CN111565923B

CN111565923B - 层叠薄膜和使用其的偏光板以及图像显示装置

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Publication number: CN111565923B
Application number: CN201980007499.XA
Authority: CN
Inventors: 井上俊树; 阿部尧永; 柴野博史
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 2018-01-11
Filing date: 2019-01-10
Publication date: 2023-01-03
Anticipated expiration: 2039-01-10
Also published as: JP7187963B2; KR102579327B1; JP2019124910A; JP7187964B2; JP7238324B2; JP2019124922A; JP2019124913A; JP7238326B2; JP7196523B2; JP7238328B2; JP7238325B2; JP7238322B2; JP7238323B2; JP2019124919A; JP2019124909A; JP2019124915A; CN111565923A; JP7238321B2; KR20200108005A; JP7293600B2

Abstract

提供：在具有陡峭的发光峰的光源的环境下使用的情况下等也可以抑制虹斑、确保高的透明性和图像可见性的层叠薄膜等。该层叠薄膜具有下述的全部特征。(a)基材薄膜的至少单面为凹凸面，凹凸面的算术平均粗糙度(Ra)为0.2～10μm。(b)基材薄膜的折射率各向异性(Bfnx‑Bfny)为0.04～0.2。(c)在基材薄膜的凹凸面上设有光学各向同性层，光学各向同性层的折射率为Bfny‑0.15～Bfnx+0.15。(其中，将基材薄膜的慢轴方向的折射率设为Bfnx、快轴方向的折射率设为Bfny)。

Description

层叠薄膜和使用其的偏光板以及图像显示装置

技术领域

本发明涉及层叠薄膜和使用其的偏光板以及图像显示装置。

背景技术

已知的是，在荧光灯或冷阴极管光源的环境下使用聚酯薄膜等具有双折射性的薄膜的情况下，产生源自延迟量的虹斑。因此，液晶显示器等中使用的偏振片的保护膜中使用有光学上具有各向同性的纤维素系的薄膜。

最近，提出了如下技术：通过将具有高延迟量的薄膜与具有连续的发射光谱的白色光源组合，从而消除虹斑(例如专利文献1、专利文献2等)，作为应对偏光太阳镜的消偏光薄膜或偏振片保护膜，在液晶显示器等中逐渐被实用化。然而，该技术使用冷阴极管光源或被称为KSF荧光体(K₂SiF₆结晶中添加有Mn的荧光体)那样的在发射光谱的红色区域中具有陡峭的发光峰的光源的情况下存在改善的余地。特别是，具备前述在红色区域中具有陡峭的发光峰的光源的液晶显示装置中，使用具有高延迟量的薄膜作为光源侧偏光板的偏振片保护膜时，虹斑有时容易显眼。进而，为了确保高延迟量，薄膜需要厚度，有无法充分应对近年来的图像显示装置的薄型化的担心。

作为使用具有陡峭的发光峰的光源的液晶显示器的消偏光薄膜，提出了如下薄膜：通过在具有双折射的薄膜的表面设置凹凸，从而在小于能以肉眼可视的水平的区域内局部地产生λ/4以上的相位差(例如专利文献3)。然而，上述现有技术中存在如下问题：图像的清晰度差，对比度低，在强的外部光环境下画面变白而不易可见图像。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-215646号公报

专利文献2：国际公开第2011/162198号

专利文献3：日本特开2017-161599号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明是以上述现有技术的课题为背景而作出的。

即，本发明的目的在于，提供：在具有陡峭的发光峰的光源的环境下使用的情况下、也可以抑制虹斑、确保高的透明性和图像可见性的层叠薄膜和使用其的偏光板以及图像显示装置。

本发明的另一目的在于，提供：可以更有效地抑制虹斑的、光源侧偏光板的偏振片保护膜。

本发明的又一目的在于，提供：在具有陡峭的发光峰的光源的环境下使用的情况下等、也可以抑制虹斑、确保高的透明性和高亮度的液晶显示装置等。

用于解决问题的方案

本发明人为了达成上述目的而进行了深入研究，结果至此完成了本发明。即，本发明包含以下的方案。

项1.

一种层叠薄膜，其具有基材薄膜和光学各向同性层，且具有下述的全部特征。

(a)基材薄膜的至少单面为凹凸面，凹凸面的算术平均粗糙度(Ra)为0.2～10μm。

(b)基材薄膜的折射率各向异性(Bfnx-Bfny)为0.04～0.2。

(c)在基材薄膜的凹凸面上设有光学各向同性层，光学各向同性层的折射率为Bfny-0.15～Bfnx+0.15。

(其中，将基材薄膜的慢轴方向的折射率设为Bfnx、快轴方向的折射率设为Bfny)

项2.

一种偏光板，其使用项1所述的层叠薄膜作为偏振片保护膜。

项3.

一种图像显示装置，其包含项2所述的偏光板。

项4.

一种液晶显示装置，其为依次具有光源侧偏光板、液晶显示单元和可视侧偏光板的液晶显示装置，配置于比光源侧偏光板的偏振片更靠近光源侧的偏振片保护膜(以下，称为“光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜”)为层叠薄膜，所述层叠薄膜具有基材薄膜和光学各向同性层，且具有下述的全部特征。

(b)基材薄膜的折射率各向异性(Bfnx-Bfny)为0.04～0.2。

(c)在基材薄膜的凹凸面上设有光学各向同性层。

发明的效果

根据本发明的层叠薄膜，在具有陡峭的发光峰的光源的环境下使用的情况下等，也可以抑制虹斑，确保高的透明性和图像可见性。

另外，本发明的液晶显示装置通过将特定的薄膜用于光源侧偏光板的偏振片保护膜，从而可以更有效地抑制虹斑。

进而，本发明的液晶显示装置通过将特定的薄膜用于光源侧偏光板的偏振片保护膜，从而用于具有陡峭的发光峰的光源的环境下的情况下等，也可以抑制虹斑，确保高的透明性和高亮度。

具体实施方式

层叠薄膜优选在具有凹凸面(粗糙化面)的基材薄膜的凹凸面具有光学各向同性层。需要说明的是，以下简单称为层叠薄膜的情况下，是指其含义。

(基材薄膜)

首先，对基材薄膜进行说明。

至少作为基材薄膜，只要具有折射率各向异性就没有特别限定，可以举出聚酯、聚酰胺、聚苯乙烯、间规聚苯乙烯、聚酰胺、聚碳酸酯等。其中，在容易得到折射率各向异性高的薄膜的方面，优选聚酯。作为聚酯，可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯等，其中，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯。这些聚酯只要为不有损作为薄膜的机械物性、耐热性和尺寸稳定性的程度(例如10摩尔％以下)就可以使对苯二甲酸、间苯二甲酸、萘二羧酸、环己烷二羧酸、乙二醇、二乙二醇、三亚甲基二醇、四亚甲基二醇、环己烷二甲醇双酚A的环氧乙烷(EO)1～2摩尔加成物等共聚。需要说明的是，例如如果为聚对苯二甲酸乙二醇酯的聚合物，则通常聚合时共聚副产物的二乙二醇1～2摩尔，但也可以包含这样的副产物。

基材薄膜具有双折射性。基材薄膜的慢轴方向折射率(Bfnx)的下限优选1.65、更优选1.66、进一步优选1.67、特别优选1.68。基材薄膜的慢轴方向折射率(Bfnx)的上限优选1.73、更优选1.72、进一步优选1.71、特别优选1.7。

基材薄膜的快轴方向折射率(Bfny)的下限优选1.53、更优选1.55、进一步优选1.56、特别优选1.57。基材薄膜的快轴方向折射率(Bfny)的上限优选1.62、更优选1.61、进一步优选1.6。

基材薄膜的折射率各向异性(ΔBfNxy＝Bfnx-Bfny)的下限优选0.04、更优选0.05、进一步优选0.06、特别优选0.07。该下限如果为0.04以上，则可以更有效地消除虹斑。基材薄膜的折射率各向异性的上限优选0.2、更优选0.18、进一步优选0.17、特别优选0.16。该上限如果为0.2以下，则可以将快轴方向的机械强度调节为实用范围，制造也变容易。需要说明的是，基材薄膜的折射率为在波长589nm的条件下测定的值。

赋予凹凸面前(粗糙化前)的基材薄膜的厚度的下限优选15μm、更优选20μm、进一步优选25μm。该下限如果为15μm以上，则赋予凹凸时厚度即使降低也具有优异的机械强度。赋予凹凸面前的基材薄膜的厚度的上限优选200μm、更优选150μm、进一步优选100μm、特别优选90μm、最优选80μm。该上限如果为200μm以下，则处理性优异，适合于形成薄型(例：用于薄型的图像显示装置)。

赋予凹凸面前的基材薄膜的面内延迟量(Re)的下限优选2000nm、更优选2500nm、进一步优选3000nm、特别优选3500nm、最优选4000nm。该下限如果为2000nm以上，则可以更有效地消除虹斑。赋予凹凸面前的基材薄膜的面内延迟量(Re)的上限优选30000nm、更优选20000nm、进一步优选15000nm、更进一步优选12000nm、特别优选10000nm、更特别优选9000nm、最优选8000nm、特别最优选7500nm。该上限如果为30000nm以下，则适合于薄型化。

赋予凹凸面前的基材薄膜的面内延迟量(Re)与厚度方向的延迟量(Rth)之比(Re/Rth)的下限优选0.2、更优选0.5、进一步优选0.6。该下限如果为0.2以上，则可以更有效地消除虹斑。在机械强度的观点上，赋予凹凸面前的基材薄膜的Re/Rth的上限优选2、更优选1.5、进一步优选1.2、特别优选1。

基材薄膜的Nz系数的下限优选1.3、更优选1.4、进一步优选1.45。该下限如果为1.3以上，则快轴方向的机械强度也优异。基材薄膜的Nz系数的上限优选2.5、更优选2.2、进一步优选2、特别优选1.8、最优选1.7。该上限如果为2.5以下，则可以更有效地消除虹斑。

