JP5745686B2 - 光学積層体を有する有機ｅｌディスプレイ素子 - Google Patents

Description

本発明は光学積層体を有する有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」という。）表示装置に関する。

有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置は、自発光型の薄型表示装置であり、液晶表示装置と比較して視認性が高い、視野角依存性が少ないといった表示性能上の利点を有する。またディスプレイを軽量化、薄層化できるといった利点に加え、フレキシブルな基板を用いることでこれまで実現できなかった形状の表示装置を実現できる可能性を有している。

有機ＥＬ表示装置は上述したような優れた特徴を有する。しかし、電極にＩＴＯなどの高屈折率の透明導電性材料を用いて屈折率の異なる層を積層したり、反射率の高い金属材料などを用いるため、外光がそれらの界面で反射し、コントラスト低下や内部反射による映り込みの問題が生じることがある。

図１に有機ＥＬ素子の代表的な構成を示す。有機ＥＬ表示装置は基本的には、図１に示すように、ＴＦＴ基板１の上に、背面電極２、発光層を含み２層又は３層からなる有機層３、及び透明電極又は半透明電極４、透明基板５が積層された構成を有し、背面電極２から注入された正孔と透明電極４から注入された電子が有機層３で再結合し、蛍光性物質などを励起することにより発光するものである。そして、有機層３から発光した光は、直接、又はアルミニウムなどで形成される背面電極２で反射して透明基板５から出射する。また、カラー表示を実現するために、前記有機層３が赤色、緑色、青色の計三色、又は更に白色を加えた計四色の画素がマトリックス状に配置された構造を有するものや、前記有機層３が白色光を発光する素子からなり、カラーフィルタを組み合わせることでカラー表示を得る構造などが提案されている（例えば特許文献１、２）。

このように有機ＥＬ素子は、屈折率の異なる層を積層する構造や、金属電極を用いる構造を有するため、外光が各層の界面で反射し、コントラスト低下や映り込みの問題などを生じることがある。

上記のような外光反射による悪影響を抑えるため、吸収型直線偏光板と、λ／４板からなる円偏光板（例えば特許文献３、４、５、６）や、吸収型直線偏光板と、λ／２板と、λ／４板とからなる円偏光板を用いる提案がなされている（例えば特許文献７）。

また、円偏光板は有機ＥＬ表示装置のみならず、反射型ＬＣＤ、半透過型ＬＣＤ、透明ディスプレイ、輝度向上膜、光ディスク用ピックアップやＰＳ変換素子など、非常に多くの用途に用いられる。

日本国特許４６３０８８４号公報 日本国特開２０１１−５９６１１号公報 日本国特開平７−１４２１７０号公報 日本国特開平９−１２７８８５号公報 日本国特開２００３−３３２０６８号公報 日本国特開２００２−９８８３３号公報 日本国特開２００７−１８８０３３号公報 日本国特開２００１−４８３７号公報 日本国特開２００４−５３８４１号公報 日本国特開平９−２９２５２２号公報 日本国特開２０００−５６３１０号公報 日本国特開２０００−１０４０７３号公報 日本国特開２０００−１０５３１６号公報 日本国特開２００７−１０８７３２号公報

上記のλ／４板やλ／２板は、その遅相軸を偏光板の吸収軸と平行でも直交でもない角度に設定する必要がある。現在、有機ＥＬ表示装置に使用されている大部分のλ／４板やλ／２板はポリマーフィルムを延伸することで光学異方性を発現させた位相差板であるが、ポリマーフィルムの遅相軸方向は、一般にシート状あるいはロール状フィルムの縦方向又は横方向に相当する。一方、偏光板の吸収軸はロール状フィルムの長手方向に平行であるため、λ／４板又はλ／２板と偏光板を貼り合わせるためには、それぞれのフィルムをカットし、得られたチップを所定の角度になるように貼り合わせる必要がある。チップの貼り合わせで位相差板と偏光板の積層体を製造しようとすると、粘着剤の塗布工程や、チップカットあるいはチップの貼り合わせ工程が必要となり、処理が煩雑であって、軸ズレによる品質低下が起きやすく、歩留まりが低下し、コストが増大し、異物の混入も起きやすいという問題があった。

また、シート状あるいはロール状フィルムの斜め方向に遅相軸を有するポリマーフィルムは製造が非常に困難であるという問題があった。

また、ポリマーフィルムは温湿度の変化に伴って位相差が変化し、所望の性能が得られなくなる場合があるという問題があった。

かかる問題を解決するために、ロール状フィルムにディスコティック液晶化合物や棒状液晶化合物を含有する塗布液を塗布し、所定の方向に配向させることで光学異方性を発現させ、ロール状フィルムに対して平行でも直交でもない角度に遅相軸を有す位相差板が提案されている（特許文献８、９）。また、ディスコティック液晶分子の円盤面がフィルム面に対して実質的に垂直になるように配向固定化された位相差板が開示されている（特許文献１０、１１、１２、１３、１４）。

しかしながら、前述の特許文献に従って作成される円偏光板では、斜め方向から観察したときの反射を十分に低減することができず、視野角特性が悪くなる場合があるという問題があった。

