WO2021261848A1 - 간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치 - Google Patents

간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치 Download PDF

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oscillation
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안병준
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코오롱인더스트리 주식회사
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    • G02F2203/01—Function characteristic transmissive

Definitions

  • the present invention relates to a multilayer film having improved interference fringes and a display device including the same.
  • Polymer resins with excellent insolubility, chemical resistance, heat resistance, radiation resistance and low temperature characteristics are used as automobile materials, aviation materials, spacecraft materials, insulating coatings, insulating films, and protective films.
  • the use of a polymer film formed of a polymer resin instead of glass as a cover window of the display device has been studied.
  • the polymer film In order for the polymer film to be used as a cover window of a display device, the polymer film needs to have excellent physical properties such as hardness, abrasion resistance, and flexibility.
  • a coating layer is formed on the substrate.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film is to provide a film of 1.0 or less.
  • the reflectance graph slope (G r ) is to provide a film of 0.122 or less.
  • An embodiment of the present invention includes a substrate and a first coating layer on the substrate, and from the reflectance graph obtained by measuring the reflectance in a wavelength region of 380 nm to 780 nm, the reflectance oscillation ratio (O) calculated by the following Equation 1 r ) is 1.0 or less, and the reflectance graph slope (G r ) calculated by Equation 2 below provides a film of 0.122 or less.
  • O m1 is the average (O m ) of reflectance oscillation values in the wavelength region of 500 nm to 550 nm
  • O m2 is the average value of reflectance oscillation values in the wavelength region of 650 nm to 780 nm (O m ) as the average of the reflectance oscillation values (O m1 , O m2 ) is calculated by the following Equation 3
  • Min(O m1 ,O m2 ) refers to the average (O m ) of small reflectance oscillation values among O m1 and O m2
  • R m1 is 500 nm It is an arithmetic mean value of the reflectance value corresponding to the first peak (P 1 ) and the reflectance value corresponding to the first valley (V 1 ) of the reflectance graph in the wavelength region of to 780 nm
  • R m2 is the wavelength of 500 nm to 780 nm It is an arithmetic mean value of the
  • O k is an oscillation value in the corresponding wavelength region
  • n is the number of oscillation values in the corresponding wavelength region
  • the oscillation value is a pair of adjacent peaks (P k ) and valleys ( V k )
  • the substrate has birefringence.
  • the substrate has a refractive index (Nx) in the X-axis direction of 1.57 to 1.67; Y-axis direction refractive index (Ny) is 1.57 to 1.67; The refractive index Nz in the Z-axis direction is 1.53 to 1.57.
  • the first coating layer has a refractive index (N1) satisfying Equation 4 below.
  • a second coating layer on the substrate is further included.
  • the second coating layer is disposed between the substrate and the first coating layer.
  • the first coating layer is disposed between the substrate and the second coating layer.
  • the second coating layer has a refractive index (N2) satisfying Equation 5 below.
  • a third coating layer on the substrate is further included.
  • the third coating layer has a refractive index (N3) satisfying Equation 6 below.
  • the first coating layer includes a light-transmitting matrix and particles dispersed in the light-transmitting matrix.
  • the light-transmitting matrix includes at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the particle is zirconia (zirconia, ZrO 2 ), silica (silica, SiO 2 ), alumina (alumina, Al 2 O 3 ), titanium dioxide (titanium dioxide, TiO 2 ), styrene (Styrene) and at least one of acrylic (Acrylic) includes one
  • the first coating layer may have a thickness of 0.01 to 3.4 ⁇ m.
  • the second coating layer may have a thickness of 1 to 14 ⁇ m.
  • the third coating layer may have a thickness of 1 ⁇ m or less.
  • a polyimide-based substrate and a first coating layer on the polyimide-based substrate; including, from the reflectance graph obtained by measuring the reflectance in the 380 nm to 780 nm wavelength region, the reflectance oscillation ratio (O r ) calculated by the following Equation 1 is 1.0 or less And, the reflectance graph slope (G r ) calculated by the following Equation 2 provides a polyimide-based film of 0.122 or less.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) calculated by the following Equation 1 is 1.0 or less
  • the reflectance graph slope (G r ) calculated by the following Equation 2 provides a polyimide-based film of 0.122 or less.
