KR102458462B1 - 간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기재 및 상기 기재 상의 제1 코팅층을 포함하고, 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하이며, 간섭 무늬가 개선된 필름을 제공한다.

Description

간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치{A MULTI-LAYERED FILM WITH IMPROVING INTERFERENCE FRINGE AND DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}
본 발명은 간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치에 대한 것이다.
불용성, 내화학성, 내열성, 내방사선성 및 저온특성 등이 우수한 고분자 수지는 자동차 재료, 항공소재, 우주선 소재, 절연코팅제, 절연막, 보호필름 등으로 사용되고 있다.
최근, 표시장치의 박형화, 경량화, 플렉서블화로 인하여, 표시장치의 커버 윈도우로 유리 대신 고분자 수지로 형성된 고분자 필름을 사용하는 것이 검토되고 있다. 고분자 필름이 표시장치의 커버 윈도우로 사용되기 위해서는, 고분자 필름이 우수한 경도, 내마모성, 굴곡성 등의 물리적 특성을 가질 필요가 있다. 목적하는 물성을 부여하기 위하여, 기재 상에 코팅층을 형성시킨다.
다만, 기재 상에 코팅층이 형성된 필름은, 코팅층과 기재 간의 광학적 물성 차이에 의해 광학적인 간섭이 발생하고, 이로 인해 필름의 표면에 무지개 빛과 같은 간섭 무늬가 발생하게 되어 필름의 시인성이 저하된다는 문제점이 있다.
본 발명의 일 실시예는, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하인 필름을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예는, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예는, 기재 및 상기 기재 상의 제1 코팅층을 포함하고, 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고, 하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 필름을 제공한다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며, 상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며, 상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
상기 기재는 복굴절성을 갖는다.
상기 기재는, X 축 방향 굴절률(Nx)이 1.57 내지 1.67 이고; Y 축 방향 굴절률(Ny)이 1.57 내지 1.67 이며; Z 축 방향 굴절률(Nz)이 1.53 내지 1.57이다.
상기 제1 코팅층은 하기 식 4을 만족하는 굴절률(N1)을 갖는다.
<식 4>
0.927*Nx ≤ N1 ≤ 0.978*Ny
상기 기재 상의 제2 코팅층을 더 포함한다.
상기 제2 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제1 코팅층 사이에 배치된다.
상기 제1 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제2 코팅층 사이에 배치된다.
상기 제2 코팅층은 하기 식 5를 만족하는 굴절률(N2)을 갖는다.
<식 5>
0.793*Nx ≤ N2 ≤ 0.975*Ny
상기 기재 상의 제3 코팅층을 더 포함한다.
상기 제3 코팅층은 하기 식 6를 만족하는 굴절률(N3)을 갖는다.
<식 6>
0.793*Nx ≤ N3 ≤ 0.975*Ny
상기 제1 코팅층은 광투과성 매트릭스 및 상기 광투과성 매트릭스에 분산된 입자를 포함한다.
상기 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함한다.
상기 입자는 지르코니아(zirconia, ZrO2), 실리카(silica, SiO2), 알루미나(alumina, Al2O3), 이산화 타이타늄(titanium dioxide, TiO2), 스티렌(Styrene) 및 아크릴(Acrylic) 중 적어도 하나를 포함한다.
상기 제1 코팅층은 0.01 내지 3.4 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
상기 제2 코팅층은 1 내지 14 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
상기 제3 코팅층은 1㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예는, 폴리이미드계 기재; 및 상기 폴리이미드계 기재 상의 제1 코팅층;을 포함하고, 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고, 하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 폴리이미드계 필름을 제공한다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며, 상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며, 상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
본 발명의 또 다른 일 실시예는, 표시패널 및 상기 표시패널 상에 배치된 상기의 필름을 포함하는, 표시장치를 제공한다.
일반적으로, 유리와 달리 고분자 필름은 경도, 내마모성, 굴곡성 등과 같은 물리적 특성을 향상시키기 위하여 기재 상에 코팅층을 포함하나, 기재 및 코팅층으로 이루어진 필름은 기재 및 코팅층의 광학적 특성 차이에 의하여 간섭 무늬가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)를 1.0 이하로 조절하고, 반사율 그래프 기울기(Gr)를 0.122 이하로 조절함으로써 간섭 무늬가 발생하지 않으며, 시인성이 향상된 필름이 제조될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 필름은 우수한 광학적 특성 및 기계적 특성을 가져, 표시장치의 커버 윈도우로 사용되는 경우, 표시장치의 표시 면을 효과적으로 보호할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필름(100)의 개략도이다.
도 2는 HITACHI社의 UH4150 장비를 이용하여 380~780㎚ 파장영역에서 필름의 빛 반사율을 측정하여 얻은 필름의 반사율 그래프이다.
도 3은 필름의 반사율 그래프 중 임의의 파장영역 범위 Wx에서의 그래프를 확대한 것이다.
도 4는 필름의 반사율 그래프에서 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 그래프 기울기를 표시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 코팅층(20)의 확대도이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예의 스웰링층(12)을 더 포함하는 필름(101)의 개략도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제2 코팅층(30)을 더 포함하는 필름(102)의 개략도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제2 코팅층(30)을 더 포함하는 필름(102)의 또 다른 형태의 개략도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제3 코팅층(40)을 더 포함하는 필름(103)의 개략도이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명한다. 다만, 아래에서 설명되는 실시예들은 본 발명의 명확한 이해를 돕기 위한 예시적 목적으로 제시되는 것일 뿐, 본 발명의 범위를 제한하지 않는다.
본 발명의 실시예들을 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도면에 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 구성 요소는 동일 참조 부호로 지칭될 수 있다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명은 생략된다.
본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이라는 표현이 사용되지 않는 이상, 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소가 단수로 표현된 경우, 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함한다. 또한, 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수 있다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below, beneath)", "하부 (lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해 되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 마찬가지로, 예시적인 용어인 "위" 또는 "상"은 위와 아래의 방향을 모두 포함할 수 있다.
시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1 항목, 제2 항목 및 제3 항목 중 적어도 하나"의 의미는 제1 항목, 제2 항목 또는 제3 항목 각각 뿐만 아니라 제1 항목, 제2 항목 및 제3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필름(100)의 개략도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 발명의 일 실시예에 따른 필름(100)은 기재(10) 및 제1 코팅층(20)을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 필름(100)은 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의하여 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 하기 식 2에 의하여 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하이다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
이하, 도 2 및 3을 참조하여, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)를 설명한다. 본 발명에서 오실레이션(oscillation)은 진폭이라고도 한다.
