JP7453415B2 - 干渉縞が改善された多層構造のフィルム及びこれを含む表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、干渉縞が改善された多層構造のフィルム及びこれを含む表示装置に関する。
不溶性、耐化学性、耐熱性、耐放射線性及び低温特性などに優れている高分子樹脂は、自動車材料、航空素材、宇宙船素材、絶縁コーティング剤、絶縁膜、保護フィルムなどとして用いられている。
近年、表示装置の薄型化、軽量化、フレキシブル化に伴い、表示装置のカバーウィンドウとして、ガラスの代わりに高分子樹脂で形成された高分子フィルムを使用することが検討されている。高分子フィルムが、表示装置のカバーウィンドウとして用いられるためには、高分子フィルムが、優れた硬度、耐摩耗性、屈曲性などの物理的特性を有する必要がある。目的とする物性を付与するために、基材上にコーティング層を形成させる。
ただし、基材上にコーティング層が形成されたフィルムは、コーティング層と基材との間の光学的な物性の差によって光学的な干渉が発生するため、フィルムの表面に、にじの光のような干渉縞が発生してしまい、フィルムの視認性が低下するという問題点があった。
本発明の一実施例は、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下であるフィルムを提供しようとする。
また、本発明の一実施例は、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルムを提供しようとする。
本発明の一実施例は、基材、及び前記基材上の第１コーティング層を含み、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で反射率を測定して得た反射率グラフから、下記式１によって算出される反射率オシレーション比（Ｏｒ）は１．０以下であり、下記式２によって算出される反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は０．１２２以下であるフィルムを提供する。
＜式１＞
Ｏｒ＝［（Ｏｍ１＊Ｏｍ２）－（Ｏｍ１＋Ｏｍ２）］／Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）
＜式２＞
Ｇｒ＝｜（Ｒｍ１－Ｒｍ２）｜／Ｒｍ２
上記式１で、Ｏｍ１は、５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であり、Ｏｍ２は、６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であって、反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、下記式３によって算出され、Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、Ｏｍ１及びＯｍ２のうち小さい方の反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）を表すのであり、上記式２で、Ｒｍ１は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最初のピーク（Ｐ１）に対応する反射率値と、最初のバレー（Ｖ１）に対応する反射率値との算術平均値であり、Ｒｍ２は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最後のピーク（Ｐｆ）に対応する反射率値と、最後のバレー（Ｖｆ）に対応する反射率値との算術平均値である。
＜式３＞
Ｏｍ＝（１／ｎ）＊Σ（Ｏｋ）
上記式３のＯｋは、当該波長領域におけるオシレーション値であり、ｎは、当該波長領域におけるオシレーション値の個数であり、前記オシレーション値は、隣り合う一対のピーク（Ｐｋ）とバレー（Ｖｋ）との、それぞれに対応する反射率値の差（｜Ｐｋに対応する反射率値－Ｖｋに対応する反射率値｜）である。
前記基材は、複屈折性を有する。
前記基材は、Ｘ軸方向屈折率（Ｎｘ）が１．５７～１．６７であり；Ｙ軸方向屈折率（Ｎｙ）が１．５７～１．６７であり；Ｚ軸方向屈折率（Ｎｚ）が１．５３～１．５７である。
前記第１コーティング層は、下記式４を満たす屈折率（Ｎ１）を有する。
＜式４＞
０．９２７＊Ｎｘ≦Ｎ１≦０．９７８＊Ｎｙ
前記基材上の第２コーティング層をさらに含む。
前記第２コーティング層は、前記基材と前記第１コーティング層との間に配置される。
前記第１コーティング層は、前記基材と前記第２コーティング層との間に配置される。
前記第２コーティング層は、下記式５を満たす屈折率（Ｎ２）を有する。
＜式５＞
０．７９３＊Ｎｘ≦Ｎ２≦０．９７５＊Ｎｙ
前記基材上の第３コーティング層をさらに含む。
前記第３コーティング層は、下記式６を満たす屈折率（Ｎ３）を有する。
＜式６＞
０．７９３＊Ｎｘ≦Ｎ３≦０．９７５＊Ｎｙ
前記第１コーティング層は、光透過性マトリックス及び前記光透過性マトリックスに分散された粒子を含む。
前記光透過性マトリックスは、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうち少なくとも一つを含む。
前記粒子は、ジルコニア（ｚｉｒｃｏｎｉａ，ＺｒＯ２）、シリカ（ｓｉｌｉｃａ，ＳｉＯ２）、アルミナ（ａｌｕｍｉｎａ，Ａｌ２Ｏ３）、二酸化チタン（ｔｉｔａｎｉｕｍ ｄｉｏｘｉｄｅ，ＴｉＯ２）、スチレン（Ｓｔｙｒｅｎｅ）及びアクリル（Ａｃｒｙｌ）のうち少なくとも一つを含む。
前記第１コーティング層は、０．０１～３．４μｍの厚さを有することができる。
前記第２コーティング層は、１～１４μｍの厚さを有することができる。
前記第３コーティング層は、１μｍ以下の厚さを有することができる。
本発明の他の実施例は、ポリイミド系基材；及び、前記ポリイミド系基材上の第１コーティング層；を含み、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域で反射率を測定して得た反射率グラフから、下記式１によって算出される反射率オシレーション比（Ｏｒ）は１．０以下であり、下記式２によって算出される反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は０．１２２以下であるポリイミド系フィルムを提供する。
＜式１＞
Ｏｒ＝［（Ｏｍ１＊Ｏｍ２）－（Ｏｍ１＋Ｏｍ２）］／Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）
＜式２＞
Ｇｒ＝｜（Ｒｍ１－Ｒｍ２）｜／Ｒｍ２
上記式１で、Ｏｍ１は、５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であり、Ｏｍ２は、６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であって、反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、下記式３によって算出され、Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、Ｏｍ１及びＯｍ２のうちの小さい方の反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）を表すのであり、上記式２で、Ｒｍ１は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最初のピーク（Ｐ１）に対応する反射率値と、最初のバレー（Ｖ１）に対応する反射率値との算術平均値であり、Ｒｍ２は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最後のピーク（Ｐｆ）に対応する反射率値と、最後のバレー（Ｖｆ）に対応する反射率値との算術平均値である。
＜式３＞
Ｏｍ＝（１／ｎ）＊Σ（Ｏｋ）
上記式３のＯｋは、当該波長領域におけるオシレーション値であり、ｎは、当該波長領域におけるオシレーション値の個数であり、前記オシレーション値は、隣り合う一対のピーク（Ｐｋ）とバレー（Ｖｋ）とのそれぞれに対応する反射率値の差（｜Ｐｋに対応する反射率値－Ｖｋに対応する反射率値｜）である。
本発明のさらに他の実施例は、表示パネル、及び前記表示パネル上に配置された上述のフィルムを含む、表示装置を提供する。
一般に、ガラスとは違い、高分子フィルムは、硬度、耐摩耗性、屈曲性などのような物理的特性を向上させるために基材上にコーティング層を含むが、基材及びコーティング層からなるフィルムは、基材とコーティング層との光学的特性の差によって、干渉縞が発生しうる。
本発明の一実施例によれば、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）を１．０以下に調節し、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を０．１２２以下に調節することによって、干渉縞が発生しないのであり、視認性の向上したフィルムを製造することができる。
また、本発明の一実施例に係るフィルムは、優れた光学的特性及び機械的特性を有するので、表示装置のカバーウィンドウとして用いられる場合に、表示装置の表示面を効果的に保護することができる。
本発明の一実施例に係るフィルム１００の概略図である。 ＨＩＴＡＣＨＩ社のＵＨ４１５０装備を用いて３８０～７８０ｎｍの波長領域でフィルムの光反射率を測定して得たフィルムの反射率グラフである。 フィルムの反射率グラフのうち、任意の波長領域範囲Ｗｘにおけるグラフを拡大したものである。 フィルムの反射率グラフにおいて５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域におけるグラフ勾配を表示したものである。 本発明の一実施例に係る第１コーティング層２０の拡大図である。 本発明の他の実施例のスウェリング層１２をさらに含むフィルム１０１の概略図である。 本発明のさらに他の実施例の第２コーティング層３０をさらに含むフィルム１０２の概略図である。 本発明のさらに他の実施例の第２コーティング層３０をさらに含むフィルム１０２のさらに他の形態の概略図である。 本発明のさらに他の実施例の第３コーティング層４０をさらに含むフィルム１０３の概略図である。
以下では、添付の図面を参照して本発明の実施例を詳しく説明する。ただし、以下に説明される実施例は、本発明の明確な理解を助けるための例示的な目的で提示されるだけで、本発明の範囲を限定しない。
本発明の実施例を説明するための図面に開示された形状、大きさ、比率、角度、個数などは例示的なものであるので、本発明は図面に開示の事項に限定されない。明細書全体を通じて、同一の構成要素は同一の参照符号で示されうる。本発明を説明するにあたって、関連した公知技術に関する具体的な説明が、本発明の要旨を却ってぼやけさせ得ると判断される場合に、その詳細な説明は省略される。