  • O m1 is the average (O m ) of reflectance oscillation values in the wavelength region of 500 nm to 550 nm
  • O m2 is the average value of reflectance oscillation values in the wavelength region of 650 nm to 780 nm (O m ) as the average of the reflectance oscillation values (O m1 , O m2 ) is calculated by the following Equation 3
  • Min(O m1 ,O m2 ) refers to the average (O m ) of small reflectance oscillation values among O m1 and O m2
  • R m1 is 500 nm It is an arithmetic mean value of the reflectance value corresponding to the first peak (P 1 ) and the reflectance value corresponding to the first valley (V 1 ) of the reflectance graph in the wavelength region of to 780 nm
  • R m2 is the wavelength of 500 nm to 780 nm It is an arithmetic mean value of the
  • O k is an oscillation value in the corresponding wavelength region
  • n is the number of oscillation values in the corresponding wavelength region
  • the oscillation value is a pair of adjacent peaks (P k ) and valleys ( V k )
  • Another embodiment of the present invention provides a display device including a display panel and the film disposed on the display panel.
  • a polymer film includes a coating layer on a substrate to improve physical properties such as hardness, abrasion resistance, flexibility, etc., but in a film composed of a substrate and a coating layer, interference fringes may occur due to differences in optical properties between the substrate and the coating layer.
  • the film according to an embodiment of the present invention has excellent optical and mechanical properties, and when used as a cover window of a display device, can effectively protect the display surface of the display device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a film 100 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a reflectance graph of the film obtained by measuring the light reflectance of the film in a wavelength range of 380 to 780 nm using HITACHI's UH4150 equipment.
  • 3 is an enlarged graph of the reflectance graph of the film in an arbitrary wavelength region range W x .
  • FIG 5 is an enlarged view of the first coating layer 20 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic diagram of a film 101 further including a swelling layer 12 according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic diagram of a film 102 further including a second coating layer 30 according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a schematic diagram of another form of the film 102 further comprising a second coating layer 30 of another embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic diagram of a film 103 further including a third coating layer 40 according to another embodiment of the present invention.
  • Spatially relative terms “below, beneath”, “lower”, “above”, “upper”, etc. are one element or component as shown in the drawings. and can be used to easily describe the correlation with other devices or components. Spatially relative terms should be understood as terms including different directions of the device during use or operation in addition to the directions shown in the drawings. For example, when an element shown in the figures is turned over, an element described as “beneath” or “beneath” another element may be placed “above” the other element. Accordingly, the exemplary term “below” may include both directions below and above. Likewise, the exemplary terms “above” or “on” may include both directions above and below.
  • first, second, etc. are used to describe various elements, these elements are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.
  • At least one should be understood to include all possible combinations from one or more related items.
  • the meaning of “at least one of the first, second, and third items” means each of the first, second, or third items as well as two of the first, second, and third items. It may mean a combination of all items that can be presented from more than one.
  • each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be implemented independently of each other or may be implemented together in a related relationship. may be
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a film 100 according to an embodiment of the present invention.
  • the film 100 includes a substrate 10 and a first coating layer 20 .
  • the film 100 has a reflectance oscillation ratio (O r ) calculated by the following Equation 1 from a reflectance graph obtained by measuring reflectance in a wavelength region of 380 nm to 780 nm is 1.0 or less, and , the slope of the reflectance graph calculated by Equation 2 below (G r ) is 0.122 or less.
  • O r reflectance oscillation ratio
  • oscillation is also referred to as amplitude.
  • the graph of FIG. 2 is only an example, and the shape and result value of the graph is a reflectance graph of the film obtained by measuring the light reflectance of the film in the 380 ⁇ 780 nm wavelength region using UH4150 equipment of Filmma ITACHI. Therefore, the present invention is not limited thereto.
  • FIG. 3 is an enlarged graph of the reflectance graph of the film of FIG. 2 in an arbitrary wavelength range W x .
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film may be calculated by Equation 1 from the reflectance graph of the film of FIG. 2 .
  • O m1 is the average (O m ) of the reflectance oscillation values in the 500 nm to 550 nm wavelength region (W1)
  • O m2 is the reflectance oscillation value in the 650 nm to 780 nm wavelength region (W2).
  • W1 is the average (O m ) of
  • Min(O m1 ,O m2 ) is the average (O m ) of the smaller reflectance oscillation values among O m1 and O m2.