基材薄膜的面取向度ΔP的下限优选0.08、更优选0.09、进一步优选0.1。该下限如果为0.08以上，则不仅可以更有效地消除消虹斑，还可以降低薄膜的厚度不均。基材薄膜的面取向度ΔP的上限优选0.15、更优选0.14、进一步优选0.13。该上限如果为0.15以下，则可以更高地保持折射率各向异性。

基材薄膜具有折射率各向异性，因此，优选沿单轴方向取向。作为取向方法，可以以符合各树脂的通常的方法进行。例如，如果为将熔融后的树脂在冷却辊上挤出成片状而制造的情况，则可以举出：将冷却辊设定为挤出的树脂的速度以上并取向的方法；将进行熔融而挤出的未拉伸薄膜在加热后的辊组上沿纵向进行拉伸并取向的方法；将进行熔融而挤出的未拉伸薄膜在拉幅机内进行加热，沿横向或倾斜方向进行拉伸并取向的方法；等。

其中，作为基材薄膜的取向方法，优选如下方法：将进行熔融而挤出的未拉伸薄膜在加热后的辊组上沿纵向进行拉伸并取向的方法；和，将进行熔融而挤出的未拉伸薄膜在拉幅机内进行加热，沿横向或倾斜方向进行拉伸并取向的方法。作为纵向的拉伸倍率，优选2.5～10倍、更优选3～8倍、特别优选3.3～7倍。作为横向、或倾斜方向的拉伸倍率，优选2.5～10倍、更优选3～8倍、特别优选3.3～7倍。

需要说明的是，即使为沿纵向取向的情况下，为了提高相对于取向方向为垂直方向的机械强度、或调整收缩特性，也可以在纵向的拉伸前施加弱的(2.2倍左右以下的)横向的拉伸，或在纵向的拉伸后施加弱的(1.5倍左右以下的)横向的拉伸。同样地，即使为沿横向取向的情况下，为了提高相对于取向方向为垂直方向的机械强度、或调整收缩特性，也可以在横向的拉伸前施加弱的(2.2倍左右以下的)纵向的拉伸，或在横向的拉伸后施加弱的(1.5倍左右以下的)纵向的拉伸。另外，为了进一步提高取向方向的取向性，可以在横向的拉伸时或拉伸后沿纵向使其收缩若干。收缩后的宽度相对于拉伸时的宽度优选0.7～0.995倍、进一步优选0.8～0.99倍、特别优选0.9～0.98倍。需要说明的是，纵向的拉伸和横向的拉伸可以在拉幅机型的同时双轴拉伸机中进行。

拉伸时的温度(和预加热的温度)在纵向和横向均优选80～150℃。另外，拉伸后，为了确保基材薄膜的耐热性，优选在比拉伸时的加热温度更高的温度下进行热固定。作为热固定温度，优选150～250℃、进一步优选170～245℃。

基材薄膜理想的是，波长380nm的透光率为20％以下。波长380nm的透光率更优选15％以下、进一步优选10％以下、特别优选5％以下。需要说明的是，波长380nm的透光率是沿相对于薄膜的平面为垂直方向而测定的，可以使用分光光度计(例如日立U-3500型)而测定。

为了使基材薄膜的波长380nm的透光率为20％以下，理想的是适宜调节配混于基材薄膜的紫外线吸收剂的种类、浓度和基材薄膜的厚度。作为本发明中使用的紫外线吸收剂，可以举出有机系紫外线吸收剂和无机系紫外线吸收剂。从透明性的观点出发，优选有机系紫外线吸收剂。作为有机系紫外线吸收剂，可以举出苯并三唑系、二苯甲酮系、环状亚氨酯系等、和其组合，但只要为上述透光率的范围就没有特别限定。从耐久性的观点出发，特别优选苯并三唑系和环状亚氨酯系。组合使用2种以上的紫外线吸收剂的情况下，可以同时吸收各自波长的紫外线，因此，可以进一步改善紫外线吸收效果。

基材薄膜中，除紫外线吸收剂以外，在不有损本发明的效果的范围内，还优选含有各种添加剂。作为添加剂，例如可以举出：无机颗粒、耐热性高分子颗粒、碱金属化合物、碱土金属化合物、磷化合物、抗静电剂、耐光剂、阻燃剂、热稳定剂、抗氧化剂、抗胶凝剂、表面活性剂等。这些添加剂可以单独使用或组合两种以上而使用。

另外，为了发挥高的透明性，还优选基材薄膜中实质上不含有颗粒。对于“实质上不含有颗粒”，例如无机颗粒的情况下，是指以荧光X射线分析定量基材薄膜中的无机元素时成为50ppm以下、优选成为10ppm以下、特别优选成为检测限以下的含量。

(赋予表面凹凸)

本发明中，在基材薄膜的至少单面具有凹凸面。凹凸面可以仅设置于基材薄膜的单面，也可以设置于两面。需要说明的是，将具有凹凸面的基材薄膜有时称为粗糙化后的基材薄膜。

粗糙化后的基材薄膜的凹凸面的算术平均粗糙度(Ra)的下限优选0.2μm、更优选0.4μm、进一步优选0.6μm、特别优选0.7μm、最优选0.8μm。该Ra的上限优选10μm、更优选7μm、进一步优选5μm、特别优选4μm、最优选3μm。

粗糙化后的基材薄膜的凹凸面的均方根粗糙度(Rq)的下限优选0.3μm、更优选0.5μm、进一步优选0.7μm、特别优选0.9μm、最优选1μm。该Rq的上限优选13μm、更优选10μm、进一步优选7μm、特别优选5μm、最优选4μm。

粗糙化后的基材薄膜的凹凸面的十点平均粗糙度(Rz)的下限优选1.0μm、更优选2.0μm、进一步优选3.0μm、特别优选3.5μm、最优选4.0μm。该Rz的上限优选15μm、更优选12μm、进一步优选10μm、特别优选8μm。

粗糙化后的基材薄膜的凹凸面的最大高度(Ry)的下限优选2.0μm、更优选3.0μm、进一步优选4.0μm、特别优选4.5μm、最优选5.0μm。该Ry的上限优选20μm、更优选17μm、进一步优选15μm、特别优选13μm。

粗糙化后的基材薄膜的凹凸面的最大峰高度(Rp)的下限优选1.0μm、更优选1.5μm、进一步优选2.0μm、特别优选2.5μm。该Rp的上限优选15μm、更优选12μm、进一步优选10μm、特别优选8μm。

粗糙化后的基材薄膜的凹凸面的最大谷深度(Rv)的下限优选1.0μm、更优选1.5μm、进一步优选2.0μm、特别优选2.5μm。该Rv的上限优选15μm、更优选12μm、进一步优选10μm、特别优选8μm。

Ra、Rq、Rz、Ry、Rp和Rv的值如果为下限以上，则可以更有效地消除虹斑。Ra、Rq、Rz、Ry、Rp和Rv的值如果为上限以上，则生产率优异。Ra、Rq、Rz、Ry、Rp和Rv依据JIS B0601-1994或JIS B0601-2001、由用接触型粗糙度计而测定的粗糙度曲线算出。

通过在基材薄膜的表面设置凹凸(进行粗糙化)，从而在微少区域设置延迟量差，虽然产生各个区域中的延迟量所导致的着色(虹斑)，但是视觉上可以未见着色。该延迟量差ΔRe可以用ΔRe＝Ra×ΔBfNxy表示。ΔRe的下限优选30nm、更优选50nm、进一步优选70nm、特别优选90nm、最优选100nm。该下限如果为30nm以上，则可以更有效地消除虹斑。ΔRe的上限优选1500nm、更优选1000nm、进一步优选800nm、特别优选500nm、最优选300nm。该上限如果为1500nm以下，则生产率也优异。

粗糙化后的基材薄膜的凹凸的平均间隔(Sm)的下限优选5μm、更优选10μm、进一步优选15μm、特别优选20μm、最优选25μm。该下限如果为5μm以上，则凹凸的斜面变平缓，图像变得更清晰。粗糙化后的基材薄膜的凹凸的平均间隔(Sm)的上限优选500μm、更优选450μm、进一步优选400μm、特别优选350μm、最优选300μm。该上限如果为500μm以下，则可以防止微少区域的各自的延迟量所导致的着色感、或闪烁感。

Sm依据JIS B0601-1994、由用接触型粗糙度计测定的粗糙度曲线算出。

通过赋予凹凸而进行粗糙化，从而基材薄膜有时从原来的厚度变薄。粗糙化后的基材薄膜的厚度的下限优选10μm、更优选15μm、进一步优选20μm、特别优选25μm、最优选30μm。该下限如果为10μm以上，则可以充分确保作为保护膜的强度。粗糙化后的基材薄膜的厚度的上限优选150μm、更优选120μm、进一步优选100μm、特别优选90μm、最优选80μm。该上限如果为150μm以下，则适合于薄型化。

粗糙化后的基材薄膜的厚度如下算出：将粗糙化后的基材薄膜包埋于环氧树脂，切成截面的切片，进行显微镜观察，凹凸面将视野的凸部与凹部的中央作为基准，以等间隔测定10个点的厚度，以其平均值算出。

粗糙化后的基材薄膜的面内延迟量(Re)的下限优选2000nm、更优选2500nm、进一步优选3000nm、特别优选3500nm、最优选4000nm。该下限如果为2000nm以上，则可以更有效地消除虹斑。粗糙化后的基材薄膜的面内延迟量(Re)的上限优选30000nm、更优选20000nm、进一步优选15000nm、更进一步优选12000nm、特别优选10000nm、更特别优选9000nm、最优选8000nm、特别最优选7500nm。该上限如果为30000nm以下，则适合于薄型化。

赋予凹凸方法没有特别限定，可以举出一直以来已知的粗糙化处理的方法。例如可以举出：喷砂处理、利用砂纸或锉刀、磨石等的处理、利用砂磨机(轨道砂磨机、随机砂磨机、三角砂磨机、带式砂磨机、盘砂磨机、辊砂磨机等)的处理、利用金属刷等的处理、化学蚀刻、基于利用模具进行加压的赋型等。它们之中，优选喷砂处理、利用砂磨机的处理、化学蚀刻。