本明細書において「含む」、「有する」、「なされる」などが使われる場合に、「～のみ」という表現が使われない限り、他の部分が追加されてもよい。構成要素が単数で表現された場合に、特に明示的な記載事項がない限り、複数をも含む。また、構成要素を解釈するときに、別の明示的記載がなくても、誤差範囲を含むものとして解釈する。
位置関係に関する説明において、例えば、「～上に」、「～上部に」、「～下部に」、「～側に」などで両部分の位置関係が説明される場合に、「直ちに」又は「直接」という表現が使われない以上、両部分の間に一つ以上の他の部分が位置してもよい。
空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ、ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは、図面に示されているように、一つの素子又は構成要素と他の素子又は構成要素との相関関係を容易に記述するために使われうる。空間的に相対的である用語は、図面に示されている方向に加えて、使用時又は動作時に素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されるべきである。例えば、図面に示されている素子をひっくり返す場合に、他の素子の「下（ｂｅｌｏｗ又はｂｅｎｅａｔｈ）」と記述された素子は、他の素子の「上（ａｂｏｖｅ）」に置かれうる。したがって、例示的な用語である「下」は、下と上のいずれの方向も含むことができる。同様に、例示的な用語である「上」も、上と下のいずれの方向も含むことができる。
時間関係に関する説明において、例えば、「～の後に」、「～に続いて」、「～の次に」、「～の前に」などで時間的な先後関係が説明される場合に、「直ちに」又は「直接」という表現が使われない以上、連続していない場合も含むことができる。
第１、第２などが様々な構成要素を説明するために使われるが、これらの構成要素は当該用語によって限定されない。当該用語は、単に、一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使われる。したがって、以下に言及される第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であってもよい。
「少なくとも一つ」との用語は、一つ以上の関連項目から提示可能な全ての組合せを含むものと理解されるべきである。例えば、「第１項目、第２項目及び第３項目のうち少なくとも一つ」との意味は、第１項目、第２項目又は第３項目のそれぞれだけでなく、第１項目、第２項目及び第３項目のうちの２項目以上から提示可能なあらゆる項目の組合せも意味しうる。
本発明の複数実施例のそれぞれの特徴が部分的に又は全体的に互いに結合又は組合せ可能であり、技術的に様々な連動及び駆動が可能であり、各実施例が互いに独立して実施されてもよく、関連付けられて共に実施されてもよい。
図１は、本発明の一実施例に係るフィルム１００の概略図である。
図１に示すように、発明の一実施例に係るフィルム１００は、基材１０、及び第１コーティング層２０を含む。
本発明の一実施例によれば、フィルム１００は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で反射率を測定して得た反射率グラフから、下記式１によって算出される反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下であり、下記式２によって算出される反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は０．１２２以下である。
＜式１＞
Ｏｒ＝［（Ｏｍ１＊Ｏｍ２）－（Ｏｍ１＋Ｏｍ２）］／Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）
＜式２＞
Ｇｒ＝｜（Ｒｍ１－Ｒｍ２）｜／Ｒｍ２
以下、図２及び３を参照して、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）を説明する。本発明において、オシレーション（ｏｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ）は振幅とも称する。
図２は、ＨＩＴＡＣＨＩ社のＵＨ４１５０装備を用いて、３８０～７８０ｎｍの波長領域でフィルムの光反射率を測定して得たフィルムの反射率グラフである。図２のグラフは、一つの例示に過ぎず、グラフの形態及び結果値はフィルムごとに変わり得るので、本発明がこれに限定されるものではない。
図３は、図２のフィルムの反射率グラフのうち、任意の波長領域範囲Ｗｘにおけるグラフを拡大したものである。
フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）は、図２のフィルムの反射率グラフから上記式１によって算出されてよい。
上記式１で、Ｏｍ１は、５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長領域（Ｗ１）における反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）であり、Ｏｍ２は、６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域（Ｗ２）における反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）であり、Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、Ｏｍ１及びＯｍ２のうちの小さい方の反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）である。
前記反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、下記式３によって算出される。
＜式３＞
Ｏｍ＝（１／ｎ）＊Σ（Ｏｋ）
上記式３のＯｋは、当該波長領域におけるオシレーション値であり、ｎは、当該波長領域におけるオシレーション値の個数である。
以下、図２及び３を参照して、上記式３によって反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ１，Ｏｍ２）を算出する方法をより具体的に説明する。
図２のグラフには、光の波長別フィルムの光反射程度がパーセント（％）で表示されている。図２に示すように、コーティング層を含むフィルムは、基材とコーティング層との光学的特性の差によって光学的な干渉が発生し、これにより、反射率のピーク（ｐｅａｋ）とバレー（ｖａｌｌｅｙ）とが不規則的に反復する振幅（ｏｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ）が現れ、このような波長による反射率の振幅は、フィルムの表面に発生する干渉縞の原因になる。
図３に示すように、任意の波長領域範囲（Ｗｘ）のフィルムの反射率グラフにおいて、波長が増加するにつれて反射率のピーク（Ｐｋ＝Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，．．．，Ｐｎ）とバレー（Ｖｋ＝Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，．．．，Ｖｎ）とが反復して現れる。ここで、隣り合う一対のピーク（Ｐｋ）とバレー（Ｖｋ）とは、一つのオシレーションを構成し、隣り合う一対のピーク（Ｐｋ）とバレー（Ｖｋ）とのそれぞれに対応する反射率値の差（｜Ｐｋに対応する反射率値－Ｖｋに対応する反射率値｜）は、一つのオシレーション値（Ｏｋ）となる。このように計算されたｎ個のオシレーション値（Ｏｋ＝Ｏ１，Ｏ２，Ｏ３，．．．，Ｏｎ）を上記式３に代入すれば、反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）が算出できる。
５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長領域（Ｗ１）で上記式３によって算出した反射率オシレーション値の平均をＯｍ１とし、６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域（Ｗ２）で上記式３によって算出した反射率オシレーション値の平均をＯｍ２とし、上記式１を用いて反射率オシレーション比（Ｏｒ）を算出することができる。
本発明の一実施例によれば、反射率オシレーション比（Ｏｒ）は、１．０以下である。
本発明の反射率オシレーション比（Ｏｒ）は、波長の変化による光干渉の現象によって生じる、フィルムの反射率の変化幅の大きさを意味するもので、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が大きいほど光干渉が増加し、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が小さいほど光干渉が減少する。
反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下である場合には、波長の変化による反射率の変化の幅が減少し、反射された光が人の目に均一に視認されるので、干渉縞が観察されない。一方、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０を超える場合には、波長の変化による反射率の変化の幅が増加し、反射された光が人の目に不均一に視認されるため、フィルムの表面に、様々な色感が狭い間隔で見える干渉縞が発生しうる。
以下、図４を参照して、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を説明する。
図４は、フィルムの反射率グラフにおいて５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域におけるグラフ勾配を表示したものである。図４のグラフは一つの例示に過ぎず、グラフの形態及び結果の値はフィルムごとに変わり得るので、本発明がこれに限定されるものではない。
フィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は、図４のフィルムの反射率グラフから上記式２によって算出できる。
上記式２で、Ｒｍ１は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最初のピーク（Ｐ１）に対応する反射率値と、最初のバレー（Ｖ１）に対応する反射率値との算術平均値であり、Ｒｍ２は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最後のピーク（Ｐｆ）に対応する反射率値と、最後のバレー（Ｖｆ）に対応する反射率値との算術平均値である。
図４に示すように、コーティング層を含むフィルムの反射率は、波長が増加するにつれて振幅が不規則的に現れる。したがって、反射率グラフの任意の特定地点における勾配は測定できるが、５００ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域の全体における勾配を測定することには困難がある。
