JP2014142462A - 光学機能層付きタッチパネル用電極部、円偏光板付きタッチパネル電極部、タッチパネル、画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】外来光の反射によるタッチパネルの導電パターンや不快な金属性の光沢によるぎらつきの視認が大幅に改善され、良好な映像を表示可能な光学機能層付きタッチパネル用電極部、円偏光板付きタッチパネル電極部、タッチパネル、画像表示装置を提供する。
【解決手段】光学機能層付きタッチパネル用電極部は、透明基材３１１，３２１及び前記透明基材３１１，３２１の少なくとも片面に形成された導電パターン３１２，３２２を備える第１電極層３１及び第２電極層３２と、第１電極層３１及び第２電極層３２の一方側に積層され、透過光に１／４波長分の位相差を与える光学機能層４３とを備え、導電パターン３１２，３２２は、導電性を有する金属層３１２ａ，３２２ａが所定のパターン状に形成されてなるものとした。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学機能層付きタッチパネル用電極部、円偏光板付きタッチパネル電極部、タッチパネル、画像表示装置に関するものである。

近年、タッチパネルを搭載した画像表示装置は、様々な分野で急速に普及しており、特に、マルチタッチが可能なデバイスへの需要が高まっている。
このようなタッチパネルの電極部には、基材の表面に、電極となる導電パターンが形成された電極層（センサーフィルム）が用いられている。導電パターンとしては、一般的に、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電材料が用いられるが、近年では、金属をパターニングしたタイプの検討・開発も進んでいる。また、基材としては、ガラスや樹脂製のフィルム等が用いられており、一般的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のフィルムを用いることが知られている（例えば、特許文献１参照）。

画像表示装置としては、画像表示パネルに有機ＥＬ素子を用いた画像表示装置の普及が進んでいる。このような有機ＥＬ素子を用いた画像表示装置として、可撓性を有するシート形状のものが提供されつつある。このような可撓性を有する画像表示装置では、例えば、全体を外向きに折り曲げたりした状態で、画像を表示することができ、従来に比して一段と画像表示装置の適用分野を拡大し得ると考えられる。

また、有機ＥＬパネルを用いた画像表示装置においては、一般に、有機ＥＬ素子の底面に設けられた高反射率膜や有機ＥＬ素子への電極等による外来光の反射が著しく、このような外来光の反射光を防ぐ目的等により、有機ＥＬ素子よりも出光側（観察者側）に円偏光板等を利用した反射防止機能を有する光学フィルム等を備えている。

円偏光板を利用した光学フィルムは、その偏光面の制御により、外来光の反射を低減するものである。この光学フィルムは、直線偏光板及び１／４波長板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により、直線偏光に変換し、続く１／４波長板により円偏光に変換する。ここで、この円偏光による外来光は、画像表示パネルの表示面で反射するものの、反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板によって、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への反射光の出射が著しく抑制される。

前述のような可撓性を有するシート状の画像表示装置にタッチパネルを搭載する場合、タッチパネルの電極層の基材としてガラス基材が使用できず、また、基材として従来広く使用されるＰＥＴ等のフィルムでは位相差を有するため、上述のような円偏光板を利用した光学フィルムよりも出光側（観察者側）にタッチパネルを積層することが必要となる。
しかし、そのような構成とした場合、タッチパネルの導電パターンでの外来光の反射により、パターンが視認されたり（線見え）、不快な金属性の光沢がぎらついて観察されたりする等の表示不良が生じ、視認性が悪化するという問題がある。特に、エッチング方式で形成された導電パターンの場合、側面部（テーパー部）等で外来光が反射して、光沢を帯びてぎらついて見えるという表示不良が著しくなるという問題があった。

特開２０１０−２０４６３０号公報

本発明の課題は、外来光の反射によるタッチパネルの導電パターンの視認や不快な金属性の光沢によるぎらつき等の表示不良が大幅に改善され、良好な映像を表示可能な光学機能層付きタッチパネル用電極部、円偏光板付きタッチパネル電極部、タッチパネル、画像表示装置を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、タッチパネル用電極部の観察者側に１／４波長位相差層を備える、との着想に至り、本発明を完成するに至った。

（１） 直線偏光板と積層されて画像表示装置の観察者側に配置される光学機能層付きタッチパネル用電極部であって、透明基材及び前記透明基材の少なくとも片面に形成された導電パターンを備える電極層と、前記電極層の一方側に積層され、透過光に１／４波長分の位相差を与える光学機能層とを少なくとも備え、前記導電パターンは、導電性を有する金属層が所定のパターン状に形成されてなることを特徴とする光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（２） 前記導電パターンは、略直線状の前記金属層が複数配列されて形成され、前記金属層は、その線幅が、２．０μｍ以上、１０．０μｍ以下であり、配列ピッチが、２００μｍ以上、７００μｍ以下であり、その厚みが、０．１μｍ以上、２．０μｍ以下であることを特徴とする（１）の光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（３） 前記電極層は、片面に前記導電パターンが形成された前記透明基材を２枚積層して形成されていることを特徴とする（１）又は（２）の光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（４） 前記電極層は、１枚の前記透明基材の両面に前記導電パターンが形成されていることを特徴とする（１）又は（２）の光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（５） 前記金属層は、少なくとも観察者側となる面に黒化処理された黒色層を備えることを特徴とする（１）から（４）までのいずれかの光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（６） 前記黒色層は、その色味がＬ＊ａ＊ｂ＊表色系において、ａ＊が−５．０〜３．０、ｂ＊が−５．０〜４．０であることを特徴とする（５）の光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（７） 前記光学機能層は、前記電極層側から、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４波長板層、前透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２波長板層が順次配置されて形成されていることを特徴とする（１）から（６）までのいずれかの光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（８） 前記１／４波長板層及び前記１／２波長板層は、それぞれ、配向膜と、前記配向膜上に形成され前記配向膜の配向規制力により配向して固化した正分散液晶層とを備え、前記配向膜は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下であることを特徴とする（７）の光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（９） 前記配向膜は、平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下であることを特徴とする（８）の光学機能層付きタッチパネル用電極部。