  • Equation 3 The average of the reflectance oscillation values (O m1 , O m2 ) is calculated by Equation 3 below.
  • Equation 3 O k is an oscillation value in the corresponding wavelength region, and n is the number of oscillation values in the corresponding wavelength region.
  • Equation 3 (O m1 , A method of calculating O m2 ) will be described in more detail.
  • the degree of light reflection of the film for each wavelength of light is expressed as a percentage (%).
  • optical interference occurs due to the difference in optical properties between the substrate and the coating layer, and accordingly, the peak and valley of the reflectance irregularly repeat the amplitude ( oscillation) appears, and the amplitude of the reflectance according to the wavelength is the cause of the interference fringes on the surface of the film.
  • a pair of adjacent peaks (P k ) and valleys (V k ) constitute one oscillation, and reflectance corresponding to each of a pair of adjacent peaks (P k ) and valleys (V k ) difference of values (the reflectance value corresponding to
  • ) corresponding to V k becomes one oscillation value (O k ).
  • the average of the reflectance oscillation values calculated by Equation 3 in the 500 nm to 550 nm wavelength range (W 1 ) is O m1
  • the 650 nm to 780 nm wavelength range (W 2 ) calculated by Equation 3 above By taking the average of the reflectance oscillation values as O m2 , the reflectance oscillation ratio (O r ) may be calculated through Equation 1 above.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less.
  • Reflectivity oscillation ratio (O r) of the present invention the larger the to mean the variation amount of the reflectivity of the film caused by the light interference due to changes in wavelength, reflectivity oscillation ratio (O r) increase in the optical interferometer, and , as the reflectance oscillation ratio (O r ) is small, the optical interference is reduced.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) When the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less, the range of change in reflectance according to the change of wavelength is reduced and the reflected light is uniformly recognized by the human eye, so that no interference fringes are observed. On the other hand, when the reflectance oscillation ratio (O r ) exceeds 1.0, the range of change in reflectance according to the change of wavelength increases and the reflected light is non-uniformly recognized by the human eye, so that various colors are displayed on the surface of the film. Interference fringes that appear at narrow intervals may occur.
  • FIG. 4 is a graph showing the slope of the graph in the wavelength region of 500 nm to 780 nm in the reflectance graph of the film.
  • the graph of FIG. 4 is only an example, and since the shape and result value of the graph may vary for each film, the present invention is not limited thereto.
  • the slope of the reflectance graph of the film (G r ) may be calculated by Equation 2 from the reflectance graph of the film of FIG. 4 .
  • R m1 is the arithmetic mean value of the reflectance value corresponding to the first peak (P 1 ) and the first valley (V 1 ) of the reflectance graph in the wavelength region of 500 nm to 780 nm
  • R m2 is an arithmetic mean value of reflectance values corresponding to the last peak (P f ) and the last valley (V f ) of the reflectance graph in the wavelength region of 500 nm to 780 nm.
  • the reflectance of the film including the coating layer exhibits irregular amplitude as the wavelength increases. Therefore, although the slope at any specific point of the reflectance graph can be measured, it is difficult to measure the slope in the entire wavelength range of 500 nm to 780 nm.
  • an embodiment of the present invention obtains the average (R m1 ) of the reflectance value corresponding to the first peak (P 1 ) and the reflectance value corresponding to the first valley (V 1 ) in the corresponding wavelength region from the reflectance graph, Calculate the average (R m2 ) of the reflectance value corresponding to the last peak (P f ) and the reflectance value corresponding to the last valley (V f ), and according to Equation 2 above, the slope trend in the entire 500 nm to 780 nm wavelength range The slope of the reflectance graph (G r ) that can be judged was calculated.
  • the slope of the reflectance graph (G r ) is 0.122 or less.
  • the slope of the reflectance graph of the present invention refers to the increase/decrease level of the reflectance of the film according to the wavelength, and when the reflectance sharply increases or decreases according to the change of the wavelength, the slope of the reflectance graph (G r ) increases.
  • the slope of the reflectance graph (G r ) increases, the reflected light is non-uniformly recognized by the human eye, so that interference fringes appearing in a wide area of various colors may occur.
  • the slope of the reflectance graph (G r ) is smaller, the reflected light is uniformly recognized by the human eye.