したがって、本発明の一実施例は、反射率グラフから当該波長領域内の、最初のピーク（Ｐ１）に対応する反射率値と、最初のバレー（Ｖ１）に対応する反射率値との平均（Ｒｍ１）を求め、最後のピーク（Ｐｆ）に対応する反射率値と、最後のバレー（Ｖｆ）に対応する反射率値との平均（Ｒｍ２）を求めて、上記式２によって、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域の全体における勾配傾向を判断できる反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を算出した。
本発明の一実施例によれば、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は、０．１２２以下である。
本発明の反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は、波長によるフィルムの反射率の増減のレベルを意味するもので、波長の変化によって反射率が急激に増加又は減少する場合に、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が大きくなる。反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が大きいほど、反射された光が人の目に不均一に視認されるため、様々な色感が広い領域で現れる干渉縞が発生しうる。一方、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が小さいほど、反射された光が人の目に均一に視認される。
反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下である場合には光干渉が減少し、干渉縞が発生しない。一方、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２を超える場合には光干渉が増加し、フィルムの表面に干渉縞が発生しうる。
本発明の一実施例によれば、基材１０は透明な高分子を含む。透明な高分子であれば、特に限定されず、本発明の一実施例に係る基材１０に使用されてよい。高分子としては、ポリイミド系高分子、ポリエステル系高分子、ポリオレフィン系高分子、ノルボネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリアクリル系高分子、ポリエチレンテレフタレート系高分子、セルロース系高分子などの単一成分の高分子、これらの共重合高分子、エポキシ系高分子などを挙げることができる。
特に、ポリイミド系高分子は、熱的特性、硬度、耐摩耗性、屈曲性などの物理的特性の他に、光透過率、ヘイズのような光学的特性にも優れており、表示装置のカバーウィンドウとして用いられるフィルムの基材としてポリイミド系高分子が含まれることが好ましい。ただし、本発明がこれに限定されるものではない。本発明において、ポリイミド系高分子とは、主鎖構造内にイミド（ｉｍｉｄｅ）官能基の反復単位を含む高分子のことを指し、一般に、アミン（ａｍｉｎｅ）とカルボン酸無水物（ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）基との間の縮合反応によって形成されるものを指す。また、ポリイミド系高分子は、アミド反復単位を含むことができる。例えば、本発明の一実施例に係るポリイミド系高分子としてポリアミド－イミド高分子がある。
基材１０の高分子によって、フィルム１００の種類が異なりうる。例えば、基材１０がポリイミド系高分子を含むフィルム１００は、ポリイミド系フィルムといえる。
本発明の一実施例によれば、高分子は光学異方性の性質を有し、これにより、基材１０は複屈折性を有する。
基材１０のＸ軸方向屈折率（Ｎｘ）は１．５７～１．６７であってよく、Ｙ軸方向屈折率（Ｎｙ）は１．５７～１．６７であってよく、Ｚ軸方向屈折率（Ｎｚ）は、１．５３～１．５７であってよい。
本発明において、基材のＺ軸方向は、基材の高さ方向を表し、基材のＸ軸方向及びＹ軸方向は、横及び縦方向の屈折率によって決められる。本発明において、横方向の屈折率及び縦方向の屈折率のうち、大きい値の屈折率の方向がＸ軸方向であり、小さい値の屈折率の方向がＹ軸方向である。
したがって、基材のＸ軸方向屈折率（Ｎｘ）は、基材の横方向の屈折率及び縦方向の屈折率のうちの大きい方の屈折率を表し、基材のＹ軸方向屈折率（Ｎｙ）は、基材の横方向屈折率及び縦方向の屈折率のうちの小さい方の屈折率を表し、基材のＺ軸方向屈折率（Ｎｚ）は、基材の高さ方向の屈折率を表す。
基材の各方向による屈折率が前記範囲を外れる場合に、基材とコーティング層との屈折率の差によって、干渉縞が発生しうる。
本発明の一実施例によれば、基材１０は、１００μｍ以下の厚さを有することができる。
以下、図５を参照して、本発明の第１コーティング層２０を詳細に説明する。
図５は、本発明の一実施例に係る第１コーティング層２０の拡大図である。
第１コーティング層２０は、基材１０上に位置し、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を調節する役割を担う。
本発明の一実施例によれば、第１コーティング層２０は、光透過性マトリックス２１及び光透過性マトリックスに分散された粒子２２を含むことができる。
光透過性マトリックス２１及び光透過性マトリックスに分散された粒子２２を表現した第１コーティング層２０は、図５の通りである。
第１コーティング層２０の光透過性マトリックスに分散された粒子２２は、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）及びフィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を調節し、第１コーティング層２０の屈折率を調節する。
本発明の一実施例によれば、第１コーティング層２０の光透過性マトリックス２１は、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうち少なくとも一つを含むことができる。
本発明の一実施例によれば、粒子は、ジルコニア（ｚｉｒｃｏｎｉａ，ＺｒＯ２）、シリカ（ｓｉｌｉｃａ，ＳｉＯ２）、アルミナ（ａｌｕｍｉｎａ，Ａｌ２Ｏ３）、二酸化チタン（ｔｉｔａｎｉｕｍ ｄｉｏｘｉｄｅ，ＴｉＯ２）、スチレン（Ｓｔｙｒｅｎｅ）及びアクリル（Ａｃｒｙｌ）のうち少なくとも一つを含むことができる。特に、ジルコニアは、第１コーティング層の屈折率を調節し、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）及びフィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を調節して、干渉縞の発生を防止することに有利である。
第１コーティング層２０は、第１コーティング組成物によって形成されてよい。第１コーティング組成物は、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうち少なくとも一つを含むことができる。第１コーティング組成物は、粒子を含むことができる。第１コーティング組成物は、溶媒を含むことができる。
反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下であり、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルム１００を製造するために、第１コーティング層２０の光透過性マトリックス２１の種類、第１コーティング層２０に含まれた粒子２２の種類、第１コーティング層２０に含まれた粒子２２の含有量、第１コーティング層２０の屈折率、第１コーティング層２０の厚さ、及び第１コーティング層２０の形成のための“第１コーティング組成物の溶媒”を調節することができる。
本発明の一実施例によれば、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下であり、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルム１００を製造するために、第１コーティング層２０の光透過性マトリックス２１の種類を調節することができる。
第１コーティング層２０の光透過性マトリックス２１は、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうち少なくとも一つを含むことができる。
第１コーティング層２０の光透過性マトリックス２１の種類によって、第１コーティング層２０の屈折率が異なってよく、反射率オシレーション比（Ｏｒ）及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を調節することができる。
本発明の一実施例によれば、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下であり、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルム１００を製造するために、第１コーティング層２０に含まれた粒子２２の種類を調節することができる。
粒子２２は、ジルコニア、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、スチレン及びアクリルのうち少なくとも一つを含むことができる。好ましくは、粒子２２はジルコニアを含むことができる。
第１コーティング層２０内の粒子２２は、第１コーティング層２０の屈折率を調節し、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）を１．０以下、フィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を０．１２２以下にすることができる。特に、ジルコニアは、第１コーティング層２０の屈折率を容易に調節することができる。
本発明の一実施例によれば、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下であり、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルム１００を製造するために、第１コーティング層２０に含まれた粒子２２の含有量を調節することができる。
本発明の一実施例によれば、第１コーティング層２０内の粒子２２は、光透過性マトリックス２１の１００重量部に対して１０～５０重量部を含む。
第１コーティング層２０内の粒子２２が、光透過性マトリックス２１の１００重量部に対して１０重量部未満であるか、５０重量部を超えると、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１を超えるか、フィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２を超えてしまう。