喷砂处理例如可以为向离心式喷砂机中供给卷状的基材薄膜，对基材薄膜面投射研磨材料的方法。上述情况下，粗糙度可以通过研磨材料的种类、研磨材料的大小、处理时间、旋转叶片的速度等来调节。另外，喷砂处理也可以为在玻璃板上粘附基材薄膜，设置于空气喷砂，对基材薄膜面吹送研磨材料的方法。上述情况下，粗糙度可以通过研磨材料的种类、研磨材料的大小、吹送压力、处理时间等来调节。利用砂磨机的处理例如也可以为将卷状的基材薄膜导入至输送装置并进行处理的方法，所述输送装置具有在薄膜的输送辊的一部分的辊表面粘附有砂纸的部分(辊砂磨机)。上述情况下，粗糙度可以通过砂纸的种类、辊砂磨机的转速、薄膜的输送速度等来调节。另外，处理方向可以以辊砂磨机与薄膜的抱合角度、辊砂磨机的转速、薄膜的输送速度等调节。

另外，利用砂磨机的处理也可以为在玻璃板上粘附聚氨酯泡沫、进一步在其上粘附基材薄膜、用砂磨机从纵、横、倾斜(45度、135度)的总计4个方向，对基材薄膜面进行处理的方法。粗糙度可以通过砂磨机的砂盘的种类、处理时间等来调节。

需要说明的是，进行砂磨机处理和喷砂处理时，为了去除局部突起，可以进一步对处理表面用砂纸等进行研磨。

化学蚀刻可以为浸渍于酸或碱溶液并水洗后、剥离掩蔽薄膜并干燥的方法。粗糙度可以通过浸渍时间等来调节。基本上化学蚀刻为两面处理时，仅单面进行处理的情况下，例如在基材薄膜的单面粘贴掩蔽薄膜而进行。

(光学各向同性层)

优选在基材薄膜的凹凸面上设有光学各向同性层。光学各向同性层优选与前述凹凸面上接触而设置。“接触而设置”是指，在凹凸面不隔着其他层地直接接触而设置。但是，也可以设置用于改善凹凸面与光学各向同性层的粘接力的易粘接层。易粘接层的厚度优选为光学上无法感知的厚度，优选100nm以下、进一步优选50nm以下、特别优选20nm以下。需要说明的是，易粘接层只要满足下述光学各向同性层的折射率的范围即可，可以将易粘接层和设置于其上的光学各向同性层一并视为1个光学各向同性层。另外，易粘接层只要具有作为光学各向同性层的充分的厚度即可，可以将易粘接层视为光学各向同性层。通过设置光学各向同性层，从而可以降低基材薄膜的表面的凹凸所导致的漫反射，确保透明性。需要说明的是，易粘接层的优选的折射率与下述的光学各向同性层的优选的折射率的范围同样，其折射率的调整方法也同样。

在使用层叠薄膜作为光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜、且在比光源侧偏光板更靠近光源侧不使用反射型偏光板(例如D-BEF)的情况下，光学各向同性层的折射率没有特别限制，例如为可以达成添加有现实的树脂、高折射率微粒的树脂层的折射率的范围，具体而言，优选1.3～2.0、更优选1.35～1.8。如果为该范围，则可以在不大幅降低亮度的情况下，使用层叠薄膜作为光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜。

光学各向同性层的折射率的下限优选Bfny-0.15、更优选Bfny-0.12、进一步优选Bfny-0.1、更进一步优选Bfny-0.08、特别优选Bfny、最优选Bfny+0.02。

光学各向同性层的折射率的上限优选Bfnx+0.15、更优选Bfnx+0.12、进一步优选Bfnx+0.1、更进一步优选Bfnx+0.08、特别优选Bfnx、最优选Bfnx-0.02。

通过设为上述范围，从而可以维持对比度或图像的清晰性，可以抑制照射强的外部光的情况下画面变得发白的现象。另外，通过设为上述范围，从而在使用层叠薄膜作为光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜、且在比光源侧偏光板更靠近光源侧使用反射型偏光板的情况下，也可以抑制由于基材薄膜与光学各向同性层的界面处引起的漫反射的影响而亮度降低，可以消除虹斑。

光学各向同性层的折射率的下限优选1.44、更优选1.47、进一步优选1.49、更进一步优选1.51、特别优选1.53、更特别优选1.55、最优选1.57、特别最优选1.59。光学各向同性层的折射率的上限优选1.85、更优选1.83、进一步优选1.80、更进一步优选1.78、特别优选1.76、更特别优选1.74、最优选1.72、更最优选1.70、特别最优选1.68。通过设为上述范围，从而可以维持对比度或图像的清晰性，可以抑制照射强的外部光的情况下画面变得发白的现象。另外，通过设为上述范围，从而使用层叠薄膜作为光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜的情况下，也可以消除虹斑且抑制亮度的降低。需要说明的是，光学各向同性层的折射率也为在波长589nm的条件下测定的值。

作为光学各向同性层的组成，没有特别限定，优选丙烯酸类、聚苯乙烯、聚酯、聚碳酸酯、聚氨酯、环氧树脂、硫代环氧树脂等。通过适宜调整组成，从而可以将折射率设定为上述范围。例如，PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)的情况下，通常折射率为1.49左右。丙烯酸类的粘合剂中，大多情况下导入长链或支链烷基，进而折射率降低。为了提高折射率，有效的是，使具有芳香族基团的丙烯酸类单体共聚，或使苯乙烯共聚。

在聚合物或树脂中导入硫、溴、芴基等在提高折射率的方面也是优选的方法，使含有这些的单体共聚而成的丙烯酸类、含芴基聚酯、含芴基聚碳酸酯、硫代环氧树脂等优选作为高折射率树脂。

另外，在聚合物或树脂中添加高折射微粒也是调整折射率的适合的方法。

高折射微粒的折射率优选1.60～2.74。作为高折射微粒，可以举出TiO₂、ZrO₂、CeO₂、Al₂O₃、BaTiO₃、Nb₂O₅和SnO₂等微粒。高折射微粒优选的是，基于TEM(透射型电子显微镜)观察的平均一次粒径为3nm～100nm。可以将这些高折射微粒使用1种或组合2种以上而使用。

需要说明的是，说明书中，“平均一次粒径”或“一次颗粒的平均粒径”是指，体积累积的50％粒径。更详细地，利用显微镜观察以适当的倍率观察颗粒的一次颗粒200个，测量各直径，算出其体积，将其体积累积的50％粒径作为平均一次粒径。

光学各向同性层优选经交联固化。作为固化方法，没有特别限定，优选热固化、紫外线、电子束等的辐射线固化。作为用于固化的交联剂，可以举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、碳二亚胺、噁唑啉化合物、三聚氰胺等氨基树脂、多官能丙烯酸酯等。

光学各向同性层可以利用如下方法进行层叠：将包含上述成分的涂布剂涂布于基材薄膜的凹凸面；将涂布于脱模膜而制作的光学各向同性层转印在基材薄膜的凹凸面上；或，使设置于其他薄膜上的光学各向同性层粘贴在基材薄膜的凹凸面上等。上述情况下，涂布剂优选的是，用溶剂进行溶解或稀释，形成容易涂覆的粘度。另外，涂布剂只要为丙烯酸类等辐射线固化型的涂布剂即可，也可以为无溶剂。

例如，丙烯酸类等辐射线固化型的涂布剂通常含有光聚合性化合物。

作为光聚合性化合物，可以举出光聚合性单体、光聚合性低聚物、光聚合性聚合物，可以将它们适宜调整而使用。作为光聚合性化合物，优选光聚合性单体与光聚合性低聚物或光聚合性聚合物的组合。

光聚合性单体

光聚合性单体的重均分子量低于1000。作为光聚合性单体，优选具有2个(即，2官能)以上的光聚合性官能团的多官能单体。本说明书中，“重均分子量”为如下值：溶解于THF等溶剂，通过基于以往公知的凝胶渗透色谱法(GPC)法的聚苯乙烯换算而得到的。

作为多官能单体，例如可以举出：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、双酚二(甲基)丙烯酸酯、二甘油四(甲基)丙烯酸酯、金刚烷基二(甲基)丙烯酸酯、异冰片基二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、将它们用PO、EO等经改性而得到者。

其中，从得到硬度高的功能层的观点出发，优选季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等。

光聚合性低聚物

光聚合性低聚物的重均分子量为1000以上且低于10000。作为光聚合性低聚物，优选2官能以上的多官能低聚物。作为多官能低聚物，可以举出聚酯(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。

光聚合性聚合物

光聚合性聚合物的重均分子量为10000以上，作为重均分子量，优选10000以上且80000以下、更优选10000以上且40000以下。重均分子量超过80000的情况下，粘度高，因此，涂覆适合性会降低，有得到的层叠薄膜的外观恶化的担心。作为光聚合性聚合物，优选2官能以上的多官能聚合物。作为多官能聚合物，可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。

涂布剂中，除上述成分之外，还可以包含聚合引发剂、交联剂的催化剂、阻聚剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、流平剂、表面活性剂等。

另外，还优选如下方法：向基材薄膜的凹凸面上挤出熔融后的光学各向同性层组合物并层叠；向基材薄膜的凹凸面与其他薄膜之间挤出熔融后的光学各向同性层组合物并层压等。

光学各向同性层通过设置于凹凸面从而具有降低凹凸面的漫反射的功能，也可以同时具有其他功能。光学各向同性层例如可以具有硬涂层、防反射层、高折射率层、防眩层、抗静电层等的功能。另外，光学各向同性层也可以为用于与其他薄膜或片、装置的构成构件粘贴的粘合剂层、或粘接剂层。

光学各向同性层的厚度的下限优选0.5μm、更优选1.0μm、进一步优选2μm、特别优选3μm、最优选4μm。该厚度如果为0.5μm以上，则可以使基材薄膜的凹凸平坦化，降低雾度，可以改善可见性。

