波長板１０１、１／２波長板１０２は、いずれも後述する微細な凹凸形状を有するロール版を使用して液晶材料が配向させられる。１／４波長板１０１と１／２波長板１０２は、このようにロール版によって配向（屈折率異方性を保持した）状態で固化（硬化）された液晶材料により形成される。
この１／４波長板１０１、１／２波長板１０２の作製に供するロール版の微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成される。図２に示すように、この一方向に延長する方向が直線偏光板１０４の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに１５度、７５度の角度を成す方向となるように作成される。以上説明した１／４波長位相差板１１は、第１実施形態において転写層となる。
第１実施形態では、直線偏光板１０４に、１／４波長位相差板１１を転写法により積層した。１／４波長位相差板１１は、１／４波長板１０１、１／２波長板１０２を積層した構成である。ここで転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。この実施形態では、直線偏光板１０４に係る構成が被転写体であり、１／４波長位相差板１１が転写に供する層（転写層）である。
ここで光学フィルム１は、可撓性を有していることが望まれ、厚みを薄くすると可撓性を向上することができる。そこで光学フィルム１について、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１に規定の円筒形マンドレル試験により耐屈曲性を試験した。試験した結果によれば、光学フィルム１の場合、マンドレルの直径が３ｍｍの場合であっても、表面に、割れ及びはがれ等が発生しないことが確認された。これによりこの直径３ｍｍによる耐屈曲性の試験を満足することが判った。ここでこの程度の耐屈曲性を備えている場合には、配置対象物が可撓性を有するシート形状による画像表示パネルであっても、十分に配置対象物の可撓性を損なわないことを確認することができた。また配置対象が一段と大きな曲率を備えた部材であっても、光学フィルム１を損傷しないで配置することができる。
また、第１実施形態の光学フィルム１は、直線偏光板１０４の転写層が設けられていない側の面が、水蒸気バリア機能を有する反射防止膜１０６により覆われている。より具体的にこの実施形態ではスパッタリングによって反射防止膜１０６が作製される。なお反射防止膜１０６にあっては、水蒸気バリア機能を備えた薄膜を適用することができるものの、この実施形態では、ＳｉＯ2膜、Ｎｂ2Ｏ5膜、ＩＴＯ膜の多層膜により反射防止膜１０６を作製する。
このように直線偏光板１０４の転写層とは逆側の面に、水蒸気バリア機能を有する反射防止膜１０６を設ける場合にあっては、反射防止膜の機能を有効に利用して、直線偏光板１０４の吸湿を防止することができ、これにより吸湿による製品品質の劣化を防止することができる。また転写法の適用により全体の厚みを薄くすることができる。またロール版を使用して液晶材料を配向させて１／４波長板１０１、１／２波長板１０２を作製することにより、配向膜を省略して全体の厚みを一段と薄くすることができる。
（光学フィルムの製造方法）
次に、図１に示した光学フィルム１の製造方法における各工程について説明する。図３から図６は、図１に示した光学フィルム１を製造する工程を説明するための図である。図７−１から図７−３は、図３から図６に示した各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した図である。
図７−１（ａ）は、図１に示した直線偏光板１０４の製造工程を示す図である。第１実施形態では、厚さが１００μｍの仮支持体２０１（ノバクリア、三菱樹脂社製）上に、ＰＶＡ（PolyVinyl Alcohol、ＮＨ２６、日本合成社製）溶液をダイによって塗工し、乾燥させた。乾燥後のＰＶＡ層の厚さは１０μｍであった。その後、仮支持体２０１及びＰＶＡ層をヨウ素及びヨウ化カリウムを含むヨウ素水溶液に浸漬した。このことにより、ＰＶＡにヨウ素が浸漬された。このとき、ヨウ素水溶液の温度は３０℃、ヨウ素水溶液のヨウ素含有量は０．１ｗｔ％、ヨウ化カリウムの含有量は０．７ｗｔ％とした。
次に、第１実施形態では、ホウ素及びヨウ化カリウムを含有するホウ素水溶液中で、仮支持体２０１をＴＤ方向に５倍に延伸した。このとき、ホウ素水溶液の温度は６０℃、ホウ素水溶液のホウ素含有量は４ｗｔ％、ヨウ化カリウムの含有量は５ｗｔ％とした。仮支持体２０１及びＰＶＡ層をホウ酸水溶液から取り出して温風乾燥する。これによりこの実施形態では、中間製品である仮支持体２０１付の直線偏光板１０４（図７−１（ａ））を生産する。
図３は、図１に示した反射防止膜１０６の製造工程を示した図である。図３に示した工程が行われる製造ラインには、巻き出しロール２１１、成膜ロール２０４、巻取りロール２１０、ＳｉＯ2ターゲット２０５、Ｎｂ2Ｏ5ターゲット２０６、ＩＴＯターゲット２０７、以上の構成の間で仮支持体１０７等を搬送する複数の搬送ロールｒを備えている。
第１実施形態では、仮支持体１０７として厚さが２５μｍの延伸ＰＥＴ（熱可塑性ポリエステル樹脂：Ｅ５１００、東洋紡製）が巻き出しロール２１１から巻き出され、成膜ロール２０４に巻き回される。成膜ロール２０４の周辺にはＳｉＯ2ターゲット２０５、Ｎｂ2Ｏ5ターゲット２０６、ＩＴＯターゲット２０７が設けられていて、減圧環境下で各ターゲットが仮支持体１０７にスパッタリングされる。スパッタリングにより、仮支持体の一面には、ＳｉＯ2膜７５ｎｍ、Ｎｂ2Ｏ5膜８５ｎｍ、ＩＴＯ膜３０ｎｍの各薄膜が成膜された。以上の工程により、中間製品である反射防止膜１０６による反射防止膜転写箔（図７−１（ｂ））が生成される。
