JP2001091741A - 位相差板および円偏光板 - Google Patents
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- G02F2413/00—Indexing scheme related to G02F1/13363, i.e. to birefringent elements, e.g. for optical compensation, characterised by the number, position, orientation or value of the compensation plates
- G02F2413/08—Indexing scheme related to G02F1/13363, i.e. to birefringent elements, e.g. for optical compensation, characterised by the number, position, orientation or value of the compensation plates with a particular optical axis orientation
Abstract
(57)【要約】
【課題】 非常に薄い広帯域λ／４板を得る。
【解決手段】 波長５５０ｎｍにおける位相差が実質的
にπでありである光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにお
ける位相差が実質的にπ／２であるである光学異方性層
Ｂとを積層することにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎ
ｍおよび６５０ｎｍで測定したレターデーション値／波
長の値が、いずれも０．２乃至０．３の範囲内である位
相差板において、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂ
の厚さの合計を５００ｎｍ乃至２０μｍにする。
にπでありである光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにお
ける位相差が実質的にπ／２であるである光学異方性層
Ｂとを積層することにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎ
ｍおよび６５０ｎｍで測定したレターデーション値／波
長の値が、いずれも０．２乃至０．３の範囲内である位
相差板において、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂ
の厚さの合計を５００ｎｍ乃至２０μｍにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも二つの
光学異方性層を有する位相差板およびそれを用いた円偏
光板に関する。特に本発明は、反射型液晶表示装置、Ｇ
Ｈ−ＬＣＤ、ＰＳ変換素子、光ディスクの書き込み用の
ピックアップ、あるいは反射防止膜に利用されるλ／４
板として有効な位相差板に関する。
光学異方性層を有する位相差板およびそれを用いた円偏
光板に関する。特に本発明は、反射型液晶表示装置、Ｇ
Ｈ−ＬＣＤ、ＰＳ変換素子、光ディスクの書き込み用の
ピックアップ、あるいは反射防止膜に利用されるλ／４
板として有効な位相差板に関する。
【０００２】
【従来の技術】λ／４板は、非常に多くの用途を有して
おり、既に反射型ＬＣＤ、光ディスク用ピックアップや
ＰＳ変換素子に使用されている。しかし、λ／４板と称
していても、ある特定波長でλ／４を達成しているもの
が大部分である。特開平１０−６８８１６号および同１
０−９０５２１号公報に、光学異方性を有する二枚のポ
リマーフイルムを積層することにより得られる位相差板
が開示されている。特開平１０−６８８１６号公報記載
の位相差板は、複屈折光の位相差が１／４波長である１
／４波長板と、複屈折光の位相差が１／２波長である１
／２波長板とを、それらの光軸が交差した状態で貼り合
わせている。特開平１０−９０５２１号公報記載の位相
差板は、レターデーション値が１６０〜３２０ｎｍであ
る位相差板を少なくとも２枚、その遅相軸が互いに平行
でも直交でもない角度になるように積層している。いず
れの公報に記載の位相差板も、二枚のポリマーフイルム
を使用して、広い波長領域でλ／４を達成している。
おり、既に反射型ＬＣＤ、光ディスク用ピックアップや
ＰＳ変換素子に使用されている。しかし、λ／４板と称
していても、ある特定波長でλ／４を達成しているもの
が大部分である。特開平１０−６８８１６号および同１
０−９０５２１号公報に、光学異方性を有する二枚のポ
リマーフイルムを積層することにより得られる位相差板
が開示されている。特開平１０−６８８１６号公報記載
の位相差板は、複屈折光の位相差が１／４波長である１
／４波長板と、複屈折光の位相差が１／２波長である１
／２波長板とを、それらの光軸が交差した状態で貼り合
わせている。特開平１０−９０５２１号公報記載の位相
差板は、レターデーション値が１６０〜３２０ｎｍであ
る位相差板を少なくとも２枚、その遅相軸が互いに平行
でも直交でもない角度になるように積層している。いず
れの公報に記載の位相差板も、二枚のポリマーフイルム
を使用して、広い波長領域でλ／４を達成している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】特開平１０−６８８１
６号および同１０−９０５２１号公報記載の位相差板
は、二枚のポリマーフイルムを積層するため、全体とし
てかなりの厚さになる。特開平１０−９０５２１号公報
の実施例では、ポリカーボネートフイルム（スミカライ
トＳＥＦ−４６０２７０Ｂ７およびスミカライトＳＥＦ
−４６０２６６Ｂ７、住友化学工業（株）製）を二枚以
上積層している。これらのポリカーボネートフイルム一
枚の厚さは、６０μｍであるため、二枚以上積層すると
１２０μｍ以上となる。。特開平１０−６８８１６号公
報には、ポリマーフイルムの厚さに関する記載がない
が、実施態様ではポリカーボネートフイルムを使用して
いることから、同様の厚さになっていると推定できる。
λ／４板または円偏光板の主要な用途である液晶表示装
置は、他の画像表示装置と比較して、軽量で薄型である
との特徴がある。従って、液晶表示装置に使用するλ／
４板または円偏光板も、可能な限り軽量で薄型とするこ
とが望ましい。また、最近では、液晶セルの二枚の基板
の内側にλ／４板を配置した液晶表示装置（例えば、ゲ
ストホスト型液晶表示装置）が提案されている。液晶セ
ルの内部にλ／４板を配置するため、λ／４板は従来よ
りも薄型であることが要求されている。液晶セルの外部
にλ／４板を配置する場合でも、デバイスの軽さと薄さ
が重要な性能項目となるプラスチック基板を用いた液晶
表示装置や、視差を最小限に抑えたい反射型液晶表示装
置では、λ／４板の薄膜化の効果が非常に大きい。本発
明の目的は、非常に薄い広帯域λ／４板を提供すること
である。
６号および同１０−９０５２１号公報記載の位相差板
は、二枚のポリマーフイルムを積層するため、全体とし
てかなりの厚さになる。特開平１０−９０５２１号公報
の実施例では、ポリカーボネートフイルム（スミカライ
トＳＥＦ−４６０２７０Ｂ７およびスミカライトＳＥＦ
−４６０２６６Ｂ７、住友化学工業（株）製）を二枚以
上積層している。これらのポリカーボネートフイルム一
枚の厚さは、６０μｍであるため、二枚以上積層すると
１２０μｍ以上となる。。特開平１０−６８８１６号公
報には、ポリマーフイルムの厚さに関する記載がない
が、実施態様ではポリカーボネートフイルムを使用して
いることから、同様の厚さになっていると推定できる。
λ／４板または円偏光板の主要な用途である液晶表示装
置は、他の画像表示装置と比較して、軽量で薄型である
との特徴がある。従って、液晶表示装置に使用するλ／
４板または円偏光板も、可能な限り軽量で薄型とするこ
とが望ましい。また、最近では、液晶セルの二枚の基板
の内側にλ／４板を配置した液晶表示装置（例えば、ゲ
ストホスト型液晶表示装置）が提案されている。液晶セ
ルの内部にλ／４板を配置するため、λ／４板は従来よ
りも薄型であることが要求されている。液晶セルの外部
にλ／４板を配置する場合でも、デバイスの軽さと薄さ
が重要な性能項目となるプラスチック基板を用いた液晶
表示装置や、視差を最小限に抑えたい反射型液晶表示装
置では、λ／４板の薄膜化の効果が非常に大きい。本発
明の目的は、非常に薄い広帯域λ／４板を提供すること
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（８）の位相差板および下記（９）の円偏光板
により達成された。 （１）波長５５０ｎｍにおける位相差が実質的にπであ
る光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにおける位相差が実
質的にπ／２であるである光学異方性層Ｂとを積層する
ことにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０
ｎｍで測定したレターデーション値／波長の値が、いず
れも０．２乃至０．３の範囲内である位相差板であっ
て、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂの厚さの合計
が５００ｎｍ乃至２０μｍであることを特徴とする位相
差板。 （２）光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少なくとも一
方が、液晶性分子から形成された層である（１）に記載
の位相差板。 （３）光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少なくとも一
方が、ディスコティック液晶性分子から形成された層で
ある（２）に記載の位相差板。 （４）光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの一方が、ディ
スコティック液晶性分子から形成された層であり、他方
が棒状液晶性分子から形成された層である（３）に記載
の位相差板。
（１）〜（８）の位相差板および下記（９）の円偏光板
により達成された。 （１）波長５５０ｎｍにおける位相差が実質的にπであ
る光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにおける位相差が実
質的にπ／２であるである光学異方性層Ｂとを積層する
ことにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０
ｎｍで測定したレターデーション値／波長の値が、いず
れも０．２乃至０．３の範囲内である位相差板であっ
て、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂの厚さの合計
が５００ｎｍ乃至２０μｍであることを特徴とする位相
差板。 （２）光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少なくとも一
方が、液晶性分子から形成された層である（１）に記載
の位相差板。 （３）光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少なくとも一
方が、ディスコティック液晶性分子から形成された層で
ある（２）に記載の位相差板。 （４）光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの一方が、ディ
スコティック液晶性分子から形成された層であり、他方
が棒状液晶性分子から形成された層である（３）に記載
の位相差板。
【０００５】（５）光学異方性層ＡまたはＢにおいて、
ディスコティック液晶性分子が実質的に垂直に配向して
いる（３）に記載の位相差板。 （６）光学異方性層ＡまたはＢにおいて、ディスコティ
ック液晶性分子が実質的に垂直に配向している状態で、
重合反応によりディスコティック液晶性分子が固定され
ている（５）に記載の位相差板。 （７）光学異方性層ＡまたはＢにおいて、棒状液晶性分
子が実質的に水平に配向している（４）に記載の位相差
板。 （８）光学異方性層ＡまたはＢにおいて、棒状液晶性分
子が実質的に水平に配向している状態で、重合反応によ
り棒状液晶性分子が固定されている（７）に記載の位相
差板。 （９）波長５５０ｎｍにおける位相差が実質的にπであ
る光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにおける位相差が実
質的にπ／２であるである光学異方性層Ｂとを積層する
ことにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０
ｎｍで測定したレターデーション値／波長の値が、いず
れも０．２乃至０．３の範囲内である位相差板に、さら
に偏光膜が積層されている円偏光板であって、光学異方
性層Ａおよび光学異方性層Ｂの厚さの合計が５００ｎｍ
乃至２０μｍであることを特徴とする円偏光板。
ディスコティック液晶性分子が実質的に垂直に配向して
いる（３）に記載の位相差板。 （６）光学異方性層ＡまたはＢにおいて、ディスコティ
ック液晶性分子が実質的に垂直に配向している状態で、
重合反応によりディスコティック液晶性分子が固定され
ている（５）に記載の位相差板。 （７）光学異方性層ＡまたはＢにおいて、棒状液晶性分
子が実質的に水平に配向している（４）に記載の位相差
板。 （８）光学異方性層ＡまたはＢにおいて、棒状液晶性分
子が実質的に水平に配向している状態で、重合反応によ
り棒状液晶性分子が固定されている（７）に記載の位相
差板。 （９）波長５５０ｎｍにおける位相差が実質的にπであ
る光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにおける位相差が実
質的にπ／２であるである光学異方性層Ｂとを積層する
ことにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０
ｎｍで測定したレターデーション値／波長の値が、いず
れも０．２乃至０．３の範囲内である位相差板に、さら