光学各向同性层的厚度的上限优选30μm、更优选25μm、进一步优选20μm、特别优选15μm、最优选10μm。该厚度如果为30μm以下，则适合于薄型化。

光学各向同性层的厚度为从后述的层叠薄膜的厚度中减去粗糙化后的基材薄膜的厚度而得到的值。

在抑制虹斑产生的观点上，光学各向同性层的面内延迟量的上限优选50nm、更优选30nm、进一步优选10nm、特别优选5nm。

对于光学各向同性层的折射率最高的方向的折射率与折射率最低的方向的折射率的折射率差的上限，在抑制虹斑产生的观点上，优选0.01、更优选0.007、进一步优选0.005、特别优选0.003、最优选0.002。

(层叠薄膜)

层叠薄膜的厚度的下限优选12μm、更优选15μm、进一步优选18μm、特别优选20μm。该下限如果为12μm以上，则层叠薄膜的强度优异，制造或之后的加工的处理变容易。

层叠薄膜的厚度的上限优选180μm、更优选150μm、进一步优选120μm、特别优选100μm、最优选90μm。该上限如果为180μm以下，则适合于各种用途中的薄型化。

层叠薄膜的厚度如下算出：将层叠薄膜包埋于环氧树脂，切成截面的切片，进行显微镜观察，以等间隔测定10个点的厚度，以其平均值而算出。

层叠薄膜中，可以基材薄膜的仅单面为凹凸面，基材薄膜的ΔRe较低的情况下，凹凸面的粗糙度较小的情况下等，为了更有效地抑制虹斑，优选使基材薄膜的两面为凹凸面，并在其两面设置光学各向同性层。

层叠薄膜的雾度的上限优选20％、更优选15％、进一步优选10％、特别优选7％、最优选5％、更最优选4％、特别最优选3％。该上限如果为20％以下，则使用层叠薄膜作为光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜的情况下，也可以更有效地抑制亮度的降低。

层叠薄膜的雾度的上限优选10％、更优选7％、进一步优选5％、特别优选4％、最优选3％、更最优选2.5％、特别最优选2％。该上限如果为10％以下，则可以更有效地抑制对比度的降低、和抑制照射强的外部光的情况下画面变得发白。

层叠薄膜可以具备2张以上的具有凹凸面(粗糙化面)的基材薄膜，也可以具有2层以上的光学各向同性层，还可以具备除具有凹凸面(粗糙化面)的基材薄膜和光学各向同性层以外的薄膜或层。

作为层叠例，可以举出下述的类型1～4等。

(类型1)基材薄膜(凹凸面)/光学各向同性层(粘接剂或粘合剂)/其他薄膜

(类型2)基材薄膜(凹凸面)/光学各向同性层(粘接剂或粘合剂)/(凹凸面)基材薄膜

(类型3)基材薄膜(凹凸面)/光学各向同性层(粘接剂或粘合剂)/其他薄膜/光学各向同性层(粘接剂或粘合剂)/(凹凸面)基材薄膜

(类型4)其他薄膜/光学各向同性层(粘接剂或粘合剂)/(凹凸面)基材薄膜(凹凸面)/光学各向同性层(粘接剂或粘合剂)/其他薄膜

折射率各向异性的基材薄膜的ΔBfNxy较小，或凹凸的粗糙度较小的情况下，优选采用类型2～类型4的构成。需要说明的是，以下的层叠薄膜的用途等的说明中，称为层叠薄膜的情况下，也包含上述类型1～4的构成。类型2～类型3的情况下，2张基材薄膜的慢轴优选为彼此平行或垂直，出于制造的容易性，优选为平行。此处，“平行或垂直”是指，允许偏离0度或90度优选±10度、进一步±7度、特别是±5度。

需要说明的是，说明书中称为粘合剂、或粘合层的情况下，是指，在对象物上涂覆粘合剂用的涂布剂并交联或干燥而成者、或转印有无基材的光学用粘合剂者。

层叠薄膜进一步可以根据各用途而具有各种功能层。作为各种功能层，可以举出硬涂层、防眩层、防反射层、低反射层、导电层、抗静电层、着色层、紫外线吸收层、防污层、粘合层等。

(层叠薄膜的用途)

层叠薄膜不仅可以用于偏振片保护膜或消偏光薄膜、触摸面板等的透明导电性基材薄膜、防飞散薄膜、赋予表面的设计的薄膜等光学用薄膜，还可以在窗玻璃等防飞散薄膜、装饰用薄膜等各种领域中使用。

另外，层叠薄膜可以用作光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜。上述情况下，光源侧偏光板的液晶显示单元侧(可视侧)偏振片保护膜没有特别限制，例如可以举出上述层叠薄膜、无双折射性的偏振片保护膜。光源侧偏光板的光源侧偏振片保护膜和光源侧偏光板的可视侧偏振片保护膜在组成、厚度等方面可以彼此相同或不同。

首先，对作为代表性的用途例的、将上述层叠薄膜用作偏振片保护膜的偏光板进行说明。

(偏振片与层叠薄膜的层叠)

作为偏光板中使用的偏振片，例如可以没有特别限制地使用：使碘或有机系的二色性色素吸附于单轴拉伸后的聚乙烯醇(PVA)而得到的偏振片；由液晶化合物和使有机系的二色性色素取向而成者或液晶性的二色性色素所形成的液晶性的偏振片；线栅方式的偏振片等。

使碘或有机系的二色性色素吸附于单轴拉伸后的聚乙烯醇(PVA)而得到的薄膜状的偏振片的情况下，在偏振片的至少单侧层叠层叠薄膜，可以形成偏光板。层叠时，可以使用PVA系、紫外线固化型等的粘接剂、或粘合剂。另外，可以将基材薄膜的凹凸面与偏振片用属于本发明的光学各向同性层的粘接剂或粘合剂粘贴。上述情况下，基材薄膜与粘接剂或粘合剂成为本发明的层叠薄膜。作为该类型的偏振片的厚度，优选5～50μm、进一步优选10～30μm、特别优选12～25μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。

另外，还优选使用如下得到的偏振片：在PET或聚丙烯等未拉伸的基材上涂覆PVA，与基材一起进行单轴拉伸，使碘或有机系的二色性色素吸附而得到的偏振片。该偏振片的情况下，使层叠于基材的偏振片的偏振片面(未层叠基材的面)与层叠薄膜用粘接剂或粘合剂粘贴，之后剥离制作偏振片时使用的基材，从而可以形成偏光板。上述情况下，也可以使基材薄膜的凹凸面与偏振片用属于本发明的光学各向同性层的粘接剂或粘合剂粘贴。作为该类型的偏振片的厚度，优选1～10μm、进一步优选2～8μm、特别优选3～6μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。

液晶性的偏振片的情况下，在层叠薄膜上层叠使液晶化合物与有机系的二色性色素所形成的偏振片取向而成者，或在层叠薄膜上涂覆含有液晶性的二色性色素的涂布液后、干燥、使其光固化或热固化并层叠偏振片，从而可以形成偏光板。作为使液晶性的偏振片取向的方法，可以举出如下方法：对涂覆对象物的表面进行刷磨处理的方法；照射偏振紫外线，边使液晶性的偏振片取向边使其固化的方法；等。可以对层叠薄膜的表面直接进行刷磨处理，并涂覆涂布液，也可以在层叠薄膜上直接涂覆涂布液，并对其照射偏振紫外线。另外，在设置液晶性的偏振片前，在层叠薄膜上设置取向层(即，在层叠薄膜上借助取向层层叠液晶性的偏振片)也是优选的方法。作为设置取向层的方法，可以举出如下方法：

·涂覆聚乙烯醇和其衍生物、聚酰亚胺和其衍生物、丙烯酸类树脂、聚硅氧烷衍生物等，对其表面进行刷磨处理，形成取向层(刷磨取向层)的方法；

·涂布包含具有肉桂酰基和查尔酮基等光反应性基团的聚合物或单体与溶剂的涂覆液，照射偏振紫外线，从而使其取向固化，形成取向层(光取向层)的方法；等。

需要说明的是，可以在基材薄膜的凹凸面上设置属于本发明的光学各向同性层的刷磨取向层，由基材薄膜与刷磨取向层形成本发明的层叠薄膜。

在具有脱模性的薄膜依据上述方法设置液晶性的偏振片，用粘接剂或粘合剂使液晶性的偏振片面与层叠薄膜粘贴，之后剥离具有脱模性的薄膜，从而可以形成偏光板。需要说明的是，上述情况下，也可以用属于本发明的光学各向同性层的粘接剂或粘合剂使基材薄膜的凹凸面与偏振片粘贴。

作为液晶性的偏振片的厚度，优选0.1～7μm、进一步优选0.3～5μm、特别优选0.5～3μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。

如果为线栅方式，则可以在层叠薄膜上设置微细导电线。为了设置微细导电线而需要微细的槽的情况下，可以设置用于另行设置槽的层，可以将用于设置槽的层作为本发明的光学各向同性层。

偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴所成的角度没有特别限定，将层叠薄膜作为用于使通常的透射光为直线偏振光的偏光板的偏振片保护膜使用的情况下，优选为平行或垂直。“平行或垂直”是指，允许偏离0度或90度优选±10度、进一步±7度、特别是±5度。

另外，将层叠薄膜作为用于图像显示装置的可视侧的情况下等出射消除了偏振光的光的偏光板的偏振片保护膜使用的情况下，偏振片的透光轴与层叠薄膜的慢轴所成的角度优选20～70度、更优选25～65度、进一步优选30～60度、特别优选35～55度。

上述中，层叠薄膜的层叠偏振片的面可以为基材薄膜面，也可以为光学各向同性层面，均可。需要说明的是，光学各向同性层为硬涂层或防眩层等偏光板表面的具有功能的层的情况下，优选在基材薄膜面设置偏振片。

如此得到的偏光板的偏振片的另一面(未层叠层叠薄膜的面)可以根据其目的采用各种形态。作为层叠于偏振片的另一面的层，例如可以举出：玻璃、无双折射性的偏振片保护膜、光学补偿薄膜、λ/4相位差薄膜、λ/2相位差薄膜、相位差(光学补偿)涂覆层、保护涂布层、无这些保护层者、粘合剂层等。需要说明的是，层叠于偏振片的另一面的层也可以为层叠薄膜。