なお上記した反射防止膜１０６の特性を調べるため、別途反射防止層転写箔のスパッタ薄膜が成膜されている成膜面に、接着層用組成物Ａを５ｇ／ｍ2塗工して接着層を形成した。なお、接着層用組成物Ａは、ウレタンアクリレートオリゴマー１０、ペンタエリスリトールトリアクリレート９０、ジフェニル（２，４，６−リトメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド６を成分とする。そして、接着層によって反射防止膜を厚さが３ｍｍのガラスと貼り合わせ、ガラスの側から紫外線を照射して接着層用組成物を硬化させた後、仮支持体１０７を剥離した。ガラス上の反射防止膜１０６の視感反射率を測定したところ、０．６％の値を得た。なお、裏面反射を防止するため、反射防止膜を積層していないガラス面には黒色テープを貼り、島津製作所製、分光反射率測定機「ＰＣ−３１００」を用い、可視光域にて視感反射率を測定した。
第１実施形態では、１／４波長位相差板１１を製造するため、始めに図７−１（ｃ）に示した仮支持体３０１を製造する。図４は、この仮支持体に係る製造工程を示す図である。この製造工程は、巻き出しロール３１２、ダイ３１４、巻取りロール３１７、ドライヤ３１５、以上の構成の間でＴＡＣ等を搬送する複数の搬送ロールｒを備えている。
図７−１（ｃ）に示したように、仮支持体３０１は、ＴＡＣフィルム１１２と等方層１１１とを備えている。等方層１１１は、ＴＡＣフィルム１１２から１／４波長板を剥離する最の剥離性を高めるために設けられた層である。
図４に示すように、この工程は、厚さが８０μｍのＴＡＣフィルム１１２（フジタックＴＤ８０、富士フィルム社製）が巻き出しロール３１２から引き出される。ＴＡＣフィルム１１２上には、ダイ３１４によって等方層用組成物Ｂが塗工され、等方層用組成物Ｂは、ドライヤ３１５によって乾燥された後、図示しない紫外線照射装置により紫外線の照射を受けて重合し、これにより等方層１１１を作製する。以上の工程により、図７−１（ｃ）に示した仮支持体３０１が作成される。なお、等方層用組成物Ｂは、トリメチロールプロパンアクリレート（TMPTA）５０質量部、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー（U-PETA）５０質量部、ジフェニル（２，４，６−リトメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド６質量部、ＭＥＫ（Methyl Ethyl Ketone）１５質量部、ＭＩＢＫ（Methyl IsoButyl Ketone）１５質量部を成分とする。
図５は、図４に続く１／４波長位相差板１１の製造工程を示す図である。１／４波長位相差板１１を製造する製造ラインには、巻き出しロール４１５、ダイ４０８、４１７、ドライヤ４１０、４１８、紫外線照射装置４０７、４２０、ドクタ４０９、インク受け４２４、賦型ロール版Ｓ１、Ｓ２、巻取りロール４０１、以上の構成の間で仮支持体３０１等を搬送する複数の搬送ロールｒが備えられている。
図６は、賦型ロール版Ｓ１、Ｓ２を説明するための図である。賦型ロール版Ｓ１は、例えば、銅製のロール３１８をラビングロール３１９によって一方向にラビングすることによって行われる。第１実施形態では、ロール３１８の表面を研磨した後、スパッタリングによってＮｉＰを表面に５００ｎｍ積層し、さらにＮｉを表面に１００ｎｍ積層した。ラビングロール３１９には、レーヨン布が巻かれている。第１実施形態では、ロール３１８の表面を、押し込み量０．５ｍｍ、回転数１００ｒｐｍ、移動速度０．１ｍ／ｍｉｎの条件でラビングロール３１９を使って一方向にラビングした。ラビングにより、ロール３１８の表面には、細かな凹凸が形成される。
また、賦型ロール版Ｓ２は、例えば、銅製のロール３２０をラビングロール３２１によって一方向にラビングすることによって行われる。ロール３２０はロール３１８と同様に構成されていて、ラビングロール３１９は、ラビングロール３２１と同様に構成されている。ラビングロール３２１はラビングロール３１９と同様の条件でロール３２０をラビングする。ただし、ラビングロール３１９のラビング方向とラビングロール３２１のラビング方向とは、６０度の角度をなすように設定されている。
仮支持体３０１は（図５）、巻き出しロール４１５から引き出され、等方層１１１が形成された側の面に、ダイ４１７によって位相差層用組成物Ｃが塗工される。位相差層用組成物Ｃは、ドライヤ４１８によって乾燥され、乾燥後の位相差層用組成物Ｃの厚さは１μｍであった。この製造工程は、賦型ロール版Ｓ１に位相差層用組成物Ｃを押圧し、この押圧により位相差層用組成物Ｃの液晶を賦型ロール版Ｓ１の表面の凹凸に沿って配向させる。なお、位相差層用組成物Ｃは、ＲＭＭ３４（重合性液晶化合物、メルク社製）２４質量部、２−ベンジル−２−ジメチルアルミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を１質量部、トルエン４０質量部、ＭＥＫ３５質量部を成分とする。
紫外線照射装置４２０は、液晶が配向した状態の位相差層用組成物Ｃに仮支持体３０１の側から紫外線を照射する。この紫外線の照射によって位相差層用組成物Ｃは、重合し、配向した状態を保持したまま硬化する。この工程は、賦型ロール版Ｓ１から硬化した位相差層用組成物Ｃと共に仮支持体３０１を剥離し、これにより１／４波長板１０１を仮支持体３０１上に形成する（図７−１（ｄ））。