도 2는 HITACHI社의 UH4150 장비를 이용하여 380~780㎚ 파장영역에서 필름의 빛 반사율을 측정하여 얻은 필름의 반사율 그래프이다. 도 2의 그래프는 하나의 예시에 불과하고, 그래프의 형태 및 결과값은 필름마다 달라질 수 있으므로, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
도 3은 도 2의 필름의 반사율 그래프 중 임의의 파장영역 범위 Wx에서의 그래프를 확대한 것이다.
필름의 반사율 오실레이션 비(Or)는 도 2의 필름의 반사율 그래프로부터 상기 식 1에 의하여 산출될 수 있다.
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역(W1)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역(W2)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이며, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이다.
상기 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출된다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이다.
이하, 도 2 및 3을 참조하여, 상기 식 3에 의하여 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)을 산출하는 방법을 보다 구체적으로 설명한다.
도 2의 그래프에는 빛의 파장 별 필름의 빛 반사 정도가 퍼센트(%)로 표시되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 코팅층을 포함하는 필름은 기재와 코팅층의 광학적 특성 차이로 인하여 광학적인 간섭이 발생하고, 이에 따라 반사율의 피크(peak)와 밸리(valley)가 불규칙적으로 반복하는 진폭(oscillation)이 나타나고, 이와 같은 파장에 따른 반사율의 진폭은 필름의 표면에 발생하는 간섭 무늬의 원인이 된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 임의의 파장영역 범위(Wx)의 필름의 반사율 그래프에서 파장이 증가함에 따라 반사율의 피크(Pk = P1, P2, P3, ..., Pn)와 밸리(Vk = V1, V2, V3, ..., Vn)가 반복해서 나타난다. 이때, 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk)는 하나의 오실레이션을 구성하고, 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)는 하나의 오실레이션 값(Ok)이 된다. 이와 같이 계산된 n개의 오실레이션 값(Ok = O1, O2, O3, ..., On)을 상기 식 3에 대입하면 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 산출할 수 있다.
500 nm 내지 550 nm 파장영역(W1)에서 상기 식 3에 의하여 산출한 반사율 오실레이션 값의 평균을 Om1으로 하고, 650 nm 내지 780 nm 파장영역(W2)에서 상기 식 3에 의하여 산출한 반사율 오실레이션 값의 평균을 Om2으로 하여, 상기 식 1을 통해 반사율 오실레이션 비(Or)를 산출할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이다.
본 발명의 반사율 오실레이션 비(Or)는 파장의 변화에 따른 광간섭 현상에 의해 생기는 필름의 반사율의 변화폭의 크기를 뜻하는 것으로, 반사율 오실레이션 비(Or)가 클수록 광간섭이 증가하고, 반사율 오실레이션 비(Or)가 작을수록 광간섭이 감소된다.
반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하인 경우에는, 파장의 변화에 따른 반사율의 변화폭이 감소하여 반사된 광이 사람의 눈에 균일하게 시인되므로, 간섭 무늬가 관찰되지 않는다. 반면에, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하는 경우에는, 파장의 변화에 따른 반사율의 변화폭이 증가하여 반사된 광이 사람의 눈에 불균일하게 시인되므로, 필름의 표면에 다양한 색감이 좁은 간격으로 보이는 간섭 무늬가 발생할 수 있다.
이하, 도 4를 참조하여, 반사율 그래프 기울기(Gr)를 설명한다.
도 4는 필름의 반사율 그래프에서 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 그래프 기울기를 표시한 것이다. 도 4의 그래프는 하나의 예시에 불과하고, 그래프의 형태 및 결과값은 필름마다 달라질 수 있으므로, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)는 도 4의 필름의 반사율 그래프로부터 상기 식 2에 의하여 산출될 수 있다.
상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 코팅층을 포함하는 필름의 반사율은 파장이 증가함에 따라 진폭이 불규칙적으로 나타난다. 따라서, 반사율 그래프의 임의의 특정 지점에서의 기울기는 측정할 수 있으나, 500 nm 내지 780 nm 파장영역 전체에서의 기울기를 측정하는 것은 어려움이 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시예는 반사율 그래프로부터 해당 파장영역 내의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 평균(Rm1)을 구하고, 마지막 피크(Pf)에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 평균(Rm2)을 구하여, 상기 식 2에 따라 500 nm 내지 780 nm 파장영역 전체에서의 기울기 경향을 판단할 수 있는 반사율 그래프 기울기(Gr)를 산출하였다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하이다.
본 발명의 반사율 그래프 기울기(Gr)는 파장에 따른 필름의 반사율의 증감수준을 뜻하는 것으로, 파장의 변화에 따라 반사율이 급격하게 증가 또는 감소하는 경우 반사율 그래프 기울기(Gr)가 커진다. 반사율 그래프 기울기(Gr)가 클수록 반사된 광이 사람의 눈에 불균일하게 시인되므로, 다양한 색감이 넓은 영역에서 나타나는 간섭 무늬가 발생할 수 있다. 반면에 반사율 그래프 기울기(Gr)가 작을수록 반사된 광이 사람의 눈에 균일하게 시인된다.
반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 경우에는 광간섭이 감소하고, 간섭 무늬가 발생하지 않는다. 반면에 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하는 경우에는 광간섭이 증가하고, 필름의 표면에 간섭무늬가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기재(10)는 투명한 고분자를 포함한다. 투명한 고분자라면 특별한 제한 없이 본 발명의 일 실시예에 따른 기재(10)로 사용될 수 있다. 고분자로서는, 폴리이미드계 고분자, 폴리에스테르계 고분자, 폴리올리핀계 고분자, 노르보르넨계 고분자, 폴리카보네이트계 고분자, 폴리에테르술폰계 고분자, 폴리아릴레이트계 고분자, 폴리아크릴계 고분자, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 고분자, 셀룰로스계 고분자 등의 단일 성분의 고분자, 이들의 공중합 고분자, 에폭시계 고분자 등을 들 수 있다.
특히 폴리이미드계 고분자는 열적 특성, 경도, 내마모성, 굴곡성 등의 물리적 특성뿐만 아니라, 광투과율, 헤이즈와 같은 광학적 특성 역시 우수하여, 표시장치의 커버 윈도우로 사용되는 필름의 기재로 폴리이미드계 고분자를 포함되는 것이 바람직하다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명에서 폴리이미드계 고분자란, 주 사슬구조 내에 이미드(imide) 작용기의 반복단위를 포함하는 고분자를 말하며, 일반적으로 아민(amine)과 카복실산 무수물(carboxylic anhydride)기 간의 축합 반응에 의해 형성되는 것을 말한다. 또한, 폴리이미드계 고분자는 아미드 반복단위를 포함할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드계 고분자로 폴리아마이드-이미드 고분자가 있다.