作为无双折射性的偏振片保护膜，可以举出TAC薄膜、丙烯酸类薄膜、环状烯烃系薄膜、聚丙烯系薄膜等。

作为光学补偿薄膜，例如有：具有正或负的A板、C板特性的光学补偿薄膜等，可以举出：将上述薄膜或聚碳酸酯薄膜拉伸而成者；在TAC薄膜等的表面涂布棒状液晶化合物或盘状液晶化合物而成者；等。它们可以作为液晶显示装置的偏光板根据其液晶单元的特性而适宜选择。

λ/4相位差薄膜和λ/2相位差薄膜可以通过与光学补偿薄膜同样的方法而得到。它们例如用于圆偏光板，适合于有机EL显示装置等的防反射薄膜。它们的厚度优选10～80μm、进一步优选20～60μm。

进行图像显示装置的薄型化的情况下，作为层叠于偏振片的另一面的层，可以举出：相位差(光学补偿)涂覆层、保护涂布层、无这些保护层者、粘合剂层等。

相位差(光学补偿)涂覆层可以通过如下方法而形成：将液晶化合物涂覆于偏振片上的方法；另行在脱模性薄膜上设置相位差层，将其转印至偏振片的方法；等。特别是进行偏光板的薄型化的情况下，可以将液晶性的偏振片或层叠于基材的偏振片与要转印的偏振片适合组合。

(图像显示装置)

图像显示装置优选包含上述偏光板。

图像显示装置优选依次具有光源侧偏光板、图像显示单元和可视侧偏光板。上述偏光板可以适合使用图像显示装置的光源侧偏光板或可视侧偏光板中的任意者，用于两者也是优选的方案。需要说明的是，层叠薄膜优选用作与图像显示单元相反面的偏振片保护膜。

图像显示装置可以为液晶显示装置。液晶显示装置通常具有光源侧偏光板、液晶显示单元和可视侧偏光板。

将本发明的偏光板用作光源侧偏光板的情况下，作为可视侧偏光板，没有特别限制，例如使用一直以来已知的偏光板。作为可视侧偏光板的偏振片保护膜，可以举出TAC薄膜、丙烯酸类薄膜、环状聚烯烃系薄膜、高延迟量的聚酯系薄膜、双折射性低的聚酯薄膜等。

另外，作为可视侧偏光板，可以使用：上述层叠薄膜中、将光学各向同性层的折射率与基材薄膜的折射率接近者作为偏振片保护膜的偏光板。

此时的光学各向同性层的折射率的下限优选Bfny-0.15、更优选Bfny-0.12、进一步优选Bfny-0.1、更进一步优选Bfny-0.08、特别优选Bfny、最优选Bfny+0.02。光学各向同性层的折射率的上限优选Bfnx+0.15、更优选Bfnx+0.12、进一步优选Bfnx+0.1、更进一步优选Bfnx+0.08、特别优选Bfnx、最优选Bfnx-0.02。通过设为上述范围，从而可以维持对比度、图像的清晰性，可以抑制照射强的外部光的情况下画面变得发白的现象。

此时的光学各向同性层的折射率的下限优选1.44、更优选1.47、进一步优选1.49、更进一步优选1.51、特别优选1.53、更特别优选1.55、最优选1.57、特别最优选1.59。光学各向同性层的折射率的上限优选1.80、更优选1.78、进一步优选1.76、更进一步优选1.74、特别优选1.72、更特别优选1.70、最优选1.68。通过设为上述范围，从而可以维持对比度、图像的清晰性，可以抑制照射强的外部光的情况下画面变得发白的现象。

作为液晶显示装置的光源(背光灯)，可以没有特别限制地使用：蓝色发光二极管与黄色荧光体的光源、蓝绿红的各色发光二极管光源、蓝色发光二极管与绿色荧光体与红色荧光体的光源、基于量子点的波长转换光源、半导体激光光源、冷阴极管等。

对于将层叠薄膜用于偏振片保护膜的偏光板，即使为具备具有陡峭的发光峰的光源的液晶显示装置，也可以降低至无法识别虹斑的水平，与各色的发光峰的半值宽度窄的光源的组合是更优选的方案。作为光源的半值宽度，半值宽度最窄的发光峰的半值宽度优选25nm以下、更优选20nm以下、进一步优选15nm以下、特别优选10nm以下。半值宽度的下限在现实的值或测定器的分辨率的方面为0.5nm。作为具体适合的光源，可以举出：QD(量子点)光源和红色区域用中使用有KSF荧光体的光源，最适合的光源使用有KSF荧光体。

需要说明的是，根据近年来的图像显示装置的薄型化而将层叠薄膜用作偏振片保护膜的情况下，层叠薄膜的厚度也优选成为12～60μm、更优选成为15～50μm。这样的薄型的图像显示装置的情况下，光源优选蓝色发光二极管与黄色荧光体的光源、使用了KSF荧光体的光源、QD光源等。

另外，图像显示装置可以为有机EL显示装置。有机EL显示装置优选在比图像显示单元更靠近可视侧具有圆偏光板。层叠薄膜也可以适合作为有机EL显示装置的圆偏光板的偏振片保护膜使用。

实施例

以下，参照实施例，对本发明更具体地进行说明。本发明不限定于下述实施例，也可以在符合本发明的主旨的范围内适宜加以变更而实施。需要说明的是，它们均包含于本发明的技术范围。

实施例中的物性的评价方法如以下所述。

(1)基材薄膜的慢轴方向折射率(Bfnx)、快轴方向折射率(Bfny)、和折射率各向异性(△BfNxy)

使用分子取向计(王子计测器株式会社制、MOA-6004型分子取向计)，求出粗糙化前的基材薄膜的取向轴方向，以使取向轴方向成为长边的方式切成4cm×2cm的长方形，作为测定用样品。对于该样品，用阿贝折射率计(ATAGO CO.,LTD.制、NAR-4T、测定波长589nm)测定正交的二轴的折射率(Bfnx，Bfny)和厚度方向的折射率(Bfnz)，将前述二轴的折射率差的绝对值(|Bfny-Bfnx|)作为折射率各向异性(△BfNxy)。需要说明的是，粗糙化后的基材薄膜的折射率可以如下测定：用耐水性的纸、锉刀等进行研磨，使粗糙化面平坦化而测定。

(2)坯料薄膜的厚度d

用电测微计(Feinpruf GmbH(ファインリューフ社)制、Millitron 1245D)，测定5点的厚度，求出其平均值。

(3)面内延迟量(Re)

根据折射率的各向异性(△BfNxy)与薄膜的厚度d(nm)之积(△BfNxy×d)，求出面内延迟量(Re)。

(4)Nz系数

将由|Bfnx-Bfnz|/|Bfnx-Bfny|得到的值作为Nz系数。

(5)面取向度(ΔP)

将由(Bfnx+Bfny)/2-Bfnz得到的值作为面取向度(ΔP)。

(6)厚度方向延迟量(Rth)

厚度方向延迟量是指，表示将从薄膜厚度方向截面观察时的2个双折射△BfNxz(＝|Bfnx-Bfnz|)、△BfNyz(＝|Bfny-Bfnz|)分别乘以薄膜厚度d而得到的延迟量的平均的参数。利用与前述同样的方法，求出Bfnx、Bfny、Bfnz和薄膜厚度d(nm)，算出(△BfNxz×d)与(△BfNyz×d)的平均值，求出厚度方向延迟量(Rth)：Rth＝(△BfNxz×d+△BfNyz×d)/2。

(7)表面粗糙度(Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、Rv、Sm)

表面粗糙度的各参数由使用接触型粗糙度计(MITUTOYO CORPORATION制，SJ-410，检测器：178-396-2，Stylus：标准Stylus 122AC731(2μm))而测定的粗糙度曲线求出。设定如以下进行。

曲线：R

滤波器：GAUSS

λc：0.8mm

λs：2.5μm

测定长度：5mm

测定速度：0.5mm/s

需要说明的是，Rq依据JIS B0601-2001而求出，其他依据JIS B0601-1994而求出。

(8)光学各向同性层的厚度

粗糙化后的基材薄膜和层叠薄膜的厚度如下：将各薄膜包埋于环氧树脂，切成截面的切片，用显微镜进行观察，以等间隔测定10个点的厚度，作为其平均值。需要说明的是，不易看见界面的情况下，使用偏光显微镜。另外，粗糙化后的基材薄膜的凹凸面将视野的凸部与凹部的中央作为基准。光学各向同性层的厚度通过从层叠薄膜的厚度中减去粗糙化后的基材薄膜的厚度而求出。

(9)光学各向同性层的折射率

与在凹凸面设有光学各向异性层的情况相同的条件下，设置在脱模膜上使得厚度成为约20μm，与基材薄膜同样地测定从脱模膜剥离后的样品的折射率。确认了nx、ny、nz为相同的值。

(易粘接层成分的制造)

(聚酯树脂的聚合)

在具备搅拌机、温度计和部分回流式冷凝器的不锈钢制高压釜中，投入对苯二甲酸二甲酯194.2质量份、间苯二甲酸二甲酯184.5质量份、间苯二甲酸二甲酯-5-磺酸钠14.8质量份、二乙二醇233.5质量份、乙二醇136.6质量份、和钛酸四正丁酯0.2质量份，在160℃～220℃的温度下用4小时进行酯交换反应。接着，升温至255℃，将反应体系缓慢地减压后，在30Pa的减压下反应1小时30分钟，得到共聚聚酯树脂。得到的共聚聚酯树脂为淡黄色透明。测定共聚聚酯树脂的比浓粘度，结果为0.70dl/g。基于DSC的玻璃化转变温度为40℃。

(聚酯水分散体的制备)

在具备搅拌机、温度计和回流装置的反应器中，放入共聚聚酯树脂30质量份和乙二醇正丁醚15质量份，以110℃加热并搅拌，使树脂溶解。树脂完全溶解后，将水55质量份在聚酯溶液中进行搅拌的同时缓慢地添加。添加后，将液体搅拌的同时冷却至室温，制作固体成分30质量％的乳白色的聚酯水分散体。