に偏光膜が積層されている円偏光板であって、光学異方
性層Ａおよび光学異方性層Ｂの厚さの合計が５００ｎｍ
乃至２０μｍであることを特徴とする円偏光板。
【０００６】
【発明の効果】本発明者は研究の結果、光学異方性層Ａ
および光学異方性層Ｂの厚さの合計が１０μｍ未満であ
る非常に薄い広帯域λ／４板を製造することに成功し
た。具体的には、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少
なくとも一方（好ましくは両方）を液晶性分子から形成
し、転写により位相差板を作製する。これにより、液晶
表示装置への使用に適する、軽量で薄型の広帯域λ／４
板および円偏光板が得られた。また、光学異方性層を液
晶性分子から形成すると、光学的性質を容易に調節でき
る。液晶性分子を含む光学異方性層の光学的向きは、液
晶性分子のラビング方向によって容易に調節できる。よ
って、従来の技術のようにフイルムをカットしてチップ
にする必要がない。さらに、液晶性分子から形成した光
学異方性層には、ポリマーフイルムからなる光学異方性
層と比較して、耐熱性が優れているとの特徴もある。液
晶セルの二枚の基板の内側にλ／４板を配置する場合、
ポリマーフイルムでは、液晶セル内の棒状液晶性分子の
配向温度において変形する可能性がある。以上のように
本発明によれば、非常に薄い広帯域λ／４板を簡単に製
造することができる。
および光学異方性層Ｂの厚さの合計が１０μｍ未満であ
る非常に薄い広帯域λ／４板を製造することに成功し
た。具体的には、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少
なくとも一方（好ましくは両方）を液晶性分子から形成
し、転写により位相差板を作製する。これにより、液晶
表示装置への使用に適する、軽量で薄型の広帯域λ／４
板および円偏光板が得られた。また、光学異方性層を液
晶性分子から形成すると、光学的性質を容易に調節でき
る。液晶性分子を含む光学異方性層の光学的向きは、液
晶性分子のラビング方向によって容易に調節できる。よ
って、従来の技術のようにフイルムをカットしてチップ
にする必要がない。さらに、液晶性分子から形成した光
学異方性層には、ポリマーフイルムからなる光学異方性
層と比較して、耐熱性が優れているとの特徴もある。液
晶セルの二枚の基板の内側にλ／４板を配置する場合、
ポリマーフイルムでは、液晶セル内の棒状液晶性分子の
配向温度において変形する可能性がある。以上のように
本発明によれば、非常に薄い広帯域λ／４板を簡単に製
造することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】［位相差板の光学的性質］光学異
方性層Ａは、波長５５０ｎｍにおける位相差を実質的に
πに設定する。光学異方性層Ａのレターデーション値
は、２１０乃至３００ｎｍであることが好ましく、２２
０乃至２９６ｎｍであることがより好ましく、２３０乃
至２９２ｎｍであることがさらに好ましく、２４０乃至
２８８ｎｍであることがさらにまた好ましく、２５０乃
至２８４ｎｍであることが最も好ましい。光学異方性層
Ｂは、波長５５０ｎｍにおける位相差を実質的にπ／２
に設定する。光学異方性層Ｂのレターデーション値は、
１１５乃至１５０ｎｍであることが好ましく、１１８乃
至１４８ｎｍであることがより好ましく、１２１乃至１
４６ｎｍであることがさらに好ましく、１２２乃至１４
４ｎｍであることがさらにまた好ましく、１２５乃至１
４２ｎｍであることが最も好ましい。
方性層Ａは、波長５５０ｎｍにおける位相差を実質的に
πに設定する。光学異方性層Ａのレターデーション値
は、２１０乃至３００ｎｍであることが好ましく、２２
０乃至２９６ｎｍであることがより好ましく、２３０乃
至２９２ｎｍであることがさらに好ましく、２４０乃至
２８８ｎｍであることがさらにまた好ましく、２５０乃
至２８４ｎｍであることが最も好ましい。光学異方性層
Ｂは、波長５５０ｎｍにおける位相差を実質的にπ／２
に設定する。光学異方性層Ｂのレターデーション値は、
１１５乃至１５０ｎｍであることが好ましく、１１８乃
至１４８ｎｍであることがより好ましく、１２１乃至１
４６ｎｍであることがさらに好ましく、１２２乃至１４
４ｎｍであることがさらにまた好ましく、１２５乃至１
４２ｎｍであることが最も好ましい。
【０００８】円偏光板の用途では、二つの光学的異方性
層および偏光膜の光学的向きを、円偏光板全体がほぼ完
全な円偏光となるように設定する。このように光学的向
きを設定することで、広い波長領域でλ／４を達成する
ことができる。例えば、光学異方性層Ａの遅相軸（屈折
率が面内で最大となる方向）と光学異方性層Ｂの遅相軸
との角度を６０゜、光学異方性層Ａの遅相軸と偏光膜の
偏光軸（透過率が面内で最大となる方向）との角度を１
５゜、そして、光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の偏光
軸との角度を７５゜に設定することで、可視領域全体で
ほぼ完全な円偏光、すなわち広域帯λ／４が達成でき
る。また、光学異方性層Ａの遅相軸と光学異方性層Ｂの
遅相軸との角度を６０゜、光学異方性層Ａの遅相軸と偏
光膜の偏光軸との角度を７５゜、そして、光学異方性層
Ｂの遅相軸と偏光膜の偏光軸との角度を１５゜に設定し
てもよい。以上の角度の許容範囲は、±１０゜以内であ
り、±５゜以内であることがさらに好ましい。広域帯λ
／４とは、具体的には、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍお
よび６５０ｎｍで測定したレターデーション値／波長の
値が、いずれも０．２乃至０．３の範囲内であることを
意味する。レターデーション値／波長の値は、０．２１
乃至０．２９の範囲内であることが好ましく、０．２２
乃至０．２８の範囲内であることがより好ましく、０．
２３乃至０．２７の範囲内であることがさらに好まし
く、０．２４乃至０．２６の範囲内であることが最も好
ましい。
層および偏光膜の光学的向きを、円偏光板全体がほぼ完
全な円偏光となるように設定する。このように光学的向
きを設定することで、広い波長領域でλ／４を達成する
ことができる。例えば、光学異方性層Ａの遅相軸（屈折
率が面内で最大となる方向）と光学異方性層Ｂの遅相軸
との角度を６０゜、光学異方性層Ａの遅相軸と偏光膜の
偏光軸（透過率が面内で最大となる方向）との角度を１
５゜、そして、光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の偏光
軸との角度を７５゜に設定することで、可視領域全体で
ほぼ完全な円偏光、すなわち広域帯λ／４が達成でき
る。また、光学異方性層Ａの遅相軸と光学異方性層Ｂの
遅相軸との角度を６０゜、光学異方性層Ａの遅相軸と偏
光膜の偏光軸との角度を７５゜、そして、光学異方性層
Ｂの遅相軸と偏光膜の偏光軸との角度を１５゜に設定し
てもよい。以上の角度の許容範囲は、±１０゜以内であ
り、±５゜以内であることがさらに好ましい。広域帯λ
／４とは、具体的には、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍお
よび６５０ｎｍで測定したレターデーション値／波長の
値が、いずれも０．２乃至０．３の範囲内であることを
意味する。レターデーション値／波長の値は、０．２１
乃至０．２９の範囲内であることが好ましく、０．２２
乃至０．２８の範囲内であることがより好ましく、０．
２３乃至０．２７の範囲内であることがさらに好まし
く、０．２４乃至０．２６の範囲内であることが最も好
ましい。
【０００９】［位相差板および円偏光板の構成］図１
は、本発明の位相差板の代表的な態様を示す断面模式図
である。図１に示す位相差板は、ディスコティック液晶
性分子から形成された光学異方性層Ａ（Ａ）および棒状
液晶性分子から形成された光学異方性層Ｂ（Ｂ）を積層
した構成を有する。光学異方性層Ａの遅相軸（ａ）と光
学異方性層Ｂの遅相軸（ｂ）との同一面内での角度
（θ）は、６０゜である。光学異方性層Ａは、ディスコ
ティック液晶性分子（ｄ）を含む。ディスコティック液
晶性分子（ｄ）は垂直に配向している。ディスコティッ
ク液晶性分子（ｄ）の円盤面の方向が、光学異方性層Ａ
の遅相軸（ａ）に相当する。光学異方性層Ｂは、棒状液
晶性分子（ｒ）を含む。棒状液晶性分子（ｒ）は水平に
配向している。棒状液晶性分子（ｒ）の長軸方向が、光
学異方性層Ｂの遅相軸（ｂ）に相当する。
は、本発明の位相差板の代表的な態様を示す断面模式図
である。図１に示す位相差板は、ディスコティック液晶
性分子から形成された光学異方性層Ａ（Ａ）および棒状
液晶性分子から形成された光学異方性層Ｂ（Ｂ）を積層
した構成を有する。光学異方性層Ａの遅相軸（ａ）と光
学異方性層Ｂの遅相軸（ｂ）との同一面内での角度
（θ）は、６０゜である。光学異方性層Ａは、ディスコ
ティック液晶性分子（ｄ）を含む。ディスコティック液
晶性分子（ｄ）は垂直に配向している。ディスコティッ
ク液晶性分子（ｄ）の円盤面の方向が、光学異方性層Ａ
の遅相軸（ａ）に相当する。光学異方性層Ｂは、棒状液
晶性分子（ｒ）を含む。棒状液晶性分子（ｒ）は水平に
配向している。棒状液晶性分子（ｒ）の長軸方向が、光
学異方性層Ｂの遅相軸（ｂ）に相当する。
【００１０】図２は、円偏光板の層構成を示す模式図で
ある。図２に示す円偏光板は、偏光膜（Ｐ）、光学異方
性層Ａ（Ａ）および光学異方性層Ｂ（Ｂ）を、この順に
積層した構成を有する。図２に示す円偏光板では、光学
異方性層Ａの遅相軸（ａ）と光学異方性層Ｂの遅相軸
（ｂ）との同一面内での角度（θ１）は、６０゜であ
り、光学異方性層Ａの遅相軸（ａ）と偏光膜（Ｐ）の偏
光軸（ｐ）との角度（θ２）は、１５゜であり、そし
て、光学異方性層Ｂの遅相軸（ｂ）と偏光膜の偏光軸
（ｐ）との角度（θ３）は、７５゜である。
ある。図２に示す円偏光板は、偏光膜（Ｐ）、光学異方
性層Ａ（Ａ）および光学異方性層Ｂ（Ｂ）を、この順に
積層した構成を有する。図２に示す円偏光板では、光学
異方性層Ａの遅相軸（ａ）と光学異方性層Ｂの遅相軸
（ｂ）との同一面内での角度（θ１）は、６０゜であ
り、光学異方性層Ａの遅相軸（ａ）と偏光膜（Ｐ）の偏
光軸（ｐ）との角度（θ２）は、１５゜であり、そし
て、光学異方性層Ｂの遅相軸（ｂ）と偏光膜の偏光軸
（ｐ）との角度（θ３）は、７５゜である。
【００１１】［光学異方性層］光学異方性層ＡおよびＢ
の少なくとも一方は、液晶性分子から形成することが好
ましい。光学異方性層ＡおよびＢの双方を、液晶性分子
から形成することがさらに好ましい。液晶性分子として
は、ディスコティック液晶性分子または棒状液晶性分子
が好ましい。光学異方性層ＡおよびＢの一方を、ディス
コティック液晶性分子から形成し、他方を棒状液晶性分
子から形成することが特に好ましい。液晶性分子は、実
質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均
一に配向している状態で固定されていることがさらに好
ましく、重合反応により液晶性分子が固定されているこ
とが最も好ましい。
の少なくとも一方は、液晶性分子から形成することが好
ましい。光学異方性層ＡおよびＢの双方を、液晶性分子
から形成することがさらに好ましい。液晶性分子として
は、ディスコティック液晶性分子または棒状液晶性分子
が好ましい。光学異方性層ＡおよびＢの一方を、ディス
コティック液晶性分子から形成し、他方を棒状液晶性分
子から形成することが特に好ましい。液晶性分子は、実
質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均
一に配向している状態で固定されていることがさらに好
ましく、重合反応により液晶性分子が固定されているこ
とが最も好ましい。
【００１２】ディスコティック液晶性分子を用いる場合
は、実質的に垂直に配向させることが好ましい。実質的
に垂直とは、ディスコティック液晶性分子の円盤面と光
学異方性層の面との平均角度（平均傾斜角）が５０乃至
９０度の範囲内であることを意味する。ディスコティッ
ク液晶性分子を斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々
に変化するように（ハイブリッド配向）させてもよい。
斜め配向またはハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜
角は５０乃至９０度であることが好ましい。ディスコテ
ィック液晶性分子は、様々な文献（C. Destrade et a
l., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (19
81) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶
の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B. Kohne et
al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (198
5)；J. Zhang et al., J. Am.Chem. Soc., vol. 116, p
age 2655 (1994)）に記載されている。ディスコティッ
ク液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４
公報に記載がある。
は、実質的に垂直に配向させることが好ましい。実質的
に垂直とは、ディスコティック液晶性分子の円盤面と光
学異方性層の面との平均角度（平均傾斜角）が５０乃至
９０度の範囲内であることを意味する。ディスコティッ
ク液晶性分子を斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々
に変化するように（ハイブリッド配向）させてもよい。
斜め配向またはハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜
角は５０乃至９０度であることが好ましい。ディスコテ
ィック液晶性分子は、様々な文献（C. Destrade et a
l., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (19
81) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶
の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B. Kohne et
al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (198
5)；J. Zhang et al., J. Am.Chem. Soc., vol. 116, p
age 2655 (1994)）に記載されている。ディスコティッ
ク液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４
公報に記載がある。
【００１３】ディスコティック液晶性分子を重合により
固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤
状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要があ
る。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重
合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこ
で、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入す
る。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性
分子は、下記式（Ｉ）で表わされる化合物であることが
好ましい。 （Ｉ） Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n 式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であ
り；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは４乃至１２の整
数である。式（Ｉ）の円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示
す。以下の各例において、ＬＰ（またはＰＬ）は、二価
の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味
する。
固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤
状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要があ
る。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重
合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこ
で、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入す
る。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性
分子は、下記式（Ｉ）で表わされる化合物であることが
好ましい。 （Ｉ） Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n 式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であ
り；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは４乃至１２の整
数である。式（Ｉ）の円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示
す。以下の各例において、ＬＰ（またはＰＬ）は、二価
の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味
する。
【００１４】
【化１】
【００１５】
【化２】
【００１６】
【化３】
【００１７】
【化４】
【００１８】
【化５】
【００１９】
【化６】
【００２０】
【化７】
【００２１】
【化８】
【００２２】
【化９】
【００２３】式（Ｉ）において、二価の連結基（Ｌ）
は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であること
が好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−
Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少
なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好まし
い。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレ
ン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群
より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基
であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数
は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基
の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。ア
リーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好
ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレ
ン基は、置換基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シア
ノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよ
い。
は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であること
が好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−
Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少
なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好まし
い。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレ
ン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群
より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基
であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数
は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基
の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。ア
リーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好
ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレ
ン基は、置換基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シア
ノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよ
い。
【００２４】二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左
側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）
に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基
を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。 Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ− Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）
に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基
を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。 Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ− Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００２５】Ｌ11：−Ｏ−ＡＬ− Ｌ12：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ13：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ14：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ− Ｌ15：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ− Ｌ16：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ17：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ− Ｌ18：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ19：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−Ｃ
Ｏ− Ｌ20：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−Ａ
Ｌ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ− Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ24：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ− Ｌ25：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
Ｏ− Ｌ20：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−Ａ
Ｌ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ− Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ24：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ− Ｌ25：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００２６】式（Ｉ）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の
種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示
す。
種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示
す。
【００２７】
【化１０】
【００２８】
【化１１】
【００２９】
【化１２】
【００３０】
【化１３】
【００３１】
【化１４】
【００３２】
【化１５】
【００３３】重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ
１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１
７）またはエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好
ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、
エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１
５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。式
（Ｉ）において、ｎは４乃至１２の整数である。具体的
な数字は、ディスコティックコア（Ｄ）の種類に応じて
決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異な
っていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類
以上のディスコティック液晶性分子（例えば、二価の連
結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子）
を併用してもよい。
１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１
７）またはエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好
ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、
エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１
５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。式