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、視野角特性に優れた有機ＥＬ表示装置を、高い生産性で提供することである。

＜１＞
少なくとも偏光子層と、λ／２板と、λ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記λ／４板の５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）が
１１５≦Ｒｅ２（５５０）≦１５５
を満たし、かつ前記λ／２板の５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）が
Ｒｅ１（５５０）＝２×Ｒｅ２（５５０）±５０ｎｍ
を満たし、
前記偏光子層の吸収軸方向と前記λ／２板の遅相軸方向とのなす角が
−３０°×Ｒｔｈ１（５５０）／｜Ｒｔｈ１（５５０）｜＋４５°±８°
の範囲であり、かつ前記偏光子層の吸収軸方向と前記λ／４板の遅相軸方向とのなす角が
３０°×Ｒｔｈ１（５５０）／｜Ｒｔｈ１（５５０）｜＋４５°±８°
の範囲であり、
（ただし、Ｒｔｈ１（５５０）は前記λ／２板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションである。）
前記λ／２板、及び前記λ／４板の少なくとも一方がディスコティック液晶化合物、又は棒状液晶化合物のいずれかを含む層であり、
前記偏光子層から前記λ／２板までの間の層であって、前記λ／２板を含み前記偏光子層を含まない全ての層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈの総和が−１５０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、かつ、前記λ／２板から前記λ／４板までの間の層であって、前記λ／４板を含み前記λ／２板を含まない全ての層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈの総和が−１２０ｎｍ〜１２０ｎｍであることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
＜２＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが０ｎｍ〜２００ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜３＞
少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１０ｎｍ〜１４０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜４＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜５＞
少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１０ｎｍ〜１００ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜６＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える光学積層体であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１５０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜７＞
少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える光学積層体であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−９０ｎｍ〜５０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜８＞
少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜９＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１０＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１３０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが０ｎｍ〜１００ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１１＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜４０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１２＞
少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１００ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１３＞
少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜１００ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１４＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜５０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１５＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１６＞
少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜９０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１７＞
少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜１０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１８＞
少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１１０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜１９＞
少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜１０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜２０＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜２１＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−２００ｎｍ〜０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜２２＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜２３＞
少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１２０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜２４＞
少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜８０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜２５＞
少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜５０ｎｍである＜１＞に記載の有機ＥＬ表示装置。
＜２６＞
前記偏光子層と前記有機ＥＬパネルとの間に少なくとも１層のセルロースアシレート層を含む＜１＞〜＜２５＞のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
本発明は上記＜１＞〜＜２６＞に関するものであるが、参考のためその他の事項についても記載した。
［１］少なくとも偏光子層と、λ／２板と、λ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記λ／４板の５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）が
１１５≦Ｒｅ２（５５０）≦１５５
を満たし、かつ前記λ／２板の５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）が
Ｒｅ１（５５０）＝２×Ｒｅ２（５５０）±５０ｎｍ
を満たす有機ＥＬ表示装置。
［２］前記偏光子層の吸収軸方向と前記λ／２板の遅相軸方向とのなす角が
−３０°×Ｒｔｈ１（５５０）／｜Ｒｔｈ１（５５０）｜＋４５°±８°
の範囲であり、かつ前記偏光子層の吸収軸方向と前記λ／４板の遅相軸方向とのなす角が
３０°×Ｒｔｈ１（５５０）／｜Ｒｔｈ１（５５０）｜＋４５°±８°
の範囲である［１］の有機ＥＬ表示装置。ただし、Ｒｔｈ１（５５０）は前記λ／２板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションである。
［３］前記λ／２板、及び前記λ／４板の少なくとも一方がディスコティック液晶化合物、又は棒状液晶化合物のいずれかを含む層である［２］の有機ＥＬ表示装置。
［４］前記偏光子層から前記λ／２板までの間の層であって、前記λ／２板を含み前記偏光子層を含まない全ての層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈの総和が−１５０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、かつ、前記λ／２板から前記λ／４板までの間の層であって、前記λ／４板を含み前記λ／２板を含まない全ての層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈの総和が−１２０ｎｍ〜１２０ｎｍである［３］の有機ＥＬ表示装置。
［５］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが０ｎｍ〜２００ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。

［６］少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１０ｎｍ〜１４０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［７］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［８］少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１０ｎｍ〜１００ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［９］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える光学積層体であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１５０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１０］少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える光学積層体であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−９０ｎｍ〜５０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。

［１１］少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１２］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１３］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１３０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが０ｎｍ〜１００ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１４］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜４０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１５］少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１００ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。

［１６］少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜１００ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１７］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜５０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１８］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［１９］少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜９０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２０］少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜１０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。

［２１］少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１１０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２２］少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜１０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２３］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２４］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−２００ｎｍ〜０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２５］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。

［２６］少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１２０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２７］少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜８０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２８］少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜５０ｎｍである［４］の有機ＥＬ表示装置。
［２９］前記偏光子層と前記有機ＥＬパネルとの間に少なくとも１層のセルロースアシレート層を含む［１］〜［２８］のいずれかの有機ＥＬ表示装置。