(易粘接层中使用的封端多异氰酸酯系交联剂的聚合)

在具备搅拌机、温度计和回流冷凝管的烧瓶中，投入以六亚甲基二异氰酸酯为原料的具有异氰脲酸酯结构的多异氰酸酯化合物(ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION制、DURANATE TPA)100质量份、丙二醇单甲醚乙酸酯55质量份和聚乙二醇单甲醚(平均分子量750)30质量份，在氮气气氛下、以70℃保持4小时。之后，将反应液温度降低至50℃，滴加甲乙酮肟47质量份。测定反应液的红外光谱，确认异氰酸酯基的吸收消失，得到固体成分75质量％的封端多异氰酸酯水分散液。

(易粘接层用涂覆液的调整)

将下述的涂剂混合，制成P1涂布液。

水 50.00质量％

异丙醇 33.00质量％

聚酯水分散体 12.00质量％

封端异氰酸酯系交联剂 0.80质量％

颗粒 1.40质量％

(平均粒径100nm的硅溶胶、固体成分浓度40质量％)

催化剂

(有机锡系化合物固体成分浓度14质量％) 0.30质量％

表面活性剂 0.50质量％

(硅系、固体成分浓度10质量％)

(薄膜用聚酯树脂的制造)

(制造例1-聚酯X)

将酯化反应釜升温，在达到200℃的时刻，投入对苯二甲酸86.4质量份和乙二醇64.6质量份，边搅拌边投入作为催化剂的三氧化锑0.017质量份、乙酸镁四水合物0.064质量份和三乙胺0.16质量份。然后，进行加压升温，在表压0.34MPa、240℃的条件下进行加压酯化反应后，将酯化反应釜恢复至常压，添加磷酸0.014质量份。进而，用15分钟升温至260℃，添加磷酸三甲酯0.012质量份。接着，15分钟后，用高压分散机进行分散处理，15分钟后，将得到的酯化反应产物转移至缩聚反应釜，以280℃、在减压下进行缩聚反应。

缩聚反应结束后，用95％分割粒径为5μm的Naslon(注册商标)制过滤器进行过滤处理，从喷嘴以股线状挤出，用预先进行了过滤处理(孔径：1μm以下)的冷却水进行冷却，使其固化，切成粒料状。得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(X)的特性粘度为0.62dl/g，实质上不含有非活性颗粒和内部析出颗粒。(以后，简记作PET(X))

(坯料薄膜A、B的制造)

将作为薄膜用原料的不含有颗粒的PET(X)树脂粒料供给至挤出机，从喷嘴形成片状而挤出后，用静电施加浇铸法，缠绕于表面温度30℃的浇铸鼓，并冷却固化，制成未拉伸薄膜。接着，通过逆转辊法，在该未拉伸PET薄膜的两面涂布P1涂布液，使得干燥后的涂布量均成为0.12g/m²，然后导入至干燥机，以80℃干燥20秒。

将该形成有涂布层的未拉伸薄膜导入至拉幅机，边用夹具把持薄膜的端部边导入至温度135℃的热风区，沿宽度方向拉伸至3.8倍。接着，保持沿宽度方向拉伸的宽度不变地在温度225℃下进行30秒处理，之后，将冷却至130℃的薄膜的两端部用剪切刀片切断，以0.5kg/mm²的张力切去边缘部后进行卷取，得到薄膜厚度80μm的坯料薄膜A。

加快铸造以及其之后的线速度，改变未拉伸薄膜的厚度，除此之外，与坯料薄膜A同样地制膜，得到薄膜厚度不同的坯料薄膜B。

(坯料薄膜C的制造)

用加热后的辊组和红外线加热器，将通过与坯料薄膜A同样的方法制作的未拉伸薄膜(经易粘接层涂覆)加热至105℃，之后用有圆周速度差的辊组沿行进方向拉伸2.0倍后，通过与坯料薄膜A同样的方法，导入至温度135℃的热风区，沿宽度方向拉伸4.0倍，得到坯料薄膜C。

(坯料薄膜D)

用加热后的辊组和红外线加热器，将通过与坯料薄膜A同样的方法制作的未拉伸薄膜(经易粘接层涂覆)加热至105℃，之后用有圆周速度差的辊组沿行进方向拉伸3.5倍后，通过与坯料薄膜A同样的方法，导入至温度135℃的热风区，沿宽度方向拉伸3.5倍，得到坯料薄膜D。

[表1]

坯料薄膜	A	B	C	D
					慢轴方向折射率	1.691	1.692	1.686	1.683
快轴方向折射率	1.588	1.587	1.614	1.645
					厚度方向折射率	1.512	1.513	1.510	1.501
ΔBfNxy	0.103	0.105	0.072	0.038
					厚度(μm)	80	35	80	80
面内延迟量(nm)	8240	3675	5760	3040
					Re/Rth	0.730	0.739	0.581	0.345
Nz系数	1.74	1.70	2.44	4.79
					ΔP	0.128	0.127	0.140	0.163

(表面粗糙化薄膜的制造)

在玻璃板上粘附聚氨酯泡沫，进一步用双面胶带将坯料薄膜A的周边粘附在其上，用手持式的带式砂磨机(砂带#320)从纵、横、倾斜(45度、135度)的总计4个方向对该坯料薄膜面进行处理，得到表面粗糙化薄膜A1。

用双面胶带将坯料薄膜A的周边粘附在玻璃板上，安装于干式的喷砂机，吹送研磨材料，从而进行处理(喷砂处理)，得到表面粗糙化薄膜A2。

在坯料薄膜A的单面粘贴聚丙烯薄膜制掩蔽薄膜，使其浸渍(化学蚀刻)于38％的氢氧化钾水溶液(95℃)，进行水洗后，剥离掩蔽薄膜，进行干燥，得到表面粗糙化薄膜A4。

改变带式砂磨机的条件(砂带的种类等)、喷砂的条件(研磨材料的粒径等)，由坯料薄膜A、B、C和D得到表2所示的各表面粗糙化薄膜。

需要说明的是，B1和C1的制造中使用#320的砂带，A3和D1的制造中使用#180的砂带。另外，喷砂机的研磨材料使用的是，以A5、A6、B2、A2的顺序依次大的材料。

需要说明的是，进行带式砂磨机处理和喷砂处理时，为了消除局部突起的影响，对处理表面用#400的砂纸轻轻地进行研磨。

[表2]

(层叠薄膜F1-1～F18-1的制造)

(光学各向同性层用的涂布剂的准备)

作为光学各向同性层用的涂布剂，准备表3所示的涂布剂。

[表3]

编号	详细情况	固化后的折射率
			a	DAIKIN INDUSTRIES，LTD.，制OPTODYNEUV-1000	1.45
b	Toyo Ink Group制TYM	1.50
			c	三菱瓦斯化学株式会社制LDZ-2020	1.53
d	c∶e＝1∶1的混合物	1.58
			e	三菱瓦斯化学株式会社制LPK-2000	1.62
f	三菱瓦斯化学株式会社制LPC-1101	1.67
			g	三菱瓦斯化学株式会社制LPB-1102	1.71
h	DIC株式会社制DIFENSA OP-4003	1.41

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，涂覆用水/异丙醇＝2/1的溶液稀释上述易粘接层至4倍者并干燥，设置约30nm的易粘接层。进一步用涂抹器在其上涂覆光学各向同性层用的涂布剂a后，从涂覆面在高压汞灯下使其固化，得到层叠薄膜F1-1。

变更表面粗糙化薄膜和/或涂布剂的种类，除此之外，与层叠薄膜F1-1同样地得到层叠薄膜F2-1～F8-1、和F10-1～F17-1。需要说明的是，层叠薄膜F15-1在两面设有光学各向同性层。

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，涂覆用水/异丙醇＝2/1的溶液稀释上述易粘接层至4倍者并干燥，设置约30nm的易粘接层。进一步用涂抹器在其上涂覆光学各向同性层用的涂布剂a后，为了使涂覆面具有防眩性，重叠设有凹凸结构的表面镀镍的金属板模具，从基材薄膜面在高压汞灯下使其固化，得到使光学各向同性层具有防眩性的层叠薄膜F9-1。

在20cm×30cm的粗糙化薄膜B2的凹凸面，涂覆Vylon(注册商标)200(RV200)(东洋纺株式会社制)的20％甲苯/甲乙酮混合溶剂的溶液后使其干燥，设置光学各向同性层。重叠得到的2张层叠薄膜的光学各向同性层面，通过加热至100℃的辊间，使2张层叠薄膜粘贴使得慢轴彼此成为平行，得到层叠薄膜F18-1。Vylon200的折射率为1.55。

(层叠薄膜的评价)

(虹斑的观察)

将层叠薄膜放置在配置于交叉棱镜的2张偏光板之间，使得慢轴与光源侧的偏光板的透光轴成为45度，从距离可视侧的偏光板约60cm的正面观察透射光的状态，依据下述的基准评价虹斑的有无。需要说明的是，光源使用冷阴极管。

○：观察不到虹斑

△：稍观察到虹斑

×：观察到虹斑

(文字清晰性)

将层叠薄膜配置于距离报纸上1cm的位置，以下述基准评价是否能识别报纸的文字(纵约3.8mm、横约3.9mm)。需要说明的是，进行了防眩加工时，有防眩加工的影响，因此，不进行评价。

◎：文字能清晰地识别。

○：稍不清晰，但能没有问题地识别。

△：除笔画数多的汉字之外能识别。

×：难以识别。

将层叠薄膜F1-1～F18-1的物性和评价结果示于表4。

[表4]

(偏光板的制造)

(使用光学各向同性层作为对偏振片的粘合剂或粘接剂的偏光板的制造)

(用作光学各向同性层的粘合剂用的涂布剂和光学粘合片的准备)

作为粘合剂和光学粘合片，使用表5所示者。

[表5]