（Ｉ）において、ｎは４乃至１２の整数である。具体的
な数字は、ディスコティックコア（Ｄ）の種類に応じて
決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異な
っていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類
以上のディスコティック液晶性分子（例えば、二価の連
結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子）
を併用してもよい。
【００３４】棒状液晶性分子を用いる場合は、実質的に
水平（ホモジニアス）配向させることが好ましい。実質
的に水平とは、棒状液晶性分子の長軸方向と光学異方性
層の面との平均角度（平均傾斜角）が０乃至４０度の範
囲内であることを意味する。棒状液晶性分子を斜め配向
させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように（ハイ
ブリッド配向）させてもよい。斜め配向またはハイブリ
ッド配向の場合でも、平均傾斜角は０乃至４０度である
ことが好ましい。棒状液晶性分子としては、アゾメチン
類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニル
エステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカル
ボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキ
サン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ
置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、ト
ラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル
類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分
子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができ
る。また、上記のディスコティック液晶性分子と同様
に、重合性基（上記Ｐ）を棒状液晶性分子に導入して、
棒状液晶性分子が実質的に水平に配向している状態で、
重合反応により棒状液晶性分子を固定することが特に好
ましい。
水平（ホモジニアス）配向させることが好ましい。実質
的に水平とは、棒状液晶性分子の長軸方向と光学異方性
層の面との平均角度（平均傾斜角）が０乃至４０度の範
囲内であることを意味する。棒状液晶性分子を斜め配向
させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように（ハイ
ブリッド配向）させてもよい。斜め配向またはハイブリ
ッド配向の場合でも、平均傾斜角は０乃至４０度である
ことが好ましい。棒状液晶性分子としては、アゾメチン
類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニル
エステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカル
ボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキ
サン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ
置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、ト
ラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル
類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分
子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができ
る。また、上記のディスコティック液晶性分子と同様
に、重合性基（上記Ｐ）を棒状液晶性分子に導入して、
棒状液晶性分子が実質的に水平に配向している状態で、
重合反応により棒状液晶性分子を固定することが特に好
ましい。
【００３５】一つの光学異方性層の厚さは、１００ｎｍ
乃至１０μｍであることが好ましく、５００ｎｍ乃至１
０μｍであることがさらに好ましく、２乃至８μｍであ
ることが最も好ましい。光学異方性層ＡおよびＢの厚さ
の合計は、５００ｎｍ乃至２０μｍである。厚さの合計
は、６００ｎｍ乃至１５μｍであることがさらに好まし
い。
乃至１０μｍであることが好ましく、５００ｎｍ乃至１
０μｍであることがさらに好ましく、２乃至８μｍであ
ることが最も好ましい。光学異方性層ＡおよびＢの厚さ
の合計は、５００ｎｍ乃至２０μｍである。厚さの合計
は、６００ｎｍ乃至１５μｍであることがさらに好まし
い。
【００３６】［配向膜］ディスコティック液晶性分子を
実質的に垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネ
ルギーを低下させることが重要である。具体的には、ポ
リマーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下さ
せ、これによりディスコティック液晶性分子を立てた状
態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基
としては、フッ素原子および炭素原子数が１０以上の炭
化水素基が有効である。フッ素原子または炭化水素基を
配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖より
も側鎖にフッ素原子または炭化水素基を導入することが
好ましい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を０．０５
乃至８０重量％の割合で含むことが好ましく、０．１乃
至７０重量％の割合で含むことがより好ましく、０．５
乃至６５重量％の割合で含むことがさらに好ましく、１
乃至６０重量％の割合で含むことが最も好ましい。炭化
水素基は、脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わ
せである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状の
いずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基（シクロアル
キル基であってもよい）またはアルケニル基（シクロア
ルケニル基であってもよい）であることが好ましい。炭
化水素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さな
い置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数
は、１０乃至１００であることが好ましく、１０乃至６
０であることがさらに好ましく、１０乃至４０であるこ
とが最も好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造
またはポリビニルアルコール構造を有することが好まし
い。
実質的に垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネ
ルギーを低下させることが重要である。具体的には、ポ
リマーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下さ
せ、これによりディスコティック液晶性分子を立てた状
態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基
としては、フッ素原子および炭素原子数が１０以上の炭
化水素基が有効である。フッ素原子または炭化水素基を
配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖より
も側鎖にフッ素原子または炭化水素基を導入することが
好ましい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を０．０５
乃至８０重量％の割合で含むことが好ましく、０．１乃
至７０重量％の割合で含むことがより好ましく、０．５
乃至６５重量％の割合で含むことがさらに好ましく、１
乃至６０重量％の割合で含むことが最も好ましい。炭化
水素基は、脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わ
せである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状の
いずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基（シクロアル
キル基であってもよい）またはアルケニル基（シクロア
ルケニル基であってもよい）であることが好ましい。炭
化水素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さな
い置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数
は、１０乃至１００であることが好ましく、１０乃至６
０であることがさらに好ましく、１０乃至４０であるこ
とが最も好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造
またはポリビニルアルコール構造を有することが好まし
い。
【００３７】ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸と
ジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテ
トラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用い
て、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよ
い。フッ素原子または炭化水素基は、テトラカルボン酸
起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の
繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に
存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入す
る場合、ポリイミドの主鎖または側鎖にステロイド構造
を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロ
イド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水素基に相当
し、ディスコティック液晶性分子を垂直に配向させる機
能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シ
クロペンタノヒドロフェナントレン環構造またはその環
の結合の一部が脂肪族環の範囲（芳香族環を形成しない
範囲）で二重結合となっている環構造を意味する。
ジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテ
トラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用い
て、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよ
い。フッ素原子または炭化水素基は、テトラカルボン酸
起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の
繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に
存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入す
る場合、ポリイミドの主鎖または側鎖にステロイド構造
を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロ
イド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水素基に相当
し、ディスコティック液晶性分子を垂直に配向させる機
能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シ
クロペンタノヒドロフェナントレン環構造またはその環
の結合の一部が脂肪族環の範囲（芳香族環を形成しない
範囲）で二重結合となっている環構造を意味する。
【００３８】フッ素変性ポリビニルアルコールも垂直配
向膜に好ましく用いることができる。フッ素変性ポリビ
ニルアルコールは、フッ素原子を含む繰り返し単位を５
乃至８０モル％の範囲で含むことが好ましく、７乃至７
０モル％の範囲で含むことがさらに好ましい。好ましい
フッ素変性ポリビニルアルコールを、下記式（ＰＶ）で
表す。 （ＰＶ） −（ＶＡｌ）ｘ−（ＦＲＵ）ｙ−（ＶＡｃ）ｚ− 式中、ＶＡｌは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り；ＦＲＵは、フッ素原子を含む繰り返し単位であり；
ＶＡｃは酢酸ビニル繰り返し単位であり；ｘは、２０乃
至９５モル％（好ましくは２４乃至９０モル％）であ
り；ｙは、５乃至８０モル％（好ましくは７乃至７０モ
ル％）であり；そして、ｚは０乃至３０モル％（好まし
くは２乃至２０モル％）である。好ましいフッ素原子を
含む繰り返し単位（ＦＲＵ）を、下記式（ＦＲＵ−Ｉ）
および（ＦＲＵ−II）で表す。
向膜に好ましく用いることができる。フッ素変性ポリビ
ニルアルコールは、フッ素原子を含む繰り返し単位を５
乃至８０モル％の範囲で含むことが好ましく、７乃至７
０モル％の範囲で含むことがさらに好ましい。好ましい
フッ素変性ポリビニルアルコールを、下記式（ＰＶ）で
表す。 （ＰＶ） −（ＶＡｌ）ｘ−（ＦＲＵ）ｙ−（ＶＡｃ）ｚ− 式中、ＶＡｌは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り；ＦＲＵは、フッ素原子を含む繰り返し単位であり；