（１０） （１）から（９）の光学機能層付きタッチパネル用電極部の前記光学機能層に、さらに直線偏光板が積層された円偏光板付きタッチパネル用電極部。

（１１） （１）から（９）までのいずれかの光学機能層付きタッチパネル用電極部を備えるタッチパネル。

（１２） （１０）の円偏光板付きタッチパネル用電極部を備えるタッチパネル。

（１３） 画像を表示する画像表示部と、前記画像表示部の観察者側に、前記電極層側を前記画像表示部側として積層される（１１）又は（１２）のタッチパネルとを備える画像表示装置。

（１４） 前記画像表示部は、有機ＥＬパネルであることを特徴とする（１３）に記載の画像表示装置。

本発明によれば、外来光の反射によるタッチパネルの導電パターンの視認や不快な金属性の光沢によるぎらつき等の表示不良が大幅に改善され、良好な映像を表示可能な光学機能層付きタッチパネル用電極部、円偏光板付きタッチパネル電極部、タッチパネル、画像表示装置を提供できる。

第１実施形態の画像表示装置１の構成を説明する図である。 導電パターン３１２，３２２を説明する図である。 第１実施形態の円偏光板部４０における直線偏光板層４５の吸収軸、１／２波長板層４２、１／４波長板層４１の遅相軸の関係を示す図である。 第１実施形態のタッチパネル２０の製造工程７００の一例を示す略線図である。 第２実施形態の画像表示装置２を説明する図である。

以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。
なお、図１を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張している。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の画像表示装置１の構成を説明する図である。
第１実施形態の画像表示装置１は、画像表示部１０と、その画像表示部の表示面（観察者側表面）に積層されるタッチパネル２０を備えている。
画像表示部１０は、有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。本実施形態の画像表示部１０は、可撓性を有するシート状である。

タッチパネル２０は、画像表示部１０の表示面に、接合層３３により一体に積層されている。タッチパネル２０は、タッチパネル電極部３０と、その観察者側（画像表示部１０とは反対側）に積層される円偏光板部４０とを備えている。なお、本説明において、理解を容易にするために、タッチパネル電極部３０と円偏光板部４０とを分けて順に説明するが、タッチパネル電極部３０は、円偏光板部４０の後述する１／４波長板層４１及び１／２波長板層を一体に積層した状態で、光学機能層付きタッチパネル電極部（３０、４３（４１，４２））として供給可能である。
接合層３３は、透明な粘着剤層であり、例えば、アクリル系の感圧粘着剤等が好適である。

（タッチパネル電極部）
タッチパネル電極部３０は、第１電極層３１と、第２電極層３２とを有し、これらが透明な接合層３３により接合されている。
第１電極層３１は、透明基材３１１と、透明基材３１１の片面に形成される導電パターン３１２とを備えている。第２電極層３２は、透明基材３２１と、透明基材３２１の片面に形成される導電パターン３２２とを備えている。

透明基材３１１，３２１は、リタデーション値（面内位相差）が極力小さいものが、外来光の導電パターン３１２，３２２等での反射光を、後述の円偏光板部４０により効果的に低減するという観点から好ましい。具体的には、この透明基材３１１，３２１のリタデーション値は、０〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましく、０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。仮に、リタデーション値（Ｒｅ）が１０ｎｍを超えると、外来光の導電パターン３１２，３２２等での反射光を、後述の円偏光板部４０により低減する効果が十分得られない。

ここで、リタデーション値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標をいい、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をＮｘ、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をＮｙ、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚さをｄとした場合に、
Ｒｅ［ｎｍ］＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］
で表わされる値である。リタデーション値は、例えば、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用い、平行ニコル回転法により測定することができる。また、本明細書においては、特に別段の記載をしない限り、リタデーション値（Ｒｅ）は波長５８９ｎｍにおける値を意味するものとする。

透明基材３１１，３２１に用いられる材料としては、上述のように、リタデーション値が小さいものが好ましく、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂からなる群より選択される１種が好適に用いられる。特に、（メタ）アクリル系樹脂は、透明性、熱又は機械的特性に優れている。
透明基材３１１，３２１は、例えば、押出成形法等により形成される。この場合、延伸しないほうが低いリタデーション値を実現でき、好ましいが、延伸する場合には、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、又、膜厚が薄いほど、低いリタデーション値を得やすくなる。

透明基材３１１，３２１の厚みとしては、その構成材料等に応じて適宜決定されるが、約２０〜５００μｍの範囲内であることが好ましく、約３０〜３００μｍの範囲内とすることが、十分な耐熱性や機械的特性を得る観点から好ましい。
さらに、透明基材３１１，３２１は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。この透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定するものである。

図２は、導電パターン３１２，３２２を説明する図である。図２では、第１電極層３１及び第２電極層３２を、いずれも画像表示部１０側の正面方向から見た様子を示している。
導電パターン３１２，３２２は、透明基材３１１，３２１の片面に選択的にパターン状に形成された複数の金属層３２１ａ，３２２ａにより形成されている。

導電パターン３１２は、透明基材３１１の片面（本実施形態では、画像表示部１０側の面）に形成されている。この導電パターン３１２は、画面上下方向（Ｙ方向）に延在し、画面左右方向（Ｘ方向）に所定の間隔及び幅で配列された複数の直線状の金属層３１２ａから形成されている。
導電パターン３２２は、透明基材３２１の片面（本実施形態では、画像表示部１０側の面）に形成されている。この導電パターン３２２は、画面左右方向（Ｘ方向）に延在し、画面上下方向（Ｙ方向）に所定の間隔及び幅で配列された複数の直線状の金属層３２２ａから形成されている。即ち、透明基材３１１，３２１の表面の法線方向（タッチパネル２０の正面方向）から見て、導電パターン３１２，３２２の各直線状の金属層３１２ａ，３２２ａは、その長手方向や配列方向が直交している。

本実施形態では、図１等に示すように、第１電極層３１及び第２電極層３２において、導電パターン３１２，３２２がいずれも透明基材３１１，３２１の画像表示部１０側の面に形成される例を示したが、これに限らず、以下のような形態としてもよい。
例えば、第１電極層３１及び第２電極層３２において、導電パターン３１２，３２２がいずれも透明基材３１１，３２１の観察者側の面に形成される形態としてもよい。
さらに、１枚の透明基材に対して、その画像表示部１０側の面に導電パターン３１２が形成され、観察者側の面に導電パターン３２２が形成される形態としてもよい。