编号	详细情况	固化后的折射率
			i	粘合剂：荒川化学工业株式会社制BEAMSETOCA-6	1.49
j	粘合片：岩谷产业株式会社制ISR-SOC	1.41
			k	粘合剂：参照下述	1.56

高折射率粘合剂k的制作

使丙烯酸2-乙基己酯30质量份、乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制，制品名：A-LEN-10)70质量份、和作为聚合引发剂的偶氮二异丁腈0.25质量份在乙酸乙酯中反应，得到共聚物(Mw＝40万)的乙酸乙酯溶液(固体成分浓度30质量％)。

(偏振片的制造)

将皂化度99.9％的聚乙烯醇树脂薄膜导入至有圆周速度差的辊，以100℃进行单轴拉伸至3倍。将得到的拉伸聚乙烯醇拉伸薄膜在碘化钾(0.3％)和碘(0.05％)的混合水溶液中进行染色后，在72℃的硼酸10％水溶液中单轴拉伸至1.8倍。之后，用离子交换水进行水洗处理，进一步浸渍于6％碘化钾水溶液，用气刀去除水溶液后，以45℃干燥而得到偏振片。偏振片的厚度为18μm。

(TAC薄膜层叠偏振片的准备)

首先，准备偏振片和在厚度60μm的三乙酰基纤维素(TAC)薄膜上涂覆有紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂者，在其上层叠偏振片，从TAC面照射高压汞灯使其固化，得到TAC薄膜层叠偏振片。

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，用涂抹器涂覆作为光学各向同性层的粘合剂用涂布剂i后，从涂覆面用高压汞灯使其固化，得到层叠薄膜。使得到的层叠薄膜的粘合层面与切成20cm×30cm的TAC薄膜层叠偏振片的偏振片面粘贴，制作偏光板P1-1。需要说明的是，偏振片的透光轴与表面粗糙化薄膜(基材薄膜)的慢轴变得平行。

使光学粘合片j作为光学各向同性层粘贴于表面粗糙化薄膜A1的凹凸面而使用，除此之外，与偏光板P1-1同样地得到偏光板P3-1。

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，用涂抹器涂覆作为光学各向同性层的粘合剂用涂布剂k后，以100℃干燥，得到层叠薄膜。之后，与偏光板P1-1同样地得到偏光板P2-1。

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，用涂抹器涂覆光学各向同性层用的涂布剂b。在该涂覆面重叠切成20cm×30cm的TAC薄膜层叠偏振片的偏振片面，从表面粗糙化薄膜A1面照射高压汞灯使其固化，得到偏光板P4-1。

另外，使光学各向同性层用的涂布剂为e或f，除此之外，与上述同样地得到偏光板P5-1或P6-1。

将偏光板P1-1～P6-1的物性以及根据后述的评价方法(液晶显示装置的评价1)评价虹斑的有无和图像对比度的结果示于表6。

[表6]

(在光学各向同性层或基材薄膜上使用粘接剂粘贴有偏振片的偏光板的制造)

在层叠薄膜F1-1～F8-1和F10-1～F17-1的光学各向同性层的面，用涂抹器涂覆紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂。在该涂覆面重叠切成20cm×30cm的TAC薄膜层叠偏振片的偏振片面，从层叠薄膜面照射高压汞灯使其固化，得到偏光板PF1c-1～PF8c-1和PF10c-1～PF17c-1。

另外，在层叠薄膜F1-1～F14-1和F16-1～F18-1的未设置光学各向同性层的一侧的面涂覆紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂，除此之外，与上述同样地得到偏光板PF1b-1～PF14b-1和PF16b-1～PF18b-1。需要说明的是，偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为平行。

PF4b-1和PF5b-1的制成中，使偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为垂直，除此之外，与上述同样地进行而得到PF4b2-1和PF5b2-1。

(仅单面具有保护膜的偏光板的制造)

(基材层叠偏振片的制造)

使用PET(X)作为热塑性树脂基材，制作厚度100μm的未拉伸薄膜，在该未拉伸薄膜的单面涂布聚合度2400、皂化度99.9摩尔％的聚乙烯醇的水溶液并干燥，形成PVA层，得到层叠体。

将得到的层叠体以120℃、在圆周速度不同的辊间沿长度方向拉伸至2倍并卷取。

接着，对得到的层叠体用4％的硼酸水溶液进行30秒的处理后，在碘(0.2％)和碘化钾(1％)的混合水溶液中浸渍60秒并染色，然后，在碘化钾(3％)和硼酸(3％)的混合水溶液中处理30秒。

进而，对得到的层叠体在72℃的硼酸(4％)和碘化钾(5％)的混合水溶液中沿长度方向进行单轴拉伸，然后，用4％碘化钾水溶液清洗，用气刀去除水溶液后，在80℃的烘箱中进行干燥，分切两端部并卷取，得到宽度30cm、长度1000m的基材层叠偏振片1。

总计的拉伸倍率为6.5倍、偏振片的厚度为5μm。需要说明的是，厚度如下：将基材层叠偏振片包埋于环氧树脂，切成切片，用光学显微镜进行观察并读取。

(偏光板的制造)

使偏光板P2-1的制造中使用的层叠薄膜的粘合层面与基材层叠偏振片的偏振片面粘贴后，剥离基材层叠偏振片的基材，得到单面保护膜偏光板P7-1。在偏光板P7-1的偏振片面层叠市售的光学粘合剂片。需要说明的是，偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为平行。

在层叠薄膜F5-1的光学各向同性层的面，用涂抹器涂覆紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂。在该涂覆面粘贴基材层叠偏振片的偏振片面后，从层叠薄膜F5-1面用高压汞灯照射光，剥离基材层叠偏振片的基材，得到单面保护膜偏光板P8-1。在偏光板P8-1的偏振片面层叠市售的光学粘合剂片。需要说明的是，偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为平行。

在层叠薄膜F9-1的表面粗糙化薄膜A1面设置紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂，除此之外，与上述同样地得到单面保护膜偏光板P9-1。在偏光板P9-1的偏振片面层叠市售的光学粘合剂片。需要说明的是，偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为平行。

将由各层叠薄膜得到的这些偏光板的物性和评价(液晶显示装置的评价1)归纳于表7和表8。评价基准如后述。

[表7]

[表8]

(液晶显示装置的评价1)

将搭载于具有KSF光源的液晶显示装置(东芝公司制Regza Z20X)的可视侧和光源侧的偏光板剥离，粘贴得到的偏光板来代替，粘贴如下进行：使用TAC薄膜层叠偏振片的偏光板的情况下，在TAC面层叠市售的光学粘合剂片而进行，仅单面具有保护膜的偏光板的情况下，使层叠于偏振片面的光学用粘合剂片面粘贴。偏振片的透光轴成为与原来的液晶显示装置的方向相同。需要说明的是，偏光板无法完全覆盖的液晶单元的部分用黑色绘图纸覆盖。

对于评价，观察虹斑的确认和图像的对比度。

(液晶显示装置的虹斑的观察)

使液晶显示装置的显示全白，从正面和倾斜方向进行观察，确认虹斑的有无。

○：观察不到虹斑

△：稍观察到虹斑

×：观察到虹斑

(对比度的观察)

使液晶显示装置的显示为风景的图像，从上方照射桌上的荧光灯的光，观察从正面的对比度。

◎：鲜亮的对比度不变。

○：由于散射光而稍确认到对比度的降低。

△：确认到对比度的降低，但可观察图像。

×：由于散射光而变得不易观察图像。

(圆偏光板的制造)

在上述层叠有粘合剂的单面保护膜偏光板P7-1～P9-1的粘合层面上粘贴λ/4波长板，制成圆偏光板。将使用市售的有机EL的手机的圆偏光板剥离，将制成的圆偏光板粘贴于有机EL单元来代替，观察图像。这些圆偏光板可以没有问题地使用。

(层叠薄膜F1-2～F17-2的制造)

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，涂覆用水/异丙醇＝2/1的溶液稀释上述易粘接层至4倍者并干燥，设置约30nm的易粘接层。进一步在其上用涂抹器涂覆光学各向同性层用的涂布剂a后，从涂覆面在高压汞灯下使其固化，得到层叠薄膜F1-2。

变更表面粗糙化薄膜和/或涂布剂的种类，除此之外，与层叠薄膜F1-2同样地得到层叠薄膜F2-2～F16-2。需要说明的是，层叠薄膜F14-2在两面设有光学各向同性层。

在20cm×30cm的粗糙化薄膜B2的凹凸面，涂覆Vylon(注册商标)200(RV200)(东洋纺株式会社制)的20％甲苯/甲乙酮混合溶剂的溶液后使其干燥，设置光学各向同性层。使得到的2张层叠薄膜的光学各向同性层面重叠，使其通过加热至100℃的辊间，使2张层叠薄膜粘贴，得到层叠薄膜F17-2。需要说明的是，粘贴时，各层叠薄膜的基材薄膜的慢轴彼此成为平行。Vylon200的折射率为1.55。

(偏光板的制造)

作为粘合剂用的涂布剂和光学粘合片，使用表9所示者。

[表9]

编号	详细情况	固化后的折射率
			i	粘合剂：荒川化学工业株式会社制BEAMSET OCA-6	1.49
j	粘合片：岩谷产业株式会社制ISR-SOC	1.41
			k	粘合剂：参照下述	1.56

高折射率粘合剂k的制作

(偏振片的制造)

将皂化度99.9％的聚乙烯醇树脂薄膜导入至有圆周速度差的辊，以100℃进行单轴拉伸至3倍。将得到的拉伸聚乙烯醇拉伸薄膜在碘化钾(0.3％)和碘(0.05％)的混合水溶液中进行染色后，在72℃的硼酸10％水溶液中，单轴拉伸至1.8倍。之后，用离子交换水进行水洗处理，进一步浸渍于6％碘化钾水溶液，用气刀去除水溶液后，以45℃干燥，得到偏振片。偏振片的厚度为18μm。

(TAC薄膜层叠偏振片的准备)