ＶＡｃは酢酸ビニル繰り返し単位であり；ｘは、２０乃
至９５モル％（好ましくは２４乃至９０モル％）であ
り；ｙは、５乃至８０モル％（好ましくは７乃至７０モ
ル％）であり；そして、ｚは０乃至３０モル％（好まし
くは２乃至２０モル％）である。好ましいフッ素原子を
含む繰り返し単位（ＦＲＵ）を、下記式（ＦＲＵ−Ｉ）
および（ＦＲＵ−II）で表す。
【００３９】
【化１６】
【００４０】式中、Ｌ1 は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ
2 −、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；Ｌ
2 は、単結合あるいは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −、
−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；そしてＲ
ｆ1 およびＲｆ2 は、それぞれフッ素置換炭化水素基で
ある。アルキレン基およびアリーレン基はフッ素原子に
より置換されていてもよい。上記の組み合わせにより形
成される二価の連結基の例を、以下に示す。
2 −、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；Ｌ
2 は、単結合あるいは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −、
−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；そしてＲ
ｆ1 およびＲｆ2 は、それぞれフッ素置換炭化水素基で
ある。アルキレン基およびアリーレン基はフッ素原子に
より置換されていてもよい。上記の組み合わせにより形
成される二価の連結基の例を、以下に示す。
【００４１】Ｌ１：−Ｏ−ＣＯ− Ｌ２：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−Ｏ− Ｌ３：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−ＣＯ−ＮＨ− Ｌ４：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−ＮＨ−ＳＯ2 −アリ
ーレン基−Ｏ− Ｌ５：−アリーレン基−ＮＨ−ＣＯ− Ｌ６：−アリーレン基−ＣＯ−Ｏ− Ｌ７：−アリーレン基−ＣＯ−ＮＨ− Ｌ８：−アリーレン基−Ｏ− Ｌ９：−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アリーレン基−ＮＨ−ＣＯ−
ーレン基−Ｏ− Ｌ５：−アリーレン基−ＮＨ−ＣＯ− Ｌ６：−アリーレン基−ＣＯ−Ｏ− Ｌ７：−アリーレン基−ＣＯ−ＮＨ− Ｌ８：−アリーレン基−Ｏ− Ｌ９：−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アリーレン基−ＮＨ−ＣＯ−
【００４２】フッ素置換炭化水素基の炭化水素基は、脂
肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。脂
肪族基は、環状、分岐状あるいは直線状のいずれでもよ
い。脂肪族基は、アルキル基（シクロアルキル基であっ
てもよい）またはアルケニル基（シクロアルケニル基で
あってもよい）であることが好ましい。脂肪族基は、フ
ッ素原子以外にも、他のハロゲン原子のような強い親水
性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の
炭素原子数は、１乃至１００であることが好ましく、２
乃至６０であることがさらに好ましく、３乃至４０であ
ることが最も好ましい。炭化水素基の水素原子がフッ素
原子で置換されている割合は、５０乃至１００モル％で
あることが好ましく、７０乃至１００モル％であること
がより好ましく、８０乃至１００モル％であることがさ
らに好ましく、９０乃至１００モル％であることが最も
好ましい。
肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。脂
肪族基は、環状、分岐状あるいは直線状のいずれでもよ
い。脂肪族基は、アルキル基（シクロアルキル基であっ
てもよい）またはアルケニル基（シクロアルケニル基で
あってもよい）であることが好ましい。脂肪族基は、フ
ッ素原子以外にも、他のハロゲン原子のような強い親水
性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の
炭素原子数は、１乃至１００であることが好ましく、２
乃至６０であることがさらに好ましく、３乃至４０であ
ることが最も好ましい。炭化水素基の水素原子がフッ素
原子で置換されている割合は、５０乃至１００モル％で
あることが好ましく、７０乃至１００モル％であること
がより好ましく、８０乃至１００モル％であることがさ
らに好ましく、９０乃至１００モル％であることが最も
好ましい。
【００４３】炭素原子数が１０以上の炭化水素基を有す
る変性ポリビニルアルコールも垂直配向膜に好ましく用
いることができる。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基
またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、
分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、
アルキル基（シクロアルキル基であってもよい）または
アルケニル基（シクロアルケニル基であってもよい）で
あることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のよ
うな強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。
炭化水素基の炭素原子数は、１０乃至１００であること
が好ましく、１０乃至６０であることがさらに好まし
く、１０乃至４０であることが最も好ましい。炭化水素
基を有する変性ポリビニルアルコールは、炭素原子数が
１０以上の炭化水素基を有する繰り返し単位を２乃至８
０モル％の範囲で含むことが好ましく、３乃至７０モル
％含むことがさらに好ましい。好ましい炭素原子数が１
０以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコール
を、下記式（ＰＶ）で表す。 （ＰＶ） −（ＶＡｌ）ｘ−（ＨｙＣ）ｙ−（ＶＡｃ）ｚ− 式中、ＶＡｌは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り；ＨｙＣは、炭素原子数が１０以上の炭化水素基を有
する繰り返し単位であり；ＶＡｃは酢酸ビニル繰り返し
単位であり；ｘは、２０乃至９５モル％（好ましくは２
５乃至９０モル％）であり；ｙは、２乃至８０モル％
（好ましくは３乃至７０モル％）であり；そして、ｚは
０乃至３０モル％（好ましくは２乃至２０モル％）であ
る。好ましい炭素原子数が１０以上の炭化水素基を有す
る繰り返し単位（ＨｙＣ）を、下記式（ＨｙＣ−Ｉ）お
よび（ＨｙＣ−II）で表す。
る変性ポリビニルアルコールも垂直配向膜に好ましく用
いることができる。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基
またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、
分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、
アルキル基（シクロアルキル基であってもよい）または
アルケニル基（シクロアルケニル基であってもよい）で
あることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のよ
うな強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。
炭化水素基の炭素原子数は、１０乃至１００であること
が好ましく、１０乃至６０であることがさらに好まし
く、１０乃至４０であることが最も好ましい。炭化水素
基を有する変性ポリビニルアルコールは、炭素原子数が
１０以上の炭化水素基を有する繰り返し単位を２乃至８
０モル％の範囲で含むことが好ましく、３乃至７０モル
％含むことがさらに好ましい。好ましい炭素原子数が１
０以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコール
を、下記式（ＰＶ）で表す。 （ＰＶ） −（ＶＡｌ）ｘ−（ＨｙＣ）ｙ−（ＶＡｃ）ｚ− 式中、ＶＡｌは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り；ＨｙＣは、炭素原子数が１０以上の炭化水素基を有
する繰り返し単位であり；ＶＡｃは酢酸ビニル繰り返し
単位であり；ｘは、２０乃至９５モル％（好ましくは２
５乃至９０モル％）であり；ｙは、２乃至８０モル％
（好ましくは３乃至７０モル％）であり；そして、ｚは
０乃至３０モル％（好ましくは２乃至２０モル％）であ
る。好ましい炭素原子数が１０以上の炭化水素基を有す
る繰り返し単位（ＨｙＣ）を、下記式（ＨｙＣ−Ｉ）お
よび（ＨｙＣ−II）で表す。
【００４４】
【化１７】
【００４５】式中、Ｌ1 は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ
2 −、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；Ｌ
2 は、単結合あるいは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −、
−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；そしてＲ
1 およびＲ2 は、それぞれ炭素原子数が１０以上の炭化
水素基である。上記の組み合わせにより形成される二価
の連結基の例は、前記式（ＦＲＵ−Ｉ）および（ＦＲＵ
−II）で示した例と同様である。
2 −、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；Ｌ
2 は、単結合あるいは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −、
−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり；そしてＲ
1 およびＲ2 は、それぞれ炭素原子数が１０以上の炭化
水素基である。上記の組み合わせにより形成される二価
の連結基の例は、前記式（ＦＲＵ−Ｉ）および（ＦＲＵ
−II）で示した例と同様である。
【００４６】棒状液晶性分子を実質的に水平に配向させ
るためには、上記の垂直配向膜とは逆に、配向膜の表面
エネルギーを低下させないことが重要である。具体的に
は、配向膜を構成するポリマーに、表面エネルギーを低
下させる官能基（フッ素原子および炭素原子数が１０以
上の炭化水素基）を導入しないことが好ましい。言い換
えると、通常の棒状液晶性分子の配向膜が使用できる。
通常の棒状液晶性分子の配向膜については、多数の文献
（例えば、松本正一著、液晶ディスプレイ技術、１９６
〜２０１頁、産業図書、１９９６年）に記載がある。ま
た、棒状液晶性分子の配向膜は、液晶セル用として多数
が市販されている。本発明においては、液晶セル用とし
て公知または市販のポリマーを、棒状液晶性分子の水平
配向膜として、そのまま利用できる。なお、配向膜を使
用せずに、棒状液晶性分子を実質的に水平に配向させる
ことも可能である。例えば、ディスコティック液晶性分
子から形成した光学異方性層の上に、棒状液晶性分子か
ら形成した光学異方性層を設ける場合、ディスコティッ
ク液晶性分子から形成した光学異方性層として機能させ
ることができる。また、仮支持体上（後述）に棒状液晶
性分子を塗布する前に、仮支持体あるいは後述する中間
層をラビング処理して配向膜として機能させることもで
きる。
るためには、上記の垂直配向膜とは逆に、配向膜の表面
エネルギーを低下させないことが重要である。具体的に
は、配向膜を構成するポリマーに、表面エネルギーを低
下させる官能基（フッ素原子および炭素原子数が１０以
上の炭化水素基）を導入しないことが好ましい。言い換
えると、通常の棒状液晶性分子の配向膜が使用できる。
通常の棒状液晶性分子の配向膜については、多数の文献
（例えば、松本正一著、液晶ディスプレイ技術、１９６
〜２０１頁、産業図書、１９９６年）に記載がある。ま
た、棒状液晶性分子の配向膜は、液晶セル用として多数
が市販されている。本発明においては、液晶セル用とし
て公知または市販のポリマーを、棒状液晶性分子の水平
配向膜として、そのまま利用できる。なお、配向膜を使
用せずに、棒状液晶性分子を実質的に水平に配向させる
ことも可能である。例えば、ディスコティック液晶性分
子から形成した光学異方性層の上に、棒状液晶性分子か
ら形成した光学異方性層を設ける場合、ディスコティッ
ク液晶性分子から形成した光学異方性層として機能させ
ることができる。また、仮支持体上（後述）に棒状液晶
性分子を塗布する前に、仮支持体あるいは後述する中間
層をラビング処理して配向膜として機能させることもで
きる。
【００４７】配向膜に用いるポリマーの重合度は、２０
０乃至５０００であることが好ましく、３００乃至３０
００であることが好ましい。ポリマーの分子量は、９０
００乃至２０００００であることが好ましく、１３００
０乃至１３００００であることがさらに好ましい。二種
類以上のポリマーを併用してもよい。配向膜の形成にお
いて、ラビング処理を実施することが好ましい。ラビン
グ処理は、上記のポリマーを含む膜の表面を、紙や布で
一定方向に、数回こすることにより実施する。
０乃至５０００であることが好ましく、３００乃至３０
００であることが好ましい。ポリマーの分子量は、９０
００乃至２０００００であることが好ましく、１３００
０乃至１３００００であることがさらに好ましい。二種
