JP2019174823A - 積層構造体、積層構造体の製造方法および画像表示装置 - Google Patents

積層構造体、積層構造体の製造方法および画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】タッチセンサ上に光学機能層を備え反射光の光学特性の低下を抑制することができる積層構造体、積層構造体の製造方法および画像表示装置を提供すること。【解決手段】本発明は、タッチセンサ３０と、タッチセンサ３０上に設けられた光学機能層４０とを備える積層構造体２０である。タッチセンサ３０は、基材３１と、基材３１上に設けられた透明電極層３２とを備え、光学機能層４０は、透過光に位相差を与える位相差層と、位相差層上に設けられた直線偏光層４３とからなり、光学機能層４０の位相差層側の面がタッチセンサ３０に対向するように、光学機能層４０は配置され、光学機能層４０は、５９０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ１に対する４５０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ２の比率ＲＲは０．７６３未満であって、基材３１の遅相軸は光学機能層４０の遅相軸に沿った方向である。【選択図】図１

Description

本発明は、積層構造体、積層構造体の製造方法および画像表示装置に関し、詳しくは、タッチセンサの上に設けられた光学機能層によって外光反射を抑制する積層構造体、積層構造体の製造方法および画像表示装置に関する。
表示パネルの上にタッチセンサを搭載した表示装置において、タッチセンサの電極となる導電パターンによる外光の反射を防止して、導電パターンが見えないようにすることが望まれる。
特許文献１では、透明基材および導電パターンを備える電極層の一方側に１／４波長分の位相差を与える光学機能層を備えたタッチパネル用電極部が開示される。このような構成により、外来光の反射によるタッチパネルの導電パターンの視認や不快な金属性の光沢によるぎらつき等の表示不良が改善される。
ここで、タッチパネルに光学機能層を設けて外来光の反射を抑制する構成では、外来光および反射体で反射した光はタッチセンサを透過することになる。したがって、表示素子からの反射光の光学特性に対して、タッチパネルの基材の光学物性が当然に影響を及ぼす。この点に関し、特許文献１では、タッチセンサの基材のリターデーションを小さくすることにより、タッチセンサの基材が反射光の光学特性に与える影響を低減させている。
特開２０１４−１４２４６２号公報
本発明は、タッチセンサと光学機能層とが積層されてなる構造体（積層構造体）であって、従来の積層構造体に比べて、反射光の光学特性の低下を抑制したり反射光の光学特性を向上させたりすることが可能な積層構造体、積層構造体の製造方法および画像表示装置を提供することを目的とする。なお、本明細書において、ことわりのない「反射光」とは、光学機能層を備える積層構造体の一方の主面から積層構造体内部側に入射した光が、積層構造体を通過したのち反射体により反射して、積層構造体を再度通過して上記の積層構造体の一方の主面から外側に出射した光を意味する。
上記課題を解決するため、本発明者が検討した結果、タッチセンサの基材の光学物性を積極的に利用して、タッチセンサの基材と光学機能層とを光学的に相互作用させることにより、従来の積層構造体に比べて、反射光の光学特性の低下を抑制したり反射光の光学特性を向上させたりすることが可能であるとの新たな知見を得た。
上記の知見に基づき完成された本発明は、一態様において、タッチセンサと、タッチセンサ上に設けられた光学機能層とを備える積層構造体であって、タッチセンサは、基材と、基材上に設けられた透明電極層とを備え、光学機能層は、透過光に位相差を与える位相差層と、位相差層上に設けられた直線偏光層とからなり、光学機能層の位相差層側の面がタッチセンサに対向するように、光学機能層は配置され、光学機能層は、５９０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ１に対する４５０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ２の比率ＲＲが０．７６３未満であって、基材の遅相軸は、光学機能層の遅相軸に沿った方向であることを特徴とする。
光学機能層は、入射した自然光を円偏光とする機能を有する。このような構成によれば、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な配置関係の設定と、基材のリターデーションの制御によって、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な相互作用が発揮される。これにより、タッチセンサの基材に起因する反射光の光学特性の低下を抑制することが可能である。また、好ましい一形態においては、タッチセンサの基材を光学機能層と適切に光学的に相互作用させることにより、光学機能層単独の場合よりも反射光の光学特性を向上させることが可能である。