なお、本明細書において「Ａ〜Ｂ」という記載は「Ａ以上Ｂ以下」の意味を表す。また、有機ＥＬとは、有機エレクトロルミネッセンスを意味する。
また、本明細書において「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味し、更に屈折率の測定波長は、特別な記述がない限り、可視光域（λ＝５５０ｎｍ）での値である。

本発明によれば、有機ＥＬ素子の内部反射による反射像の映り込みを、正面方向においても斜め方向においても十分に低減し、表示性能、生産性、及び耐久性に優れた有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

は有機ＥＬ表示装置の模式図である。

以下に本発明を詳細に説明する。
なお、本実施形態の説明において「偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の偏光板、及び表示装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いている。なお、ここでいう「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする。また、本実施形態の説明では、「偏光膜」と「偏光板」とを区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。

また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（ＩＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。

・・・・・・式（Ａ）
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・式（ＩＩＩ）

測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ、ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の作製に利用される種々の材料、及び製造方法等を詳細に説明する。なお、本明細書中、光学フィルムは光学異方性層と同義である。

［光学異方性層］
以下、λ／２板及びλ／４板を含め、本発明で用いることのできる光学異方性層について説明する。

本発明に使用されるλ／４板は、支持体自身で目的のλ／４機能を有する光学異方性支持体であってもよいし、ポリマーフィルムからなる支持体上に光学異方性層等を有していてもよい。すなわち、後者の場合、支持体上に他の層を積層させることで所望のλ／４機能を持たせる。光学異方性層の構成材料については特に制限されず、液晶性化合物を含有する組成物から形成され、該液晶性化合物の分子の配向によって発現された光学異方性を示す層であっても、ポリマーフィルムを延伸してフィルム中の高分子を配向させて発現させた光学異方性を有する層であっても、双方の層を有していてもよい。すなわち、１枚又は２枚以上の二軸性フィルムによって構成することができるし、またＣプレートとＡプレートとの組合せ等、一軸性フィルムを２枚以上組合せることでも構成することができる。勿論、１枚以上の二軸性フィルムと、１枚以上の一軸性フィルムとを組み合わせることによっても構成することもできる。
ここで、「λ／４板」とは、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）が
Ｒｅ（λ）＝λ／４
を満たす光学異方性層のことをいう。上式は可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていれば良いが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が
１１５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５５ｎｍ
であることが好ましく、１２０ｎｍ〜１４５ｎｍであることがより好ましい。この範囲であると、後述するλ／２板と組み合わせたときに、反射光の光漏れを視認されない程度まで低減できるため好ましい。

本発明に使用されるλ／２板は、支持体自身で目的のλ／２機能を有する光学異方性支持体であってもよいし、ポリマーフィルムからなる支持体上に光学異方性層等を有していてもよい。すなわち、後者の場合、支持体上に他の層を積層させることで所望のλ／２機能を持たせる。光学異方性層の構成材料については特に制限されず、液晶性化合物を含有する組成物から形成され、該液晶性化合物の分子の配向によって発現された光学異方性を示す層であっても、ポリマーフィルムを延伸してフィルム中の高分子を配向させて発現させた光学異方性を有する層であっても、双方の層を有していてもよい。すなわち、１枚又は２枚以上の二軸性フィルムによって構成することができるし、またＣプレートとＡプレートとの組合せ等、一軸性フィルムを２枚以上組合せることでも構成することができる。勿論、１枚以上の二軸性フィルムと、１枚以上の一軸性フィルムとを組み合わせることによっても構成することもできる。
ここで、「λ／２板」とは、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）が
Ｒｅ（λ）＝λ／２
を満たす光学異方性層のことをいう。上式は可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていれば良い。更に、本発明ではλ／２板の面内レターデーションＲｅ１がλ／４板の面内レターデーションＲｅ２に対し実質的に２倍であるように設定される。ここで、「レターデーションが実質的に２倍である」とは、
Ｒｅ１＝２×Ｒｅ２±５０ｎｍ
であることを意味する。ただし、
Ｒｅ１＝２×Ｒｅ２±２０ｎｍ
であることがより好ましく、
Ｒｅ１＝２×Ｒｅ２±１０ｎｍ
であることが更に好ましい。上式は可視光域のいずれかの波長において達成されていれば良いが、波長５５０ｎｍにおいて達成されていることが好ましい。この範囲であると、前記したλ／４板と組み合わせたときに、反射光の光漏れを視認されない程度まで低減できるため好ましい。

また、前記λ／２板の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが負である場合には、該λ／２板の遅相軸方向と前記偏光子層の吸収軸方向とのなす角が７５°±８°の範囲であることが好ましく、７５°±６°の範囲であることがより好ましく、７５°±３°の範囲であることが更に好ましい。更にこのとき、前記λ／４板の遅相軸方向と前記偏光子層の吸収軸方向とのなす角が１５°±８°の範囲であることが好ましく、１５°±６°の範囲であることがより好ましく、１５°±３°の範囲であることが更に好ましい。上記の範囲であると、反射光の光漏れを視認されない程度まで低減できるため好ましい。