なお、１／４波長板１０１の特性を調べるため別途実験を行ったところ、波長５５０ｎｍの光に対する１／４波長板１０１の面内方向のリタデーションは１３７ｎｍであった。測定には、ＫＯＢＲＡ（王子計測機器株式会社製）を用いた。また、１／４波長板１０１の表面粗さを測定したところ、平均面粗さ（規格ｊｉｓ ｂ ０６０１：２００１に規定の算術平均粗さＲａ）は１．２ｎｍ、十点平均面粗さ（Ｒｚ）は２５ｎｍであった。測定には、ナノキュート（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）を用いた。
１／４波長板１０１と仮支持体３０１は、複数の搬送ロールｒによって賦型ロール版Ｓ２に導かれる。賦型ロール版Ｓ２の表面には、ダイ４０８によって位相差層用組成物Ｃが塗工されている。塗工された位相差層用組成物Ｃはドライヤ４１０によって乾燥される。乾燥後の位相差層用組成物Ｃの厚さは２μｍであった。このとき、位相差層用組成物Ｃの液晶が賦型ロール版Ｓ２表面の凹凸に沿って配向し、この配向状態を保持したまま後述するように硬化して１／２波長板１０２となる。図７−１（ｅ）は、この工程における１／２波長板１０２の状態を示した図である。
液晶が配向した状態を維持したまま、位相差層用組成物Ｃは、搬送されてきた１／４波長板１０１と貼り合わされ、紫外線照射装置４０７により１／４波長板１０１の側から紫外線が照射される。この紫外線の照射により、位相差層用組成物Ｃは、配向状態を維持したまま重合して硬化する。賦型ロール版Ｓ２から剥離されると、図７−２（ｆ）に示すように、１／４波長板と１／２波長板１０２とが貼り合わされた１／４波長位相差板１１が仮支持体３０１上に形成された。巻取りロール４０１は、仮支持体３０１上に形成された１／４波長位相差板１１を巻取る。
なお、１／２波長板１０２の特性を調べるため別途実験を行ったところ、波長５５０ｎｍの光に対する１／２波長板１０２の面内方向のリタデーションは２７５ｎｍであった。また、１／２波長板１０２の表面粗さを測定したところ、平均面粗さ（規格ｊｉｓ ｂ ０６０１：２００１に規定の算術平均粗さＲａ）は１．２ｎｍ、十点平均面粗さ（Ｒｚ）は２５ｎｍであった。
以上の処理の後、仮支持体３０１上の１／４波長位相差板１１は、図７−１（ａ）に示した仮支持体付の直線偏光板１０４と貼り合わされる。貼り合わせは、直線偏光板１０４の側にダイによって接着層用組成物Ａを５ｇ／ｍ2塗工し、直線偏光板１０４の透過軸と１／２波長板１０２の遅層軸とが７５度の角度をなすように行われた。接着層用組成物Ａは、紫外線の照射によって重合する紫外線硬化型の接着剤である。第１実施形態では、接着層用組成物Ａに紫外線を照射し、硬化させて接着層１０３を形成した（図７−２（ｇ））。
１／４波長位相差板１１と直線偏光板１０４とが貼り合わされた後、仮支持体２０１が剥離される（図７−２（ｈ））。そして、図７−１（ｂ）に示した反射防止膜１０６の側に接着層用組成物Ａを５ｇ／ｍ2塗工し、直線偏光板１０４と貼り合わせる。仮支持体１０７の側から紫外線を照射することにより、接着層用組成物Ａが硬化して接着層１０５が形成される。この後、仮支持体３０１を剥離すると、図７−３（ｉ）に示す光学フィルムを形成することができる。
以上説明した第１実施形態によれば、水蒸気バリア機能を有する反射防止膜を設けることにより、反射防止膜の機能を有効に利用して、直線偏光板の吸湿を防止することができ、これにより吸湿による製品品質の劣化を防止することができる。また転写法の適用により全体の厚みを薄くすることができる。またこの反射防止膜をスパッタリングにより形成することにより、さらにはＳｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＩＴＯによる多層膜により作製することにより、既存の設備を利用した具体的構成により吸湿による製品品質の劣化を防止することができる。
またさらにロール版を使用して液晶材料を配向させて１／４波長板１０１、１／２波長板１０２を作製することにより、配向膜を省略して全体の厚みを一段と薄くすることができる。
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態を説明する。なお、第２実施形態では、第１実施形態で図示した構成と同様の構成については同様の符号を付し、その説明を一部略すものとする。
（光学フィルム、画像表示装置）
図８は、第２実施形態の画像表示装置２００及び光学フィルム２を示した図である。第２実施形態の光学フィルムの１／４波長位相差板１２は、配向層１２１、１２２と、１／４波長板８０１と、１／２波長板８０２と、を含んでいる。第２実施形態は、１／４波長板８０１、１／２波長板８０２が、配向層１２１または配向層１２２の配向規制力によって配向する点だけが第１実施形態と相違している。
１／４波長位相差板１２では、画像表示パネル２００ａ側から、順次、配向層１２１、１／４波長板８０１、配向層１２２、１／２波長板８０２が設けられている。配向層１２１は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、第２実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお、紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。
配向層１２１は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、この微細な凹凸形状が配向膜１２１ａとして機能する。１／４波長位相差板１２は、配向層１２１の表面形状により１／４波長板８０１が形成される。１／４波長板８０１は、配向した（屈折率異方性を保持した）状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、液晶材料が配向層１２１の配向規制力により配向する。