本発明の積層体において、位相差層は、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４λ位相差層と、１／４λ位相差層上に設けられ透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２λ位相差層とからなり、１／２λ位相差層が直線偏光層に近位となるように配置されてもよい。位相差層が上記の構成を有することにより、比率ＲＲが０．７６３未満となる光学機能層が得られやすい。
本発明の積層構造体において、基材の５９０ｎｍにおけるリターデーションは１０ｎｍ以下であってもよい。これにより、可視光領域での反射光の光学特性の低下を抑制したり反射光の光学特性を向上させたりすることがより安定的に実現される。
また、基材は樹脂系材料からなり、可撓性を有していてもよい。樹脂系材料はシクロオレフィン系樹脂を含んでいてもよい。これにより、湾曲可能なタッチセンサを用いた場合の反射光抑制を図ることができある。
本発明は、他の一態様において、タッチセンサと、タッチセンサ上に設けられた光学機能層とを備える積層構造体の製造方法であって、光学機能層は、５９０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ１に対する４５０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ２の比率ＲＲが０．７６３未満であって、光学機能層は、透過光に位相差を与える位相差層と、位相差層上に設けられた直線偏光層とからなり、光学機能層の位相差層側の面がタッチセンサに対向するとともに、タッチセンサの基材の遅相軸が、光学機能層の遅相軸に沿った方向になるように、タッチセンサと光学機能層とを積層することを特徴とする。
このような構成によれば、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な配置関係を設定し、基材のリターデーションを制御することによって、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な相互作用の程度を制御することができる。これにより、タッチセンサの基材に起因する反射光の光学特性の低下を抑制することが可能である。また、好ましい一形態においては、タッチセンサの基材を光学機能層と適切に光学的に相互作用させることにより、光学機能層単独の場合よりも反射光の光学特性を向上させることが可能である。
本発明の積層体において、位相差層は、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４λ位相差層と、１／４λ位相差層上に設けられ透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２λ位相差層とからなり、１／２λ位相差層を直線偏光層に近位となるように配置してもよい。これにより、比率ＲＲが０．７６３未満となる光学機能層を得ることが容易となる。
本発明の積層構造体の製造方法において、光学機能層を形成するための液状組成物をタッチセンサ上に塗布することを含んで、タッチセンサ上に光学機能層を積層するようにしてもよい。これにより、液状組成物の塗布によって光学機能層の光学特性を制御することができる。
別の一態様に係る本発明の積層構造体は、タッチセンサと、タッチセンサ上に設けられた光学機能層とを備える積層構造体であって、タッチセンサは、基材と、基材上に設けられた透明電極層とを備え、光学機能層は、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４λ位相差層と、１／４λ位相差層上に設けられ透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２λ位相差層と、１／２λ位相差層上に設けられた直線偏光層とからなり、光学機能層の１／４λ位相差層側の面がタッチセンサに対向するように、光学機能層は配置され、積層構造体のタッチセンサ側に反射層を設けて直線偏光層側から光を入射して測定した反射光の彩度Ｃ＊ １の、光学機能層からなる対比積層構造体の１／４λ位相差層側に反射層を設けて直線偏光層側から光を入射して測定した反射光の彩度Ｃ＊ ０に対する彩度比ＲＣ＊が１．１以下であることを特徴とする。