  • the substrate 10 includes a transparent polymer. If it is a transparent polymer, it may be used as the substrate 10 according to an embodiment of the present invention without particular limitation.
  • the polymer include polyimide polymer, polyester polymer, polyolipine polymer, norbornene polymer, polycarbonate polymer, polyethersulfone polymer, polyarylate polymer, polyacrylic polymer, polyethylene terephthalate polymer, cellulose Polymers of a single component, such as a series polymer, these copolymer polymers, an epoxy polymer, etc. are mentioned.
  • polyimide-based polymers are excellent not only in physical properties such as thermal properties, hardness, abrasion resistance, and flexibility, but also in optical properties such as light transmittance and haze. preferably included.
  • the present invention is not limited thereto.
  • the polyimide-based polymer refers to a polymer including a repeating unit of an imide functional group in the main chain structure, and is generally formed by a condensation reaction between an amine and a carboxylic anhydride group.
  • the polyimide-based polymer may include an amide repeating unit.
  • the polyimide-based polymer according to an embodiment of the present invention there is a polyamide-imide polymer.
  • the type of the film 100 may vary depending on the polymer of the substrate 10 .
  • the film 100 in which the substrate 10 includes a polyimide-based polymer may be referred to as a polyimide-based film.
  • the polymer has an optically anisotropic property, and thus the substrate 10 has birefringence.
  • the index of refraction in the X-axis direction (Nx) of the substrate 10 may be 1.57 to 1.67
  • the refractive index in the Y-axis direction (Ny) may be in the range of 1.57 to 1.67
  • the refractive index in the Z-axis direction (Nz) may be in the range of 1.53 to 1.57.
  • the Z-axis direction of the substrate refers to the height direction of the substrate, and the X-axis direction and the Y-axis direction of the substrate are determined according to the refractive indices of the horizontal and vertical directions.
  • the direction of the refractive index of a larger value among the refractive index in the horizontal direction and the refractive index in the vertical direction is the X-axis direction
  • the direction of the refractive index of the small value is the Y-axis direction.
  • the refractive index in the X-axis direction (Nx) of the substrate refers to the larger of the refractive index in the transverse direction and the refractive index in the longitudinal direction of the substrate
  • the refractive index in the Y-axis direction (Ny) of the substrate is the refractive index in the transverse direction and the refractive index in the longitudinal direction of the substrate.
  • the Z-axis direction refractive index (Nz) of the substrate refers to the refractive index in the height direction of the substrate.
  • an interference fringe may occur due to a difference in refractive index between the substrate and the coating layer.
  • the substrate 10 may have a thickness of 100 ⁇ m or less.
  • FIG 5 is an enlarged view of the first coating layer 20 according to an embodiment of the present invention.
  • the first coating layer 20 is positioned on the substrate 10 , and serves to adjust the reflectance oscillation ratio (O r ) and the reflectance graph slope (G r ) of the film.
  • the first coating layer 20 may include a light-transmitting matrix 21 and particles 22 dispersed in the light-transmitting matrix.
  • the light-transmitting matrix 21 and the first coating layer 20 representing the particles 22 dispersed in the light-transmitting matrix are shown in FIG. 5 .
  • the particles 22 dispersed in the light-transmitting matrix of the first coating layer 20 control the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film and the reflectance graph slope (G r ) of the film, and the refractive index of the first coating layer 20 adjust the
  • the light-transmitting matrix 21 of the first coating layer 20 may include at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the particles are zirconia (zirconia, ZrO 2 ), silica (silica, SiO 2 ), alumina (alumina, Al 2 O 3 ), titanium dioxide (titanium dioxide, TiO 2 ), styrene (Styrene) ) and may include at least one of acrylic (Acrylic).
  • zirconia is advantageous to prevent the occurrence of interference fringes by controlling the refractive index of the first coating layer, and controlling the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film and the slope of the reflectance graph of the film (G r ).
  • the first coating layer 20 may be formed by the first coating composition.
  • the first coating composition may include at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the first coating composition may include particles.