기재(10)의 고분자에 따라 필름(100)의 종류가 달라질 수 있다. 예를 들어, 기재(10)가 폴리이미드계 고분자를 포함하는 필름(100)은 폴리이미드계 필름이라 할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 고분자는 광학이방성 성질을 가지고, 그에 따라 기재(10)는 복굴절성을 가진다.
기재(10)의 X 축 방향 굴절률(Nx)은 1.57 내지 1.67일 수 있으며, Y 축 방향 굴절률(Ny)은 1.57 내지 1.67일 수 있고, Z 축 방향 굴절률(Nz)은 1.53 내지 1.57일 수 있다.
본 발명에서 기재의 Z축 방향은 기재의 높이 방향을 말하며, 기재의 X 축 방향 및 Y 축 방향은 가로 및 세로 방향의 굴절률에 따라 정해진다. 본 발명에서, 가로 방향의 굴절률 및 세로 방향의 굴절률 중 큰 값의 굴절률의 방향이 X 축 방향이고, 작은 값의 굴절률의 방향이 Y 축 방향이다.
따라서, 기재의 X 축 방향 굴절률(Nx)은 기재의 가로 방향의 굴절률 및 세로방향의 굴절률 중 더 큰 굴절률을 말하며, 기재의 Y 축 방향 굴절률(Ny)은 기재의 가로 방향 굴절률 및 세로 방향의 굴절률 중 더 작은 굴절률을 말하고, 기재의 Z 축 방향 굴절률(Nz)은 기재의 높이 방향의 굴절률을 말한다.
기재의 각 방향에 따른 굴절률이 상기 범위를 벗어나는 경우, 기재와 코팅층의 굴절률 차이로 인하여, 간섭무늬가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기재(10)는 100㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다.
이하, 도 5를 참조하여, 본 발명의 제1 코팅층(20)을 상세하게 설명한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 코팅층(20)의 확대도이다.
제1 코팅층(20)은 기재(10) 상에 위치하여, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하는 역할을 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)은 광투과성 매트릭스(21) 및 광투과성 매트릭스에 분산된 입자(22)를 포함할 수 있다.
광투과성 매트릭스(21) 및 광투과성 매트릭스에 분산된 입자(22)를 표현한 제1 코팅층(20)은 도 5와 같다.
제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스에 분산된 입자(22)는 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제1 코팅층(20)의 굴절률을 조절한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 입자는 지르코니아(zirconia, ZrO2), 실리카(silica, SiO2), 알루미나(alumina, Al2O3), 이산화 타이타늄(titanium dioxide, TiO2), 스티렌(Styrene) 및 아크릴(Acrylic) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 특히, 지르코니아는 제1 코팅층의 굴절률을 조절하고, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하여 간섭 무늬의 발생을 방지하기 유리하다.
제1 코팅층(20)은 제1 코팅 조성물에 의해 형성될 수 있다. 제1 코팅 조성물은 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제1 코팅 조성물은 입자를 포함할 수 있다. 제1 코팅 조성물은 용매를 포함할 수 있다.
반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)의 종류, 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 종류, 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 함량, 제1 코팅층(20)의 굴절률, 제1 코팅층(20)의 두께 및 제1 코팅층(20) 형성을 위한 "제1 코팅 조성물의 용매"를 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)의 종류를 조절할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)의 종류에 따라, 제1 코팅층(20)의 굴절률이 달라질 수 있으며, 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 종류를 조절할 수 있다.
입자(22)는 지르코니아, 실리카, 알루미나, 이산화 타이타늄, 스티렌 및 아크릴 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게, 입자(22)는 지르코니아를 포함할 수 있다.
제1 코팅층(20) 내의 입자(22)는 제1 코팅층(20)의 굴절률을 조절함으로써, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122가 될 수 있다. 특히 지르코니아는 제1 코팅층(20)의 굴절률을 조절하는데 용이하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 함량을 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20) 내 입자(22)는 광투과성 매트릭스(21) 100 중량부 대비 10 내지 50 중량부 포함한다.
제1 코팅층(20) 내 입자(22)가 광투과성 매트릭스(21) 100 중량부 대비 10 중량부 미만이거나, 50 중량부 초과이면, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)은 기재의 X 축 및 Y 축 굴절률에 따라 하기 식 4의 굴절률(N1)을 가질 수 있다.
<식 4>
0.927*Nx ≤ N1 ≤ 0.978*Ny
제1 코팅층(20)의 굴절률(N1)이 상기의 범위를 벗어나는 경우에는 필름(100)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
따라서, 필름(100)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하로 조절하기 위해, 제1 코팅층(20)의 굴절률을 상기 식 4의 범위로 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)은 0.01 내지 3.4 ㎛의 두께를 가질 수 있고, 바람직하게는 0.07 내지 1.3㎛의 두께를 가질 수 있다.
제1 코팅층(20)의 두께를 0.01 내지 3.4 ㎛로 조절함으로써, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하의 필름을 제조할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 두께가 0.01㎛ 미만인 경우, 코팅 안정성이 저하되고, 스웰링층(12)의 두께가 얇아져, 반사율 오실레이션 비(Or) 조절 효과가 미비하다. 또한, 제1 코팅층(20)의 두께가 3.4 ㎛ 초과인 경우, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)을 형성하기 위한 제1 코팅 조성물의 용매를 조절함으로써, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하의 필름을 제조할 수 있다.
구체적으로, 제1 코팅 조성물의 용매는 MEK (Methyl Ethyl Ketone), MIBK (Methyl Isobutyl Ketone), PGME (Propylene Glycol Methyl Ether) 및 EA (Ethyl Acetate) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 특히, MEK를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅 조성물의 용매는 MEK; 및 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나;를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅 조성물의 용매 중 MEK와 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나의 질량비는 8:2 내지 6:4일 수 있다.
제1 코팅 조성물의 용매에 의해 스웰링층이 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 필름(101)은 스웰링층(12)을 더 포함할 수 있다.
스웰링층(12)은 잔여 기재층(11) 및 제1 코팅층(20) 사이에 위치할 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예의 스웰링층(12)을 더 포함하는 필름(101)의 개략도이다.
이하 도 6을 참고하여, 스웰링층(12)을 설명한다.
스웰링층(12)은 제1 코팅 조성물의 용매에 의해 형성될 수 있다.