また、前記λ／２板の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが正である場合には、該λ／２板の遅相軸方向と前記偏光子層の吸収軸方向とのなす角が１５°±８°の範囲であることが好ましく、１５°±６°の範囲であることがより好ましく、１５°±３°の範囲であることが更に好ましい。更にこのとき、前記λ／４板の遅相軸方向と前記偏光子層の吸収軸方向とのなす角が７５°±８°の範囲であることが好ましく、７５°±６°の範囲であることがより好ましく、７５°±３°の範囲であることが更に好ましい。上記の範囲であると、反射光の光漏れを視認されない程度まで低減できるため好ましい。

本発明に使用される光学異方性支持体の材料について特に制限はない。種々のポリマーフィルム、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等を利用することができる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマー等から１種又は２種以上のポリマーを選択し、主成分として用いてポリマーフィルムを作製し、上記特性を満足する組合せで、光学フィルムの作製に利用することができる。

λ／２板及びλ／４板がポリマーフィルム（透明支持体）と光学異方性層との積層体である場合、光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物から形成された層を少なくとも一層含んでいることが好ましい。即ち、ポリマーフィルム（透明支持体）と液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層との積層体であることが好ましい。透明支持体には光学異方性が小さいポリマーフィルムを用いてもよいし、延伸処理などにより光学異方性を発現させたポリマーフィルムを用いてもよい。支持体は光透過率が８０％以上であることが好ましい。

［液晶性化合物を含む光学異方性層］
前記λ／２板及びλ／４板が有してもよい光学異方性層の形成に用いられる液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。また、液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。

一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。更にそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることが更に好ましい。液晶化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９や特開２００７−２７９６８８号に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号や特開２０１０−２４４０３８号に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

前記光学異方性層において、液晶化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。視野角依存性が対称である位相差板を作製するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直であるか、又は、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に水平であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）とディスコティック液晶性化合物の円盤面とのなす角度の平均値が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°が更に好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に水平とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が０°〜２０°の範囲内であることを意味する。０°〜１０°がより好ましく、０°〜５°が更に好ましい。

前記λ／２板及びλ／４板が、液晶性化合物を含有する光学異方性層を含む場合、該光学異方性層は一層のみからなっていてもよいし、二層以上の光学異方性層の積層体であってもよい。

前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、後述する重合開始剤や配向制御剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成することが好ましい。

［配向膜］
本発明では、配向膜の表面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させるのが好ましい。配向膜は液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光層や支持体上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。

ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが更に好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。 前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

配向膜のラビング処理面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させることで、前記光学異方性層を形成することができる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。

［透明支持体（ポリマーフィルム）］
本段落より以降、特に断りのないときには、Ｒｅ、及びＲｔｈは波長５５０ｎｍにおける値を指すものとする。

光学異方性層を支持する透明支持体（ポリマーフィルム）の面内のレターデーション（Ｒｅ）は０〜５０ｎｍであることが好ましく、０〜３０ｎｍであることがより好ましく、０〜１０ｎｍであることが更に好ましい。上記の範囲であると、反射光の光漏れを視認されない程度まで低減できるため好ましい。

また、該支持体の厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）はその上又は下に設けられる光学異方性層との組み合わせによって選択することが好ましい。それによって、斜め方向から観察したときの反射光の光漏れ、及び色味付きを低減することができる。

少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−３０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍ〜１２０ｎｍであることがより好ましく、６０ｎｍ〜９０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍであることがより好ましく、９０ｎｍ〜１３０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−１０ｎｍ〜１４０ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１２０ｎｍであることがより好ましく、４０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましく、−２０ｎｍ〜１０ｎｍであることがより好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜７０ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ〜６０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−５０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、−３０ｎｍ〜１３０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜７０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−９０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、−６０ｎｍ〜３０ｎｍであることがより好ましく、−２０ｎｍ〜２０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−９０ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましく、−５０ｎｍ〜−１０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであることが好ましく、０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、４０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍであることが好ましく、−３０ｎｍ〜３０ｎｍであることがより好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−５０ｎｍ〜１３０ｎｍであることが好ましく、−３０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることがより好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであることが好ましく、−２０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−１００ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−５０ｎｍ〜０ｎｍであることがより好ましく、−４０ｎｍ〜−１０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−４０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、−１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ〜６０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−５０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、−３０ｎｍ〜７０ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−７０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、−３０ｎｍ〜５０ｎｍであることがより好ましく、−１０ｎｍ〜３０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−８０ｎｍ〜０ｎｍであることがより好ましく、−５０ｎｍ〜０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−１５０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、−１３０ｎｍ〜３０ｎｍであることがより好ましく、−９０ｎｍ〜０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましく、−１０ｎｍ〜２０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−５０ｎｍ〜９０ｎｍであることが好ましく、−３０ｎｍ〜６０ｎｍであることがより好ましく、−１０ｎｍ〜１０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−１４０ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましく、−１２０ｎｍ〜−１０ｎｍであることがより好ましく、−８０ｎｍ〜−５０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−５０ｎｍ〜１１０ｎｍであることが好ましく、−３０ｎｍ〜９０ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記透明支持体層のＲｔｈが−１００ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましく、−８０ｎｍ〜−２０ｎｍであることがより好ましく、−６０ｎｍ〜−３０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−１００ｎｍ〜１０ｎｍであることがより好ましく、−８０ｎｍ〜０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍであることが好ましく、−４０ｎｍ〜４０ｎｍがより好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−１２０ｎｍ〜０ｎｍであることがより好ましく、−１００ｎｍ〜−５０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−２００ｎｍ〜０ｎｍであることが好ましく、−１５０ｎｍ〜−５０ｎｍであることがより好ましく、−１３０ｎｍ〜−９０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−１００ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましく、−５０ｎｍ〜０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、−１０ｎｍ〜５０ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−１２０ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−１００ｎｍ〜３０ｎｍであることがより好ましく、−７０ｎｍ〜０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−１００ｎｍ〜０ｎｍであることが好ましく、−８０ｎｍ〜−２０ｎｍであることがより好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−１００ｎｍ〜８０ｎｍであることが好ましく、−６０ｎｍ〜４０ｎｍであることがより好ましく、−３０ｎｍ〜２０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、−１０ｎｍ〜７０ｎｍであることがより好ましく、０ｎｍ〜５０ｎｍであることが更に好ましい。