  • the first coating composition may include a solvent.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less
  • the reflectance graph slope (G r ) is the type of the light-transmitting matrix 21 of the first coating layer 20 to produce the film 100 of 0.122 or less, the first coating layer
  • the “solvent of the first coating composition” for forming can be adjusted.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less
  • the reflectance graph slope (G r ) is the light-transmitting matrix of the first coating layer 20 to produce the film 100 having 0.122 or less
  • the type of (21) can be adjusted.
  • the light-transmitting matrix 21 of the first coating layer 20 may include at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the refractive index of the first coating layer 20 may vary, and the reflectance oscillation ratio (O r ) and the reflectance graph slope (G r ) can be adjusted. have.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less
  • the reflectance graph slope (G r ) particles included in the first coating layer 20 to produce the film 100 of 0.122 or less The type of (22) can be adjusted.
  • the particles 22 may include at least one of zirconia, silica, alumina, titanium dioxide, styrene, and acrylic. Preferably, the particles 22 may comprise zirconia.
  • the particles 22 in the first coating layer 20 control the refractive index of the first coating layer 20, so that the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film is 1.0 or less, and the slope of the reflectance graph of the film (G r ) is 0.122 can be In particular, zirconia is easy to control the refractive index of the first coating layer (20).
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less
  • the reflectance graph slope (G r ) particles included in the first coating layer 20 to produce the film 100 of 0.122 or less The content of (22) can be adjusted.
  • the particles 22 in the first coating layer 20 include 10 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the light-transmitting matrix 21 .
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film exceeds 1, or The slope of the reflectance graph (G r ) of the film exceeds 0.122.
  • the first coating layer 20 may have a refractive index N1 of Equation 4 below according to the X-axis and Y-axis refractive indices of the substrate.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film 100 exceeds 1, or the slope of the reflectance graph of the film (G r ) is 0.122 will exceed
  • the refractive index of the first coating layer 20 is set in the range of Equation 4 can be adjusted
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less, and the reflectance graph slope (G r ) is 0.122 or less to prepare the film 100, the first coating layer 20 is 0.01 to 3.4 It may have a thickness of ⁇ m, preferably may have a thickness of 0.07 to 1.3 ⁇ m.
  • a film having a reflectance oscillation ratio (O r ) of 1.0 or less and a reflectance graph slope (G r ) of 0.122 or less may be manufactured.
  • the thickness of the first coating layer 20 is less than 0.01 ⁇ m, the coating stability is reduced, the thickness of the swelling layer 12 is thin, the reflectance oscillation ratio (O r ) control effect is insignificant.
  • the thickness of the first coating layer 20 is greater than 3.4 ⁇ m, the reflectance oscillation ratio Or r exceeds 1.0.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is 1.0 or less and the reflectance graph slope (G r ) is 0.122
  • the following films can be manufactured.
  • the solvent of the first coating composition may include at least one of Methyl Ethyl Ketone (MEK), Methyl Isobutyl Ketone (MIBK), Propylene Glycol Methyl Ether (PGME), and Ethyl Acetate (EA).
  • MEK Methyl Ethyl Ketone
  • MIBK Methyl Isobutyl Ketone
  • PGME Propylene Glycol Methyl Ether
  • EA Ethyl Acetate
  • MEK Methyl Ethyl Ketone
  • MIBK Methyl Isobutyl Ketone
  • PGME Propylene Glycol Methyl Ether
  • EA Ethyl Acetate
  • the solvent of the first coating composition is MEK; and at least one of MIBK, PGME, and EA; may include.
  • the mass ratio of at least one of MEK and MIBK, PGME, and EA in the solvent of the first coating composition may be 8:2 to 6:4.
  • a swelling layer may be formed by the solvent of the first coating composition.
  • the film 101 may further include a swelling layer 12 .
  • the swelling layer 12 may be positioned between the remaining base layer 11 and the first coating layer 20 .
  • FIG. 6 is a schematic diagram of a film 101 further including a swelling layer 12 according to another embodiment of the present invention.
  • the swelling layer 12 will be described with reference to FIG. 6 .
  • the swelling layer 12 may be formed by the solvent of the first coating composition.
  • the swelling layer 12 is a layer positioned between the remaining substrate layer 11 and the first coating layer 20 , and a first coating layer 20 with a first coating composition on the substrate 10 .
  • the solvent included in the first coating composition may swell the substrate 10 of the film 101 . Accordingly, the swelling layer 12 may be formed on the substrate 10 .