本発明の一実施例によれば、第１コーティング層２０は、基材のＸ軸及びＹ軸の屈折率にしたがって、下記式４の屈折率（Ｎ１）を有することができる。
＜式４＞
０．９２７＊Ｎｘ≦Ｎ１≦０．９７８＊Ｎｙ
第１コーティング層２０の屈折率（Ｎ１）が上記の範囲を外れる場合には、フィルム１００の反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１を超えるか、フィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２を超えてしまう。
したがって、フィルム１００の反射率オシレーション比（Ｏｒ）を１．０以下に、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を０．１２２以下に調節するために、第１コーティング層２０の屈折率を、上記式４の範囲に調節することができる。
本発明の一実施例によれば、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下であり、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルム１００を製造するために、第１コーティング層２０は０．０１～３．４μｍの厚さを有することができ、好ましくは、０．０７～１．３μｍの厚さを有することができる。
第１コーティング層２０の厚さを０．０１～３．４μｍに調節することによって、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルムを製造できる。
第１コーティング層２０の厚さが０．０１μｍ未満である場合に、コーティング安定性が低下し、スウェリング層１２の厚さが薄くなるため、反射率オシレーション比（Ｏｒ）の調節効果が不十分である。また、第１コーティング層２０の厚さが３．４μｍを超える場合に、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０を超えてしまう。
本発明の一実施例によれば、第１コーティング層２０を形成するための第１コーティング組成物の溶媒を調節することによって、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルムを製造できる。
具体的に、第１コーティング組成物の溶媒は、ＭＥＫ（Ｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）、ＭＩＢＫ（Ｍｅｔｈｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）、ＰＧＭＥ（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ Ｇｌｙｃｏｌ Ｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｅｒ）及びＥＡ（Ｅｔｈｙｌ Ａｃｅｔａｔｅ）のうち少なくとも一つを含むことができる。特に、ＭＥＫを含むことが好ましい。
本発明の一実施例によれば、第１コーティング組成物の溶媒は、ＭＥＫ；及び、ＭＩＢＫ、ＰＧＭＥ及びＥＡのうち少なくとも一つ；を含むことができる。
本発明の一実施例によれば、第１コーティング組成物の溶媒のうち、ＭＥＫと、ＭＩＢＫ、ＰＧＭＥ及びＥＡのうちの少なくとも一つとの質量比は、８：２～６：４であってよい。
第１コーティング組成物の溶媒によってスウェリング層が形成されうる。
本発明の他の実施例によれば、フィルム１０１は、スウェリング層１２をさらに含むことができる。
スウェリング層１２は、残余の基材層１１と第１コーティング層２０との間に位置しうる。
図６は、本発明の他の実施例の、スウェリング層１２をさらに含むフィルム１０１の概略図である。
以下、図６を参照して、スウェリング層１２を説明する。
スウェリング層１２は、第１コーティング組成物の溶媒によって形成されうる。
図６に示すように、スウェリング層１２は、残余の基材層１１と第１コーティング層２０との間に位置する層であり、基材１０上に第１コーティング組成物で第１コーティング層２０を形成する過程において、第１コーティング組成物に含まれた溶媒は、フィルム１０１の基材１０をスウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させることができる。これによって、基材１０にスウェリング層１２を形成することができる。ここで、スウェリングされていない基材１０の部分を残余の基材層１１という。
本発明の一実施例によれば、基材１０は、残余の基材層１１、及びスウェリング層１２を含むことができる。
残余の基材層１１と、第１コーティング層２０との間に、スウェリング層１２が配置されることにより、フィルム１０１の反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下になり得、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下になり得る。
スウェリング層１２は、１．６６以下の屈折率を有することができる。
フィルム１０１の反射率オシレーション比（Ｏｒ）を１．０以下、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を０．１２２以下にするために、スウェリング層１２の屈折率は１．６６以下に調節されてよい。
スウェリング層１２の屈折率が１．６６を超える場合に、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０よりも大きくなり、フィルム１０１の表面に干渉縞が視認されることがある。
スウェリング層１２は、第１コーティング層２０の厚さに対して１０～５０％の厚さを有することができる。
フィルム１０１の反射率オシレーション比（Ｏｒ）を１．０以下、反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を０．１２２以下にするために、スウェリング層１２の厚さを第１コーティング層２０の厚さに対して１０～５０％の範囲にしてよい。
スウェリング層１２の厚さが第１コーティング層２０の厚さに対して１０％未満である場合に、基材１０及び第１コーティング層２０の密着力が弱くなりうる。そして、５０％を超える場合に、フィルム１０１の柔軟性が減少しうる。
スウェリング層１２の厚さは、“第１コーティング組成物の溶媒”の種類、含有量、含有量比によって変わってよく、第１コーティング層２０の乾燥時間及び温度によっても変わってよい。
スウェリング層１２の厚さを、第１コーティング層２０の厚さに対して１０～５０％にするために、第１コーティング組成物の溶媒は、ＭＥＫ；及び、ＭＩＢＫ、ＰＧＭＥ及びＥＡのうち少なくとも一つ；を含むことができる。
スウェリング層１２の厚さを第１コーティング層２０の厚さに対して１０～５０％にするために、第１コーティング組成物の溶媒のＭＥＫ；及び、ＭＩＢＫ、ＰＧＭＥ及びＥＡのうち少なくとも一つ；を８：２～６：４の質量比で混合して使用することができる。
スウェリング層１２の厚さを第１コーティング層２０の厚さに対して１０～５０％にするために、第１コーティング層２０の厚さを０．０１～３．４μｍにすることができる。
第１コーティング層２０の厚さが０．０１μｍ未満である場合に、コーティング安定性が低下し、スウェリング層１２の厚さが薄くなるため、反射率オシレーション比（Ｏｒ）の調節効果が不十分である。また、３．４μｍを超える場合に、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０を超えて干渉縞が発生してしまい、フィルムの視認性が悪くなりうる。
スウェリング層１２の厚さを、第１コーティング層２０の厚さに対して１０～５０％にするために、第１コーティング層２０の製造時に、５０～６０℃で１～２分、７０～８０℃で２～３分、９０～１００℃で２～３分の段階でもって、グラデーション乾燥を行うことができる。
第１コーティング層２０の製造時に、段階別の上限温度を超えると、溶媒が急激に揮発してスウェリング層１２が十分に形成されないという問題が発生し得るのであり、段階別の下限温度未満である場合に、スウェリング層１２の厚さが本発明の範囲よりも厚くなるという問題が発生し得る。
第１コーティング層２０の乾燥時間が段階別の上限時間を超えると、スウェリング層１２の厚さが本発明の範囲よりも厚くなる問題が発生し、段階別下限時間未満である場合に、スウェリング層１２が十分に形成されないという問題が発生し得る。
反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルム１００を製造するために製造方法を調節することができる。例えば、反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０以下及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２以下であるフィルム１００を製造するために、第１コーティング層２０の製造過程において乾燥方法を調節することができる。
例えば、第１コーティング層２０を製造する際に、５０～６０℃で１～２分、７０～８０℃で２～３分、９０～１００℃で２～３分の段階でもって、グラデーション乾燥を行うことができる。
このように、第１コーティング層２０の成分、屈折率、厚さ及び製造方法を調節することによって、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）及びフィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を調節し、第１コーティング層の屈折率を調節することができる。
本発明の他の実施例によれば、フィルム１０２は、基材１０上の第２コーティング層３０をさらに含むことができる。
図７及び図８は、本発明のさらに他の実施例の、第２コーティング層３０をさらに含むフィルム１０２の概略図である。
図７に示すように、第２コーティング層３０が、基材１０と第１コーティング層２０との間に配置されてもよい。
図８に示すように、第１コーティング層２０が、基材１０と第２コーティング層３０との間に配置されてもよい。
フィルム１０２の反射率オシレーション比（Ｏｒ）及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は、第２コーティング層３０によっても調節されてよい。
第２コーティング層３０は、基材１０又は第１コーティング層２０、フィルム１０２が取り付けられている被着物を外部の環境から保護する層であり、第２コーティング層３０はハードコーティング層であってよい。
本発明の他の実施例によれば、第２コーティング層３０は、基材のＸ軸及びＹ軸屈折率によって、下記式５の屈折率（Ｎ２）を有することができる。
＜式５＞
０．７９３＊Ｎｘ≦Ｎ２≦０．９７５＊Ｎｙ