彩度比ＲＣ＊が１．１以下であることにより、積層構造体からの反射光は、色味が少ない光となる。したがって、積層構造体と反射体との間に発光素子を備える場合（具体的には有機ＥＬ素子が例示される。）には、発光素子から生じた光と、積層構造体を通過して観察される光との色味変化が生じにくい。
上記の本発明の積層構造体において、タッチセンサの基材の５９０ｎｍにおけるリターデーションが２．５ｎｍ以上であってもよい。本発明の積層構造体では、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な相互作用により反射光の光学特性を制御する。したがって、タッチセンサの基材はある程度のリターデーションを有していることが反射光の光学特性の制御性を高める観点から好ましい場合もある。
また、本発明の積層構造体において、タッチセンサの前記基材の５９０ｎｍにおけるリターデーションが７．９ｎｍ以下であってもよい。この場合には、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な相互作用による有利な効果がより安定的に得られやすい。すなわち、反射光の光学特性を光学機能層単独の場合よりも向上させることがより安定的に生じやすい。
また、本発明の積層構造体において、基材の遅相軸は、光学機能層の遅相軸に沿った方向または光学機能層の遅相軸に直交する方向であってもよい。基材の遅相軸と光学機能層の遅相軸との関係を直交または平行とする場合に、基材と光学機能層との光学的な相互作用を大きくすることが容易である。直交とすることが好ましいか平行とすることが好ましいかは、光学機能層の構成などによって決定される。
本発明の積層構造体の製造方法は、タッチセンサが備える基材の遅相軸と光学機能層の遅相軸とが作る角度が、彩度比ＲＣ＊を１．１以下にする角度となるように、タッチセンサと光学機能層とを積層することを特徴とする。これにより、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な配置関係を設定し、基材のリターデーションを制御することによって、タッチセンサの基材と光学機能層との光学的な相互作用の程度を制御することができる。これにより、タッチセンサの基材に起因する反射光の光学特性の低下を抑制することが可能である。また、好ましい一形態においては、タッチセンサの基材が光学機能層と適切に相互作用することにより、反射光の光学特性を光学機能層単独の場合よりも向上させることが可能である。
本発明の積層構造体の製造方法において、光学機能層を形成するための液状組成物をタッチセンサ上に塗布することを含んで、タッチセンサ上に光学機能層を積層してもよい。これにより、液状組成物の塗布によって光学機能層の光学特性を制御することができる。
本発明は、上記の積層構造体と、積層構造体のタッチセンサ側の面上に設けられた画像表示部とを備える画像表示装置であって、画像表示部の画像表示面が積層構造体に対向するように画像表示部は配置されることを特徴とする。画像表示部は有機ＥＬパネルであってもよい。このような構成によれば、タッチセンサの基材に起因する反射光の光学特性の低下を抑制することが可能である。また、好ましい一形態においては、タッチセンサの基材が光学機能層と適切に相互作用することにより、反射光の光学特性を光学機能層単独の場合よりも向上させることが可能である。
本発明によれば、反射光の光学特性の低下を抑制したり反射光の光学特性を向上させたりすることが可能な積層構造体、積層構造体の製造方法および画像表示装置を提供することが可能になる。
画像表示装置の構成を例示する断面図である。 タッチセンサおよび光学機能層の構成例を示す分解斜視図である。 タッチセンサおよび光学機能層の構成例を示す分解斜視図である。 （ａ）および（ｂ）は、リターデーションにおける比率ＲＲの波長依存について示す図である。 反射光における彩度の測定結果を示す図である。 彩度比ＲＣ＊のグラフ表示を示す図である。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
（画像表示装置の構成）
図１は、画像表示装置の構成を例示する断面図である。
画像表示装置１は、液晶や有機ＥＬ（Electro Luminescence）などを用いた画像表示部１０と、画像表示部１０の上に設けられた積層構造体２０とを備える。積層構造体２０は、タッチセンサ３０と、タッチセンサ３０上に設けられた光学機能層４０とを備える。すなわち、本実施形態に係る画像表示装置１は、タッチパネルディスプレイである。
タッチセンサ３０は、基材３１と、基材３１上に設けられた透明電極層３２とを有する。基材３１には可撓性を有する樹脂系材料（例えば、ＰＣ（polycarbonate）、ＣＯＰ（Cyclo Olefin Polymer）、ＴＡＣ（Triacetylcellulose））が用いられる。特に、基材３１に用いられる樹脂系材料として、シクロオレフィン系樹脂を含む材料が光学的な特性の観点から望ましい。また、基材３１の５９０ｎｍにおけるリターデーションは１０ｎｍ以下であることが望ましい。