金属層３１２ａ，３２２ａは、不透明である。しかし、金属層３１２ａ，３２２ａ間の開口部の存在によって、導電パターン３１２，３２２は、タッチパネル２０の使用状態において、見かけ上透明に見える形態となっている。
金属層３１２ａ，３２２ａを形成する材料は、導電性を持った金属であれば使用可能であり、例えば、銀、銅、金、アルミ等が好適に用いられる。この金属層３１２ａ，３２２ａは、単体の金属や合金により形成されてもよく、金属粒子が結着材により結着されたものにより形成されてもよい。

さらに、金属層３１２ａ，３２２ａは、必要に応じて、少なくとも金属層３１２ａ，３２２ａの観察者側の表面に黒化処理や防錆処理が適用され、黒化層が形成されていることが、導電パターン３１２，３２２による外来光の反射を低減する観点から好ましい。
黒色層に関しては、その色味がＬ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥ１９７６）において、ａ＊が−５．０〜３．０、ｂ＊が−５．０〜４．０であることが、外来光の反射を低減する観点から好ましい。なお、黒色層の色味の測定条件は、Ｃ光源、観測視野２度であり、導電パターン３１２，３２２の開口率が９５％以上である第１電極層３１及び第２電極層３２の背面に黒色アクリル板を配置した状態で測定するものとする。
また、黒色層は、金属層３１２ａ，３２２ａの観察者側となる表面及び両側面の計３面に形成されることが、外来光の反射を低減する効果を高める観点から、より好ましい。金属層３１２ａ，３２２ａの３面に黒化層を形成する場合には、例えば、電解めっきや、無電解めっき等により形成することができる。

一般的に、導電パターン３１２，３２２の金属層３１２ａ，３２２ａの配列ピッチが小さい方が、導電パターン３１２，３２２の線見え（パターンの視認）が低減される。しかし、金属層３１２ａ，３２２ａ間の間隔が狭いと、開口部が小さくなるため、光の透過率が低下し、画像が暗くなる。
また、金属層３１２ａ，３２２ａの線幅に関しても、金属層３１２ａ，３２２ａの線幅が太いと、パターンが視認されやすくなる。しかし、金属層３１２ａ，３２２ａの線幅を細くしても、パターンの視認の低減効果には限度があり、完全には解消されない。

上述のことを鑑み、外来光の反射による電極パターンの視認（線見え）や不快な光沢によるぎらつきの視認等を低減する観点から、直線状の金属層３１２ａ，３２２ａの線幅は、１５μｍ以下とすることが好ましく、２．０〜１０．０μｍとすることがより好ましい。
また、金属層３１２ａ，３２２ａの配列ピッチは、２０００μｍ以下が好ましく、２００〜７００μｍとすることがより好ましい。
そして、金属層３１２ａ，３２２ａの厚みは、３．０μｍ以下とすることが好ましく、０．１〜２．０μｍとすることがより好ましい。

このような導電パターン３１２，３２２のパターン形成の方法としては、フォトリソグラフィー（エッチング）、パターン印刷、転写、自己組織化等が適用可能である。なお、導電パターン３１２，３２２は、上述の例に限らず、ＩＴＯ、銀ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、導電性高分子等の透明導電材料を、各透明基材の片面にパターニングして形成してもよい。その際、厚み等は適宜選択してよい。

透明基材３１１，３２１は、厚み２０〜１００μｍのフィルム材を適用することができる。金属層３１２ａ，３２２ａは、上述のような導電性材料を用いて、厚み０．１〜２．０μｍとすることができる。従って、第１電極層３１及び第２電極層３２は、２０．１〜１０２μｍ程度とすることができる。従って、薄く、可撓性を有するタッチパネル電極部３０とすることができる。

（円偏光板部）
図１に戻って、円偏光板部４０は、画像表示部１０側（映像光の入射側）から順に、１／４波長板層４１及び１／２波長板層４２からなる光学機能層４３、波長板基材層４４、接合層４７、直線偏光板層４５、偏光板基材層４６が一体に積層されて形成されている。この円偏光板部４０は、前述のタッチパネル電極部３０の観察者側に、接合層３３を介して一体に積層されている。

この円偏光板部４０は、タッチパネル２０に入射して、画像表示部１０及びタッチパネル電極部３０側へ向かう外来光を、直線偏光板層４５により直線偏光に変換し、さらに１／４波長板層４１により円偏光に変換する。そして、外来光は、画像表示部１０の表示面や有機ＥＬ素子の底面に設けられた高反射率膜や有機ＥＬ素子への電極、タッチパネル電極部３０の導電パターン３１２，３２２等で反射する際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、１／４波長板層４１により、直線偏光板層４５により遮光される方向の直線偏光に変換され、直線偏光板層４５により遮光される。その結果、外部へ反射光の出射が著しく抑制される。

なお、本実施形態では、光学機能層４３として、正の分散特性を有する液晶材料を使用した１／２波長板層４２と１／４波長板層４１とを組み合わせることにより、円偏光板部４０が逆分散特性を有する構成としている。これにより、円偏光板部４０は、画像表示部１０のカラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性を有する液晶材料を使用しながら、逆分散特性を有する円偏光板としての特性を確保している。正の分散特性等の詳細に関しては、後述する。

図３は、第１実施形態の円偏光板部４０における直線偏光板層４５の吸収軸、１／２波長板層４２、１／４波長板層４１の遅相軸の関係を示す図である。
図３に示すように、直線偏光板層４５の吸収軸の方向を示す矢印Ｙ１に対して、１／２波長板層４２（１／２波長板用位相差層４２２）の遅相軸の方向を示す矢印Ｙ２及び１／４波長板層４１（１／４波長板用位相差層４１２）の遅相軸の方向を示す矢印Ｙ３は、それぞれ反時計回り又は時計回りに角度θ１、角度θ２をなしている。

本実施形態では、この角度θ１は１３〜１７°の範囲、角度θ２は、７１〜７６°の範囲で角度を成すように配置されることが好ましく、さらに、角度θ１は、１４〜１６°、角度θ２は、７２〜７４°で配置されることがさらに好ましい。これにより、円偏光板部４０は、画像表示部１０のカラー画像の表示に供する広い波長帯域において円偏光板としての特性を確保できる。