第２コーティング層３０の屈折率（Ｎ２）が上記の範囲を外れる場合には、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１を超えるか、フィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２を超えてしまう。
本発明の他の実施例によれば、第２コーティング層３０は、光透過性マトリックスを含むことができる。
第２コーティング層３０の光透過性マトリックスは、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうちの少なくとも一つを含むことができる。第２コーティング層３０の光透過性マトリックスは、第１コーティング層２０の光透過性マトリックスと同一であってもよく、異なってもよい。本発明がこれに限定されるものではない。ただし、同一の光透過性マトリックスを使用する場合には、第１及び第２コーティング層の間の密着力が増加することから、同一の光透過性マトリックスを使用することが好ましい。
本発明の他の実施例によれば、第２コーティング層３０は、１～１４μｍの厚さを有することができ、好ましくは、３～７μｍの厚さを有することができる。ただし、本発明がこれに限定されるものではない。
第２コーティング層３０の厚さを調節することによって、フィルム１０２の反射率オシレーション比（Ｏｒ）及びフィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を調節し、第２コーティング層３０の屈折率を調節することができる。
第２コーティング層３０は、第２コーティング組成物を用いて形成されてよい。第２コーティング組成物は、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうち少なくとも一つを含むことができる。第２コーティング組成物は溶媒を含むことができる。
本発明のさらに他の実施例によれば、フィルム１０３は、基材１０上の第３コーティング層４０をさらに含むことができる。
図９は、本発明のさらに他の実施例の第３コーティング層４０をさらに含むフィルム１０３の概略図である。
本発明のさらに他の実施例によれば、第３コーティング層４０は、基材のＸ軸及びＹ軸屈折率にしたがって、下記式６の屈折率（Ｎ３）を有することができる。
＜式６＞
０．７９３＊Ｎｘ≦Ｎ３≦０．９７５＊Ｎｙ
第３コーティング層４０の屈折率（Ｎ３）が上記の範囲を外れる場合には、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１を超えるか、フィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２を超えてしまう。
本発明の他の実施例によれば、第３コーティング層４０は、光透過性マトリックスを含むことができる。
第３コーティング層４０の光透過性マトリックスは、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうちの少なくとも一つを含むことができる。第３コーティング層４０の光透過性マトリックスは、第１コーティング層２０又は第２コーティング層３０の光透過性マトリックスと同一であってもよく、異なってもよい。本発明がこれに限定されるものではない。
本発明のさらに他の実施例によれば、第３コーティング層４０は、１μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下の厚さを有することができる。ただし、本発明がこれに限定されるものではない。
第３コーティング層４０の厚さを調節することによって、フィルムの反射率オシレーション比（Ｏｒ）及びフィルムの反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を調節し、第３コーティング層４０の屈折率を調節することができる。
第３コーティング層４０は、第３コーティング組成物を用いて形成されてよい。第３コーティング組成物は、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうちの少なくとも一つを含むことができる。第３コーティング組成物は溶媒を含むことができる。
本発明のさらに他の実施例に係る表示装置は、表示パネル及び表示パネル上のフィルムを含む。表示装置のフィルムは、本発明の一実施例に係るフィルムを含むことができる。
表示パネルは、基板、基板上の薄膜トランジスターＴＦＴ、及び薄膜トランジスターＴＦＴと連結された有機発光素子を含む。有機発光素子は、第１電極、第１電極上の有機発光層、及び有機発光層上の第２電極を含む。表示装置は有機発光表示装置であってよい。
基板は、ガラス又はプラスチックで作られてよい。具体的に、基板は、ポリイミド系樹脂又はポリイミド系フィルムといったプラスチックで作られてよい。基板上にバッファー層が配置されてよい。
薄膜トランジスターＴＦＴは基板上に配置される。薄膜トランジスターＴＦＴは、半導体層、半導体層と絶縁して半導体層の少なくとも一部と重なるゲート電極、半導体層と連結されたソース電極、及びソース電極と離隔して半導体層と連結されたドレイン電極を含む。
ゲート電極と半導体層との間にゲート絶縁膜が配置される。ゲート電極上に層間絶縁膜が配置され、層間絶縁膜上にソース電極及びドレイン電極が配置されてよい。
平坦化膜は、薄膜トランジスターＴＦＴ上に配置され、薄膜トランジスターＴＦＴの上部を平坦化させる。
第１電極は平坦化膜上に配置される。第１電極は、平坦化膜に設けられたコンタクトホールを通じて、薄膜トランジスターＴＦＴと連結される。
バンク層は、第１電極の一部及び平坦化膜の上に配置され、画素領域又は発光領域を画定（定義）する。例えば、バンク層が、複数の画素同士の間の境界領域に、マトリックス構造で配置されることにより、バンク層によって画素領域が画定されてよい。
有機発光層は、第１電極上に配置される。有機発光層は、バンク層上にも配置されてよい。有機発光層は一つの発光層を含んでもよく、上下に積層された２個の発光層を含んでもよい。このような有機発光層では、赤色、緑色及び青色のいずれか一つの色を有する光が放出されてよく、白色（Ｗｈｉｔｅ）光が放出されてもよい。
第２電極は有機発光層上に配置される。
第１電極、有機発光層及び第２電極が積層されて有機発光素子を構成することができる。
有機発光層が白色（Ｗｈｉｔｅ）光を発光する場合に、個別の画素は、有機発光層から放出される白色（Ｗｈｉｔｅ）光を波長別にフィルタリングするためのカラーフィルターを含むことができる。カラーフィルターは光の移動経路上に形成される。
第２電極上に薄膜封止層が配置されてよい。薄膜封止層は、少なくとも一つの有機膜及び少なくとも一つの無機膜を含むことができ、少なくとも一つの有機膜及び少なくとも一つの無機膜が交互に配置されてよい。
以上に説明された積層構造を有する表示パネル上に、本発明の一実施例に係るフィルムが配置される。
以下、例示的な製造例及び実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。ただし、以下に説明される製造例又は実施例によって本発明が限定されるものではない。
＜製造例１：高屈折ポリイミド系基材製造＞
撹拌器、窒素注入装置、適下漏斗、温度調節器及び冷却器を装着している１Ｌ反応器に、窒素を通過させながら、ＤＭＡｃ（Ｎ，Ｎ－Ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）７３５．２６４ｇを満たした後、反応器の温度を２５℃に合わせた後に、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（２，２’－Ｂｉｓ（ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ，ＴＦＤＢ）５４．４３９ｇ（０．１７ｍｏｌ）を溶解させ、この溶液を２５℃に維持した。ここに、ビフェニル－テトラカルボン酸二無水物（ｂｉｐｈｅｎｙｌ－ｔｅｔｒａｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ，ＢＰＤＡ）１０．００３ｇ（０．０３４ｍｏｌ）を添加し、３時間撹拌してＢＰＤＡを完全に溶解させた後、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（４，４’－（Ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ）ｄｉｐｈｔｈａｌｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ，６ＦＤＡ）１５．１０５ｇ（０．０３４ｍｏｌ）を添加して、完全に溶解させた。反応器温度を１０℃に下げた後、テレフタロイルクロリド（Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌｏｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ，ＴＰＣ）２０．７１６ｇ（０．１０２ｍｏｌ）を添加して、２５℃で１２時間反応させ、固形分の濃度が１２重量％である重合体溶液を得た。
得られた重合体溶液にピリジン１１．８３３ｇ、無水酢酸１５．１１０ｇを投入して３０分撹拌後に、再び７０℃で１時間撹拌して常温に冷まし、得られた重合体溶液にメタノール２０Ｌを添加して固形分を沈殿させ、沈殿した固形分を濾過して粉砕後に、さらにメタノール２Ｌで洗浄した後、１００℃にて真空で６時間乾燥させ、粉末状態のポリイミド系重合体固形分を得た。ここで製造されたポリイミド系重合体の固形分は、ポリアミド－イミド重合体の固形粉である。
１Ｌ反応器に５５０ｇのＤＭＡｃを満たした後、反応器の温度を１０℃に維持したままで一定時間撹拌した。その後、製造されたポリイミド系重合体固形分の粉末７５ｇを投入した後、１時間撹拌後に２５℃に昇温させ、液状のポリイミド系樹脂溶液を製造した。
得られたポリイミド系樹脂溶液を、ガラス基板にアプリケーターで塗布した後に、１３０℃の熱風で３０分乾燥させてフィルムを製造した後、製造されたフィルムをガラス基板から剥離してフレームにピンで固定した。
フィルムが固定されたフレームを真空オーブンに入れて、１００℃から３００℃まで２時間の間に徐々に加熱した後、徐々に冷却してフレームから分離し、高屈折ポリイミド系基材を得た。さらに高屈折ポリイミド系基材を２５０℃で５分間熱処理した。
高屈折ポリイミド系基材の厚さは５０μｍであって、光透過性であり、複屈折性を有する。基材の屈折率は、Ｎｘ＝Ｎｙ＝１．６５、Ｎｚ＝１．５５である。
＜製造例２：低屈折ポリイミド系基材製造＞
撹拌器、窒素注入装置、適下漏斗、温度調節器及び冷却器を装着している１Ｌ反応器に窒素を通過させながら、ＤＭＡｃ（Ｎ，Ｎ－Ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）７５４．０６ｇを満たした後、反応器の温度を２５℃に合わせた後、ＴＦＤＢ ４４．８３２ｇ（０．１４ｍｏｌ）を溶解させ、この溶液を２５℃に維持した。ここに、ＢＰＤＡ ８．２３８ｇ（０．０２８ｍｏｌ）を添加し、３時間撹拌してＢＰＤＡを完全に溶解させた後、６ＦＤＡ ４９．７５６ｇ（０．１１２ｍｏｌ）を添加して２５℃で１２時間反応させ、固形分の濃度が１２重量％である重合体溶液を得た。