透明電極層３２は、互いに交差する複数の第１電極３２１と複数の第２電極３２２とを有する。ここで「透明」とは、可視光領域の光を十分に（例えば、５０％以上）透過することをいう。透明電極層３２には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が用いられる。透明電極層３２の上にはカバー３３が設けられる。タッチセンサ３０においては、例えば指を接近させた際の静電容量の変化を検出することでタッチセンサ３０上の指の位置を検出する。
光学機能層４０は、１／４λ位相差層４１、１／２λ位相差層４２および直線偏光層４３を備える。１／４λ位相差層４１は、透過光に１／４波長分の位相差を与える。１／２λ位相差層４２は、透過光に１／２波長分の位相差を与える。直線偏光層４３は、透過光を吸収軸に直交する方向に沿った偏光軸を有する直線偏光にする。なお、光学機能層４０を構成する層のうち、位相差を与えるために設けられた層を位相差層と総称する場合もある。本実施形態に係る光学機能層４０では、位相差層は１／４λ位相差層４１と１／２λ位相差層４２とからなる。光学機能層４０は、タッチセンサ３０側から１／４λ位相差層４１、１／２λ位相差層４２および直線偏光層４３の順に配置される。すなわち、光学機能層４０は、１／４λ位相差層４１がタッチセンサ３０と対向するように配置され、１／４λ位相差層４１の上に１／２λ位相差層４２が配置され、１／２λ位相差層４２の上に直線偏光層４３が配置される。
本実施形態において、５９０ｎｍにおけるリターデーションをＲｅ１、４５０ｎｍにおけるリターデーションをＲｅ２、Ｒｅ１に対するＲｅ２の比率をＲＲとした場合、光学機能層４０のリターデーションにおける比率ＲＲは、０．７６３未満になっている。比率ＲＲが０．７６３である場合には、円偏光をもたらす光学素子（円偏光素子）の理想的な波長分散特性を有している可能性が高い。また、タッチセンサ３０の基材３１における複屈折の遅相軸は、光学機能層４０の複屈折における遅相軸に沿った方向になっている。
このようなタッチセンサ３０と光学機能層４０との光学的な配置関係や、光学機能層４０のリターデーションの設定によって、反射光の光学特性の低下を抑制することができる。本実施形態の好ましい一例では、タッチセンサ３０の基材３１のリターデーションと、光学機能層４０のリターデーションとを積極的に利用して、基材３１と光学機能層４０との光学的な相互作用を発揮させることにより、反射光の光学特性を、光学機能層４０単独の場合よりも向上させることが可能になる。
（各層の構成）
図２および図３は、タッチセンサおよび光学機能層の構成例を示す分解斜視図である。
図２および図３に示す構成例においては、画像表示部１０の上にタッチセンサ３０が配置される。説明の便宜上、図２および図３においてはタッチセンサ３０の基材３１のみが示される。基材３１の上には、光学機能層４０として、１／４λ位相差層４１、１／２λ位相差層４２および直線偏光層４３がこの順に設けられる。
直線偏光層４３の吸収軸の角度は４５°、１／２λ位相差層４２の遅相軸の角度は１５０°、１／４λ位相差層４１の遅相軸の角度は３０°である。光学機能層４０の全体としては、逆波長分散特性を示す１／４λ位相差となり、合成の遅相軸の角度は０°となる。
図２では、このような光学機能層４０に対してタッチセンサ３０の基材３１の遅相軸の角度が０°となるように配置された構成である。すなわち、タッチセンサ３０の基材３１の遅相軸が光学機能層４０の遅相軸に沿った方向になっている場合が示される。本実施形態では、この場合を平行配置ということにする。
図３では、光学機能層４０に対してタッチセンサ３０の基材３１の遅相軸の角度が９０°となるように配置された構成である。すなわち、タッチセンサ３０の基材３１の遅相軸が光学機能層４０の遅相軸に直交する方向に沿っている場合が示される。本実施形態では、この場合を直交配置ということにする。
図４（ａ）および（ｂ）は、リターデーションにおける比率ＲＲの波長依存について示す図である。図４（ｂ）には図４（ａ）の一部の拡大図が示される。
図４において、データＤ０は、反射光を抑制するための理想的な円偏光素子におけるリターデーション比率ＲＲ、データＤ１は、タッチセンサ３０の基材３１におけるリターデーション比率ＲＲ、データＤ２は、光学機能層４０におけるリターデーション比率ＲＲ、データＤ３は、平行配置の場合の光学機能層４０および基材３１を含めたリターデーション比率ＲＲ、データＤ４は、直交配置の場合の光学機能層４０および基材３１を含めたリターデーション比率ＲＲが示される。データＤ０は光学シミュレーションによる計算結果であり、データＤ１からデータＤ４は実測データである。