また、配向層１２２は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、第２実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお、紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。配向層１２２は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、この微細な凹凸形状が配向膜１２２ａとして機能する。１／４波長位相差板１２では、配向層１２２の表面形状により１／２波長板８０２が形成される。１／２波長板８０２は、配向した（屈折率異方性を保持した）状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、液晶材料が配向層１２２の配向規制力により配向する。
（光学フィルムの製造方法）
次に、図８に示した光学フィルム１の製造方法における各工程について説明する。図９、図１０は、図８に示した光学フィルム２を製造する工程を説明するための図である。図１１−１から図１１−３は、図９、図１０に示した各工程における、製造過程の光学フィルムの状態を示した図である。図９は、第２実施形態の１／４波長位相差板を製造する工程を示している。図９（ａ）は、１／４波長板８０１、配向膜１２１ａ、配向層１２１を製造する工程を示し、図９（ｂ）は、１／２波長板８０２、配向膜１２２ａ、配向層１２２を製造する工程を示している。
図９（ａ）に示したように、１／４波長板８０１、配向膜１２１ａ、配向層１２１を製造する製造ラインは、巻き出しロール９０１、ロール９０３、９０５、ドクタ９０４、ドライヤ９０７、９１３、押圧ロール９０８、９１０、賦型ロール版Ｓ１、紫外線照射装置９０９、９１４、ダイ９１２、巻取りロール９１５を備えている。
巻き出しロール９０１からは、図１１−１（ａ）に示した仮支持体８０４である厚さが２５μｍの延伸ＰＥＴ（Ｅ５１００、東洋紡製）が巻き出される。巻き出された仮支持体８０４上には、等方層用組成物Ｂが塗工される。塗工は、ロール９０５が等方層用組成物Ｂを表面に塗工し、ロール９０５、９０３により仮支持体８０４を挟持して搬送することによって行われる。
塗工された等方層用組成物Ｂは、ドライヤ９０７で乾燥される。第２実施形態では、乾燥後の等方層用組成物Ｂが、厚さ３μｍの等方層１１１となった。この状態を、図１１−１（ａ）に示す。
等方層１１１は、押圧ロール９０８、９１０によって賦型ロール版Ｓ１に押圧され、図１１−１（ｂ）に示すように、賦型処理される。紫外線照射装置９０９は、賦型ロール版Ｓ１に押圧されている状態で等方層１１１に仮支持体８０４の側から紫外線を照射する。紫外線照射後、賦型ロール版Ｓ１を剥離することにより、等方層１１１は、図１１−１（ｃ）に示すように、表面に配向膜１２１ａを有する配向層１２１となる。
配向層１２１上には、ダイ９１２によって位相差層用組成物Ｃが塗工される。位相差層用組成物Ｃはドライヤ９１３によって乾燥される。乾燥後の位相差層用組成物Ｃの厚さは１μｍであった。この一連の処理により位相差層用組成物Ｃにかかる液晶材料が配向膜１２１ａに形成された微細な凹凸に沿って配向する。この配向状態で、紫外線照射装置９１４が仮支持体８０４の反対側から位相差層用組成物Ｃに紫外線を照射する。紫外線の照射によって位相差層用組成物Ｃが重合し、図８に示した１／４波長板８０１となる。この状態を、図１１−１（ｄ）に示す。その後、仮支持体８０４は、巻取りロール９１５によって巻取られる。
製造工程は、続いて図９（ｂ）に示す製造工程により、１／２波長板８０２、配向膜１２２ａ、配向層１２２を作製する。この製造ラインは、巻き出しロール９１１、ロール９３３、９１５、ドクタ９３４、ドライヤ９１７、９２３、賦型ロール版Ｓ２、押圧ロール９１８、９２０、紫外線照射装置９１９、９２４、ダイ９２２、巻取りロール９２５を備えている。巻き出しロール９１１からは、巻取りロール９１５によって巻取られた仮支持体８０４、配向層１２１、配向膜１２１ａ、１／４波長板８０１の積層体が巻き出される。この積層体の１／４波長板８０１上に、等方層用組成物Ｂが塗工される。塗工は、ロール９１５が等方層用組成物Ｂを表面に塗工し、ロール９１５、９３３によりこの積層体を挟持して搬送することによって行われる。
塗工された等方層用組成物Ｂは、ドライヤ９１７で乾燥される。第２実施形態では、乾燥後の等方層用組成物Ｂが、厚さ３μｍの等方層８１１となった。この状態を、図１１−２（ｅ）に示す。
等方層８１１は、押圧ロール９１８、９２０により、賦型ロール版Ｓ２に押圧され、賦型処理される。紫外線照射装置９１９は、賦型ロール版Ｓ２に押圧されている等方層８１１に仮支持体８０４の側から紫外線を照射する。紫外線照射後、賦型ロール版Ｓ２から剥離することにより、等方層８１１は、図１１−２（ｇ）に示すように、表面に配向膜１２２ａを有する配向層１２２となる。
配向層１２２上には、ダイ９２２によって位相差層用組成物Ｃが塗工される。位相差層用組成物Ｃはドライヤ９２３によって乾燥される。乾燥後の位相差層用組成物Ｃの厚さは２μｍであった。この一連の処理により位相差層用組成物Ｃにかかる液晶材料が配向膜１２２ａに形成された微細な凹凸に沿って配向する。この配向状態のまま、紫外線照射装置９２４が仮支持体８０４の側の反対側から位相差層用組成物Ｃに紫外線を照射する。紫外線の照射によって位相差層用組成物Ｃが重合し、図８に示した１／２波長板８０２となる。この状態を、図１１−３（ｈ）に示す。これによりこの製造工程は、中間製品である位相差層転写箔８を作製し、この位相差層転写箔８を巻取りロール９２５によって巻取る。