도 6에 도시된 바와 같이, 스웰링층(12)은 잔여 기재층(11) 및 제1 코팅층(20) 사이에 위치하는 층으로, 기재(10) 상에 제1 코팅 조성물로 제1 코팅층(20)을 형성하는 과정에서, 제1 코팅 조성물에 포함된 용매는 필름(101)의 기재(10)를 스웰링(swelling)시킬 수 있다. 그에 따라, 기재(10)에 스웰링층(12)이 형성될 수 있다. 이때, 스웰링되지 않은 기재(10) 부분을 잔여 기재층(11)이라 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기재(10)는 잔여 기재층(11) 및 스웰링층(12)을 포함할 수 있다.
잔여 기재층(11)과 제1 코팅층(20) 사이에 스웰링층(12)이 배치됨으로써, 필름(101)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하가 될 수 있고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하가 될 수 있다.
스웰링층(12)은 1.66 이하의 굴절률을 가질 수 있다.
필름(101)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하가 되도록 하기 위하여, 스웰링층(12)의 굴절률은 1.66 이하로 조절될 수 있다.
스웰링층(12)의 굴절률이 1.66 초과인 경우, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0보다 커지고, 필름(101)의 표면에 간섭무늬가 시인되는 문제이다.
스웰링층(12)은 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%의 두께를 가질 수 있다.
필름(101)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하가 되도록 하기 위하여, 스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%의 범위로 할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께가 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10% 미만인 경우, 기재(10) 및 제1 코팅층(20)의 밀착력이 약해질 수 있다. 그리고, 50%를 초과하는 경우, 필름(101)의 유연성이 감소할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께는 "제1 코팅 조성물의 용매"의 종류, 함량, 함량비에 따라 달라질 수 있고, 제1 코팅층(20)의 건조 시간 및 온도에 따라서도 달라질 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅 조성물의 용매는 MEK; 및 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나;를 포함할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅 조성물의 용매의 MEK; 및 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나;를 8:2 내지 6:4의 질량비로 혼합하여 사용할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅층(20)의 두께를 0.01 내지 3.4 ㎛로 할 수 있다.
제1 코팅층(20) 두께가 0.01㎛ 미만인 경우, 코팅 안정성이 저하되고, 스웰링층(12)의 두께가 얇아져, 반사율 오실레이션 비(Or) 조절 효과가 미비하다. 또한, 3.4㎛ 초과인 경우, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하게 되어 간섭무늬가 발생하고, 필름의 시인성이 나빠질 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅층(20)을 제조 시, 50 내지 60 ℃에서 1~2분, 70 내지 80 ℃에서 2~3 분, 90 내지 100 ℃에서 2~3 분의 단계로 그라데이션 건조를 할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 제조 시에 단계별 상한 온도를 초과하게 되면, 용매가 급격히 휘발되어 스웰링층(12)이 충분히 형성되지 못하는 문제가 발생할 수 있고, 단계별 하한 온도 미만인 경우, 스웰링층(12)의 두께가 본 발명의 범위보다 두꺼워지는 문제가 발생할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 건조 시간이 단계별 상한 시간을 초과하게 되면, 스웰링층(12)의 두께가 본 발명의 범위보다 두꺼워지는 문제가 발생할 수 있으며, 단계별 하한 시간 미만인 경우, 스웰링층(12)이 충분히 형성되지 못하는 문제가 발생할 수 있다.
반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제조방법을 조절할 수 있다. 예를 들어, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)의 제조과정에서 건조방법을 조절할 수 있다.
예를 들어, 제1 코팅층(20)을 제조 시, 50 내지 60 ℃에서 1~2분, 70 내지 80 ℃에서 2~3 분, 90 내지 100 ℃에서 2~3 분의 단계로 그라데이션 건조를 할 수 있다.
이와 같이, 제1 코팅층(20)의 성분, 굴절률, 두께 및 제조방법을 조절함으로써, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제1 코팅층의 굴절률을 조절할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 필름(102)은 기재(10) 상의 제2 코팅층(30)을 더 포함할 수 있다.
도 7 및 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제2 코팅층(30)을 더 포함하는 필름(102)의 개략도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 제2 코팅층(30)이 기재(10) 및 제1 코팅층(20) 사이에 배치될 수도 있다.
도 8에 도시된 바와 같이, 제1 코팅층(20)이 기재(10) 및 제2 코팅층(30) 사이에 배치될 수도 있다.
필름(102)의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)는 제2 코팅층(30)에 의해서도 조절될 수 있다.
제2 코팅층(30)은 기재(10) 또는 제1 코팅층(20), 필름(102)이 부착된 피착물을 외부의 환경으로부터 보호하는 층으로, 제2 코팅층(30)은 하드 코팅층일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제2 코팅층(30)은 기재의 X 축 및 Y 축 굴절률에 따라 하기 식 5의 굴절률(N2)을 가질 수 있다.
<식 5>
0.793*Nx ≤ N2 ≤ 0.975*Ny
제2 코팅층(30)의 굴절률(N2)이 상기의 범위를 벗어나는 경우에는 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제2 코팅층(30)은 광투과성 매트릭스를 포함할 수 있다.
제2 코팅층(30)의 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제2 코팅층(30)의 광투과성 매트릭스는 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스와 동일할 수도 있고, 다를 수도 있다. 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 다만, 동일한 광투과성 매트릭스를 사용하는 경우에는 제1 및 제2 코팅층 간의 밀착력이 증가하므로, 동일한 광투과성 매트릭스를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제2 코팅층(30)은 1 내지 14 ㎛의 두께를 가질 수 있고, 바람직하게는, 3 내지 7 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
제2 코팅층(30)의 두께를 조절함으로써, 필름(102)의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제2 코팅층(30)의 굴절률을 조절할 수 있다.
제2 코팅층(30)은 제2 코팅 조성물을 이용하여 형성될 수 있다. 제2 코팅 조성물은 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제2 코팅 조성물은 용매를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 필름(103)은 기재(10) 상의 제3 코팅층(40)을 더 포함할 수 있다.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제3 코팅층(40)을 더 포함하는 필름(103)의 개략도이다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 제3 코팅층(40)은 기재의 X 축 및 Y 축 굴절률에 따라 하기 식 6의 굴절률(N3)을 가질 수 있다.
<식 6>
0.793*Nx ≤ N3 ≤ 0.975*Ny
제3 코팅층(40)의 굴절률(N3)이 상기의 범위를 벗어나는 경우에는 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제3 코팅층(40)은 광투과성 매트릭스를 포함할 수 있다.