また、少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置である場合には、前記第1の透明支持体層のＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、−９０ｎｍ〜０ｎｍであることがより好ましく、−６０ｎｍ〜−２０ｎｍであることが更に好ましい。また、前記第２の透明支持体層のＲｔｈが−１００ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、−７０ｎｍ〜１０ｎｍであることがより好ましく、−５０ｎｍ〜−１０ｎｍであることが更に好ましい。

ポリマーの例には、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、ポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。

ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。前記ソルベントキャスト法として、共流延法、逐次流延法、塗布法などの積層流延法も用いることができる。共流延法及び逐次流延法により製造する場合には、先ず、各層用のセルロースアセテート溶液（ドープ）を調製する。共流延法（重層同時流延）は、流延用支持体（バンド又はドラム）の上に、各層（３層あるいはそれ以上でもよい）各々の流延用ドープを別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサからドープを押出して、各層同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して、流延し、乾燥あるいは乾燥することなく、その上に第２層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延する要領で、必要なら第３層以上まで逐次ドープを流延・積層して、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。
塗布法は、一般的には、コア層のフィルムを溶液製膜法によりフィルムに成形し、表層に塗布する塗布液を調製し、適当な塗布機を用いて、片面づつ又は両面同時にフィルムに塗布液を塗布・乾燥して積層構造のフィルムを成形する方法である。

透明支持体の厚さは１０μｍ〜２００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは１０μｍ〜８０μｍであり、２０μｍ〜６０μｍであることがより好ましい。また、透明支持体は複数枚の積層からなっていてもよい。外光反射の抑制には薄い方が好ましいが、１０μｍ以上であるとフィルムの強度が良好となり好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。

なお上記では、支持体上に光学異方性層を設けた積層体構造であるλ／２板又はλ／４板について説明したが、本発明はこの態様に限定されるものではなく、１枚の透明支持体の片面にλ／２板とλ／４板が積層されたものであってもよく、又は１枚の透明支持体の片面にλ／２板が積層され、もう一方の片面にλ／４板が積層されたものであってもよい。更に、λ／２板又はλ／４板は、延伸ポリマーフィルム（光学異方性支持体）単独からなっていても、液晶性化合物を含有する組成物から形成された液晶フィルムのみからなっていてもよい。液晶フィルムの好ましい例も、前記光学異方性層の好ましい例と同様である。

前記λ／２板及びλ／４板は長尺状フィルムの状態で連続的に製造されることが好ましい。このとき、λ／２又はλ／４の遅相軸角は、前記長尺状フィルムの長手方向に対して１５°±８°、又は７５°±８°であることが好ましい。このようにすることで、後述する光学積層体の製造において、前記長尺状フィルムの長手方向と偏光膜の長手方向を一致させてロールトゥロールによる貼り合せを行うことが可能になり、貼り合せの軸角度の精度が高く、生産性の高い円偏光板や楕円偏光板の製造が可能になる。なお、光学異方性層が液晶性化合物から形成される場合には、光学異方性層の遅相軸の角度はラビングの角度で調整できる。また、λ／２板又はλ／４板が延伸処理したポリマーフィルム（光学異方性支持体）から形成される場合は、延伸方向によって遅相軸の角度が調整できる。

［紫外線吸収剤］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、光学異方性層、透明支持体、又は表面フィルムに紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤を含有することにより、光学積層体や、有機ＥＬパネル、液晶パネル等を紫外線から保護することができる。紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。

紫外線吸収剤の含有量は、求める紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度にもよるが、前記紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは１〜２０質量部である。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、光学フィルムの可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、光学フィルムの紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。

［偏光板］
本発明に使用される偏光板は、保護膜と偏光膜とを有する。偏光膜としては、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜のいずれを用いてもよい。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。従って、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して平行に吸収軸を有し、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して垂直に吸収軸を有す。また、保護膜としては光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。

本発明に使用される偏光板の好ましい製造方法は、上記光学積層体と偏光膜とが、それぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含む。該長尺の偏光板は用いられる画像表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。

偏光膜として直線偏光膜を用い、上記光学異方性層，又は透明支持体層と組み合わせることで、円偏光板又は楕円偏光板として機能する偏光膜一体型の光学フィルムを高い生産性で製造できる。