図１に示すように、本実施形態では、１／４波長板層４１及び１／２波長板層４２は、波長板基材層４４の片面（画像表示部１０側の面）に一体に積層されている。この波長板基材層４４は、１／２波長板層４１及び１／２波長板層４２を形成する基材（ベース）となる層である。
波長板基材層４４は、透明な樹脂製のフィルム用いることができ、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムを用いることができる。なお、波長板基材層４４としては、上記のＴＡＣの他に、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂製のフィルム等も用いることができる。

１／２波長板層４２は、１／２波長板用配向膜４２１と、１／２波長板用位相差層４２２とを備えている。１／２波長板層４２は、透過光に対して１／２波長分の位相差を与える機能を有する。
１／４波長板層４１は、１／４波長板用配向膜４１１と、１／４波長板用位相差層４１２とを備えている。１／４波長板層４１は、透過光に対して１／４波長分の位相差を与える機能を有する。

１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１は、紫外線硬化性樹脂により形成される層であり、その表面には微細な凹凸形状が形成されている。
１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の微細な凹凸形状は、それぞれ、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状であり、この一方向に延長する方向が直線偏光板層４５の透過軸（図３に示す矢印Ｙ１）に対して、それぞれ反時計回り又は時計回りに、各位相差層の設定に対応した角度をそれぞれなしている。本実施形態では、直線偏光板層４５の透過軸（図３に示す矢印Ｙ１）に対して、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の微細な凹凸形状の延長する方向（長手方向）は、約７３°、約１５°をなしている。
これらの凹凸形状は、微細凹凸形状が形成されたロール版による形状転写法や、ラビング処理等、各種形成方法を用いて形成してよい。

図１に戻って、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２は、それぞれ、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の、微小な凹凸形状が形成された面上に形成される層であり、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された正分散性を有する液晶材料（重合性液晶材料）により形成されている。
正分散性を有する液晶（正分散液晶）とは、可視光線の波長帯域のうち、特に４５０〜６５０ｎｍ（好ましくは、３８０〜７８０ｎｍ全域）において、リタデーション値（Ｒｅ）が、波長に対して減少関数となる特性を有するものである。

本実施形態では、１／２波長板用位相差層４２２及び１／４波長板用位相差層４１２の材料として、この正分散液晶を用いており、上述のようにその遅相軸と直線偏光板層４５の吸収軸の方向とのなす角度θ１，θ２を所定の角度とすることにより、１／４波長板層４１及び１／２波長板層４２のリタデーション値（Ｒｅ）を広帯域化している。
この正分散性を有する液晶材料は、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の表面の微細な凹凸形状により、その配向が所定の方向に規制され、パターンニングされ、屈折率異方性を有している。

ここで、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の表面の凹凸形状を、賦型用の成形型（ロール版等）の表面形状を転写することにより形成する場合には、賦型用の成形型であるロール版の周側面において、ラビング布等を用いて成形型の表面にラビング処理を行い、賦型用の凹凸形状を形成する。

このとき、ラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象（ここでは、成形型）の表面形状は、徐々に平坦化する傾向を有する。１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の凹凸形状による液晶材料との密着力を検討した結果、各配向膜４１１，４２１の凹凸形状は、平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上確保することが、十分な密着力を維持する観点から必要であることが判った。また、これにより密着力を強化する観点から、ラビング処理の回数は、一定回数以下に制限することが必要であることが判った。
なお、平均面粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に規定の算術平均粗さであり、ラビング方向（直線状の凹凸形状の長手方向）と直交する方向に測定したものである。

一方、ラビング処理の回数を少なくすると、各配向膜４１１，４２１に充分な配向規制力を付与できない恐れがある。各配向膜４１１，４２１の凹凸形状は、ラビング処理の回数の増大により、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２の液晶材料への配向規制力が増大する傾向を有する。従って、液晶材料への充分な配向規制力を確保する観点より、ラビング処理回数と配向規制力との関係を検討したところ、平均面粗さ（Ｒａ）が４ｎｍ以下となるまでラビング処理すると、充分な配向規制力を確保できることが判った。

以上のことから、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１において、その表面の凹凸形状の平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上、４ｎｍ以下となるように、成形型（ロール版等）へのラビング処理回数を設定することが必要である。各配向膜４１１，４２１の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下とすることにより、各位相差層４１２，４２２における液晶材料の配向の劣化を十分に回避して、従来に比して配向膜４１１，４２１と位相差層４１２，４２２との密着性を向上できる。

また、ラビング処理においては、ラビング布の押圧力等のラビング処理の条件によって、ラビング処理回数と表面粗さの変化との関係が変化する。従って、平均面粗さ（Ｒａ）を上述の範囲に設定する場合、ラビング処理回数は、ラビング処理の条件に応じて適宜選定することが必要である。
なお、これらの平均面粗さ（Ｒａ）は、ラビング処理した成形型を使用した賦型処理により配向膜を作製し、この配向膜と位相差層の材料となる液晶材料（重合性液晶材料）との密着力を検討し、さらに配向規制力を検討したものである。

さらに、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の表面粗さについてさらに検討する。
１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の面内における表面粗さのばらつきが大きいと、面内における液晶材料の配向のばらつきが大きくなり、透過光に与える位相差についても大きなばらつきが生じ、好ましくない。

ここで、波長板等の面内の位相差のばらつきに関しては、直交ニコル法により観察することができる。対象物となる波長板を、直交ニコル配置した２枚の偏光板の間に挟持し、２枚の偏光板に対する対象物の傾きを変化させながら、透過光量を計測し、最も透過光量が小さくなる傾きθを計測する。この最も透過光量が小さくなる場合の光量は、黒輝度とも呼ばれる。ここでは、例えば、１／２波長板層４２について、黒輝度の光量、黒輝度に係る傾きをその面内の複数個所で計測し、計測結果を統計的に処理した。
すると、黒輝度となる傾きのばらつきσ（標準偏差）が小さい程、黒輝度も小さくなる傾向を有し、波長板が透過光に付与する位相差量のばらつきが小さく、精度良く所望の位相差を付与することができることがわかった。