제3 코팅층(40)의 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제3 코팅층(40)의 광투과성 매트릭스는 제1 코팅층(20) 또는 제2 코팅층(30)의 광투과성 매트릭스와 동일할 수도 있고, 다를 수도 있다. 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 제3 코팅층(40)은 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
제3 코팅층(40)의 두께를 조절함으로써, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제3 코팅층(40)의 굴절률을 조절할 수 있다.
제3 코팅층(40)은 제3 코팅 조성물을 이용하여 형성될 수 있다. 제3 코팅 조성물은 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제3 코팅 조성물은 용매를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 표시장치는 표시패널 및 표시패널 상의 필름을 포함한다. 표시장치의 필름은 본 발명의 일 실시예에 따른 필름을 포함할 수 있다.
표시패널은 기판, 기판 상의 박막 트랜지스터(TFT) 및 박막 트랜지스터(TFT)와 연결된 유기 발광 소자를 포함한다. 유기 발광 소자는 제1 전극, 제1 전극 상의 유기 발광층 및 유기 발광층 상의 제2 전극을 포함한다. 표시장치는 유기발광 표시장치일 수 있다.
기판은 유리 또는 플라스틱으로 만들어질 수 있다. 구체적으로, 기판은 폴리이미드계 수지 또는 폴리이미드계 필름과 같은 플라스틱으로 만들어질 수 있다. 기판 상에 버퍼층이 배치될 수 있다.
박막 트랜지스터(TFT)는 기판 상에 배치된다. 박막 트랜지스터(TFT)는 반도체층, 반도체층과 절연되어 반도체층의 적어도 일부와 중첩하는 게이트 전극, 반도체층과 연결된 소스 전극 및 소스 전극과 이격되어 반도체층과 연결된 드레인 전극을 포함한다.
게이트 전극과 반도체층 사이에 게이트 절연막이 배치된다. 게이트 전극 상에 층간 절연막이 배치되고, 층간 절연막 상에 소스 전극 및 소스 전극이 배치될 수 있다.
평탄화막은 박막 트랜지스터(TFT) 상에 배치되어 박막 트랜지스터(TFT)의 상부를 평탄화시킨다.
제1 전극은 평탄화막 상에 배치된다. 제1 전극은 평탄화막에 구비된 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(TFT)와 연결된다.
뱅크층은 제1 전극의 일부 및 평탄화막 상에 배치되어 화소 영역 또는 발광 영역을 정의한다. 예를 들어, 뱅크층이 복수의 화소들 사이의 경계 영역에 매트릭스 구조로 배치됨으로써, 뱅크층에 의해 화소 영역이 정의될 수 있다.
유기 발광층은 제1 전극 상에 배치된다. 유기 발광층은 뱅크층 상에도 배치될 수 있다. 유기 발광층은 하나의 발광층을 포함할 수도 있고, 상하로 적층된 2개의 발광층을 포함할 수도 있다. 이러한 유기 발광층에서는 적색, 녹색 및 청색 중 어느 하나의 색을 갖는 광이 방출될 수 있으며, 백색(White) 광이 방출될 수도 있다.
제2 전극은 유기 발광층 상에 배치된다.
제1 전극, 유기 발광층 및 제2 전극이 적층되어 유기 발광 소자가 이루어질 수 있다.
유기 발광층이 백색(White) 광을 발광하는 경우, 개별 화소는 유기 발광층에서 방출되는 백색(White) 광을 파장 별로 필터링하기 위한 컬러 필터를 포함할 수 있다. 컬러 필터는 광의 이동경로 상에 형성된다.
제2 전극 상에 박막 봉지층이 배치될 수 있다. 박막 봉지층은 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막을 포함할 수 있으며, 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막이 교호적으로 배치될 수 있다.
이상 설명된 적층 구조를 갖는 표시패널 상에 본 발명의 일 실시예에 따른 필름이 배치된다.
이하, 예시적인 제조예 및 실시예를 참조하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 이하 설명되는 제조예나 실시예에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
<제조예 1: 고굴절 폴리이미드계 기재 제조>
교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서, DMAc(N,N-Dimethylacetamide) 735.264g을 채운 후, 반응기의 온도를 25 ℃로 맞춘 후, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 (2,2'-Bis(trifluoromethyl)benzidine, TFDB) 54.439g(0.17mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 유지하였다. 여기에 비페닐-테트라카르복실산 이무수물(biphenyl-tetracarboxylic acid dianhydride, BPDA) 10.003g(0.034mol)을 첨가하고 3시간 동안 교반하여 BPDA를 완전히 용해시킨 후, 4,4'-(헥사플루오로 이소프로필리덴)디 프탈산 무수물 (4,4'-Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA) 15.105g(0.034mol)을 첨가하여 완전히 용해시켰다. 반응기 온도를 10 ℃로 내린 후 테레프탈로일 클로라이드 (Terephthaloyl chloride, TPC) 20.716g(0.102mol)을 첨가한 후 25 ℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 12중량%인 중합체 용액을 얻었다.
얻어진 중합체 용액에 피리딘 11.833g, 아세틱 안하이드라이드 15.110g을 투입하여 30분 교반 후, 다시 70 ℃에서 1시간 교반하여 상온으로 식히고, 얻어진 중합체 용액에 메탄올 20L를 첨가하여 고형분을 침전시키고, 침전된 고형분을 여과하고 분쇄한 후, 다시 메탄올 2L로 세정한 후, 100 ℃에서 진공으로 6시간 건조하여 분말 상태의 폴리이미드계 중합체 고형분을 얻었다. 여기서 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분은 폴리아마이드-이미드 중합체 고형분이다.
1L 반응기에 550g의 DMAc 채운 후, 반응기의 온도를 10 ℃로 유지한 채 일정시간 교반하였다. 이후 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분 분말의 75g을 투입한 후, 1시간 교반 후 25 ℃로 승온시켜서 액상의 폴리이미드계 수지 용액을 제조하였다.
얻어진 폴리이미드계 수지 용액을 유리 기판에 어플리케이터로 도포한 후 130℃의 열풍으로 30분 건조하여 필름을 제조한 후, 제조된 필름을 유리 기판에서 박리하여 프레임에 핀으로 고정하였다.
필름이 고정된 프레임을 진공오븐에 넣고 100℃부터 300℃까지 2시간 동안 천천히 가열한 후, 서서히 냉각해 프레임으로부터 분리하여 고굴절 폴리이미드계 기재를 수득하였다. 다시 고굴절 폴리이미드계 기재를 250℃에서 5분 동안 열처리하였다.
고굴절 폴리이미드계 기재의 두께는 50㎛으로, 광투과성이며, 복굴절성을 갖는다. 기재의 굴절률은 Nx=Ny=1.65, Nz=1.55이다.