  • the portion of the substrate 10 that is not swollen is referred to as the remaining substrate layer 11 .
  • the substrate 10 may include the remaining substrate layer 11 and the swelling layer 12 .
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film 101 may be 1.0 or less, and the reflectance graph slope (G) r ) may be 0.122 or less.
  • the swelling layer 12 may have a refractive index of 1.66 or less.
  • the refractive index of the swelling layer 12 may be adjusted to 1.66 or less so that the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film 101 is 1.0 or less, and the reflectance graph slope (G r) is 0.122 or less.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) is greater than 1.0, and the interference fringes are recognized on the surface of the film 101 .
  • the swelling layer 12 may have a thickness of 10 to 50% of the thickness of the first coating layer 20 .
  • the thickness of the swelling layer 12 is adjusted to the thickness of the first coating layer 20 It can be set as 10 to 50% of the range.
  • the thickness of the swelling layer 12 is less than 10% of the thickness of the first coating layer 20 , the adhesion between the substrate 10 and the first coating layer 20 may be weakened. And, when it exceeds 50%, the flexibility of the film 101 may decrease.
  • the thickness of the swelling layer 12 may vary depending on the type, content, and content ratio of the “solvent of the first coating composition”, and may also vary depending on the drying time and temperature of the first coating layer 20 .
  • the solvent of the first coating composition is MEK; and at least one of MIBK, PGME, and EA; may include.
  • MEK of the solvent of the first coating composition may be used by mixing in a mass ratio of 8:2 to 6:4.
  • the thickness of the first coating layer 20 may be 0.01 to 3.4 ⁇ m.
  • the thickness of the first coating layer 20 is less than 0.01 ⁇ m, the coating stability is reduced, the thickness of the swelling layer 12 is thin, and the reflectance oscillation ratio (O r ) control effect is insufficient. In addition, when it exceeds 3.4 ⁇ m, the reflectance oscillation ratio (O r ) exceeds 1.0 to generate an interference fringe, and the visibility of the film may deteriorate.
  • the drying time of the first coating layer 20 exceeds the upper limit time for each step, a problem may occur that the thickness of the swelling layer 12 becomes thicker than the range of the present invention, and if it is less than the lower limit time for each step, the swelling layer 12 There may be a problem that this is not sufficiently formed.
  • the manufacturing method may be adjusted to prepare the film 100 having a reflectance oscillation ratio (O r ) of 1.0 or less and a reflectance graph slope (G r ) of 0.122 or less.
  • the drying method can be adjusted. .
  • gradation drying is performed in steps of 1 to 2 minutes at 50 to 60 ° C., 2 to 3 minutes at 70 to 80 ° C., and 2 to 3 minutes at 90 to 100 ° C. can
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film and the reflectance graph slope (G r ) of the film are adjusted, and the first coating layer
  • the refractive index can be adjusted.
  • the film 102 may further include a second coating layer 30 on the substrate 10 .
  • FIG. 7 and 8 are schematic views of the film 102 further comprising a second coating layer 30 of another embodiment of the present invention.
  • the second coating layer 30 may be disposed between the substrate 10 and the first coating layer 20 .
  • the first coating layer 20 may be disposed between the substrate 10 and the second coating layer 30 .
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) and the reflectance graph slope (G r ) of the film 102 may also be controlled by the second coating layer 30 .
  • the second coating layer 30 is a layer that protects the substrate 10 or the first coating layer 20 and the adherend to which the film 102 is attached from the external environment, and the second coating layer 30 may be a hard coating layer. .
  • the second coating layer 30 may have a refractive index (N2) of Equation 5 below according to the X-axis and Y-axis refractive indices of the substrate.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film exceeds 1, or the slope of the reflectance graph of the film (G r ) exceeds 0.122. .
  • the second coating layer 30 may include a light-transmitting matrix.
  • the light-transmitting matrix of the second coating layer 30 may include at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the light-transmitting matrix of the second coating layer 30 may be the same as or different from the light-transmitting matrix of the first coating layer 20 .
  • the present invention is not limited thereto. However, since the adhesion between the first and second coating layers increases when the same light-transmitting matrix is used, it is preferable to use the same light-transmitting matrix.
  • the second coating layer 30 may have a thickness of 1 to 14 ⁇ m, preferably, may have a thickness of 3 to 7 ⁇ m.