図４（ｂ）に示すように、本実施形態に係る光学機能層４０においては、平行配置（データＤ３）のほうが、直交配置（データＤ４）よりも理想状態（データＤ０）に近づくことが分かる。特に、平行配置（データＤ３）のほうが、光学機能層４０単独の場合（データＤ２）よりも理想状態（データＤ０）に近づいている。したがって、上記の光学機能層４０の構成（１／４λ位相差層４１、１／２λ位相差層４２および直線偏光層４３）においては、タッチセンサ３０の基材３１を平行配置にすることで、光学機能層４０単独の場合よりも、理想的な円偏光素子のリターデーションの波長分散特性に近づけることが可能となる。したがって、本実施形態に係る積層構造体２０を用いることにより、反射光の光学特性の低下が抑制されたり、反射光の光学特性が向上したりすることが期待される。
図５は、反射光の光学特性の一つである彩度の測定結果を示す図である。
彩度はＬ＊ａ＊ｂ＊色空間におけるＣ＊＝（（ａ＊）２＋（ｂ＊）２）＾０．５を用いている。図５では、平行配置された積層構造体（平行積層構造体）および直交配置された積層構造体（直交積層構造体）のそれぞれについて、タッチセンサ３０側に反射層を設けて、直線偏光層４３側から光を入射して測定した反射光の彩度Ｃ＊を求めた。また、対比積層構造体（本実施形態に係る積層構造体２０が備える光学機能層４０と同じ構成の光学機能層からなる積層構造体、すなわち、本実施形態に係る積層構造体２０においてタッチセンサ３０を設けない構造を有する積層構造体）を用意し、この対比積層構造体における１／４λ位相差層側に反射層を設けて、直線偏光層側から光を入射して測定した反射光の彩度Ｃ＊ ０を求めた。
先ず、対比積層構造体（光学機能層４０のみからなる積層構造体）の反射光における彩度Ｃ＊ ０は、４．４８であった。平行積層構造体および直交積層構造体のそれぞれの反射光における彩度Ｃ＊ １については、タッチセンサ３０の基材３１の波長５９０ｎｍでのリターデーション（図５のＲｅの列）を２．５ｎｍ〜１３．２ｎｍまで変えて、平行配置の場合（平行積層構造体）および直交配置の場合（直交積層構造体）のそれぞれについて測定した。また、図５には、彩度Ｃ＊ １と、対比積層構造体の場合の彩度Ｃ＊ ０を基準とした彩度比ＲＣ＊とが示される。
また、図６は、図５に示される彩度比ＲＣ＊のグラフ表示を示す図である。図６において、データＤ１０はタッチセンサ３０が設けられていない場合（対比積層構造体）の彩度比ＲＣ＊を示し、データＤ１１は平行積層構造体の彩度比ＲＣ＊を示し、データＤ１２は直交積層構造体の彩度比ＲＣ＊を示す。
この測定結果から、本実施形態に係る積層構造体２０に相当する平行積層構造体では、直交積層構造体に比べて、反射光の彩度Ｃ＊の増大を効果的に抑制できることが分かる。反射光のＣ＊の増大は色ずれの顕在化を意味することから、平行積層構造体は、直交積層構造体に比べて、反射光の光学特性の低下が抑制されているといえる。
具体的には、本実施形態に係る積層構造体２０の光学機能層４０のように、円偏光を実現するための光学機能層が１／４λ位相差層４１と１／２λ位相差層４２とを備える場合には、基材３１のリターデーションが高くても（例えば１０ｎｍ以上）、平行配置であれば彩度比ＲＣ＊は１．１以下となる。これに対し、直交積層構造体の場合には、基材３１のリターデーションを低くしても（例えば５ｎｍ以下）、彩度比ＲＣ＊を１．１以下とすることは容易でない。
基材３１のリターデーションを低くするためには、基材３１の厚さを特に薄くするか、基材３１中の複屈折分布が少なくなるような製造上の工夫（無延伸など）が必要である。このため、リターデーションが低い基材を用いると、基材の取扱い性の低下に伴う積層構造体の生産性の低下や積層構造体の品質の低下、さらには基材を含む積層構造体の製造コストの上昇が生じやすい。本実施形態に係る積層構造体２０は、リターデーションが低い基材を特に備えなくても、反射光の光学特性の低下を抑制することができる。
本実施形態に係る積層構造体２０は、平行配置であるため、基材３１のリターデーションが１０ｎｍ以下であれば、彩度比ＲＣ＊は１．０以下となる。すなわち、基材３１のリターデーションが１０ｎｍ以下であることにより、反射光は、タッチセンサ３０を備えない場合と同等かそれ以上の光学特性を有する。
特に、本実施形態に係る積層構造体２０は、基材３１の５９０ｎｍにおけるリターデーションが２．５ｎｍ以上７．２ｎｍ以下であれば、彩度比ＲＣ＊が１．００未満となる。したがって、本実施形態に係る積層構造体２０では、タッチセンサ３０を設けない場合（対比積層構造体）よりも反射光の色味が少なくなっている。このように、本実施形態に係る積層構造体２０では、光学機能層４０とタッチセンサ３０の基材３１との光学的な相互作用を積極的に利用することで、タッチセンサ３０を有しない場合よりも、反射光の光学特性を向上させることが実現されている。反射光の光学特性を向上させることをより安定的に実現させる観点から、基材３１の５９０ｎｍにおけるリターデーションは、２．５ｎｍ以上６．３ｎｍ以下であることが好ましく、３．４ｎｍ以上６．３ｎｍ以下であることがより好ましい。