得られた重合体溶液にピリジン２４．３６ｇ、無水酢酸３１．１１ｇを投入して３０分撹拌後に、再び７０℃で１時間撹拌して常温に冷まして得られた重合体溶液に、メタノール２０Ｌを添加して固形分を沈殿させ、沈殿した固形分を濾過して粉砕後に、再びメタノール２Ｌで洗浄した後、１００℃にて真空で６時間乾燥させ、粉末状態のポリイミド系重合体固形分を得た。ここで製造されたポリイミド系重合体固形分は、ポリアミド－イミド重合体の固形粉である。
その後、得られたポリイミド系重合体固形分を用いて、前記製造例１と同じ方法で低屈折ポリイミド系基材を製造した。
低屈折ポリイミド系基材の厚さは５０μｍであって、光透過性であり、複屈折性を有する。基材の屈折率は、Ｎｘ＝Ｎｙ＝１．５７、Ｎｚ＝１．５３である。
＜製造例３：中間屈折ポリイミド系基材製造＞
撹拌器、窒素注入装置、適下漏斗、温度調節器及び冷却器を装着している１Ｌ反応器に窒素を通過させながら、ＤＭＡｃ（Ｎ，Ｎ－Ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）７７６．６５５ｇを満たし、反応器の温度を２５℃に合わせた後、ＴＦＤＢ ５４．４３９ｇ（０．１７ｍｏｌ）を溶解させ、この溶液を２５℃に維持した。ここに、ＢＰＤＡ １５．００５ｇ（０．０５１ｍｏｌ）を添加し、３時間撹拌してＢＰＤＡを完全に溶解させた後、６ＦＤＡ ２２．６５７ｇ（０．０５１ｍｏｌ）を添加して完全に溶解させた。反応器温度を１０℃に下げた後、ＴＰＣ １３．８０５ｇ（０．０６８ｍｏｌ）を添加後に２５℃で１２時間反応させ、固形分の濃度が１２重量％である重合体溶液を得た。
得られた重合体溶液にピリジン１７．７５ｇ、無水酢酸２２．９２ｇを投入して３０分撹拌後に、再び７０℃で１時間撹拌して常温に冷まし、得られた重合体溶液にメタノール２０Ｌを添加して固形分を沈殿させ、沈殿した固形分を濾過して粉砕後に、再びメタノール２Ｌで洗浄した後、１００℃にて真空で６時間乾燥させ、粉末状態のポリイミド系重合体固形分を得た。ここで製造されたポリイミド系重合体固形分は、ポリアミド－イミド重合体の固形粉である。
その後、得られたポリイミド系重合体固形分を用いて、前記製造例１と同じ方法で中間屈折ポリイミド系基材を製造した。
中間屈折ポリイミド系基材の厚さは５０μｍであって、光透過性であり、複屈折性を有する。基材の屈折率は、Ｎｘ＝Ｎｙ＝１．６２、Ｎｚ＝１．５４である。
＜実施例１＞
２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（ＴＣＩ社）、ＴＥＯＳ（Ｔｅｔｒａｅｔｈｙｌ ｏｒｔｈｏｓｉｌｉｃａｔｅ，Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社）、Ｈ２Ｏを７４７．６６ｍＬ：３８．２８ｍＬ：９３．８８ｍＬの比率に混合して１５００ｍＬフラスコに入れた後、水酸化ナトリウム０．１ｇを触媒として添加し、６０℃で１０時間撹拌した。その後、０．４５μｍテフロン（登録商標）フィルターで濾過してエポキシ系樹脂を得た。
次に、製造されたエポキシ系樹脂に、ＭＥＫ（Ｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）：ＭＩＢＫ（Ｍｅｔｈｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）を８：２の割合で希釈して６００ｍＬ添加した後に、光開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ ２５０（ＢＡＳＦ社）を、前記製造されたエポキシ系樹脂に対して３重量部添加し、ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（固形分４２ｗｔ％、シクロヘキサノン＋ＭＩＢＫ＋脂肪族溶剤（Ａｌｉｐｈａｔｉｃ ｓｏｌｖｅｎｔ）、ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を、固形分基準で、前記エポキシ系樹脂に対して３０重量部添加し、硬化時の屈折率が１．５７の第１コーティング組成物を得た。
製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材を、基材１０として用いた。
前記第１コーティング組成物を、前記製造例１の高屈折ポリイミド系基材の上面に、バー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後、６０℃／２分、８０℃／３分、１００℃／３分の乾燥を行い、溶媒による基材のスウェリング層の厚さを平均２５ｎｍに形成させた。
その後、３１５ｎｍ波長の紫外線ランプで１Ｊ／ｃｍ２露光させ、１００ｎｍ厚の第１コーティング層を有する１次フィルムを製造した。
次に、第１コーティング組成物から、ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を除外して、硬化時の屈折率が１．５０の第２コーティング組成物を製造した。前記第２コーティング組成物を、１次フィルム硬化膜の上面に、バー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後に、１００℃で１０分乾燥させ、３１５ｎｍの波長の紫外線ランプで２Ｊ／ｃｍ２露光させ、５μｍ厚の第２コーティング層を有する透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜実施例２＞
ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を、固形分基準で、製造されたエポキシ系樹脂に対して４３重量部を添加する以外は、実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時の屈折率は１．６０である。
実施例１と同じ方法で第２コーティング組成物を製造した。
製造された第１及び第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材の上面に、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜実施例３＞
ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を固形分基準で、製造されたエポキシ系樹脂に対して１７重量部を添加する以外は、実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時の屈折率は１．５４である。
実施例１と同じ方法で第２コーティング組成物を製造した。
製造された第１及び第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材の上面に、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜実施例４＞
ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を、固形分基準で、製造されたエポキシ系樹脂に対して１３重量部を添加する以外は、実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時の屈折率は１．５３である。
実施例１と同じ方法で第２コーティング組成物を製造した。
製造された第１及び第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、製造例２で製造された低屈折ポリイミド系基材の上面に、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜実施例５＞
ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を、固形分基準で、製造されたエポキシ系樹脂に対して２２重量部を添加する以外は、実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時の屈折率は１．５５である。
実施例１と同じ方法で第２コーティング組成物を製造した。
製造された第１及び第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、製造例３で製造された中間屈折ポリイミド系基材の上面に、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜実施例６＞
実施例１と同じ方法で第１及び第２コーティング層を有する２次フィルムを製造した。
次に、第２コーティング組成物を、前記２次フィルムの他の面にバー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後に、６０℃／２分、８０℃／３分、１００℃／３分の乾燥を行い、溶媒による基材のスウェリング層の厚さを平均０．２μｍに形成させた。次に、３１５ｎｍの波長の紫外線ランプで２Ｊ／ｃｍ２露光させて、０．８μｍ厚の第３コーティング層を有する透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜実施例７＞
３－（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート（Ｓｉｇｍａ－Ａｄｒｉｃｈ社）、ＴＥＯＳ（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社）、Ｈ２Ｏを、７４７．６６ｍＬ：３８．２８ｍＬ：９３．８８ｍＬの割合で混合して、１５００ｍＬフラスコに入れた後、水酸化ナトリウム０．１ｇを触媒として添加して６０℃で１０時間撹拌した。その後、０．４５μｍテフロン（登録商標）フィルターで濾過してアクリル系樹脂を得た。
次に、製造されたアクリル系樹脂に対して、ＭＥＫ：ＭＩＢＫを８：２の割合で希釈して６００ｍＬ添加した後、光開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４（ＢＡＳＦ社）を、前記製造されたアクリル系樹脂に対して３重量部添加し、ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を、固形分基準で、前記アクリル系樹脂に対して３０重量部添加し、硬化時の屈折率１．５７の第１コーティング組成物を得た。
製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材を、基材１０として用いた。
前記第１コーティング組成物を、前記製造例１の高屈折ポリイミド系基材の上面に、バー（Ｂａｒ）を用いて塗布後に６０℃／２分、８０℃／３分、１００℃／３分の乾燥を行い、溶媒による基材のスウェリング層の厚さを平均２５ｎｍに形成させた。