首先，准备偏振片和在厚度60μm的三乙酰基纤维素(TAC)薄膜上涂覆紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂者，在其上层叠偏振片，从TAC面照射高压汞灯使其固化，得到TAC薄膜层叠偏振片。

(使用层叠薄膜F1-2～F17-2的偏光板的制造)

在层叠薄膜F1-2～F16-2的光学各向同性层的面，用涂抹器涂覆紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂。在该涂覆面重叠切成20cm×30cm的TAC薄膜层叠偏振片的偏振片面，从层叠薄膜面照射高压汞灯使其固化，得到偏光板PF1c-2～PF16c-2。需要说明的是，层叠薄膜F14-2仅单面涂布有粘接剂。以偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为平行的方式进行配置。

另外，在层叠薄膜F1-2～F13-2和F15-2～F17-2的基材薄膜的面涂覆紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂，除此之外，与上述同样地得到偏光板PF1b-2～PF13b-2和PF15b-2～PF17b-2。需要说明的是，层叠薄膜F17-2仅单面涂布粘接剂，与偏振片粘贴。以偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为平行的方式进行配置。

将偏光板PF1c-2～PF16c-2、PF1b-2～PF13b-2、和PF15b-2～PF17b-2的物性以及根据后述的评价方法(液晶显示装置的评价2)评价虹斑的有无和亮度降低的结果示于表10。

[表10]

(将光学各向同性层作为对偏振片的粘合剂或粘接剂使用的偏光板的制造)

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，用涂抹器涂覆作为光学各向同性层的各粘合剂用涂布剂i后，从涂覆面在高压汞灯下使其固化，得到层叠薄膜。使得到的层叠薄膜的粘合层面与切成20cm×30cm的TAC薄膜层叠偏振片的偏振片面粘贴，制作偏光板P1-2。

使用粘合剂用涂布剂j，除此之外，同样地得到偏光板P3-2。

以偏振片的透光轴与表面粗糙化薄膜(基材薄膜)的慢轴成为平行的方式进行配置。

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，用涂抹器涂覆作为光学各向同性层的粘合剂用涂布剂k后，以100℃干燥，得到层叠薄膜。之后，与偏光板P1-2同样地得到偏光板P2-2。

在20cm×30cm的表面粗糙化薄膜A1的凹凸面，用涂抹器涂覆光学各向同性层用的涂布剂b。在该涂覆面重叠切成20cm×30cm的TAC薄膜层叠偏振片的偏振片面，从表面粗糙化薄膜A1面照射高压汞灯使其固化，得到偏光板P4-2。

另外，使光学各向同性层用的涂布剂为e或f，除此之外，与上述同样地得到偏光板P5-2或P6-2。

将偏光板P1-2～P6-2的物性以及根据后述的评价方法(液晶显示装置的评价2)评价虹斑的有无和亮度降低的结果示于表11。

[表11]

(仅单面具有保护膜的偏光板的制造)

(基材层叠偏振片的制造)

接着，对得到的层叠体在4％的硼酸水溶液中进行30秒的处理后，在碘(0.2％)和碘化钾(1％)的混合水溶液中浸渍60秒而染色，然后，用碘化钾(3％)和硼酸(3％)的混合水溶液进行30秒处理。

进而，将得到的层叠体在72℃的硼酸(4％)和碘化钾(5％)的混合水溶液中沿长度方向进行单轴拉伸，然后，用4％碘化钾水溶液清洗，用气刀去除水溶液后，在80℃的烘箱中进行干燥，分切两端部并卷取，得到宽度30cm、长度1000m的基材层叠偏振片1。

(偏光板的制造)

使偏光板P2-2的制造中使用的层叠薄膜的粘合层面与基材层叠偏振片的偏振片面粘贴后，剥离基材层叠偏振片的基材，得到单面保护膜偏光板P7-2。以基材薄膜的慢轴与偏振片的透光轴成为平行的方式进行配置。在偏光板P7-2的偏振片面层叠市售的光学粘合剂片。

在层叠薄膜F5-2的光学各向同性层的面，用涂抹器涂覆紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂。在该涂覆面粘贴基材层叠偏振片的偏振片面后，从层叠薄膜F5-2面在高压汞灯下照射光，剥离基材层叠偏振片的基材，得到单面保护膜偏光板P8-2。在偏光板P8-2的偏振片面层叠市售的光学粘合剂片。

在层叠薄膜F9-2的表面粗糙化薄膜A1面设置紫外线固化型的丙烯酸类粘接剂，除此之外，与上述同样地得到单面保护膜偏光板P9-2。在偏光板P9-2的偏振片面层叠市售的光学粘合剂片。需要说明的是，偏振片的透光轴与基材薄膜的慢轴成为平行。

配置基材薄膜的慢轴使其与偏振片的透光轴成为垂直，除此之外，与偏光板P7-2～P9-2的制作同样地得到偏光板P10-2～P12-2。

将偏光板P7-2～P12-2的物性以及根据后述的评价方法(液晶显示装置的评价2)评价虹斑的有无和亮度降低的结果示于表12。

[表12]

(液晶显示装置的评价2)

将搭载于具有KSF光源的液晶显示装置(东芝公司制Regza Z20X)的可视侧和光源侧的偏光板剥离，粘贴得到的偏光板来代替。粘贴如下进行：使用TAC薄膜层叠偏振片的偏光板的情况下，在TAC面层叠市售的光学粘合剂片而进行，仅单面具有保护膜的偏光板的情况下，使层叠于偏振片面的光学用粘合剂片面粘贴。

偏振片的透光轴成为与原来的液晶显示装置的方向相同。需要说明的是，偏光板无法完全覆盖的液晶单元的部分用黑色绘图纸覆盖。

对于评价，观察虹斑的有无和亮度降低。

(液晶显示装置的虹斑的观察)

使液晶显示装置的显示全白，从正面和倾斜方向进行观察，观察虹斑的有无。

○：观察不到虹斑

△：稍观察到虹斑

×：观察到虹斑

(亮度降低)

观察亮度的降低。

◎：与原来的偏光板相比，未见亮度的降低。

○：稍确认到亮度的降低。

△：确认到亮度的降低，但为不用担心的程度。

×：亮度清楚地降低。

另行将光源中不具有亮度改善薄膜的液晶显示装置(数码相框)的光源侧偏光板剥离一半，粘贴得到的偏光板代替剥离了的部分，观察亮度的降低，结果上述△～◎的情况下，亮度上感觉不到差异。

产业上的可利用性

根据本发明的层叠薄膜，在具有陡峭的峰的光源的环境下使用的情况下合等，也可以抑制虹斑，确保高的透明性和图像可见性。

另外，本发明的液晶显示装置将特定的薄膜用于光源侧偏光板的偏振片保护膜，从而可以更有效地抑制虹斑。

进而，本发明的液晶显示装置将特定的薄膜用于光源侧偏光板的偏振片保护膜，从而在具有陡峭的发光峰的光源的环境下使用的情况下等，也可以抑制虹斑，确保高的透明性和高亮度。

Claims

1.一种用于图像显示装置的层叠薄膜，所述图像显示装置具备使用了KSF荧光体的光源，所述KSF荧光体为在K₂SiF₆结晶中添加有Mn的荧光体，所述层叠薄膜具有基材薄膜和光学各向同性层，且具有下述的全部特征，

（a）基材薄膜的至少单面为凹凸面，凹凸面的算术平均粗糙度（Ra）为0.2~10μm；

（b）基材薄膜在波长589nm下的折射率各向异性（Bfnx-Bfny）为0.07~0.2；

（c）在基材薄膜的凹凸面上设有光学各向同性层，光学各向同性层在波长589nm下的折射率为Bfny-0.15~Bfnx+0.15，且为1.55以上；

其中，将基材薄膜在波长589nm下的慢轴方向的折射率设为Bfnx、快轴方向的折射率设为Bfny；

（d）具有凹凸面的基材薄膜的面内延迟量为3000nm以上且低于8000nm；

（e）基材薄膜的Bfnx为1.67~1.73；

（f）基材薄膜为聚酯薄膜。

2.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述光学各向同性层在波长589nm下的折射率为Bfny~Bfnx。

3.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述光学各向同性层在波长589nm下的折射率为Bfny+0.02~Bfnx-0.02。

4.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述光学各向同性层在波长589nm下的折射率为1.59~1.72。

5.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述具有凹凸面的基材薄膜的面内延迟量为3000nm以上且7500nm以下。

6.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，赋予凹凸面前的所述基材薄膜的面内延迟量（Re）与厚度方向的延迟量（Rth）之比（Re/Rth）为0.5以上且1.2以下。

7.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述基材薄膜的NZ系数为1.3以上且2.5以下。

8.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述基材薄膜的面取向度为0.09以上且0.15以下。

9.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述基材薄膜的凹凸面的十点平均粗糙度（Rz）为1μm以上且12μm以下。

10.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述基材薄膜的凹凸的平均间隔（Sm）为5μm以上且300μm以下。

11.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其厚度为20μm以上且100μm以下。

12.一种偏光板，其使用权利要求1~11中任一项所述的层叠薄膜作为偏振片保护膜。

13.根据权利要求12所述的偏光板，其中，偏振片的透光轴与所述基材薄膜的慢轴所成的角度为-10~10度、或者80~100度。

14.一种图像显示装置，其具有权利要求1~11中任一项所述的层叠薄膜，且具有使用KSF荧光体的光源，所述KSF荧光体为在K₂SiF₆结晶中添加有Mn的荧光体。

15.一种图像显示装置，其包含权利要求12所述的偏光板。

16.根据权利要求14所述的图像显示装置，其中，所述图像显示装置为具有光源、光源侧偏光板、液晶显示单元和可视侧偏光板的液晶显示装置，

所述光源为使用KSF荧光体的光源，所述KSF荧光体为在K₂SiF₆结晶中添加有Mn的荧光体，

所述光源侧偏光板和可视侧偏光板的至少一者为权利要求12所述的偏光板，所述层叠薄膜作为与液晶显示单元相反面的偏振片保护膜使用。

17.根据权利要求15所述的图像显示装置，其中，权利要求12所述的偏光板用于光源侧的偏光板。