［有機エレクトロルミネッセンス表示装置］
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は陽極、陰極の一対の電極間に発光層若しくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した表示装置であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。

陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、又はこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、更にこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。

基板は、特に限定されないが、透明又は半透明であることがよく、通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂等の基板上に陽極を形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。

基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、表示装置表面に光散乱フィルムを用いる態様では、視認側の基板の厚みが厚いと文字ボケが生じやすく、基板の厚みは薄いほど良い。視認側の基板は、０．０１ｍｍ〜０．７０ｍｍが好ましく、０．０２〜０．５０ｍｍがより好ましく、０．０３〜０．３０ｍｍが特に好ましい。

強度、表示装置の寿命の点では、視認側に０．０３〜０．３０ｍｍの薄い（好ましくはガラス）基板を用いるのがもっとも好ましい形態と言える。０．３０μｍより薄い場合は片側の面及び端部の少なくとも一方にポリマーをコーティングして強度を向上させることがより好ましい。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

（１）透明支持体の準備
各種公知の技術を用いて、下記表１〜７に記載の光学特性を持つセルロースアシレートからなる透明支持体を準備した。

（２）透明支持体上への液晶性化合物の塗布
（アルカリ鹸化処理）
前述のいずれかの透明支持体を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

（アルカリ溶液組成）
──────────────────────────────────
アルカリ溶液組成（質量部）
──────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
──────────────────────────────────

（配向膜の形成）
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアシレートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。

配向膜塗布液の組成
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下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製）
０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（ディスコティック液晶（ＤＬＣ）性化合物を含む光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角が１５°、４５°、７５°のいずれかになるように調節した。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液Ａを上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。光学異方性層、すなわち液晶化合物層の厚さが１．６μｍ〜４．０μｍまでの厚みになるように調節し、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ〜３００ｎｍである種々のフィルムを得た。

光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
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下記のディスコティック液晶化合物（Ａ） ９１質量部
下記のアクリレートモノマー ５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩（Ａ） ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３） ０．１質量部
メチルエチルケトン １８９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

アクリレートモノマー：
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）

作製したフィルムの遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は反時計回りに１５°、４５°、又は７５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。

（棒状液晶（ＲＬＣ）化合物を含む光学異方性層の形成）
上記のフィルムと同様にして、下記組成の棒状液晶化合物を含む塗布液（Ｂ）をセルロースアシレートフィルムに塗布し、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ〜３００ｎｍである種々のフィルムを得た。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交していた。

光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）
３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
上記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．３質量部
メチルエチルケトン １９３質量部
シクロヘキサノン ５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

棒状液晶性化合物（Ａ）

（３）光学異方性層の剥離、及び転写
上記の方法で形成した光学異方性層を、セルロースアシレートフィルムから剥離し、別に準備した光学異方性層付きセルロースアシレートフィルムの光学異方性層上に粘着剤にて貼り合せた（転写）。このようにして、異なるレターデーション及び遅相軸をもつ２種類の光学異方性層が形成されたセルロースアシレートフィルムを得た。

（４）偏光子の作成
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。

（５）偏光子保護フィルムの準備
市販のセルロースアシレート系フィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を準備し、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

（６）光学積層体の作成
（実施例１〜１３５）
前述（１）のいずれかの透明支持体に、ディスコティック液晶化合物（以下、ＤＬＣ）、又は棒状液晶化合物（以下、ＲＬＣ）を前述（２）の方法で塗布した。また、必要に応じて１枚の透明支持体の両面にＤＬＣ、又はＲＬＣを（２）の方法で塗布した。更に、必要に応じ、前述（３）の方法にて異なる２種類の光学異方性層を透明支持体上に形成した。このようにして得たフィルムと、必要に応じ１枚、又は２枚以上の前記透明支持体と、前述（４）の偏光子とを粘着剤で貼り合せた。最後に、偏光子の表面に前述（５）の偏光子保護フィルムをポリビニル系粘着剤を用いて貼り合せた。このようにして、下表１〜７の実施例１〜１３５に示す各種光学積層体を作成した。

（実施例１３８）
（セルロースエステル溶液Ａ−１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液Ａ−１を調製した。

セルロースエステル溶液Ａ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（アセチル化度２．８６） １００質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３２０質量部
・メタノール（第２溶媒） ８３質量部
・１−ブタノール（第３溶媒） ３質量部
・トリフェニルフォスフェート ７．６質量部
・ビフェニルジフェニルフォスフェート ３．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（マット剤分散液Ｂ−１の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｂ−１を調製した。

マット剤分散液Ｂ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製
１０．０質量部
・メチレンクロライド ７２．８質量部
・メタノール ３．９質量部
・ブタノール ０．５質量部
・セルロースエステル溶液Ａ−１ １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（紫外線吸収剤溶液Ｃ−１の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ｃ−１を調製した。