その後、３１５ｎｍ波長の紫外線ランプで１Ｊ／ｃｍ２露光させ、１００ｎｍ厚の第１コーティング層を有する１次フィルムを製造した。
次に、第１コーティング組成物から、ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を除外し、硬化時の屈折率が１．５０の第２コーティング組成物を製造した。前記第２コーティング組成物を１次フィルム硬化膜の上面に、バー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後に、１００℃で１０分乾燥させ、３１５ｎｍの波長の紫外線ランプで２Ｊ／ｃｍ２露光させ、５μｍ厚の第２コーティング層を有する透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜比較例１＞
２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（ＴＣＩ社）、ＴＥＯＳ（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社）、Ｈ２Ｏを７４７．６６ｍＬ：３８．２８ｍＬ：９３．８８ｍＬの割合で混合して１５００ｍＬフラスコに入れた後、水酸化ナトリウム０．１ｇを触媒として添加し、６０℃で１０時間撹拌した。その後、０．４５μｍテフロン（登録商標）フィルターを用いて濾過してエポキシ系樹脂を得た。
次に、製造されたエポキシ系樹脂に対して、ＭＥＫ：ＭＩＢＫを８：２の割合で希釈して６００ｍＬ添加した後、光開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ ２５０（ＢＡＳＦ社）を、前記製造されたエポキシ系樹脂に対して３重量部添加し、硬化時の屈折率が１．５０のエポキシ系樹脂組成物を得た。
製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材を、基材１０として用いた。
前記エポキシ系樹脂組成物を、前記製造例１の高屈折ポリイミド系基材の上面に、バー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後に、６０℃／２分、８０℃／３分、１００℃／３分の乾燥を行い、溶媒による基材のスウェリング層の厚さを平均２５ｎｍに形成させた。
その後、３１５ｎｍの波長の紫外線ランプで２Ｊ／ｃｍ２露光させ、５μｍ厚の、一つのコーティング層を有する透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜比較例２＞
ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を、固形分基準で、製造されたエポキシ系樹脂に対して６０重量部を添加する以外は、実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時屈折率は１．６４である。
実施例１と同じ方法で第２コーティング組成物を製造した。
製造された第１及び第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材の上面に、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜比較例３＞
ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を、固形分基準で、製造されたエポキシ系樹脂に対して５重量部を添加する以外は、実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時屈折率は１．５１である。
実施例１と同じ方法で第２コーティング組成物を製造した。
製造された第１及び第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材の上面に、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜比較例４＞
実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時の屈折率は１．５７である。
前記第１コーティング組成物に、ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を２６重量部、さらに添加（総５６重量部）し、硬化時の屈折率が１．６３の第２コーティング組成物を製造した。
製造された第１及び第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、製造例１で製造された高屈折ポリイミド系基材の上面に、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜比較例５＞
実施例１と同じ方法で第１コーティング組成物を製造した。第１コーティング組成物の硬化時の屈折率は１．５７である。
前記第１コーティング組成物を、製造例１の高屈折ポリイミド系基材の上面に、バー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後に、６０℃／２分、８０℃／３分、１００℃／３分の乾燥を行い、溶媒による基材のスウェリング層の厚さを平均１．２５μｍに形成させた。
その後、３１５ｎｍの波長の紫外線ランプで１Ｊ／ｃｍ２露光させ、１００ｎｍ厚の第１コーティング層を有する１次フィルムを製造した。
次に、実施例１と同じ方法で第２コーティング組成物を製造した。
前記製造された第２コーティング組成物を用いて、実施例１と同じ方法により、１次フィルム硬化膜の上面に、第２コーティング層を形成させ、第１及び第２コーティング層を含む透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜比較例６＞
実施例１と同じ方法で、第１及び第２コーティング層を有する２次フィルムを製造した。
次に、前記第１コーティング組成物に、ジルコニア分散液であるＫＴ－３００Ｚ－Ｓ－ＫＲ（ＴＯＹＯＣＨＥＭ社）を２６重量部、さらに添加（総５６重量部）し、硬化時の屈折率が１．６３の第３コーティング組成物を製造した。
その後、第３コーティング組成物を、前記２次フィルムの他の面にバー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後に、６０℃／２分、８０℃／３分、１００℃／３分の乾燥を行い、溶媒による基材のスウェリング層の厚さを平均０．２μｍに形成させた。次に、３１５ｎｍの波長の紫外線ランプで２Ｊ／ｃｍ２露光させ、０．８μｍ厚の第３コーティング層を有する透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜比較例７＞
実施例１と同じ方法で、第１及び第２コーティング層を有する２次フィルムを製造した。
次に、第２コーティング組成物を、前記２次フィルムの他の面にバー（Ｂａｒ）を用いて塗布した後に、６０℃／２分、８０℃／３分、１００℃／３分の乾燥を行い、溶媒による基材のスウェリング層の厚さを平均１．２５μｍに形成させた。次に、３１５ｎｍの波長の紫外線ランプで２Ｊ／ｃｍ２露光させ、５μｍ厚の第３コーティング層を有する透明なポリイミド系フィルムを製造した。
＜測定例＞
実施例１～７及び比較例１～７で製造されたフィルムに対して、次のような特定を実行した。
（１）密着力
ＴＱＣ社のＣＣ１０００モデルを用いて、ＡＳＴＭ Ｄ３３５９によって格子状に切断後に、剥離される程度を測定した。
（２）透過度及びヘイズ（Ｈａｚｅ）
実施例及び比較例によって製造された最終フィルムを、５０ｍｍ×５０ｍｍに切り、ＭＵＲＡＫＡＭＩ社のヘイズメーター（モデル名：ＨＭ－１５０）の装備を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って透過度及びヘイズを５回測定し、その平均値を確認した。
（３）反射率オシレーション比（Ｏｒ）及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）
ＨＩＴＡＣＨＩ社のＵＨ４１５０装備を用いて、３８０～７８０ｎｍの波長領域で光反射率を測定した。測定したフィルムの反射率グラフから、下記式１によって算出される反射率オシレーション比（Ｏｒ）、及び下記式２によって算出される反射率グラフ勾配（Ｇｒ）を算出した。
＜式１＞
Ｏｒ＝［（Ｏｍ１＊Ｏｍ２）－（Ｏｍ１＋Ｏｍ２）］／Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）
＜式２＞
Ｇｒ＝｜（Ｒｍ１－Ｒｍ２）｜／Ｒｍ２
上記式１で、Ｏｍ１は、５００ｎｍ～５５０ｎｍ波長領域（Ｗ１）における反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）であり、Ｏｍ２は、６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域（Ｗ２）における反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）であって、反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、下記式３によって算出され、Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、Ｏｍ１及びＯｍ２のうち小さい方の反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）を表し、上記式２で、Ｒｍ１は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最初のピーク（Ｐ１）に対応する反射率値と、最初のバレー（Ｖ１）に対応する反射率値との算術平均値であり、Ｒｍ２は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最後のピーク（Ｐｆ）に対応する反射率値と、最後のバレー（Ｖｆ）に対応する反射率値との算術平均値である。
＜式３＞
Ｏｍ＝（１／ｎ）＊Σ（Ｏｋ）
上記式３のＯｋは、当該波長領域におけるオシレーション値であり、ｎは、当該波長領域におけるオシレーション値の個数であり、前記オシレーション値は、隣り合う一対のピーク（Ｐｋ）とバレー（Ｖｋ）とのそれぞれに対応する反射率値の差（｜Ｐｋに対応する反射率値－Ｖｋに対応する反射率値｜）である。
（４）干渉縞
三波長ランプ下で実施例及び比較例のフィルムを肉眼で評価し、次のような等級に分けて評価した。
Ａ：肉眼で認知し難い
Ｂ：少数の専門家の肉眼では認知できるが、使用には無理無し
Ｃ：普通の少数の人々が肉眼で認知でき、積層構造によっては使用に制限があり得る
Ｄ：普通の多数の人々が肉眼で確認でき、使用不可
Ｅ：普通の多数の人々が肉眼で明確に確認でき、使用不可
測定結果は、下記表１の通りである。
Figure 0007453415000001