類以上のポリマーを併用してもよい。配向膜の形成にお
いて、ラビング処理を実施することが好ましい。ラビン
グ処理は、上記のポリマーを含む膜の表面を、紙や布で
一定方向に、数回こすることにより実施する。
【００４８】［位相差板の製造］光学異方性層は、液晶
性分子あるいは下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む
塗布液を、仮支持体の上または仮支持体の上に設けた配
向膜の上に塗布することで形成する。仮支持体として
は、ガラス板またはポリマーフイルムが好ましく用いら
れる。仮支持体と光学異方性層との間または仮支持体と
配向膜との間には、熱可塑性樹脂層を設けて、形成する
光学異方性層が仮支持体から容易に剥離できるようにす
ることが好ましい。熱可塑性樹脂は、１５０℃以下の温
度で軟化もしくは粘着性となることが好ましい。また、
熱可塑性樹脂は、除去が容易であるように、特定の溶媒
（例えば、アルカリ水溶液）に容易に溶解することが好
ましい。アルカリ水溶液に溶解する熱可塑性樹脂は、感
光性転写材料の技術分野で提案（例えば、特開平５−７
２７２４号、同５−１７３３２０号の各公報に記載）さ
れている。それらの熱可塑性樹脂を、位相差板の製造に
転用できる。熱可塑性樹脂層と光学異方性層との接着性
を改善するため、中間層を設けてもよい。
性分子あるいは下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む
塗布液を、仮支持体の上または仮支持体の上に設けた配
向膜の上に塗布することで形成する。仮支持体として
は、ガラス板またはポリマーフイルムが好ましく用いら
れる。仮支持体と光学異方性層との間または仮支持体と
配向膜との間には、熱可塑性樹脂層を設けて、形成する
光学異方性層が仮支持体から容易に剥離できるようにす
ることが好ましい。熱可塑性樹脂は、１５０℃以下の温
度で軟化もしくは粘着性となることが好ましい。また、
熱可塑性樹脂は、除去が容易であるように、特定の溶媒
（例えば、アルカリ水溶液）に容易に溶解することが好
ましい。アルカリ水溶液に溶解する熱可塑性樹脂は、感
光性転写材料の技術分野で提案（例えば、特開平５−７
２７２４号、同５−１７３３２０号の各公報に記載）さ
れている。それらの熱可塑性樹脂を、位相差板の製造に
転用できる。熱可塑性樹脂層と光学異方性層との接着性
を改善するため、中間層を設けてもよい。
【００４９】塗布液の調製に使用する溶媒としては、有
機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミ
ド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシ
ド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物
（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサ
ン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロ
メタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、
ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテ
ル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタ
ン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ま
しい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液
の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、
ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビア
コーティング法、ダイコーティング法）により実施でき
る。
機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミ
ド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシ
ド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物
（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサ
ン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロ
メタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、
ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテ
ル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタ
ン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ま
しい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液
の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、
ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビア
コーティング法、ダイコーティング法）により実施でき
る。
【００５０】塗布後、配向させた液晶性分子は、配向状
態を維持して固定する。固定化は液晶性分子に導入した
重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好まし
い。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と
光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合
反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニ
ル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７
０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許
２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香
族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書
記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７
号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリー
ルイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンと
の組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記
載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０
−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細
書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２
１２９７０号明細書記載）が含まれる。
態を維持して固定する。固定化は液晶性分子に導入した
重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好まし
い。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と
光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合
反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニ
ル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７
０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許
２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香
族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書
記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７
号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリー
ルイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンと
の組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記
載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０
−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細
書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２
１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００５１】光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分
の０．０１乃至２０重量％であることが好ましく、０．
５乃至５重量％であることがさらに好ましい。液晶性分
子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ま
しい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2 乃至５０Ｊ
／ｃｍ2 であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ
／ｃｍ2 であることがさらに好ましい。光重合反応を促
進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。な
お、位相差板または円偏光板の用途によっては、光をパ
ターン照射して、露光部のみを部分的に硬化させてもよ
い。これにより、パターンに対応する硬化部のみからな
る光学異方性層を形成できる。以上の塗布、配向および
硬化の手順を繰り返して、光学異方性層ＡおよびＢから
なる位相差板を形成できる。位相差板は、仮支持体から
剥離して使用できる。例えば、剥離した位相差板を偏光
膜と積層して円偏光板を作製できる。また、液晶セル内
にλ／４板を配置する場合は、仮支持体から液晶セルの
一方の基板に、形成した位相差板を転写すればよい。位
相差板を剥離または転写後、不要となった配向膜および
熱可塑性樹脂層を除去してもよい。液晶性分子を配向状
態のまま重合により固定すれば、液晶性分子は配向膜が
なくても配向状態を維持することができる。
の０．０１乃至２０重量％であることが好ましく、０．
５乃至５重量％であることがさらに好ましい。液晶性分
子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ま
しい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2 乃至５０Ｊ
／ｃｍ2 であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ
／ｃｍ2 であることがさらに好ましい。光重合反応を促
進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。な
お、位相差板または円偏光板の用途によっては、光をパ
ターン照射して、露光部のみを部分的に硬化させてもよ
い。これにより、パターンに対応する硬化部のみからな
る光学異方性層を形成できる。以上の塗布、配向および
硬化の手順を繰り返して、光学異方性層ＡおよびＢから
なる位相差板を形成できる。位相差板は、仮支持体から
剥離して使用できる。例えば、剥離した位相差板を偏光
膜と積層して円偏光板を作製できる。また、液晶セル内
にλ／４板を配置する場合は、仮支持体から液晶セルの
一方の基板に、形成した位相差板を転写すればよい。位
相差板を剥離または転写後、不要となった配向膜および
熱可塑性樹脂層を除去してもよい。液晶性分子を配向状
態のまま重合により固定すれば、液晶性分子は配向膜が
なくても配向状態を維持することができる。
【００５２】［位相差板の用途］本発明の位相差板は、
反射型液晶表示装置において使用されるλ／４板、光デ
ィスクの書き込み用のピックアップ、ＧＨ−ＬＣＤやＰ
Ｓ変換素子に使用されるλ／４板、あるいは反射防止膜
として利用されるλ／４板として、特に有利に用いられ
る。なお、λ／４板は、一般に偏光膜と組み合わせて使
用される。よって、位相差板と偏光膜とを組み合わせた
円偏光板として構成しておくと、容易に反射型液晶表示
装置のような用途とする装置に組み込むことができる。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料
系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜お
よび染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フ
イルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸（透過軸）
は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
反射型液晶表示装置において使用されるλ／４板、光デ