さらに、本発明者らは、鋭意研究を重ね、配向膜表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）と黒輝度となる傾きのばらつきσ（標準偏差）の関係から、十点平均粗さ（Ｒｚ）が粗い場合程、即ち、配向膜に係るライン状の凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化する傾向を有していることがわかった。即ち、配向膜に係るライン状の凹凸形状が浅い場合程、位相差層の液晶分子が揃った状態で配向し易いと言える。なお、十点平均粗さ（Ｒｚ）は、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に規定されるものである。

そこで、本発明者らは、さらに鋭意研究を重ね、十点平均粗さ（Ｒｚ）が４５ｎｍ以下であるようにラビング処理すれば、ばらつきである標準偏差σが１．２度以下であるようにラビング処理することができ、また黒輝度も十分に抑圧できることがわかった。
一方、十点平均粗さ（Ｒｚ）の下限値は、位相差層に適用される液晶分子の大きさの１０倍程度は必要であるため、１ｎｍ以上は必要である。しかし、さらに実用的な余裕を確保する観点から、好ましくは、十点平均粗さ（Ｒｚ）の下限値は、１０ｎｍ以上必要である。

以上のことから、充分にばらつきを小さくして位相差層の液晶材料を十分に配向させるために、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の表面の凹凸形状は、その十点平均粗さ（Ｒｚ）が４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることが必要である。従って、各配向膜４１１，４２１への凹凸形状の賦型処理において、凹凸形状を形成する成形型であるロール版は、その周側面（賦型面）の十点平均粗さ（Ｒｚ）が４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように作製されることが必要である。
１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることにより、充分にばらつきを低減して１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２を配向させることができ、これにより、高い品質で１／４波長板層４１及び１／２波長板層４２を作製することができる。

また、１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上である場合には、概ね、その表面の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定できるので、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２における液晶分子の配向の劣化を抑制し、かつ、従来に比して各配向膜４１１，４２１と各位相差層（液晶材料）４１２，４２２との密着性を向上させることができる。

次に、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２のリタデーション値について説明する。
１／４波長板用位相差層４１２は、リタデーション値（Ｒｅ）が１０５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下として作成され、１／２波長板用位相差層４２２は、リタデーション値（Ｒｅ）が２２０ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下として作成されることが好ましい。さらに、１／４波長板用位相差層４１２は、リタデーション値（Ｒｅ）が１１０ｎｍ以上、１３０ｎｍ以下として作成され、１／２波長板用位相差層４２２は、リタデーション値（Ｒｅ）が２４０ｎｍ以上、２６０ｎｍ以下として作成されることが好ましい。
上述のようなリタデーション値（Ｒｅ）を有する１／２波長板用位相差層４２２及び１／４波長板用位相差層４１２とすることにより、直線偏光板層４５側から入射した可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光（直線偏光）を、楕円率０．８以上の円偏光として出射できる。

１／４波長板用位相差層４１２、１／２波長板用位相差層４２２に用いる材料としては、液晶性を有する円盤状液晶、棒状液晶等を適宜適用できる。これらの液晶性材料のリタデーション（Ｒｅ：正面リタデーション）の波長分散性は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるＲｅをそれぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）とすると、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を１．２以下に、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）を０．９以上にすることが、好ましい。

偏光板基材層４６は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材である。偏光板基材層４６は、片面（画像表示部１０側の面）に鹸化処理が施され、直線偏光板層４５が一体に積層される。
偏光板基材層４６としては、上記のＴＡＣの他に、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等も用いることができる。

直線偏光板層４５は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。
この直線偏光板層４５及び偏光板基材層４６は、一体に形成されており、接合層４７を介して、波長板基材層４４の観察者側（出光側）に積層されている。この接合層４７としては、例えば、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）糊等の粘着剤を用いることができる。

以下に、円偏光板部４０の各層の厚み等について説明する。
波長板基材層４４は、厚み３０μｍ程度のフィルム材を適用することができる。１／４波長板用位相差層４１２、１／２波長板用位相差層４２２は、液晶性材料を用いて形成されることにより、それぞれ、厚み１μｍ、２μｍ程度とすることができる。また、１／４波長板用配向膜４１１、１／２波長板用配向膜４２１は、その厚みを２μｍ程度とすることができる。従って、１／４波長板層４１、１／２波長板層４２、波長板基材層４４の積層部分は、全体として厚みを４０μｍ程度とすることができる。

また、直線偏光板層４５及び偏光板基材層４６の積層部分については、厚みを３０μｍ程度とすることができる。これらを接合する接合層４７は、厚みを２０μｍ以下とすることができる。
従って、円偏光板部４０は、十分に厚みを薄くすることができ、かつ、円偏光板として十分な機能を有することができる。

図４は、第１実施形態のタッチパネル２０の製造工程７００の一例を示す略線図である。
この製造工程７００において、まず、図４（ａ）に示すように、基材となる波長板基材層４４は、供給リール７０１から供給される。そして、ダイ７０２からこの波長板基材層４４の片面に、１／２波長板用配向膜４２１を形成する紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。

第１ロール版７０４は、１／２波長板用配向膜４２１の凹凸形状を賦型する凹凸形状がその周側面に形成された円筒形状の賦型用成形型（金型）である。
紫外線硬化性樹脂が塗布された波長板基材層４４を、加圧ローラ７０３により第１ロール版７０４の周側面に所定の圧力で押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置７０６による紫外線の照射により、紫外線硬化性樹脂が硬化される。これにより、第１ロール版７０４の周側面に形成された凹凸形状が、紫外線硬化性樹脂に転写される。

その後、剥離ローラ７０５により、硬化した紫外線硬化性樹脂及び波長板基材層４４を、第１ロール版７０４から剥離する。これにより、波長板基材層４４の片面に、微細な凹凸形状を表面に有する１／２波長板用配向膜４２１が形成される。

次に、ダイ７０７から、１／２波長板用配向膜４２１の上に、液晶材料を塗布する。その後、紫外線照射装置７０８から紫外線を照射して液晶材料を硬化させる。
このとき、１／２波長板用配向膜４２１の配向規制力により、液晶材料が配向された状態で硬化され、１／２波長板用位相差層４２２が形成される。

