JP2016091299A - タッチパネル及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
のリタデーションを6000nm以上に制御する上では、ポリエステルを均一に高延伸する際に、厚さ、延伸倍率、延伸温度、および工業材料としての実用性などのバランスを考慮する必要性が述べられており、高いリタデーションを有する透明基材は、製造上の制約を受けることから、ムラなく均質な製品の調達にあたりハードルの高いことが伺え、薄型化、低コスト化の上で絶対的な優位性を具備するものではない。また、ポリエステル基材に可塑剤等を添加する事により透明性が低下する問題がある。また、特許文献3では、ポリエステルに光調整剤を用いた方法が提案されている。しかし、屈折率調整の為の添加しているナノフィラーを均一に分散させることは難しく、また薄膜を均一に形成できない事によるムラの問題がある。このように、上記のいずれの方法においても未だ十分に要求を満たすには至っていない。
特に、タッチパネルのセンサーフィルム基材として、薄型化、低コスト化、製造条件的な制約の低減、基材の加工取扱い性のいずれにも好適な特性を具備する材料を選定し、上記目的を達成するものである。
前記透明樹脂基材は、内面リタデーションReが0〜10nmの範囲のアクリル樹脂基材であり、
前記透明接着層の非電極線領域の表面の算術平均粗さRaが0.1〜0.2μmで、
前記絶縁性を有する透明保護層の厚みが5〜50μmであることを特徴とするタッチパネルである。
一方の面が算術平均粗さRaが0.1〜0.2μmの金属箔の粗化面と前記アクリル樹脂基材とを、前記透明接着層を介して積層してなる積層体を用いて、
前記金属箔をパターニングして前記電極線を形成し、
その後、前記電極線面側の全面に絶縁性を有する前記透明保護層を形成することを特徴とするタッチパネルの製造方法である。
TAC(トリアセチルセルロース)からなる低リタデーションの場合には、寸法変化や反り変形の問題が顕著であり、基材の薄型化、低コスト化の上での弊害となっている。
アクリル樹脂基材としては、厚さ100μm以下の基材を用いても、十分な強度(硬度、耐久性)を具備し、製造上の問題はない。なお、接着剤の粗面化については、図2に基づき後述説明する。
透明保護層6に要求される機能としては、電極線4の酸化劣化からの保護、タッチパネル用途での接触に伴う剥離防止、機械的強度付与のためのハードコート性などが例示される。本発明では、高硬度のアクリル樹脂基材を採用するため、基材表面を保護するためのハードコート層は必須ではなく、電極線4表面に施される後処理(視覚されにくくするための着色処理)による処理膜の保護が主たる目的となる。
透明保護層6を構成する熱硬化性樹脂組成物や電離放射線硬化性樹脂組成物としてアクリル系樹脂組成物を採用する場合、同系列の透明樹脂基材1と物性が類似すると、熱膨張係数の相違に伴う反り変形(バイメタル現象)による電極層4への悪影響(剥離、断線など)からの回避の上で有効である。
膜厚75μmで内面リタデーションReが1.6nmのアクリルフィルムを透明樹脂基材として、その一方の面に透明接着層としてアクリル系樹脂を主成分とする膜厚7μmの接着剤を塗布し、さらにその上に厚さ12μmの銅箔の粗化面側を重ねて、70℃に加熱して貼り合せて積層体を作製した。
線幅10μm、配線間隔200μmのメッシュ形状のパターンからなるマスクを用いた。
透明保護層にアクリル系樹脂からなる電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて、硬化後の膜厚10μmとなるように塗布し、80℃のオーブンで30分乾燥し、その後、高圧水銀ランプを光源として紫外線を1000mJ/m2照射して硬化させた以外は、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
透明接着剤を形成せず、膜厚2μmの銅蒸着膜を形成した、膜厚75μm(算術平均粗さRa4.82nm)のアクリル基材を用いた以外は、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1、2及び比較例1で得られたタッチパネルについて、非電極線領域上のヘイズ(%)(=拡散透過率/全光線透過率×100)、外観を以下の方法で評価した。結果を以下の表1に示す。
・ヘイズ〜ヘイズメーター(日本電飾社製:NDH−2000)を用いて、D65光源
で測定した。
・黒板の上にタッチパネルを乗せ、三波長蛍光灯下で目視観察した。
実施例1及び2で得られた本発明品は、いずれも干渉縞が目視観察されず良好な結果が得られた。一方、比較例1で得られた比較例品は干渉縞が目視で若干観察された。これにより本発明の効果が確認できた。
2・・・透明接着層
3・・・金属材料
3a・・粗化面
4・・・電極線
5・・・フォトレジスト
6・・・透明保護層
10・・タッチパネル
Claims (5)
- 透明樹脂基材の少なくとも一方の面に透明接着層、電極線、絶縁性を有する透明保護層が順次積層されてなるタッチパネルであって、
前記透明樹脂基材は、内面リタデーションが0〜10nmの範囲のアクリル樹脂基材であり、
前記透明接着層の非電極線領域の表面の算術平均粗さRaが0.1〜0.2μmで、
前記絶縁性を有する透明保護層の厚みが5〜50μmであることを特徴とするタッチパネル。 - 前記透明保護層が光学的透明粘着剤であることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
- 前記透明保護層がハードコート性を有することを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
- 前記アクリル樹脂基材の厚さが100μm以下であり、前記絶縁性を有する透明保護層が、アクリル系樹脂組成物からなる熱硬化性樹脂組成物または電離放射線硬化性樹脂組成物により構成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のタッチパネル。
- 内面リタデーションReが0〜10nmの範囲のアクリル樹脂基材の少なくとも一方の面に、透明接着層、電極線、絶縁性を有する透明保護層が順次積層されてなるタッチパネルの製造方法であって、
一方の面が算術平均粗さRaが0.1〜0.2μmの金属箔の粗化面と前記アクリル樹脂基材とを、前記透明接着層を介して積層してなる積層体を用いて、
前記金属箔をパターニングして前記電極線を形成し、
その後、前記電極線面側の全面に絶縁性を有する前記透明保護層を形成することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
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JP2014224991A JP2016091299A (ja) | 2014-11-05 | 2014-11-05 | タッチパネル及びその製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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