（積層構造体の製造方法）
本実施形態に係る積層構造体２０は、例えば次のような方法によって製造されうる。
先ず、タッチセンサ３０の基材３１の上に、透明電極層３２となる第１電極３２１および第２電極３２２を形成する。第１電極３２１および第２電極３２２は絶縁層を介して互いに交差して形成される。次に、透明電極層３２の上にカバー３３を形成する。これによりタッチセンサ３０が形成される。
次に、タッチセンサ３０の上に光学機能層４０を形成する。光学機能層４０は、タッチセンサ３０の上に、１／４λ位相差層４１、１／２λ位相差層４２および直線偏光層４３をこの順に積層していく。１／４λ位相差層４１、１／２λ位相差層４２および直線偏光層４３のそれぞれは、延伸などの方法により所望の光学特性が付与された配向膜から構成されていてもよい。この場合には複数の配向膜を接着剤や粘着剤を用いて積層することにより光学機能層４０を形成することができる。あるいは、位相差に応じた配向方向を有する配向膜を用意し、この配向膜の上に液状組成物（例えば、液晶）を塗布することにより光学機能層４０が形成されてもよい。光学的に透明な材料を用いてタッチセンサ３０と光学機能層４０とを固定（接着・粘着）してもよいし、光学機能層４０の一部となる材料を用いてタッチセンサ３０に対する光学機能層４０の固定（接着・粘着）が行われてもよい。これにより、タッチセンサ３０の上に光学機能層４０を積層した積層構造体２０が完成する。
以上説明したように、実施形態によれば、タッチセンサ３０の基材３１に起因する反射光の光学特性の低下が抑制された積層構造体２０が提供されうる。また、好ましい一形態においては、タッチセンサ３０の基材３１が光学機能層４０と適切に相互作用することにより、反射光の光学特性が光学機能層４０単独の場合のよりも向上した積層構造体２０が提供されうる。さらに、本実施形態によれば、積層構造体２０の製造方法および画像表示装置１を提供することが可能になる。
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、前述の実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の構成例の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。
例えば、上記の実施形態では１／４λ位相差層４１と１／２λ位相差層４２と構成されている位相差層は、単相構成であってもよいし、３層以上から構成されていてもよい。光学機能層４０の比率ＲＲが０．７６３未満であることを容易に実現する観点から、位相差層は複層構成であることが好ましい。したがって、光学機能層を構成する層数を可能な限り少なくしつつ、光学機能層４０の比率ＲＲが０．７６３未満であることを容易に実現する観点から、位相差層は、上記の実施形態のように１／４λ位相差層４１と１／２λ位相差層４２とから構成されることが好ましい。
１…画像表示装置
１０…画像表示部
２０…積層構造体
３０…タッチセンサ
３１…基材
３２…透明電極層
３３…カバー
４０…光学機能層
４１…１／４λ位相差層
４２…１／２λ位相差層
４３…直線偏光層
３２１…第１電極
３２２…第２電極

Claims (16)

  1. タッチセンサと、前記タッチセンサ上に設けられた光学機能層とを備える積層構造体であって、
    前記タッチセンサは、基材と、前記基材上に設けられた透明電極層とを備え、
    前記光学機能層は、透過光に位相差を与える位相差層と、前記位相差層上に設けられた直線偏光層とからなり、前記光学機能層の前記位相差層側の面が前記タッチセンサに対向するように、前記光学機能層は配置され、
    前記光学機能層は、５９０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ１に対する４５０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ２の比率ＲＲが０．７６３未満であって、
    前記基材の遅相軸は、前記光学機能層の遅相軸に沿った方向であること
    を特徴とする積層構造体。
  2. 前記位相差層は、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４λ位相差層と、前記１／４λ位相差層上に設けられ透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２λ位相差層とからなり、前記１／２λ位相差層が前記直線偏光層に近位となるように配置される、請求項１に記載の積層構造体。