次に、ダイ７０９から、波長板基材層４４の１／２波長板用位相差層４２２上に、紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。
第２ロール版７１１は、１／４波長板用配向膜４１１の凹凸形状を賦型する凹凸形状がその周側面に形成された円筒形状の賦型用成形型（金型）である。
１／２波長板用位相差層４２２上に紫外線硬化性樹脂が塗布された波長板基材層４４を、加圧ローラ７１０により第２ロール版７１１の周側面に押圧し、紫外線照射装置７１３から照射される紫外線により、この紫外線硬化性樹脂を硬化させる。これにより、第２ロール版７１１の周側面に形成された凹凸形状が、紫外線硬化性樹脂層に転写される。
その後、剥離ローラ７１２により、硬化した紫外線硬化性樹脂及びこれと一体に積層された波長板基材層４４等を第２ロール版７１１から剥離する。これにより、１／２波長板用位相差層４２２上に、１／４波長板用配向膜４１１が形成される。

次に、ダイ７１４から、１／４波長板用配向膜４１１の凹凸形状上に、液晶材料を塗布し、紫外線照射装置７１５から紫外線を照射してこの液晶材料を硬化させる。これにより、１／４波長板用配向膜４１１の配向規制力によって液晶材料が配向された状態で硬化され、１／４波長板用位相差層４１２が形成される。
以上により、波長板基材層４４の片面に、１／２波長板層４２及び１／４波長板層４１が順に一体に積層されて形成された積層体Ｓ１が形成される。

次に、図４（ｂ）に示すように、この積層体Ｓ１の１／４波長板層４１側の面に、ダイ７１６から、接合層３３となる粘着剤（感圧粘着剤）を塗布する。そして、別工程で作製したタッチパネル電極部３０を、供給リール７１７から供給してこの粘着剤層上に積層し、ニップロール７１８ａ，７１８ｂにより押圧して、積層体Ｓ１とタッチパネル電極部３０とを接合し、一体化して積層体Ｓ２とする。

次に、積層体Ｓ１とタッチパネル電極部３０との積層体Ｓ２を不図示の反転ロールで反転する等し、積層体Ｓ２における波長板基材層４４の表面に、図４（ｃ）に示すように、ダイ７１９から、接合層４７となる粘着剤（感圧粘着剤）を塗付する。そして、別工程で作製した直線偏光板層４５及び偏光板基材層４６が一体に積層された積層体を供給リール７２０から供給し、この粘着剤層上に積層し、ニップロール７２１ａ，７２１ｂにより押圧してこれらを接合して一体化し、必要に応じて巻き取りリールで巻き取ったり、適宜裁断等を行ったりする。

これらの工程を経ることにより、タッチパネル２０が形成される。なお、波長板基材層４４及び１／２波長板層４２，１／４波長板層４１の積層体Ｓ１に対して、先に、直線偏光板層４５及び偏光板基材層４６を積層し、その後、タッチパネル電極部３０をこれらに積層してもよい。また、例えば、積層体Ｓ１や積層体Ｓ２を作製した後、一旦不図示のリール等に巻き取り、次工程の製造装置等に設置し、リールから積層体Ｓ１，Ｓ２を巻き出して次工程へ供給してもよい。このとき、保護フィルムやセパレータ等を積層体Ｓ１，Ｓ２の表面等に積層して巻き取る等して、適宜積層体Ｓ１，Ｓ２の表面等を保護してもよい。
このタッチパネル２０は、接合層３３を介して、シート状の画像表示部１０に一体に積層されることにより、タッチパネル２０を備える画像表示装置１が作製される。

本実施形態によれば、導電パターン３１２，３２２のパターンが視認されたり、不快な光沢によるぎらつきが視認されたりすることを抑制でき、映像の品位を落とすことなく、良好な映像を表示できる光学機能層付きタッチパネル電極部、円偏光板付きタッチパネル電極部、タッチパネル、表示装置とすることができる。
特に、本実施形態のように、画像表示部１０に有機ＥＬパネルを用いる場合は、有機ＥＬ素子に接続される不図示の電極等により外来光が反射され、特有の紫色を帯びた光沢が視認されやすくなる。しかし、本実施形態によれば、そのような画像表示部１０の電極に起因する不快な光沢によるぎらつき等の視認も大幅に抑制できる。

さらに、本実施形態によれば、上述のように、このタッチパネル２０は、ロール・トゥ・ロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式により作製可能であり、薄く、可撓性を有するタッチパネルを容易に作製でき、かつ、従来に比して製造コストを大幅に低減でき、安価に提供できる。

（第１実施形態に関する他の実施形態１）
この実施形態は、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２の遅相軸Ｙ３，Ｙ２が、直線偏光板層４５の吸収軸Ｙ１となす角度θ２，θ１や、面内リタデーション値等が前述の図１〜図４等に示す第１実施形態と異なる点以外は、前述の第１実施形態と同様の形態である。

１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２は、以下の関係式を満たすように形成してもよい。
１） ２｜θ１｜＋３５°＜｜θ２｜＜２｜θ１｜＋４５°
２） ２（Ｒ２（５５０）−２０）＜Ｒ１（５５０）≦２Ｒ２（５５０）
角度θ１及びθ２は、直線偏光板層４５の透過光の吸収軸Ｙ１に対する１／２波長板用位相差層４２２及び１／４波長板用位相差層４１２の遅相軸Ｙ２，Ｙ３の傾きである。ここで、１／２波長板用位相差層４２２及び１／４波長板用位相差層４１２の各遅相軸は、直線偏光板層４５の吸収軸Ｙ１に対して同じ方向に傾くものとする。即ち、角度θ１が正の値である場合、角度θ２も正の値であり、角度θ１が負の値である場合、角度θ２も負の値となる。角度θ１，θ２は、反時計回り方向を正とする。

また、Ｒ１（５５０）は、波長が５５０ｎｍの透過光に対する１／２波長板用位相差層４２２の面内リタデーション値であり、Ｒ２（５５０）は、波長が５５０ｎｍの透過光に対する１／４波長板用位相差層４１２の面内リタデーション値である。さらに、この１／２波長板用位相差層４２２及び１／４波長板用位相差層４１２は、同一の液晶材料から形成されている。