ィスクの書き込み用のピックアップ、ＧＨ−ＬＣＤやＰ
Ｓ変換素子に使用されるλ／４板、あるいは反射防止膜
として利用されるλ／４板として、特に有利に用いられ
る。なお、λ／４板は、一般に偏光膜と組み合わせて使
用される。よって、位相差板と偏光膜とを組み合わせた
円偏光板として構成しておくと、容易に反射型液晶表示
装置のような用途とする装置に組み込むことができる。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料
系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜お
よび染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フ
イルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸（透過軸）
は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【００５３】
【実施例】［実施例１］ （光学異方性層Ａの形成）ステロイド変性ポリアミック
酸の希釈液を、バーコーターを用いてガラス板（仮支持
体）の上に０．５μｍの厚さに塗布した。塗布層を、６
０℃の温風で２分間乾燥し、その表面をラビング処理し
て、下記の変性ポリイミドからなる配向膜を形成した。
酸の希釈液を、バーコーターを用いてガラス板（仮支持
体）の上に０．５μｍの厚さに塗布した。塗布層を、６
０℃の温風で２分間乾燥し、その表面をラビング処理し
て、下記の変性ポリイミドからなる配向膜を形成した。
【００５４】
【化１８】
【００５５】配向膜の上に、下記の組成の塗布液を塗布
し、１３０℃で５分間加熱して、ディスコティック液晶
性分子を垂直配向させた。形成された層の厚さは、４．
０μｍであった。次に、紫外線を照射してディスコティ
ック液晶性分子を重合させた。このようにして光学異方
性層Ａを形成した。波長５５０ｎｍにおける光学異方性
層Ａのレターデーション値を測定したところ、２７０ｎ
ｍであった。
し、１３０℃で５分間加熱して、ディスコティック液晶
性分子を垂直配向させた。形成された層の厚さは、４．
０μｍであった。次に、紫外線を照射してディスコティ
ック液晶性分子を重合させた。このようにして光学異方
性層Ａを形成した。波長５５０ｎｍにおける光学異方性
層Ａのレターデーション値を測定したところ、２７０ｎ
ｍであった。
【００５６】 ──────────────────────────────────── 光学異方性層Ａ塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のディスコティック液晶性分子（１） ３２．６重量％ セルロースアセテートブチレート ０．７重量％ 下記の変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３．２重量％ 下記の増感剤 ０．４重量％ 下記の光重合開始剤 １．１重量％ メチルエチルケトン ６２．０重量％ ────────────────────────────────────
【００５７】
【化１９】
【００５８】
【化２０】
【００５９】
【化２１】
【００６０】（光学異方性層Ｂの形成）光学異方性層Ａ
の上に、市販の棒状液晶用ポリイミド配向膜溶液（ＳＥ
−１３０、日産化学（株）製）を塗布し、２００℃で３
０分間焼成した。次に、光学異方性層Ａの遅相軸に対し
て、６０゜の角度で、ポリイミド配向膜をラビング処理
した。配向膜の上に、下記の棒状液晶性分子（１）４
３．５重量％、下記の棒状液晶性分子（２）４３．５重
量％および上記の光重合開始剤３重量％をクロロホルム
に溶解した塗布液を塗布し、１３０℃で３分間加熱し
て、棒状液晶性分子を水平配向させた。形成された層の
厚さは、１．０μｍであった。次に、窒素雰囲気下で紫
外線を５００ｗ／ｃｍ2 の照度の水銀ランプで紫外線を
照射して棒状液晶性分子を重合させた。このようにして
光学異方性層Ｂを形成した。
の上に、市販の棒状液晶用ポリイミド配向膜溶液（ＳＥ
−１３０、日産化学（株）製）を塗布し、２００℃で３
０分間焼成した。次に、光学異方性層Ａの遅相軸に対し
て、６０゜の角度で、ポリイミド配向膜をラビング処理
した。配向膜の上に、下記の棒状液晶性分子（１）４
３．５重量％、下記の棒状液晶性分子（２）４３．５重
量％および上記の光重合開始剤３重量％をクロロホルム
に溶解した塗布液を塗布し、１３０℃で３分間加熱し
て、棒状液晶性分子を水平配向させた。形成された層の
厚さは、１．０μｍであった。次に、窒素雰囲気下で紫
外線を５００ｗ／ｃｍ2 の照度の水銀ランプで紫外線を
照射して棒状液晶性分子を重合させた。このようにして
光学異方性層Ｂを形成した。
【００６１】
【化２２】
【００６２】
【化２３】
【００６３】波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｂの
レターデーション値を測定したところ、１３８ｎｍであ
った。ガラス板から光学異方性層ＡおよびＢとの積層体
を剥離して、厚さが５μｍの位相差板を製造した。
レターデーション値を測定したところ、１３８ｎｍであ
った。ガラス板から光学異方性層ＡおよびＢとの積層体
を剥離して、厚さが５μｍの位相差板を製造した。
【００６４】［実施例２］ （熱可塑性樹脂層の形成）厚さ７５μｍのポリエチレン
テレフタレートフイルム（仮支持体）上に、下記の塗布
液をスピンコーターにて塗布し、１００℃のオーブンで
２分間乾燥して、厚さ１５μｍの熱可塑性樹脂層を設け
た。
テレフタレートフイルム（仮支持体）上に、下記の塗布
液をスピンコーターにて塗布し、１００℃のオーブンで
２分間乾燥して、厚さ１５μｍの熱可塑性樹脂層を設け
た。
【００６５】 ──────────────────────────────────── 熱可塑性樹脂層塗布液組成 ──────────────────────────────────── スチレン／アクリル酸コポリマー（共重合比：６０／４０、重量平均分子量： ８０００） １５重量部 ２，２−ビス［４−（メタクリルオキシポリエトキシ）フェニルプロパン］ ７重量部 フッ素系界面活性剤（Ｆ−１７６Ｐ、大日本インキ（株）製） １．５重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ２８重量部 メチルエチルケトン ２７重量部 ────────────────────────────────────
【００６６】（中間層の形成）熱可塑性樹脂層の上に、
下記の塗布液をスピンコーターにて塗布し、１００℃の
オーブンで２分間乾燥して、厚さ１．６μｍの中間層を
設けた。中間層の表面をナイロン布でラビング処理し
た。
下記の塗布液をスピンコーターにて塗布し、１００℃の
オーブンで２分間乾燥して、厚さ１．６μｍの中間層を
設けた。中間層の表面をナイロン布でラビング処理し
た。
【００６７】 ──────────────────────────────────── 中間層塗布液組成 ──────────────────────────────────── ポリビニルアルコール（ＰＶＡ１０５、クラレ（株）製） １３重量部 ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ−Ｋ３０、五協同産業社製） ６重量部 メタノール １７３重量部 イオン交換水 ２１１重量部 ────────────────────────────────────
【００６８】（光学異方性層Ｂの形成）中間層の上に、
下記の組成の塗布液をスピンコーターにて塗布し、１０
０℃のオーブンで２分間乾燥した。光学異方性層Ｂの上
に、厚さ１２μｍのポリプロピレンフイルム（カバーシ
ート）をラミネートした。
下記の組成の塗布液をスピンコーターにて塗布し、１０
０℃のオーブンで２分間乾燥した。光学異方性層Ｂの上
に、厚さ１２μｍのポリプロピレンフイルム（カバーシ
ート）をラミネートした。
【００６９】 ──────────────────────────────────── 光学異方性層Ｂ塗布液組成 ──────────────────────────────────── 実施例１で用いた棒状液晶性分子（１） ４６重量部 実施例１で用いた棒状液晶性分子（２） ４５重量部 実施例１で用いた変性トリメチロールプロパントリアクリレート ５重量部 実施例１で用いた増感剤 ３重量部 実施例１で用いた光重合開始剤 １重量部 塩化メチレン ８００重量部 ────────────────────────────────────
【００７０】ガラス基板にアルミニウムを蒸着し、アル
ミニウム蒸着膜をパターニングして、画素電極を形成し
た。画素電極の上に、市販のポリビニルアルコール系配
向膜溶液をスピンコート法で塗布し、厚さ０．１μｍの
配向膜を形成した。配向膜にラビング処理を行った。光
学異方性層Ｂの上のカバーシートを剥離し、ガラス基板
上の配向膜と光学異方性層Ｂとを重ね、ラミネーターを
用いて、２ｋｇ／ｍ2 の加圧、１３０℃のローラー温
度、そして、０．２ｍ／分の送り速度の条件で貼り合わ
せた。仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離して、
除去した。ガラス基板上の光学異方性層Ｂを、ホットプ
レート上にて１２０℃で３分間加熱して、棒状液晶性分
子を配向させた。フォトマスク（アライナーＭＡＰ−１
２００Ｌ、大日本スクリーン（株）製）を介して、超高
圧水銀灯にて、パターン露光を行った。これにより、光
学異方性層Ｂの露光部分が硬化した。次に、アルカリ水
溶液（Ｔ−ＰＤ２、富士写真フイルム（株）製）を用い
て、熱可塑性樹脂層および中間層を除去した。さらに、
塩化メチレンを用いて、光学異方性層Ｂの未露光部分
（未硬化部分）を除去した。これを、２２０℃のオーブ
ンで２０分間焼成して、露光部分をさらに硬化させた。
形成された光学異方性層Ｂの厚さは、１．１μｍであっ
た。波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｂのレターデ
ーション値を測定したところ、１３５ｎｍであった。
ミニウム蒸着膜をパターニングして、画素電極を形成し
た。画素電極の上に、市販のポリビニルアルコール系配
向膜溶液をスピンコート法で塗布し、厚さ０．１μｍの
配向膜を形成した。配向膜にラビング処理を行った。光
学異方性層Ｂの上のカバーシートを剥離し、ガラス基板
上の配向膜と光学異方性層Ｂとを重ね、ラミネーターを
用いて、２ｋｇ／ｍ2 の加圧、１３０℃のローラー温
度、そして、０．２ｍ／分の送り速度の条件で貼り合わ
せた。仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離して、
除去した。ガラス基板上の光学異方性層Ｂを、ホットプ
レート上にて１２０℃で３分間加熱して、棒状液晶性分
子を配向させた。フォトマスク（アライナーＭＡＰ−１
２００Ｌ、大日本スクリーン（株）製）を介して、超高
圧水銀灯にて、パターン露光を行った。これにより、光
学異方性層Ｂの露光部分が硬化した。次に、アルカリ水
溶液（Ｔ−ＰＤ２、富士写真フイルム（株）製）を用い
て、熱可塑性樹脂層および中間層を除去した。さらに、
塩化メチレンを用いて、光学異方性層Ｂの未露光部分
（未硬化部分）を除去した。これを、２２０℃のオーブ
ンで２０分間焼成して、露光部分をさらに硬化させた。
形成された光学異方性層Ｂの厚さは、１．１μｍであっ
た。波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｂのレターデ
ーション値を測定したところ、１３５ｎｍであった。
【００７１】（光学異方性層Ａの形成）光学異方性層Ｂ
の上に、実施例１と同様に変性ポリイミドからなる配向
膜を形成しし、２００℃で１時間焼成した。次に、光学
異方性層Ｂの遅相軸に対して、３０゜の角度で、配向膜
をラビング処理した。配向膜の上に、下記の組成の塗布
液をバーコーターで塗布し、１３０℃で５分間加熱し
て、ディスコティック液晶性分子を垂直配向させた。形
成された層の厚さは、４．２μｍであった。次に、紫外
線を照射してディスコティック液晶性分子を重合させ
た。このようにして光学異方性層Ａを形成した。波長５
５０ｎｍにおける光学異方性層Ａのレターデーション値
を測定したところ、２６５ｎｍであった。
の上に、実施例１と同様に変性ポリイミドからなる配向
膜を形成しし、２００℃で１時間焼成した。次に、光学
異方性層Ｂの遅相軸に対して、３０゜の角度で、配向膜
をラビング処理した。配向膜の上に、下記の組成の塗布
液をバーコーターで塗布し、１３０℃で５分間加熱し
て、ディスコティック液晶性分子を垂直配向させた。形
成された層の厚さは、４．２μｍであった。次に、紫外
線を照射してディスコティック液晶性分子を重合させ
た。このようにして光学異方性層Ａを形成した。波長５
５０ｎｍにおける光学異方性層Ａのレターデーション値
を測定したところ、２６５ｎｍであった。
【００７２】 ──────────────────────────────────── 光学異方性層Ａ塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のディスコティック液晶性分子（１） ３２．６重量部 セルロースアセテートブチレート ０．７重量部 下記の変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３．２重量部 下記の増感剤 ０．４重量部 下記の光重合開始剤 １．１重量部 メチルエチルケトン 重量部 ────────────────────────────────────
【００７３】以上のようにして、厚さが５．４μｍの位
相差板（光学異方性層ＡおよびＢとの積層体）を製造し
た。
相差板（光学異方性層ＡおよびＢとの積層体）を製造し
た。
【００７４】（λ／４板を含む液晶セルの作製）光学異
方性層Ａの上に、市販のポリイミド配向膜溶液（ＳＥ−
１５０、日産化学（株）製）をスピンコート法により塗
布し、８０℃で２０分間乾燥した。さらに、２５０℃で
３０分間加熱して、イミド結合を形成した。次に、光学
異方性層Ａの遅相軸に対して１５゜（光学異方性層Ｂの