<제조예 2: 저굴절 폴리이미드계 기재 제조>
교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서, DMAc(N,N-Dimethylacetamide) 754.06g을 채운 후, 반응기의 온도를 25 ℃로 맞춘 후, TFDB 44.832g(0.14mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 유지하였다. 여기에 BPDA 8.238g(0.028mol)을 첨가하고 3시간 동안 교반하여 BPDA를 완전히 용해시킨 후, 6FDA 49.756g(0.112mol)을 첨가한 후 25 ℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 12중량%인 중합체 용액을 얻었다.
얻어진 중합체 용액에 피리딘 24.36g, 아세틱 안하이드라이드 31.11g을 투입하여 30분 교반 후, 다시 70 ℃에서 1시간 교반하여 상온으로 식혀 얻어진 중합체 용액에 메탄올 20L를 첨가하여 고형분을 침전시키고, 침전된 고형분을 여과하고 분쇄한 후, 다시 메탄올 2L로 세정한 후, 100 ℃에서 진공으로 6시간 건조하여 분말 상태의 폴리이미드계 중합체 고형분을 얻었다. 여기서 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분은 폴리아마이드-이미드 중합체 고형분이다.
이후, 얻어진 폴리이미드계 중합체 고형분를 이용하여 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 저굴절 폴리이미드계 기재를 제조하였다.
저굴절 폴리이미드계 기재의 두께는 50㎛으로, 광투과성이며, 복굴절성을 갖는다. 기재의 굴절률은 Nx=Ny=1.57, Nz=1.53이다.
<제조예 3: 중간 굴절 폴리이미드계 기재 제조>
교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서, DMAc(N,N-Dimethylacetamide) 776.655g을 채운 후, 반응기의 온도를 25 ℃로 맞춘 후, TFDB 54.439g(0.17mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 유지하였다. 여기에 BPDA 15.005g(0.051mol)을 첨가하고 3시간 동안 교반하여 BPDA를 완전히 용해시킨 후, 6FDA 22.657g(0.051mol)을 첨가하여 완전히 용해시켰다. 반응기 온도를 10 ℃로 내린 후 TPC 13.805g(0.068mol)을 첨가한 후 25 ℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 12중량%인 중합체 용액을 얻었다.
얻어진 중합체 용액에 피리딘 17.75g, 아세틱 안하이드라이드 22.92g을 투입하여 30분 교반 후, 다시 70 ℃에서 1시간 교반하여 상온으로 식히고, 얻어진 중합체 용액에 메탄올 20L를 첨가하여 고형분을 침전시키고, 침전된 고형분을 여과하고 분쇄한 후, 다시 메탄올 2L로 세정한 후, 100 ℃에서 진공으로 6시간 건조하여 분말 상태의 폴리이미드계 중합체 고형분을 얻었다. 여기서 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분은 폴리아마이드-이미드 중합체 고형분이다.
이후, 얻어진 폴리이미드계 중합체 고형분를 이용하여 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 중간 굴절 폴리이미드계 기재를 제조하였다.
중간 굴절 폴리이미드계 기재의 두께는 50㎛으로, 광투과성이며, 복굴절성을 갖는다. 기재의 굴절률은 Nx=Ny=1.62, Nz=1.54이다.
<실시예 1>
2-(3,4-Epoxycylohexyl)ethytrimethoxysilane (TCI社), TEOS (Tetraethyl orthosilicate, Sigma-Aldrich社), H2O를 747.66mL : 38.28mL : 93.88mL 비율로 혼합하여 1500mL 플라스크에 넣은 후, 수산화나트륨 0.1g을 촉매로 첨가하여 60 ℃에서 10시간 동안 교반하였다. 이 후, 0.45um 테프론 필터를 사용해 여과하여 에폭시계 수지를 얻었다.
다음으로, 제조된 에폭시계 수지에 MEK (Methyl Ethyl Ketone) : MIBK (Methyl Isobutyl Ketone)을 8 : 2 비율로 희석하여 600mL 첨가한 후, 광개시제로 IRGACURE 250 (BASF社)을 상기 제조된 에폭시계 수지 대비 3 중량부 첨가하고, Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (고형분 42wt%, Cyclohexanone+MIBK+Aliphatic solvent, TOYOCHEM社)을 고형분 기준 상기 에폭시계 수지 대비 30 중량부 첨가하여 경화 시 굴절율 1.57의 제1 코팅 조성물을 얻었다.
제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재를 기재(10)로 사용하였다.
상기 제1 코팅 조성물을 상기 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60℃/2분, 80℃/3분, 100℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 25㎚로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 1J/㎠ 노광시켜 100㎚ 두께의 제1 코팅층을 갖는 1차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제1 코팅 조성물에서 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 제외하여 경화 시 굴절률 1.50의 제2 코팅 조성물을 제조하였다. 상기 제2 코팅 조성물을 1차 필름 경화막 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 100 ℃에서 10분 건조하고, 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 제2 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 2>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 43 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.60이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 3>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 17 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.54이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 4>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 13 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.53이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 2에서 제조된 저굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 5>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 22 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.55이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 3에서 제조된 중간 굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 6>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 및 제2 코팅층을 갖는 2차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제2 코팅 조성물을 상기 2차 필름의 다른 일면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60℃/2분, 80℃/3분, 100℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 0.2㎛로 형성 시켰다. 다음으로 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 0.8㎛ 두께의 제3 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 7>
3-(Trimethoxysilyl)propyl methacrylate (Sigma-Adrich社), TEOS (Sigma-Aldrich社), H2O를 747.66mL : 38.28mL : 93.88mL비율로 혼합하여 1500mL 플라스크에 넣은 후, 수산화나트륨 0.1g을 촉매로 첨가하여 60 ℃에서 10시간 동안 교반하였다. 이 후, 0.45um 테프론 필터를 사용해 여과하여 아크릴계 수지를 얻었다.
다음으로, 제조된 아크릴계 수지에 MEK : MIBK을 8 : 2 비율로 희석하여 600mL 첨가한 후, 광개시제로 IRGACURE 184 (BASF社)을 상기 제조된 아크릴계 수지 대비 3 중량부 첨가하고, Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 상기 아크릴계 수지 대비 30 중량부 첨가하여 경화 시 굴절율 1.57의 제1 코팅 조성물을 얻었다.
제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재를 기재(10)로 사용하였다.