上記１）、２）の関係式を満たすことにより、円偏光板部４０が画像表示部１０の観察者側に配置された場合に、表示画面の法線に対する斜め方向から観察される表示画面の色味を黒色に近づけることができ、表示画面の外観を向上させることができる。
また、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２は、以下の関係式を満たすことによって、上記効果を奏する円偏光板部４０をより具体的に実現することができる。
３） １２°＜｜θ１｜＜１７°
４） ６５°＜｜θ２｜＜７５°

（第１実施形態に関する他の実施形態２）
また、上記の形態に限らず、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２は、以下の関係式を満たすように形成してもよい。この実施形態も、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２の遅相軸Ｙ３，Ｙ２が、直線偏光板層４５の吸収軸Ｙ１となす角度θ２，θ１や、面内リタデーション値等が前述の図１〜図４等に示す第１実施形態と異なる点以外は、前述の第１実施形態と同様の形態である。

なお、この実施形態においても、直線偏光板層４５の吸収軸Ｙ１に対して、１／２波長板用位相差層４２２及び１／４波長板用位相差層４１２の遅相軸Ｙ２，Ｙ３は、それぞれ反時計回りに角度θ１，θ２の角度を成すように配置されている。また、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２は、それぞれ異なる液晶材料から形成されている。
５） −１５°＜θ１＜１５°
６） Ｒ２（４５０）／Ｒ２（５５０）＜Ｒ１（４５０）／Ｒ１（５５０）

この１／２波長板用位相差層４２２及び１／４波長板用位相差層４１２の各遅相軸Ｙ２，Ｙ３は、前述の別の形態１と同様に、直線偏光板層４５の吸収軸Ｙ１に対して同じ方向に傾くものとする。
また、Ｒ１（５５０）は、波長が５５０ｎｍの透過光に対する１／２波長板用位相差層４２２面内リタデーション値であり、Ｒ２（５５０）は、波長が５５０ｎｍの透過光に対する１／４波長板用位相差層４１２の面内リタデーション値である。さらに、Ｒ１（４５０）は、波長が４５０ｎｍの透過光に対する１／２波長板用位相差層４２２リタデーション値であり、Ｒ２（４５０）は、波長が４５０ｎｍの透過光に対する１／４波長板用位相差層４１２のリタデーション値である。

上記５）、６）の関係式を満たすことにより、円偏光板部４０は、画像表示部１０に配置された場合に、表示画面の法線に対する斜め方向から観察される表示画面の色味を黒色に近づけることができ、表示画面の外観を向上させることができる。

また、１／４波長板用位相差層４１２及び１／２波長板用位相差層４２２は、以下の関係式を満たすことによって、上記効果を奏する円偏光板部４０をより具体的に実現することができる。
７） １．０６≦Ｒ１（４５０）／Ｒ１（５５０）≦１．１１
８） ０．９５≦Ｒ２（４５０）／Ｒ２（５５０）≦１．０３
９） ０．３≦Ｒｔｈ１（５５０）／Ｒ１（５５０）≦０．７
１０） ０．３≦Ｒｔｈ２（５５０）／Ｒ２（５５０）≦０．７

ここで、Ｒｔｈ１（５５０）は、波長が５５０ｎｍの透過光に対する１／２波長板用位相差層４２２の厚み方向のリタデーションを示し、Ｒｔｈ２（５５０）は、波長が５５０ｎｍの透過光に対する１／４波長板用位相差層４１２の厚み方向のリタデーション値を示す。上記関係式９）、１０）の条件は、０．４以上、０．６以下であればなお好ましい

（第２実施形態）
図５は、第２実施形態の画像表示装置２を説明する図である。
第２実施形態の画像表示装置２は、円偏光板部４０が、光学機能層４３として、前述の１／４波長板層４１及び１／２波長板層４２に変えて、１／４波長位相差板層４８を備えている点が異なる以外は、前述の第１実施形態と同様である。従って、同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
第２実施形態の画像表示装置２は、画像表示部１０と、その画像表示部１０の表示面（観察者側表面）に一体に積層されるタッチパネル２０とを備えている。このタッチパネル２０は、タッチパネル電極部３０及び円偏光板部４０を備えている。

円偏光板部４０は、タッチパネル電極部３０側から順に、１／４波長位相差板層４８と、位相差板基材層４９、直線偏光板層４５、偏光板基材層３５等を備えている。
位相差板基材層４９は、１／４波長位相差板層４８の基材（ベース）となる層である。位相差板基材層４９は、その画像表示部１０側の面に、１／４波長位相差板層４８が一体に形成され、観察者側の面には、直線偏光板層４５が、接合層４７を介して一体に積層されている。この位相差板基材層４９は、前述の波長板基材層４４と同様に、透明なＴＡＣフィルム等が好適に用いられる。

１／４波長位相差板層４８は、配向膜４８１と、１／４波長位相差層４８２とを有し、位相差板基材層４９の片面（画像表示部１０側の面）に一体に形成されている。この１／４波長位相差板層４８は、透過光に対して、１／４波長分の位相差を与える機能を有している。

配向膜４８１は、位相差板基材層４９の片面（画像表示部１０側の面）に一体に形成されている。この配向膜４８１は、前述の１／４波長板用配向膜４１１及び１／２波長板用配向膜４２１と同様に、紫外線硬化性樹脂により形成され、その表面に、賦型処理により、一方向に延長するライン状（線）の微細な凹凸形状が形成されている。この一方向に延長する方向が、直線偏光板層４５の吸収軸に対して、反時計回り又は時計回りに、位相差層の設定に対応した約４１〜４７°の角度をなしている。

１／４波長位相差層４８２は、配向膜４８１の微細な凹凸形状が形成された面上に形成される層であり、屈折率異方性を保持した状態で固化（効果）された液晶材料により形成されている。この液晶材料は、逆分散性（逆波長分散性）を有するものが用いられており、このような逆分散性を有する液晶材料としては、例えば、メルク社製の逆分散液晶（ＲＭＳ１２−０４０）等を用いることができる。

ここで、逆分散性を有する液晶（逆分散液晶）とは、可視光線の波長帯域のうち、特に４５０〜６５０ｎｍ（好ましくは、３８０〜７８０ｎｍ全域）において、リタデーション値（Ｒｅ）が、波長に対して増加関数となる特性を有するものである。
本実施形態では、１／４波長位相差層４８２の材料として、この逆分散液晶を用いており、上述のようにその遅相軸と直線偏光板層４５の吸収軸の方向とのなす角度を所定の角度（約４１〜４７°）とすることにより、１／４波長位相差板層４８のリタデーション値（Ｒｅ）を広帯域化している。