紫外線吸収剤溶液Ｃ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−１） １０．０質量部
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−２） １０．０質量部
・メチレンクロライド ５５．７質量部
・メタノール １０質量部
・ブタノール １．３質量部
・セルロースエステル溶液Ａ−１ １２．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（セルロースエステルフィルムの作製）
セルロースアシレート溶液Ａ−１を９４．６質量部、マット剤分散液Ｂ−１を１．３質量部とした混合物に、セルロースアシレート１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．０質量部となるように、紫外線吸収剤溶液Ｃ−１を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の表面温度は−５℃に設定し、塗布幅は１４７０ｍｍとした。流延したドープ膜をドラム上で３４℃の乾燥風を１５０ｍ^３／分で当てることにより乾燥させ、残留溶剤が１５０％の状態でドラムより剥離した。剥離の際、搬送方向（長手方向）に１５％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら搬送し、幅手方向には延伸処理を行わなかった。更に、熱処理装置のロール間を搬送することにより更に乾燥し、セルロースアシレートフィルム（Ｔ１）を製造した。作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）の残留溶剤量は０．２％で、厚みは６０μｍで、５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ０．８ｎｍ、４０ｎｍであった。

（配向膜の形成）
作製したセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）を、上記と同様にしてアルカリ鹸化処理を行った。その上に下記組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。

配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ７５質量部
メタノール １７質量部
イソプロパノール ７質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製）
０．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（ディスコティック液晶（ＤＬＣ）化合物を含む光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７５°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１５°）。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液（Ｃ）を上記作製した配向膜上に＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１１５℃の温風で９０秒間、続いて、８０℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。ＤＬＣ化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ＤＬＣ化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム長手方向を９０°とすると、１５°であった。

光学異方性層塗布液（Ｃ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶化合物（Ｂ） ８０質量部
下記のディスコティック液晶化合物（Ｃ） ２０質量部
上記のアクリレートモノマー １０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）３質量部
下記のピリジニウム塩（Ｂ） ０．９質量部
下記のボロン酸含有化合物 ０．０８質量部
下記のポリマー ０．６質量部
上記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．３質量部
メチルエチルケトン １８３質量部
シクロヘキサノン ４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（棒状液晶（ＲＬＣ）化合物を含む光学異方性層の形成）
上記作製したＤＬＣ化合物を含む光学異方性層に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−７５°（反時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１６５°）。

下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液（Ｄ）を上記作製した配向膜上に＃２．２のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°とすると、７５°であった。

光学異方性層塗布液（Ｄ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ） ２０質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｂ） ８０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ４） ０．３質量部
メチルエチルケトン １９３質量部
シクロヘキサノン ５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

上記のようにして、セルロースアシレートフィルムの上に、ＤＬＣ化合物を含む光学異方性層とＲＬＣ化合物を含む光学異方性層とが積層されたフィルム（Ｆ１）を作製した。このフィルムを１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
上記と同様にして作製した偏光子と偏光子保護フィルムを準備し、フィルム（Ｆ１）のセルロースアシレート面が偏光子と接するようにして、フィルム（Ｆ１）と偏光子と偏光子保護フィルムを貼り合わせた。このようにして、実施例１３８の光学積層体を作製した。

（実施例１３９）
前述のフィルム（Ｆ１）のＤＬＣ化合物、及びＲＬＣ化合物から成る光学異方性層をセルロースアシレートフィルムから剥離し、前述（４）の偏光子の表面にＤＬＣ化合物から成る層が接するように貼り合わせ、もう一方の面に前述（５）の偏光子保護フィルムをポリビニル系粘着剤を用いて貼り合せた。このようにして実施例１３９の光学積層体を作製した。

（実施例１４０〜１４３）
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を延伸して、膜厚が５０ｕｍになるように調整し、Ｒｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が７４ｎｍのポリマーフィルムを得た。これを前述の実施例１〜１３５と同様の方法で光学異方性層、偏光子、及び偏光子保護フィルムと貼り合せ、実施例１４０〜１４３に示す光学積層体を作成した。

（実施例１４４〜１４７）
ＬＧ電子製の３Ｄ-ＴＶである５５ＬＷ５７００に付属の３Ｄメガネに使用されていたポリカーボネート系のλ／４フィルムを剥離し、これを前述の実施例１〜１３５と同様の方法で光学異方性層、偏光子、及び偏光子保護フィルムと貼り合せ、下表８の実施例１４４〜１４７に示す光学積層体を作成した。

（比較例１〜２０）
前述の実施例１〜１３５と同様の方法にて、下表９〜１４の比較例１〜２０に示す各種光学積層体を作成した。

（比較例２１）
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を斜め延伸して、膜厚が５０ｕｍになるように調整し、Ｒｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が８５ｎｍのポリマーフィルムを得た。これを前述の実施例１〜１３５と同様の方法で透明支持体、偏光子、及び偏光子保護フィルムと貼り合せ、下表１５の比較例２１に示す各種光学積層体を作成した。

（７）有機ＥＬ素子への実装及び表示性能の評価
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩを分解し、円偏光板を剥離して、下表１〜１５に示した実施例、及び比較例の光学積層体を貼合し、表示装置を作製した。