  3. 前記基材の５９０ｎｍにおけるリターデーションは１０ｎｍ以下である、請求項１または２に記載の積層構造体。
  4. 前記基材は樹脂系材料からなり、可撓性を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の積層構造体。
  5. 前記樹脂系材料はシクロオレフィン系樹脂を含む、請求項４に記載の積層構造体。
  6. タッチセンサと、前記タッチセンサ上に設けられた光学機能層とを備える積層構造体の製造方法であって、
    前記光学機能層は、５９０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ１に対する４５０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ２の比率ＲＲが０．７６３未満であって、
    前記光学機能層は、透過光に位相差を与える位相差層と、前記位相差層上に設けられた直線偏光層とからなり、
    前記光学機能層の前記位相差層側の面が前記タッチセンサに対向するとともに、前記タッチセンサの前記基材の遅相軸が、前記光学機能層の遅相軸に沿った方向になるように、前記タッチセンサと前記光学機能層とを積層すること
    を特徴とする積層構造体の製造方法。
  7. 前記位相差層は、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４λ位相差層と、前記１／４λ位相差層上に設けられ透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２λ位相差層とからなり、前記１／２λ位相差層を前記直線偏光層に近位となるように配置する、請求項６に記載の積層構造体の製造方法。
  8. 前記光学機能層を形成するための液状組成物を前記タッチセンサ上に塗布することを含んで、前記タッチセンサ上に前記光学機能層を積層する、請求項７に記載の積層構造体の製造方法。
  9. タッチセンサと、前記タッチセンサ上に設けられた光学機能層とを備える積層構造体であって、
    前記タッチセンサは、基材と、前記基材上に設けられた透明電極層とを備え、
    前記光学機能層は、透過光に１／４波長分の位相差を与える１／４λ位相差層と、前記１／４λ位相差層上に設けられ透過光に１／２波長分の位相差を与える１／２λ位相差層と、前記１／２λ位相差層上に設けられた直線偏光層とからなり、前記光学機能層の１／４λ位相差層側の面が前記タッチセンサに対向するように、前記光学機能層は配置され、
    前記積層構造体の前記タッチセンサ側に反射層を設けて前記直線偏光層側から光を入射して測定した反射光の彩度Ｃ＊ １の、前記光学機能層からなる対比積層構造体の前記１／４λ位相差層側に反射層を設けて前記直線偏光層側から光を入射して測定した反射光の彩度Ｃ＊ ０に対する彩度比ＲＣ＊が１．１以下であること
    を特徴とする積層構造体。
  10. 前記タッチセンサの前記基材の５９０ｎｍにおけるリターデーションが２．５ｎｍ以上である、請求項９に記載の積層構造体。
  11. 前記タッチセンサの前記基材の５９０ｎｍにおけるリターデーションが７．２ｎｍ以下である、請求項９または１０に記載の積層構造体。
  12. 前記基材の遅相軸は、前記光学機能層の遅相軸に沿った方向または前記光学機能層の遅相軸に直交する方向である、請求項９から１１のいずれか一項に記載の積層構造体。
  13. 請求項９から１２のいずれか一項に記載される積層構造体の製造方法であって、
    前記タッチセンサが備える基材の遅相軸と前記光学機能層の遅相軸とが作る角度が、前記彩度比ＲＣ＊を１．１以下にする角度となるように、前記タッチセンサと前記光学機能層とを積層すること
    を特徴とする積層構造体の製造方法。
  14. 前記光学機能層を形成するための液状組成物を前記タッチセンサ上に塗布することを含んで、前記タッチセンサ上に前記光学機能層を積層する、請求項１３に記載の積層構造体の製造方法。
  15. 請求項１から５および請求項９から１２のいずれか一項に記載される積層構造体と、前記積層構造体の前記タッチセンサ側の面上に設けられた画像表示部とを備える画像表示装置であって、
    前記画像表示部の画像表示面が前記積層構造体に対向するように前記画像表示部は配置されること
    を特徴とする画像表示装置。
  16. 前記画像表示部は、有機ＥＬパネルからなる、請求項１５に記載の画像表示装置。
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