本実施形態においても、外来光の反射による導電パターンの線見えや不快な光沢によるぎらつきが視認され難く、良好な映像を表示できる。
また、本実施形態によれば、前述の第１実施形態のタッチパネル２０よりも層数を減らすことができ、タッチパネル２０の薄型化、軽量化を実現できる。

（他の実施形態）
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。

（１）上述の各実施形態において、画像表示部１０は、有機ＥＬパネルであることを示したが、これに限らず、例えば、液晶パネル等の他の画像表示パネルを用いてもよい。

（２）上述の各実施形態において、最も観察者側には、偏光板基材層４６が位置する形態を示したが、これに限らず、その観察者側に、例えば、粘着剤等を介して、カバーガラス等を配置してもよいし、反射防止機能やハードコート機能、防汚機能、防眩機能等の少なくとも１つの機能を有する層を積層してもよい。

（３）上述の第１実施形態において、波長板基材層４４の画像表示部１０側の面に１／２波長板層４２及び１／４波長板層４１が一体に積層される形態を示した。しかし、これに限らず、例えば、波長板基材層４４を円偏光板部４０の最も画像表示部１０側に配置し、その観察者側へ、順に、１／４波長板用配向膜４１１、１／４波長板用位相差層４１２、１／２波長板用配向膜４２１、１／２波長板用位相差層４２２（即ち、１／４波長板層４１及び１／２波長板層４２）が積層される形態とし、その観察者側に直線偏光板層４５及び偏光板基材層４６がさらに積層される形態としてもよい。また、例えば、波長板基材層４４の画像表示部１０側の面に、波長板基材層４４側から順に１／４波長板用配向膜４１１、１／４波長板用位相差層４１２（即ち、１／４波長板層４１）が一体に形成され、観察者側の面に、波長板基材層４４側から順に１／２波長板用配向膜４２１、１／２波長板用位相差層４２２（即ち、１／２波長板層４２）が一体に形成される形態とし、さらにその観察者側に直線偏光板層４５及び偏光板基材層４６が積層される形態としてもよい。

（４）上述の各実施形態において、１／４波長板用配向膜４１１、１／２波長板用配向膜４２１、配向膜４８１は、紫外線硬化性樹脂により形成され、その表面に形成されたライン状の微細な凹凸形状は、ロール版の凹凸形状を転写して硬化されることにより賦形される例を示した。しかし、これに限らず、例えば、基材層の片面に、光配向材料をベンゼン等の溶媒に分散させた成膜用液体をダイにより塗布した後、乾燥させ、所望の方向に偏光面を有する直線偏光により露光することにより、各配向膜を形成してもよい。

（５）上述の第１実施形態において、１／４波長板層４１、１／２波長板層４２は、例えば、ＰＣ（ポリカーボネート）の延伸フィルム等により形成されたものを用いてもよい。

１，２ 画像表示装置
１０ 画像表示部
２０ タッチパネル
３０ タッチパネル電極部
３１ 第１電極層
３２ 第２電極層
３１１，３１２ 透明基材
３１２，３２２ 導電パターン
４０ 円偏光板部
４１ １／４波長板層
４１１ １／４波長板用配向膜
４１２ １／４波長板用位相差層
４２ １／２波長板層
４２１ １／２波長板用配向膜
４２２ １／２波長板用位相差層
４３ 光学機能層
４４ 波長板基材層
４５ 直線偏光板層
４６ 偏光板基材層
４８ １／４波長位相差板層
４９ 位相差板基材層

Claims (14)

1. 直線偏光板と積層されて画像表示装置の観察者側に配置される光学機能層付きタッチパネル用電極部であって、
   透明基材及び前記透明基材の少なくとも片面に形成された導電パターンを備える電極層と、
   前記電極層の一方側に積層され、透過光に１／４波長分の位相差を与える光学機能層とを少なくとも備え、
   前記導電パターンは、導電性を有する金属層が所定のパターン状に形成されてなること、
   を特徴とする光学機能層付きタッチパネル用電極部。
2. 前記導電パターンは、略直線状の前記金属層が複数配列されて形成され、
   前記金属層は、その線幅が、２．０μｍ以上、１０．０μｍ以下であり、配列ピッチが、２００μｍ以上、７００μｍ以下であり、その厚みが、０．１μｍ以上、２．０μｍ以下であること、
   を特徴とする請求項１に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
3. 前記電極層は、片面に前記導電パターンが形成された前記透明基材を２枚積層して形成されていること、
   を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
4. 前記電極層は、１枚の前記透明基材の両面に前記導電パターンが形成されていること、
   を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
5. 前記金属層は、少なくとも観察者側となる面に黒化処理された黒色層を備えること、
   を特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
6. 前記黒色層は、その色味がＬ＊ａ＊ｂ＊表色系において、ａ＊が−５．０〜３．０、ｂ＊が−５．０〜４．０であること、
   を特徴とする請求項５に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
7. 前記光学機能層は、前記電極層側から、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４波長板層、前透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２波長板層が順次配置されて形成されていること、
   を特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
8. 前記１／４波長板層及び前記１／２波長板層は、それぞれ、配向膜と、前記配向膜上に形成され前記配向膜の配向規制力により配向して固化した正分散液晶層とを備え、
   前記配向膜は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下であること、
   を特徴とする請求項７に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
9. 前記配向膜は、平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下であること、
   を特徴とする請求項８に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部。
10. 請求項１から請求項９に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部の前記光学機能層に、さらに直線偏光板が積層された円偏光板付きタッチパネル用電極部。
11. 請求項１から請求項９までのいずれか１項に記載の光学機能層付きタッチパネル用電極部を備えるタッチパネル。
12. 請求項１０に記載の円偏光板付きタッチパネル用電極部を備えるタッチパネル。
13. 画像を表示する画像表示部と、
    前記画像表示部の観察者側に、前記電極層側を前記画像表示部側として積層される請求項１１又は請求項１２に記載のタッチパネルと、
    を備える画像表示装置。
14. 前記画像表示部は、有機ＥＬパネルであること、
    を特徴とする請求項１３に記載の画像表示装置。

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