（表示性能の評価）
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下にて視認性及び表示品位を評価した。
表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、正面及び極角４５度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察した。正面と比較して、極角４５度の表示品位を下記の基準で評価した。
４：色味付きが全く視認されない。（許容）
３：色味差が視認されるものの、ごくわずか（許容）
２：色味差が視認されるが反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
１：色味差が視認され、反射光も多く、許容できない。

評価結果を下表１〜１５に示す。
なお、下表１〜１５に記載の吸収軸の角度、遅相軸角度は、偏光子の透過軸の角度を０°とし、有機ＥＬパネルを視認側から見て時計回りを正とした。ただし、時計回りを負とする定義を用いた場合であっても、下表１〜１５に示した評価結果は何ら変化しない。
また、偏光子の透過軸は有機ＥＬパネルに対し任意の角度で貼合する事ができる。

本発明の有機ＥＬ表示装置である実施例１〜１４７の有機ＥＬ表示装置は、従来の円偏光板である比較例２０、又は比較例２１の有機ＥＬ表示装置、又は透明支持体のＲｔｈを最適な値に調整していない比較例１〜１９の有機ＥＬ表示装置よりも、明光下での視認性に優れることがわかる。本発明の有機ＥＬ表示装置に使用される光学積層体は、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌで作製可能であり、優れた反射防止性能を有する有機ＥＬ表示装置を、高い生産性、優れたコスト耐性に加え、高い歩留まりで提供することが可能となる。更に、ＤＬＣ、又はＲＬＣを含む光学異方性層は温度や湿度の変動によるレターデーションの変化がほとんどないため、本発明の有機ＥＬ表示装置は、温度が０℃〜３０℃、湿度が０％〜９０％の範囲において、反射防止性能の変化は視認できなかった。

なお、本発明の光学積層体は有機ＥＬ表示装置のみならず、反射型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、透明ディスプレイ等の反射防止用にも好適に使用できる。また、液晶表示装置のバックライト側に設置して、輝度向上膜としても使用できる。更に、光ディスク用ピックアップやＰＳ変換素子などの用途にも使用できる。

本発明によれば、有機ＥＬ素子の内部反射による反射像の映り込みを、正面方向においても斜め方向においても十分に低減し、表示性能、生産性、及び耐久性に優れた有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１２年３月１５日出願の日本特許出願（特願２０１２−０５９３５１）、及び２０１２年１０月４日出願の日本特許出願（特願２０１２−２２２４８０）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

１ ＴＦＴ基板
２ 背面電極
３ 発光層を含む有機層
４ 透明又は半透明電極
５ 透明基板
６ 光学積層体
７ 偏光板

Claims (26)

1. 少なくとも偏光子層と、λ／２板と、λ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記λ／４板の５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）が
   １１５≦Ｒｅ２（５５０）≦１５５
   を満たし、かつ前記λ／２板の５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）が
   Ｒｅ１（５５０）＝２×Ｒｅ２（５５０）±５０ｎｍ
   を満たし、
   前記偏光子層の吸収軸方向と前記λ／２板の遅相軸方向とのなす角が
   −３０°×Ｒｔｈ１（５５０）／｜Ｒｔｈ１（５５０）｜＋４５°±８°
   の範囲であり、かつ前記偏光子層の吸収軸方向と前記λ／４板の遅相軸方向とのなす角が
   ３０°×Ｒｔｈ１（５５０）／｜Ｒｔｈ１（５５０）｜＋４５°±８°
   の範囲であり、
   （ただし、Ｒｔｈ１（５５０）は前記λ／２板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションである。）
   前記λ／２板、及び前記λ／４板の少なくとも一方がディスコティック液晶化合物、又は棒状液晶化合物のいずれかを含む層であり、
   前記偏光子層から前記λ／２板までの間の層であって、前記λ／２板を含み前記偏光子層を含まない全ての層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈの総和が−１５０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、かつ、前記λ／２板から前記λ／４板までの間の層であって、前記λ／４板を含み前記λ／２板を含まない全ての層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈの総和が−１２０ｎｍ〜１２０ｎｍであることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
2. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが０ｎｍ〜２００ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
3. 少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１０ｎｍ〜１４０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
4. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
5. 少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１０ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
6. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える光学積層体であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１５０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
7. 少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える光学積層体であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−９０ｎｍ〜５０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
8. 少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
9. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
10. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１３０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが０ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
11. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜４０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
12. 少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
13. 少なくとも偏光子層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜１００ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１１０ｎｍ〜４０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
14. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜５０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
15. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−３０ｎｍ〜３０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
16. 少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜９０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
17. 少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜１０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
18. 少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−５０ｎｍ〜１１０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
19. 少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜１０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
20. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−７０ｎｍ〜７０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
21. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−２００ｎｍ〜０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
22. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１４０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
23. 少なくとも偏光子層と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１２０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
24. 少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、ディスコティック液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜８０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−４０ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
25. 少なくとも偏光子層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／２板と、１層以上からなる第１の透明支持体層と、棒状液晶化合物を含む層からなるλ／４板と、１層以上からなる第２の透明支持体層と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置であって、前記第1の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１５０ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２の透明支持体層の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−１００ｎｍ〜５０ｎｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
26. 前記偏光子層と前記有機ＥＬパネルとの間に少なくとも１層のセルロースアシレート層を含む請求項１〜２５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。

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