図１０は、続く光学フィルム２の製造工程を示す図である。この製造工程は、巻き出しロール９３１、９３５、９４８と、巻取りロール９４４、９４５、９４９と、ダイ９３６、９４６と、紫外線照射装置９４０、９４７と、加圧ロール９３７、９３８、９４２、９４３と、以上の各構成の間で１／４波長位相差板１２等を搬送する複数の搬送ロールｒ等を備えている。
巻き出しロール９３５からは、位相差層転写箔８が巻き出される。また、巻き出しロール９３１からは、第１実施形態において図７−１（ａ）に示した仮支持体２０１付の直線偏光板１０４が巻き出される。巻き出された仮支持体２０１付の直線偏光板１０４は、直線偏光板１０４上にダイ９３６によって接着層用組成物Ａが塗工される。直線偏光板１０４と位相差層転写箔８とは、直線偏光板１０４と１／２波長板８０２とが接着層用組成物Ａを介して向き合うようにして加圧ロール９３７、９３８により密着加圧される。
紫外線照射装置９４０は、ロール９４１により搬送して温度上昇を防止するようにして、この密着して保持された仮支持体２０１付の直線偏光板１０４及び位相差層転写箔８に紫外線を照射する。紫外線の照射により、接着層用組成物Ａが硬化して接着層１０３となり、直線偏光板１０４と１／２波長板８０２とが貼り合わされる。またその後、仮支持体２０１が剥離され、剥離した仮支持体２０１が巻取りロール９４４によって巻取られる。
この工程は、巻き出しロール９４８から、図７−１（ｂ）に示した、仮支持体１０７付の反射防止膜１０６が巻き出される。反射防止膜１０６上には、ダイ９４６によって接着層用組成物Ａが塗工される。仮支持体１０７付の反射防止膜１０６は、ロール９４１より送り出される直線偏光板１０４と積層され、加圧ロール９４２、９４３により接着層用組成物Ａを介して密着、加圧される。
紫外線照射装置９４７は、この密着加圧された積層体に紫外線を照射する。紫外線の照射により、接着層用組成物Ａが硬化して接着層１０５となり、直線偏光板１０４と反射防止膜１０６とが貼り合わされる。また、貼り合わされの後、仮支持体８０４が剥離され、巻取りロール９４５によって巻取られる。仮支持体８０４が剥離された後、１／４波長位相差板１２と貼り合わされた直線偏光板１０４及び反射防止膜１０６は、巻取りロール９４９によって巻取られる。
以上説明した第２実施形態によれば、配向膜を設ける場合にあっても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態を説明する。なお、第３実施形態では、第１実施形態、第２実施形態で図示した構成と同様の構成については同様の符号を付し、その説明を一部略すものとする。
（光学フィルム、画像表示装置）
図１２は、第３実施形態の画像表示装置３００及び光学フィルム３を示した図である。第３実施形態の光学フィルムの１／４波長位相差板１４は、配向層１２１、１２３と、１／４波長板８０１と、１／２波長板８０２と、接着層１３５と、を含んでいる。第３実施形態は、１／４波長板８０１と配向層１２３とが、接着層１３５によって貼り合わされている点だけが第２実施形態と相違している。
１／４波長位相差板１４では、画像表示パネル３００ａ側から、順次、配向層１２１、１／４波長板８０１、配向層１２３、１／２波長板８０２が設けられていて、１／４波長板８０１と配向層１２３とが接着層１３５によって貼り合わされている。配向層１２１は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、第３実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお、紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。
配向層１２１は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、この微細な凹凸形状が配向膜１２１ａとして機能する。１／４波長位相差板１４は、配向層１２１の表面形状により１／４波長板８０１が形成される。１／４波長板８０１は、配向した（屈折率異方性を保持した）状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、液晶材料が配向層１２１の配向規制力により配向される。
また、配向層１２３は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、第３実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお、紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。
配向層１２３は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、この微細な凹凸形状が配向膜１２３ａとして機能する。１／４波長位相差板１４では、配向層１２３の表面形状により１／２波長板８０２が形成される。１／２波長板８０２は、配向した（屈折率異方性を保持した）状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、液晶材料が配向層１２３の配向規制力により配向される。
（光学フィルムの製造方法）
次に、図１２に示した光学フィルム１の製造方法における各工程について説明する。第３実施形態では、図１２に示した１／４波長板８０１、１／２波長板８０２は、配向膜の賦型に供する金型が異なる点を除いて、同じ工程で製造される。図１３は、第３実施形態の１／２波長板８０２を製造する工程を示した図である。図１３に示した１／２波長板８０２を製造する製造ラインは、賦型ロール版Ｓ１に代えて賦型ロール版Ｓ２が設けられている点だけが、図９（ａ）に示した構成と相違する。