상기 제1 코팅 조성물을 상기 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60℃/2분, 80℃/3분, 100℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 25nm로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 1J/㎠ 노광시켜 100㎚ 두께의 제1 코팅층을 갖는 1차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제1 코팅 조성물에서 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 제외하여 경화 시 굴절률 1.50의 제2 코팅 조성물을 제조하였다. 상기 제2 코팅 조성물을 1차 필름 경화막 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 100 ℃에서 10분 건조하고, 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 제2 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 1>
2-(3,4-Epoxycylohexyl)ethytrimethoxysilane (TCI社), TEOS (Sigma-Aldrich社), H2O를 747.66mL : 38.28mL : 93.88mL비율로 혼합하여 1500mL 플라스크에 넣은 후, 수산화나트륨 0.1g을 촉매로 첨가하여 60 ℃에서 10시간 동안 교반하였다. 이 후, 0.45um 테프론 필터를 사용해 여과하여 에폭시계 수지를 얻었다.
다음으로, 제조된 에폭시계 수지에 MEK : MIBK을 8 : 2 비율로 희석하여 600mL 첨가한 후, 광개시제로 IRGACURE 250 (BASF社)을 상기 제조된 에폭시계 수지 대비 3 중량부 첨가하여 경화 시 굴절률 1.50의 에폭시계 수지 조성물을 얻었다.
제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재를 기재(10)로 사용하였다.
상기 에폭시계 수지 조성물을 상기 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60℃/2분, 80℃/3분, 100℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 25nm로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 하나의 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 2>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 60 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.64이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 3>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 5 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.51이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 4>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.57이다.
상기 제1 코팅 조성물에 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 26 중량부를 추가로 첨가(총 56중량부)하여, 경화 시 굴절률 1.63의 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 5>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.57이다.
상기 제1 코팅 조성물을 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60℃/2분, 80℃/3분, 100℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 1.25㎚로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 1J/㎠ 노광시켜 100㎚ 두께의 제1 코팅층을 갖는 1차 필름을 제조하였다.
다음으로, 실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조된 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 1차 필름 경화막 상면에 제2 코팅층을 형성 시켜, 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 6>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 및 제2 코팅층을 갖는 2차 필름을 제조하였다.
다음으로, 상기 제1 코팅 조성물에 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 26 중량부를 추가로 첨가(총 56중량부)하여, 경화 시 굴절률 1.63의 제3 코팅 조성물을 제조하였다.
그 다음 제3 코팅 조성물을 상기 2차 필름의 다른 일면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60℃/2분, 80℃/3분, 100℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 0.2㎛로 형성 시켰다. 다음으로 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 0.8㎛ 두께의 제3 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 7>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 및 제2 코팅층을 갖는 2차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제2 코팅 조성물을 상기 2차 필름의 다른 일면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60℃/2분, 80℃/3분, 100℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 1.25㎛로 형성 시켰다. 다음으로 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 제3 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<측정예>
실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 7에서 제조된 필름에 대하여 다음과 같은 특정을 실행하였다.
(1) 밀착력
TQC社의 CC1000 모델을 사용하여 ASTM D3359에 따라 격자무늬로 절단 후 박리되는 정도 측정하였다.
(2) 투과도 및 Haze
실시예 및 비교예에 따라 제조된 최종 필름을 50mm Х 50mm로 잘라 MURAKAMI社의 헤이즈미터 (모델명: HM-150) 장비를 이용하여 ASTM D1003에 따라 투과도 및 헤이즈를 5회 측정하여 그 평균 값을 확인하였다.
(3) 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)
HITACHI社의 UH4150 장비를 이용하여 380~780㎚ 파장영역에서 빛 반사율을 측정하였다. 측정한 필름의 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or) 및 하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)를 산출하였다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역(W1)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역(W2)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며, 상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며, 상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
(4) 간섭 무늬
삼파장램프 아래에서 실시예 및 비교예의 필름을 육안으로 평가하여 다음과 같은 등급으로 나누어 평가 하였다.
A: 육안으로 인지 어려움.
B: 소수 전문인력의 육안으로 인지는 할 수 있으나, 사용하는데 무리 없음.
C: 보통의 소수가 육안으로 인지할 수 있으며, 적층 구조에 따라 사용하는데 제한 받을 수 있음.
D: 보통의 다수가 육안으로 확인 할 수 있으며, 사용 불가능.
E: 보통의 다수가 육안으로 명확하게 확인 할 수 있으며, 사용 불가능.
측정결과는 하기 표 1과 같다.
밀착력 투과율 Haze 반사율 오실레이션 비(Or) 반사율 그래프 기울기(Gr) 간섭 무늬 수준
실시예1 5B > 90% < 1.0% -1.54 0.063 A
실시예2 5B > 90% < 1.0% -0.44 0.067 B
실시예3 5B > 90% < 1.0% -0.92 0.067 B
실시예4 5B > 90% < 1.0% -1.63 0.067 A
실시예5 5B > 90% < 1.0% -1.70 0.066 A
실시예6 5B > 90% < 1.0% 0.17 0.121 B
실시예7 5B > 90% < 1.0% -1.54 0.063 A
비교예1 5B > 90% < 1.0% 1.12 0.063 C
비교예2 5B > 90% < 1.0% 1.19 0.057 C
비교예3 5B > 90% < 1.0% 1.36 0.069 D
비교예4 5B > 90% < 1.0% 1.28 0.057 C
비교예5 5B > 90% < 1.0% -0.47 1.125 C
비교예6 5B > 90% < 1.0% 1.31 0.057 D
비교예7 5B > 90% < 1.0% 2.95 0.012 E
상기 표 1의 측정결과에 개시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 필름은 기재와 코팅층의 밀착력 및 유연성뿐만 아니라, 투과율 및 헤이즈와 같은 광학특성 역시 우수하였다.
실시예 1과 비교예 1을 통해 알 수 있듯이, 제2 코팅층과 기재 사이에 제1 코팅층이 적용되어 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)이 본원의 범위를 만족하는 필름이 제1 코팅층이 적용되어 있지 않은 필름보다 간섭 무늬 수준이 양호한 것으로 나타났다.
그리고 실시예 1 내지 3과 비교예 2 내지 3을 비교해보면, 제2 코팅층과 기재 사이에 제1 코팅층이 적용되어 있는 구조라도 굴절률이 본원의 범위를 벗어나, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하는 경우에는 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
또한, 실시예 1과 비교예 5를 통해 알 수 있듯이, 제2 코팅층과 기재 사이에 제1 코팅층이 적용되어 있더라도 제1 코팅층의 두께가 일정 범위 수준을 벗어남에 따라 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하면 마찬가지로 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
실시예 1과 비교예 4를 비교해보면, 제2 코팅층과 기재 사이에 적정 굴절률과 두께를 갖는 제1 코팅층이 적용되어 있더라도, 제1 코팅층의 굴절률이 일정 범위 수준을 벗어남에 따라, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하면 마찬가지로 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
또한, 실시예 6과 비교예 6 내지 7을 비교해보면, 제1 코팅층과 기재 사이에 적정 굴절률과 두께를 갖는 제1 코팅층이 적용되어 있는 구조의 다른 일면에 제3 코팅층을 형성할 때, 제3 코팅층의 굴절률 및 두께가 일정 범위 수준을 벗어나 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하면 마찬가지로 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
그리고 실시예 4 내지 5에서 알 수 있듯이, 기재의 굴절률이 바뀌더라도 일정 범위를 벗어나지 만족하여, 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)이 본원의 범위를 만족하는 경우에는 간섭 무늬 개선 효과가 있다.