遅相軸に対して７５゜）の角度でラビング処理を行っ
た。別に、ガラス基板上に上記のポリイミド配向膜溶液
をスピンコート法により塗布し、８０℃で２０分間乾燥
した。さらに、２５０℃で３０分間加熱して、イミド結
合を形成し、ラビング処理を行った。λ／４板を設けた
基板と、別に作製した基板とを、ラビング方向が反平行
となるように、配向膜を対向させて貼り合わせた。貼り
合わせには、直径７μｍの球状スペーサーを含む熱可塑
性エポキシ樹脂を用いた。二枚の基板の間隙に、二色性
色素（ＮＫＸ−１３６６、日本感光色素社製）を２重量
％混合したｐ型棒状液晶（ＺＬＩ−１１３２、メルクジ
ャパン社製）を注入し、側面を封止した。作製した液晶
セルに通電して作動させたところ、極めてコントラスト
が高い画像が表示された。
方性層Ａの上に、市販のポリイミド配向膜溶液（ＳＥ−
１５０、日産化学（株）製）をスピンコート法により塗
布し、８０℃で２０分間乾燥した。さらに、２５０℃で
３０分間加熱して、イミド結合を形成した。次に、光学
異方性層Ａの遅相軸に対して１５゜（光学異方性層Ｂの
遅相軸に対して７５゜）の角度でラビング処理を行っ
た。別に、ガラス基板上に上記のポリイミド配向膜溶液
をスピンコート法により塗布し、８０℃で２０分間乾燥
した。さらに、２５０℃で３０分間加熱して、イミド結
合を形成し、ラビング処理を行った。λ／４板を設けた
基板と、別に作製した基板とを、ラビング方向が反平行
となるように、配向膜を対向させて貼り合わせた。貼り
合わせには、直径７μｍの球状スペーサーを含む熱可塑
性エポキシ樹脂を用いた。二枚の基板の間隙に、二色性
色素（ＮＫＸ−１３６６、日本感光色素社製）を２重量
％混合したｐ型棒状液晶（ＺＬＩ−１１３２、メルクジ
ャパン社製）を注入し、側面を封止した。作製した液晶
セルに通電して作動させたところ、極めてコントラスト
が高い画像が表示された。
【００７５】［実施例３］ （光学異方性層Ｂの形成）ガラス基板にアルミニウムを
蒸着し、アルミニウム蒸着膜の上に、市販のポリビニル
アルコール系配向膜溶液をスピンコート法で塗布し、厚
さ０．１μｍの配向膜を形成した。配向膜にラビング処
理を行った。配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバー
コーターにて塗布し、１１５℃に加熱して、棒状液晶性
分子を配向させた。次に、紫外線を照射して棒状液晶性
分子を重合させた。このようにして光学異方性層Ｂを形
成した。形成された光学異方性層Ｂの厚さは、０．８μ
ｍであった。波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｂの
レターデーション値を測定したところ、１３５ｎｍであ
った。
蒸着し、アルミニウム蒸着膜の上に、市販のポリビニル
アルコール系配向膜溶液をスピンコート法で塗布し、厚
さ０．１μｍの配向膜を形成した。配向膜にラビング処
理を行った。配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバー
コーターにて塗布し、１１５℃に加熱して、棒状液晶性
分子を配向させた。次に、紫外線を照射して棒状液晶性
分子を重合させた。このようにして光学異方性層Ｂを形
成した。形成された光学異方性層Ｂの厚さは、０．８μ
ｍであった。波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ｂの
レターデーション値を測定したところ、１３５ｎｍであ
った。
【００７６】 ──────────────────────────────────── 光学異方性層Ｂ塗布液組成 ──────────────────────────────────── 実施例１で用いた棒状液晶性分子（１） ９１重量部 実施例１で用いた変性トリメチロールプロパントリアクリレート ５重量部 実施例１で用いた増感剤 ３重量部 実施例１で用いた光重合開始剤 １重量部 塩化メチレン ８００重量部 ────────────────────────────────────
【００７７】（光学異方性層Ａの形成）光学異方性層Ｂ
の上に、実施例１と同様に変性ポリイミドからなる配向
膜を形成しし、２００℃で１時間焼成した。次に、光学
異方性層Ｂの遅相軸に対して、３０゜の角度で、配向膜
をラビング処理した。配向膜の上に、実施例２で用いた
光学異方性層Ａ塗布液をバーコーターで塗布し、１３０
℃で５分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を垂
直配向させた。形成された層の厚さは、３．９μｍであ
った。次に、紫外線を照射してディスコティック液晶性
分子を重合させた。このようにして光学異方性層Ａを形
成した。波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ａのレタ
ーデーション値を測定したところ、２６５ｎｍであっ
た。
の上に、実施例１と同様に変性ポリイミドからなる配向
膜を形成しし、２００℃で１時間焼成した。次に、光学
異方性層Ｂの遅相軸に対して、３０゜の角度で、配向膜
をラビング処理した。配向膜の上に、実施例２で用いた
光学異方性層Ａ塗布液をバーコーターで塗布し、１３０
℃で５分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を垂
直配向させた。形成された層の厚さは、３．９μｍであ
った。次に、紫外線を照射してディスコティック液晶性
分子を重合させた。このようにして光学異方性層Ａを形
成した。波長５５０ｎｍにおける光学異方性層Ａのレタ
ーデーション値を測定したところ、２６５ｎｍであっ
た。
【００７８】以上のようにして、厚さが４．７μｍの位
相差板（光学異方性層ＡおよびＢとの積層体）を製造し
た。
相差板（光学異方性層ＡおよびＢとの積層体）を製造し
た。
【００７９】（λ／４板を含む液晶セルの作製）光学異
方性層Ａの上に、市販のポリイミド配向膜溶液（ＳＥ−
１５０、日産化学（株）製）をスピンコート法により塗
布し、８０℃で２０分間乾燥した。さらに、２５０℃で
３０分間加熱して、イミド結合を形成した。次に、光学
異方性層Ａの遅相軸に対して１５゜（光学異方性層Ｂの
遅相軸に対して７５゜）の角度でラビング処理を行っ
た。別に、ガラス基板上に上記のポリイミド配向膜溶液
をスピンコート法により塗布し、８０℃で２０分間乾燥
した。さらに、２５０℃で３０分間加熱して、イミド結
合を形成し、ラビング処理を行った。λ／４板を設けた
基板と、別に作製した基板とを、ラビング方向が反平行
となるように、配向膜を対向させて貼り合わせた。貼り
合わせには、直径７μｍの球状スペーサーを含む熱可塑
性エポキシ樹脂を用いた。二枚の基板の間隙に、二色性
色素（ＮＫＸ−１３６６、日本感光色素社製）を２重量
％混合したｐ型棒状液晶（ＺＬＩ−１１３２、メルクジ
ャパン社製）を注入し、側面を封止した。作製した液晶
セルに通電して作動させたところ、極めてコントラスト
が高い画像が表示された。
方性層Ａの上に、市販のポリイミド配向膜溶液（ＳＥ−
１５０、日産化学（株）製）をスピンコート法により塗
布し、８０℃で２０分間乾燥した。さらに、２５０℃で
３０分間加熱して、イミド結合を形成した。次に、光学
異方性層Ａの遅相軸に対して１５゜（光学異方性層Ｂの
遅相軸に対して７５゜）の角度でラビング処理を行っ
た。別に、ガラス基板上に上記のポリイミド配向膜溶液
をスピンコート法により塗布し、８０℃で２０分間乾燥
した。さらに、２５０℃で３０分間加熱して、イミド結
合を形成し、ラビング処理を行った。λ／４板を設けた
基板と、別に作製した基板とを、ラビング方向が反平行
となるように、配向膜を対向させて貼り合わせた。貼り
合わせには、直径７μｍの球状スペーサーを含む熱可塑
性エポキシ樹脂を用いた。二枚の基板の間隙に、二色性
色素（ＮＫＸ−１３６６、日本感光色素社製）を２重量
％混合したｐ型棒状液晶（ＺＬＩ−１１３２、メルクジ
ャパン社製）を注入し、側面を封止した。作製した液晶
セルに通電して作動させたところ、極めてコントラスト
が高い画像が表示された。
【図１】本発明の位相差板の代表的な構成を示す断面模
式図である。
式図である。
【図２】円偏光板の層構成を示す模式図である。
Ａ 光学異方性層Ａ ａ 光学異方性層Ａの遅相軸 Ｂ 光学異方性層Ｂ ｂ 光学異方性層Ｂの遅相軸 ｄ ディスコティック液晶性分子 Ｐ 偏光膜 ｐ 偏光膜の偏光軸 ｒ 棒状液晶性分子 θ、θ１ ａとｂとの同一面内での角度 θ２ ａとｐとの同一面内での角度 θ３ ｂとｐとの同一面内での角度
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒川 公平 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA03 BA06 BA07 BA24 BB03 BC22 2H091 FA07X FA07Z FA11X FA11Z FA14Z FA37X FA37Z FB02 FD06 HA08 KA02
Claims (9)
- 【請求項１】 波長５５０ｎｍにおける位相差が実質的
にπである光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにおける位
相差が実質的にπ／２であるである光学異方性層Ｂとを
積層することにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよ
び６５０ｎｍで測定したレターデーション値／波長の値
が、いずれも０．２乃至０．３の範囲内である位相差板
であって、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂの厚さ
の合計が５００ｎｍ乃至２０μｍであることを特徴とす
る位相差板。 - 【請求項２】 光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少な
くとも一方が、液晶性分子から形成された層である請求
項１に記載の位相差板。 - 【請求項３】 光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの少な
くとも一方が、ディスコティック液晶性分子から形成さ
れた層である請求項２に記載の位相差板。 - 【請求項４】 光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂの一方
が、ディスコティック液晶性分子から形成された層であ
り、他方が棒状液晶性分子から形成された層である請求
項３に記載の位相差板。 - 【請求項５】 光学異方性層ＡまたはＢにおいて、ディ
スコティック液晶性分子が実質的に垂直に配向している
請求項３に記載の位相差板。 - 【請求項６】 光学異方性層ＡまたはＢにおいて、ディ
スコティック液晶性分子が実質的に垂直に配向している
状態で、重合反応によりディスコティック液晶性分子が
固定されている請求項５に記載の位相差板。 - 【請求項７】 光学異方性層ＡまたはＢにおいて、棒状
液晶性分子が実質的に水平に配向している請求項４に記
載の位相差板。 - 【請求項８】 光学異方性層ＡまたはＢにおいて、棒状
液晶性分子が実質的に水平に配向している状態で、重合
反応により棒状液晶性分子が固定されている請求項７に
記載の位相差板。 - 【請求項９】 波長５５０ｎｍにおける位相差が実質的
にπである光学異方性層Ａと波長５５０ｎｍにおける位
相差が実質的にπ／２であるである光学異方性層Ｂとを
積層することにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよ
び６５０ｎｍで測定したレターデーション値／波長の値
が、いずれも０．２乃至０．３の範囲内である位相差板
に、さらに偏光膜が積層されている円偏光板であって、
光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂの厚さの合計が５
００ｎｍ乃至２０μｍであることを特徴とする円偏光
板。
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|---|---|---|---|
| JP26879799A JP2001091741A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 位相差板および円偏光板 |
| US09/667,222 US6519016B1 (en) | 1999-09-22 | 2000-09-21 | Phase retarder comprising two optically anisotropic layers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26879799A JP2001091741A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 位相差板および円偏光板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001091741A true JP2001091741A (ja) | 2001-04-06 |
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ID=17463409
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| US (1) | US6519016B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001091741A (ja) |
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003019247A1 (fr) * | 2001-08-24 | 2003-03-06 | Asahi Glass Company, Limited | Polariseur multicouches a diffraction et element a cristaux liquides |
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