図１３に示した製造ラインは、巻き出しロール９０１、ロール９０３、９０５、ドクタ９０４、ドライヤ９０７、９１３、賦型ロール版Ｓ２、押圧ロール９０８、９１０、紫外線照射装置９０９、９１４、ダイ９１２、巻取りロール９１５を備えている。
巻き出しロール９０１からは、仮支持体８０４である厚さが２５μｍの延伸ＰＥＴ（Ｅ５１００、東洋紡製）が巻き出される。巻き出された仮支持体８０４上には、等方層用組成物Ｂが塗工される。塗工は、ロール９０５により等方層用組成物Ｂを表面に塗工しながら、ロール９０５、９０３により仮支持体８０４を挟持して搬送することによって行われる。
塗工された等方層用組成物Ｂは、ドライヤ９０７で乾燥される。この実施形態では、乾燥後の等方層用組成物Ｂが、厚さ２μｍの等方層１１１となった。この状態を、図１４（ａ）に示す。
等方層１１１は、図１４（ｂ）に示すように、押圧ロール９０８、９１０によって賦型ロール版Ｓ２に押圧され、賦型処理され、紫外線照射装置９０９により仮支持体８０４の側から紫外線を照射する。紫外線照射後、賦型ロール版Ｓ２から剥離することにより、等方層１１１は、図１４（ｃ）に示すように、表面に配向膜１２３ａを有する配向層１２３となる。
配向層１２３上には、ダイ９１２によって位相差層用組成物Ｃが塗工される。位相差層用組成物Ｃはドライヤ９１３によって乾燥される。乾燥後の位相差層用組成物Ｃの厚さは２μｍであった。配向膜１２３ａにより位相差層用組成物Ｃが配向し、配向状態のまま、紫外線照射装置９１４が仮支持体８０４の側の反対側から位相差層用組成物Ｃに紫外線を照射する。紫外線の照射によって位相差層用組成物Ｃが重合し、図８に示した１／２波長板８０２となり、位相差層転写箔９が形成される。この状態を、図１４（ｄ）に示す。図１４（ｄ）に示した位相差層転写箔９は、巻取りロール９１５によって巻取られる。
図１５は、位相差層転写箔９と図１１−１（ｄ）に示した位相差転写箔７を使って光学フィルム３を製造する工程を示した図である。図１５に示した製造ラインは、巻き出しロール９５１、９５５、９６７、９７３と、巻取りロール９６０、９６５、９７１、９７５と、ダイ９５４、９６１、９７２と、紫外線照射装置９５２、９６４、９７４と、加圧ロール９５７、９５８、９６２、９６３、９６８、９６９と、以上の各構成の間で位相差層転写箔９等を搬送する複数の搬送ロールｒを備えている。
巻き出しロール９５５からは、位相差層転写箔９が巻き出される。また、巻き出しロール９５１からは、第１実施形態において図７−１（ａ）に示した仮支持体２０１付の直線偏光板１０４が巻き出される。巻き出された仮支持体２０１付の直線偏光板１０４上には、ダイ９５４によって接着層用組成物Ａが５ｇ／ｍ2塗工される。直線偏光板１０４と位相差層転写箔９の１／２波長板８０２は、加圧ロール９５７、９５８によって接着層用組成物Ａを介して密着し、加圧される。
紫外線照射装置９５２は、直線偏光板１０４、接着層用組成物Ａ、１／２波長板８０２に仮支持体８０４の側から紫外線を照射する。紫外線の照射により、接着層用組成物Ａが硬化して接着層１０３となり、直線偏光板１０４と１／２波長板８０２とが貼り合わされる。なお、貼り合わせは、直線偏光板１０４の透過軸と１／２波長板８０２の遅層軸とが１５度の角度をなすように行われた。貼り合わされの後、位相差層転写箔９の仮支持体８０４が剥離され、巻取りロール９６０によって巻取られる。
続いてこの製造工程では、位相差層転写箔９の配向層１２３上にダイ９６１によって接着層用組成物Ａが５ｇ／ｃｍ2塗工される。巻き出しロール９６７からは、位相差転写箔７が巻き出される。位相差層転写箔９の配向層１２３と位相差転写箔７の１／４波長板８０１とは、加圧ロール９６２、９６３によって接着層用組成物Ａを介して密着し、加圧される。この工程における光学フィルムの状態を、図１６に示す。
紫外線照射装置９６４は、配向層１２３、接着層用組成物Ａ、１／４波長板８０１に紫外線を照射する。紫外線の照射により、接着層用組成物Ａが硬化して接着層１３５となり、直線偏光板１０４が設けられた位相差層転写箔９の配向層１２３と図１１−１（ｄ）に示した構成の１／４波長板８０１とが接着し、図１６に示した構成が形成される。貼り合わせは、直線偏光板１０４の透過軸と１／４波長板８０１の遅層軸とが７５度の角度をなすように行われた。貼り合わせの後、仮支持体２０１が巻取りロール９６５によって剥離され、巻取られる。
巻き出しロール９７３からは、図７−１（ｂ）に示した仮支持体１０７付の反射防止膜１０６が巻き出される。反射防止膜１０６上には、ダイ９７２によって接着層用組成物Ａが塗工される。反射防止膜１０６は、図１６に示した光学フィルムから仮支持体２０１を除いた構成の直線偏光板１０４と加圧ロール９６８、９６９によって接着層用組成物Ａを介して密着し、加圧される。
紫外線照射装置９７４は、位相差層転写箔９及び図７−１（ａ）に示した構成の直線偏光板１０４に紫外線を照射する。紫外線の照射により、接着層用組成物Ａが硬化して接着層１０５となり、１／４波長位相差層板１４と、直線偏光板１０４と、反射防止膜１０６とが貼り合わされる。以上の処理の後、巻取りロール９７１によって仮支持体８０４が剥離されて巻取られる。仮支持体剥離後の光学フィルム３は、巻取りロール９７５によって巻取られる。
以上説明した第３実施形態によれば、１／４波長板８０１と１／２波長板８０２とをそれぞれ個別に作製して積層する場合でも、第１実施形態と同様の効果を得ることができ、さらには簡単なプロセスで光学フィルム３を製造することができる。
［第４実施形態］