또한, 실시예 1과 실시예 7에서 알 수 있듯이, 제1 코팅층 및 제2 코팅층 조성물이 에폭시계 수지 조성물뿐만 아니라, 아크릴계 수지 조성물 인 경우에도 동일한 결과를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다.
100, 101, 102, 103: 필름
10: 기재
11: 잔여 기재층
12: 스웰링층
20: 제1 코팅층
21: 광투과성 매트릭스
22: 입자
30: 제2 코팅층
40: 제3 코팅층

Claims (18)

  1. 기재; 및
    상기 기재 상의 제1 코팅층;
    을 포함하고,
    380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터,
    하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고,
    하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 필름:
    <식 1>
    Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
    <식 2>
    Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
    상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며,
    상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
    <식 3>
    Om = (1/n)*∑(Ok)
    상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며,
    상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기재는 복굴절성을 갖는, 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기재는,
    X 축 방향 굴절률(Nx)이 1.57 내지 1.67 이고;
    Y 축 방향 굴절률(Ny)이 1.57 내지 1.67 이며;
    Z 축 방향 굴절률(Nz)이 1.53 내지 1.57;인,
    필름.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은 하기 식 4을 만족하는 굴절률(N1)을 갖는,
    필름.
    <식 4>
    0.927*Nx ≤ N1 ≤ 0.978*Ny
  5. 제3항에 있어서,
    상기 기재 상의 제2 코팅층을 더 포함하는, 필름.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제1 코팅층 사이에 배치되는, 필름.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제2 코팅층 사이에 배치되는, 필름.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 제2 코팅층은 하기 식 5를 만족하는 굴절률(N2)을 갖는,
    필름.
    <식 5>
    0.793*Nx ≤ N2 ≤ 0.975*Ny
  9. 제3항에 있어서,
    상기 기재 상의 제3 코팅층을 더 포함하는, 필름.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제3 코팅층은 하기 식 6를 만족하는 굴절률(N3)을 갖는,
    필름.
    <식 6>
    0.793*Nx ≤ N3 ≤ 0.975*Ny
  11. 제1항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은 광투과성 매트릭스 및 상기 광투과성 매트릭스에 분산된 입자를 포함하는, 필름.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함하는, 필름.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 입자는 지르코니아(zirconia, ZrO2), 실리카(silica, SiO2), 알루미나(alumina, Al2O3), 이산화 타이타늄(titanium dioxide, TiO2), 스티렌(Styrene) 및 아크릴(Acrylic) 중 적어도 하나를 포함하는,
    필름.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은 0.01 내지 3.4 ㎛의 두께를 갖는,
    필름.
  15. 제5항에 있어서,
    상기 제2 코팅층은 1 내지 14 ㎛의 두께를 갖는,
    필름.
  16. 제9항에 있어서,
    상기 제3 코팅층은 1㎛ 이하의 두께를 갖는,
    필름.
  17. 폴리이미드계 기재; 및
    상기 폴리이미드계 기재 상의 제1 코팅층;
    을 포함하고,
    380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터,
    하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고,
    하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 폴리이미드계 필름:
    <식 1>
    Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
    <식 2>
    Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
    상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며,
    상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
    <식 3>
    Om = (1/n)*∑(Ok)
    상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며,
    상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
  18. 표시패널; 및
    상기 표시패널 상에 배치된, 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항의 필름;
    을 포함하는, 표시장치.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019124908A (ja) * 2018-01-11 2019-07-25 東洋紡株式会社 積層フィルム及びそれを用いた偏光板
KR102032316B1 (ko) 2018-07-09 2019-10-15 에스케이씨 주식회사 광학 다층 필름, 이를 포함하는 광학 부품 및 표시장치

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4475016B2 (ja) * 2003-06-30 2010-06-09 東レ株式会社 ハードコートフィルム、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2005301004A (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Seiichi Suzuki 反射防止フィルム
US7378136B2 (en) 2004-07-09 2008-05-27 3M Innovative Properties Company Optical film coating
JP4887612B2 (ja) * 2004-10-20 2012-02-29 日油株式会社 減反射材及びそれを用いた電子画像表示装置
KR20100007441A (ko) * 2008-07-14 2010-01-22 동우 화인켐 주식회사 간섭무늬를 제거한 광학필름, 이를 이용한 편광판 및화상표시 장치
KR101870341B1 (ko) * 2013-12-26 2018-06-22 코오롱인더스트리 주식회사 투명 폴리아마이드―이미드 수지 및 이를 이용한 필름
TWI683837B (zh) * 2015-06-26 2020-02-01 南韓商可隆股份有限公司 聚醯胺醯亞胺前驅物組成物、聚醯胺醯亞胺薄膜及顯示裝置
CN111736240A (zh) * 2015-07-17 2020-10-02 大日本印刷株式会社 光学部件用层积体以及图像显示装置
KR101813707B1 (ko) * 2015-11-04 2017-12-29 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
US20200319378A1 (en) * 2016-07-28 2020-10-08 Lg Chem, Ltd. Optical film for protecting polarizer, polarizing plate and image display device comprising the same
JP6307205B1 (ja) * 2016-08-23 2018-04-04 リンテック株式会社 ハードコートフィルム
KR102139525B1 (ko) * 2017-05-19 2020-07-30 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 화상표시장치
KR102063202B1 (ko) * 2017-06-01 2020-02-11 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치
KR20190063306A (ko) * 2017-11-29 2019-06-07 삼성에스디아이 주식회사 광학표시장치의 보호 필름, 이를 포함하는 광학 부재 및 이를 포함하는 광학표시장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019124908A (ja) * 2018-01-11 2019-07-25 東洋紡株式会社 積層フィルム及びそれを用いた偏光板
KR102032316B1 (ko) 2018-07-09 2019-10-15 에스케이씨 주식회사 광학 다층 필름, 이를 포함하는 광학 부품 및 표시장치

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