上記表１の測定結果に開示されている通り、本発明の実施例に係るフィルムは、基材とコーティング層との密着力、及び柔軟性の他に、透過率及びヘイズといった光学特性にも優れている。
実施例１及び比較例１から分かるように、第２コーティング層と基材との間に第１コーティング層が適用され、反射率オシレーション比（Ｏｒ）及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が本願の範囲を満たすフィルムが、第１コーティング層が適用されていないフィルムに比べて干渉縞のレベルが良好であることが示された。
そして、実施例１～３と比較例２～３を比較すると、第２コーティング層と基材との間に第１コーティング層が適用されている構造であっても、屈折率が本願の範囲を外れて反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０を超える場合には、干渉縞改善効果がないことがわかる。
また、実施例１及び比較例５から分かるように、第２コーティング層と基材との間に第１コーティング層が適用されていても、第１コーティング層の厚さが一定範囲レベルを外れて反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が０．１２２を超えると、同様に、干渉縞改善効果がないことがわかる。
実施例１と比較例４とを比較すれば、第２コーティング層と基材との間に、適正な屈折率と厚さを有する第１コーティング層が適用されていても、第１コーティング層の屈折率が一定範囲レベルを外れて反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０を超えると、同様に、干渉縞改善効果がないことがわかる。
また、実施例６と比較例６～７とを比較すれば、第２コーティング層と基材との間に適正な屈折率と厚さを有する第１コーティング層が適用されている構造の、他の面に第３コーティング層を形成する際に、第３コーティング層の屈折率及び厚さが一定範囲レベルを外れて反射率オシレーション比（Ｏｒ）が１．０を超えると、同様に、干渉縞改善効果がないことがわかる。
そして、実施例４～５から分かるように、基材の屈折率が変わっても、一定範囲を満たして反射率オシレーション比（Ｏｒ）及び反射率グラフ勾配（Ｇｒ）が本願の範囲を満たす場合には、干渉縞改善効果がある。
また、実施例１と実施例７から分かるように、第１コーティング層及び第２コーティング層の組成物がエポキシ系樹脂組成物だけでなく、アクリル系樹脂組成物である場合にも同一の結果が得られることが分かる。
１００，１０１，１０２，１０３：フィルム
１０：基材
１１：残余基材層
１２：スウェリング層
２０：第１コーティング層
２１：光透過性マトリックス
２２：粒子
３０：第２コーティング層
４０：第３コーティング層

Claims (14)

  1. 基材；
    前記基材上の第１コーティング層；及び
    前記基材上の第２コーティング層；を含み、
    ３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で反射率を測定して得た反射率グラフから、
    下記式１によって算出される反射率オシレーション比（Ｏｒ）は１．０以下であり、
    下記式２によって算出される反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は０．１２２以下であり、
    前記基材は、Ｘ軸方向屈折率（Ｎｘ）が１．５７～１．６７であり；
    Ｙ軸方向屈折率（Ｎｙ）が１．５７～１．６７であり；
    Ｚ軸方向屈折率（Ｎｚ）が１．５３～１．５７であり、
    前記第１コーティング層は、下記式４を満たす屈折率（Ｎ１）を有し、
    前記第２コーティング層は、下記式５を満たす屈折率（Ｎ２）を有するフィルム：
    ＜式１＞
    Ｏｒ＝［（Ｏｍ１＊Ｏｍ２）－（Ｏｍ１＋Ｏｍ２）］／Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）
    ＜式２＞
    Ｇｒ＝｜（Ｒｍ１－Ｒｍ２）｜／Ｒｍ２
    上記式１で、Ｏｍ１は、５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であり、Ｏｍ２は、６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であって、反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、下記式３によって算出され、Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、Ｏｍ１及びＯｍ２のうちの小さい方の反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）を表し、
    上記式２で、Ｒｍ１は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最初のピーク（Ｐ１）に対応する反射率値と、最初のバレー（Ｖ１）に対応する反射率値との算術平均値であり、Ｒｍ２は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最後のピーク（Ｐｆ）に対応する反射率値と、最後のバレー（Ｖｆ）に対応する反射率値との算術平均値である。
    ＜式３＞
    Ｏｍ＝（１／ｎ）＊Σ（Ｏｋ）
    上記式３で、Ｏｋは、当該波長領域におけるオシレーション値であり、ｎは、当該波長領域におけるオシレーション値の個数であり、
    前記オシレーション値は、隣り合う一対の、ピーク（Ｐｋ）とバレー（Ｖｋ）とのそれぞれに対応する、反射率値の差（｜Ｐｋに対応する反射率値－Ｖｋに対応する反射率値｜）である。
    ＜式４＞
    ０．９２７＊Ｎｘ≦Ｎ１≦０．９７８＊Ｎｙ
    ＜式５＞
    ０．７９３＊Ｎｘ≦Ｎ２≦０．９７５＊Ｎｙ
  2. 前記基材は、複屈折性を有する、請求項１に記載のフィルム。
  3. 前記第２コーティング層は、前記基材と前記第１コーティング層との間に配置される、請求項１に記載のフィルム。
  4. 前記第１コーティング層は、前記基材と前記第２コーティング層との間に配置される、請求項１に記載のフィルム。
  5. 前記基材上の第３コーティング層をさらに含む、請求項１に記載のフィルム。
  6. 前記第３コーティング層は、下記式６を満たす屈折率（Ｎ３）を有する、請求項５に記載のフィルム。
    ＜式６＞
    ０．７９３＊Ｎｘ≦Ｎ３≦０．９７５＊Ｎｙ
  7. 前記第１コーティング層は、光透過性マトリックス及び前記光透過性マトリックスに分散された粒子を含む、請求項１に記載のフィルム。
  8. 前記光透過性マトリックスは、シロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びエポキシ系樹脂のうちの少なくとも一つを含む、請求項７に記載のフィルム。
  9. 前記粒子は、ジルコニア（ｚｉｒｃｏｎｉａ，ＺｒＯ２）、シリカ（ｓｉｌｉｃａ，ＳｉＯ２）、アルミナ（ａｌｕｍｉｎａ，Ａｌ２Ｏ３）、二酸化チタン（ｔｉｔａｎｉｕｍ ｄｉｏｘｉｄｅ，ＴｉＯ２）、スチレン（Ｓｔｙｒｅｎｅ）及びアクリル（Ａｃｒｙｌ）のうちの少なくとも一つを含む、請求項７に記載のフィルム。
  10. 前記第１コーティング層は０．０１～３．４μｍの厚さを有する、請求項１に記載のフィルム。
  11. 前記第２コーティング層は、１～１４μｍの厚さを有する、請求項１に記載のフィルム。
  12. 前記第３コーティング層は、１μｍ以下の厚さを有する、請求項５に記載のフィルム。
  13. ポリイミド系基材；
    前記ポリイミド系基材上の第１コーティング層；及び
    前記ポリイミド系基材上の第２コーティング層；を含み、
    ３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域で反射率を測定して得た反射率グラフから、
    下記式１によって算出される反射率オシレーション比（Ｏｒ）は、１．０以下であり、
    下記式２によって算出される反射率グラフ勾配（Ｇｒ）は、０．１２２以下であり、
    前記ポリイミド系基材は、Ｘ軸方向屈折率（Ｎｘ）が１．５７～１．６７であり；
    Ｙ軸方向屈折率（Ｎｙ）が１．５７～１．６７であり；
    Ｚ軸方向屈折率（Ｎｚ）が１．５３～１．５７であり、
    前記第１コーティング層は、下記式４を満たす屈折率（Ｎ１）を有し、
    前記第２コーティング層は、下記式５を満たす屈折率（Ｎ２）を有するポリイミド系フィルム：
    ＜式１＞
    Ｏｒ＝［（Ｏｍ１＊Ｏｍ２）－（Ｏｍ１＋Ｏｍ２）］／Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）
    ＜式２＞
    Ｇｒ＝｜（Ｒｍ１－Ｒｍ２）｜／Ｒｍ２
    上記式１で、Ｏｍ１は、５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であり、Ｏｍ２は、６５０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における反射率オシレーションの値の平均（Ｏｍ）であって、反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、下記式３によって算出され、Ｍｉｎ（Ｏｍ１，Ｏｍ２）は、Ｏｍ１及びＯｍ２のうちの小さい方の反射率オシレーション値の平均（Ｏｍ）を表し、
    上記式２で、Ｒｍ１は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最初のピーク（Ｐ１）に対応する反射率値と、最初のバレー（Ｖ１）に対応する反射率値との算術平均値であり、Ｒｍ２は、５００ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域における、反射率グラフの最後のピーク（Ｐｆ）に対応する反射率値と、最後のバレー（Ｖｆ）に対応する反射率値との算術平均値である。
    ＜式３＞
    Ｏｍ＝（１／ｎ）＊Σ（Ｏｋ）
    上記式３で、Ｏｋは、当該波長領域におけるオシレーション値であり、ｎは、当該波長領域におけるオシレーション値の個数であり、
    前記オシレーション値は、隣り合う一対の、ピーク（Ｐｋ）とバレー（Ｖｋ）とのそれぞれに対応する反射率値の差（｜Ｐｋに対応する反射率値－Ｖｋに対応する反射率値｜）である。
    ＜式４＞
    ０．９２７＊Ｎｘ≦Ｎ１≦０．９７８＊Ｎｙ
    ＜式５＞
    ０．７９３＊Ｎｘ≦Ｎ２≦０．９７５＊Ｎｙ
  14. 表示パネル；及び
    前記表示パネル上に配置された、請求項１～１２のいずれか一項のフィルム；
    を含む、表示装置。
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