次に、本発明の第４実施形態を説明する。なお、第４実施形態は、反射防止膜を以下の方法で作製した点を除いて、上述の実施形態と同様に構成される。
図１７は、本発明の第４実施形態の反射防止膜を作成する工程を示した図である。図１７に示した工程が行われる製造ラインには、図３に示した製造ラインと同様に、巻き出しロール２１１、巻取りロール２１０が設けられている。また、図１７に示した工程が行われる製造ラインには、ダイ２５１、２５５、ロール２５３、２５７、紫外線照射装置２５４、２５８、以上の構成の間で仮支持体１０７等を搬送する複数の搬送ローラｒが備えられている。
巻き出しロール２１１からは、仮支持体１０７が巻き出される。仮支持体１０７の片面には、微粒子が含有される低屈折率層用組成物Ｄがダイ２５１によって塗工される。なおこの低屈折率層用組成物Ｄは、平均粒径が５０ｎｍの中空状の処理シリカ微粒子（固形分：２０質量％、溶液：メチルイソブチルケトン）２５質量部、フッ素原子含有ポリマー（ダイキン工業社製、ＡＲ１１０、屈折率約１．３９、重量平均分子量１５万、固形分１５質量％、溶液メチルイソブチルケトン）２６．６質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１質量部、防汚剤（デグサ社製、ＴＥＧＯＲａｄ２６００）０．５質量部、重合開始剤（イルガキュア１２７：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５質量部、ＭＩＢＫ１６０質量部、Ｎ−ブタノール４０質量部を成分とする。
また、仮支持体１０７は、厚み１００μｍのノバクリア、三菱樹脂性のフィルムである。
低屈折率層用組成物Ｄが塗工された仮支持体１０７は、ドライヤ２５２によって４０℃、１分の条件で乾燥される。乾燥後の低屈折率層用組成物Ｄの厚さは、０．１μｍとなる。低屈折率層用組成物Ｄが塗工された仮支持体１０７は、ロール２５３に巻き回され、紫外線照射装置２５４によって紫外線の照射を受ける。紫外線の照射を受けた低屈折率層用組成物Ｄは硬化して、無機粒子を含む低屈折層となる。
無機粒子を含む低屈折層には、さらに、ハードコート層用組成物Ｅがダイ２５５により塗工される。なお、ハードコート層用組成物Ｅは、ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）５質量部、イソシアヌル酸変性トリアクリレート（Ｍ３１５、東亜合成社製）５質量部、重合開始剤（イルガキュア１８４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．４質量部、メチルエチルケトン１０質量部を成分とする。
ハードコート層用組成物Ｅは、ドライヤ２５６により、５０℃、３０秒の条件で乾燥される。ハードコート層用組成物Ｅの乾燥後の乾燥後重量は、１０ｇ／ｍ2である。次に、ハードコート層用組成物Ｅは、紫外線照射装置２５８によって５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線の照射を受けて硬化し、ハードコート層となる。仮支持体１０７上の無機粒子を含む低屈折層、ハードコート層は、図７−１（ｂ）に示した反射防止膜１０６を構成する。反射防止膜１０６は、仮支持体１０７と共にとして巻き取りロール２１０に巻き取られる。
以上説明した第４実施形態の反射防止膜のハードコート側に、接着層用組成物Ａを５ｇ／ｍ2塗工し、第１実施形態と同様に視感反射率を測定したところ、１．０％の値を得た。
この実施形態によれば、反射防止膜が無機微粒子含有有機高分子層を含む反射防止膜である場合でも、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。
［検証実験］
本願発明の発明者らは、以上説明した光学フィルムの効果を検証するため、以下の実験を行った。
（吸湿防止性に関する検証）
図１８（ａ）は、本発明の第１実施形態で作成された光学フィルム１を使って行われた、吸湿防止性（水分の侵入を防ぐ機能）に関する検証実験を説明するための図である。なお、検証実験は、光学フィルム２、光学フィルム３についても同様の方法で行っているが、光学フィルム１についてのみ図示し、光学フィルム２、光学フィルム３、光学フィルム４については図示を省くものとする。
図１８（ａ）に示した構成では、図１に示した第１実施形態の光学フィルム１の１／４波長板１０１側を、片側の剥離紙を剥がした市販の接着フィルム（日東電工株式会社製、ＣＳ９６２１Ｔ）の接着面と貼り合わせ１４．５ｃｍ角に切り出した後、もう片側の離型紙を剥がし、大きさが１５ｃｍ×１５ｃｍ、厚さが０．７ｍｍのガラスＧと貼り合わせた。さらに、仮支持体１０７を除き、図１８（ａ）に示した構成を得た。図１８（ａ）に示した構成のうち、ガラスＧ及び接着層１０８を除いた光学フィルムの厚さは、２０μｍであった。
検証実験では、図１８（ａ）に示した構成を、６０℃、相対湿度（ＲＨ）８０％の環境下で１００時間置いた。この結果、図１８（ａ）に示した構成には、変形や分離は見られず、ガラスＧを含めた構成にも反りは見られなかった。また、第２実施形態の光学フィルム２、第３実施形態の光学フィルム３について行った検証実験でも、いずれも同様の結果を得ることができた。第４実施形態の光学フィルム４では、光学フィルムの外周部にわずかに剥離がみられたものの問題となるレベルではなかった。
（反射防止に関する検証）
図１８（ｂ）は、本発明の第１実施形態で作成された光学フィルム１を使って行われた、反射防止に関する検証実験を説明するための図である。なお、検証実験は、光学フィルム２、光学フィルム３、光学フィルム４についても同様の方法で行っているが、光学フィルム１についてのみ図示し、光学フィルム２、光学フィルム３、光学フィルム４については図示を省くものとする。
図１８（ｂ）に示した構成は、図１８（ａ）に示した構成のガラスＧを、白色ＥＬ（図中では符号「ＥＬ」を付す）に代えたものである。図１８（ｂ）に示した構成の、白色ＥＬを含む厚さは０．７２ｍｍであった。また、白色ＥＬの非発光時、光学フィルム１の仮支持体を除いた構成は黒色を示し、外光の内部反射を良好に抑えていることが分かった。また、第２実施形態の光学フィルム２、第３実施形態の光学フィルム３、第４実施形態の光学フィルム４について行った検証実験でも、いずれも同様の結果を得ることができた。
［他の実施形態］
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
すなわち上述の実施形態では、転写層側に接着層を設けるようにして、この接着層により直線偏光板と転写層とを一体化する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、この接着層を直線偏光板側に設けるようにしてもよい。
また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種賦型用樹脂を適用する場合、さらには加熱等により軟化させた基材を押し付けて賦型する場合等にも広く適用することができる。
また上述の実施形態では、ロール版により賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。
また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、１／２位相板、１／４位相板の何れか一方のみを光配向膜により作成してもよく、双方を光配向膜により作成してもよい。
また上述の実施形態では、ロール材の連続した処理により接着層４、セパレータの配置を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状により切り出した後に配置するようにしてもよい。
また上述の実施形態では、可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに光学フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶表示パネル等による一般の画像表示装置に適用する場合、さらには各種の部材に配置して反射防止を図る場合に広く適用することができる。
１、２、３ 光学フィルム
１０７、２０１、３０１、８０４ 仮支持体
１１ １／４波長位相差板
１００、２００、３００ 画像表示装置
１００ａ 画像表示パネル
１０１ １／４波長板
１０２ １／２波長板
１０３、１０５ 接着層
１０４ 直線偏光板
１０６ 反射防止膜

Claims (11)

  1. 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、を含む多層構造による転写層を形成する転写層の作製工程と、
    前記転写層を偏光板に転写する転写の工程と、
    前記偏光板における、前記転写層が転写される側の面と反対の面に、水分の浸入を防ぐための水蒸気バリア機能を有する反射防止膜を設ける反射防止膜の作製工程と、
    を含むことを特徴とする
    光学フィルムの製造方法。
  2. 前記反射防止膜の作製工程は、スパッタリングにより前記反射防止膜を設けることを特徴とする
    請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
  3. 前記反射防止膜は、少なくとも、ＳｉＯ2と、Ｎｂ2Ｏ5と、ＩＴＯと、を含む薄膜を有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
  4. 前記転写層の作製工程は、前記１／２波長板及び前記１／４波長板の少なくとも一方を、表面に凹凸形状を有する版を使用して液晶材料を配向させることによって作成する工程を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
  5. 前記転写層の作製工程は、前記１／２波長板及び前記１／４波長板の少なくとも一方を配向させる配向層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
  6. 前記反射防止膜が、無機微粒子含有有機高分子層を含む反射防止膜であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
  7. 前記反射防止膜は、少なくとも、無機微粒子と紫外線によって硬化された有機高分子とを含む薄膜を有することを特徴とする請求項６に記載の光学フィルムの製造方法。
  8. 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、を含む多層構造による転写層と、
    前記転写層が転写された偏光板と、
    前記偏光板における、前記転写層が転写される側の面と反対の面に設けられた反射防止膜と、を含み、
    前記反射防止膜は、水分の浸入を防ぐための水蒸気バリア機能を有することを特徴とする光学フィルム。
  9. 前記反射防止膜は、少なくとも、ＳｉＯ2薄膜と、Ｎｂ2Ｏ5薄膜と、ＩＴＯ薄膜と、を含むことを特徴とする請求項８に記載の光学フィルム。
  10. 前記反射防止膜は、少なくとも、無機微粒子と紫外線で硬化した有機高分子とを含むことを特徴とする請求項８に記載の光学フィルム。
  11. 請求項８から１０のいずれか１項に記載の光学フィルムを配置したことを特徴とする
    画像表示装置。
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