  • the present invention is not limited thereto.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film 102 and the reflectance graph slope (G r ) of the film can be adjusted, and the refractive index of the second coating layer 30 can be adjusted. have.
  • the second coating layer 30 may be formed using the second coating composition.
  • the second coating composition may include at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the second coating composition may include a solvent.
  • the film 103 may further include a third coating layer 40 on the substrate 10 .
  • FIG. 9 is a schematic diagram of a film 103 further comprising a third coating layer 40 according to another embodiment of the present invention.
  • the third coating layer 40 may have a refractive index N3 of Equation 6 below according to the X-axis and Y-axis refractive indices of the substrate.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film exceeds 1, or the slope of the reflectance graph of the film (G r ) exceeds 0.122. .
  • the third coating layer 40 may include a light-transmitting matrix.
  • the light-transmitting matrix of the third coating layer 40 may include at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the light-transmitting matrix of the third coating layer 40 may be the same as or different from the light-transmitting matrix of the first coating layer 20 or the second coating layer 30 .
  • the present invention is not limited thereto.
  • the third coating layer 40 may have a thickness of 1 ⁇ m or less, preferably 0.1 ⁇ m or less.
  • the present invention is not limited thereto.
  • the reflectance oscillation ratio (O r ) of the film and the reflectance graph slope (G r ) of the film can be adjusted, and the refractive index of the third coating layer 40 can be adjusted.
  • the third coating layer 40 may be formed using a third coating composition.
  • the third coating composition may include at least one of a siloxane-based resin, an acrylic resin, a urethane-based resin, and an epoxy-based resin.
  • the third coating composition may include a solvent.
  • a display device includes a display panel and a film on the display panel.
  • the film of the display device may include the film according to an embodiment of the present invention.
  • the display panel includes a substrate, a thin film transistor (TFT) on the substrate, and an organic light emitting device connected to the thin film transistor (TFT).
  • the organic light emitting device includes a first electrode, an organic light emitting layer on the first electrode, and a second electrode on the organic light emitting layer.
  • the display device may be an organic light emitting display device.
  • the substrate may be made of glass or plastic. Specifically, the substrate may be made of a plastic such as a polyimide-based resin or a polyimide-based film. A buffer layer may be disposed on the substrate.
  • a thin film transistor is disposed on a substrate.
  • the thin film transistor includes a semiconductor layer, a gate electrode insulated from the semiconductor layer and overlapping at least a portion of the semiconductor layer, a source electrode connected to the semiconductor layer, and a drain electrode spaced apart from the source electrode and connected to the semiconductor layer.
  • a gate insulating film is disposed between the gate electrode and the semiconductor layer.
  • An interlayer insulating layer may be disposed on the gate electrode, and a source electrode and a source electrode may be disposed on the interlayer insulating layer.
  • the planarization layer is disposed on the thin film transistor TFT to planarize an upper portion of the thin film transistor TFT.
  • the first electrode is disposed on the planarization layer.
  • the first electrode is connected to the thin film transistor TFT through a contact hole provided in the planarization layer.
  • the bank layer is disposed on a portion of the first electrode and on the planarization layer to define a pixel area or a light emitting area.
  • the pixel region may be defined by the bank layer.
  • the organic light emitting layer is disposed on the first electrode.
  • the organic light emitting layer may also be disposed on the bank layer.
  • the organic emission layer may include one emission layer or two emission layers stacked vertically. Light having any one color among red, green, and blue may be emitted from the organic emission layer, and white light may be emitted.
  • the second electrode is disposed on the organic light emitting layer.
  • the first electrode, the organic light emitting layer, and the second electrode may be stacked to form an organic light emitting device.
  • each pixel may include a color filter for filtering white light emitted from the organic emission layer for each wavelength.
  • the color filter is formed on the path of light.
  • a thin film encapsulation layer may be disposed on the second electrode.
  • the thin film encapsulation layer may include at least one organic layer and at least one inorganic layer, and at least one organic layer and at least one inorganic layer may be alternately disposed.
  • the film according to an embodiment of the present invention is disposed on the display panel having the above-described laminated structure.
  • BPDA biphenyl-tetracarboxylic acid dianhydride
  • TPC terephthaloyl chloride
  • the polyimide-based polymer solid content prepared herein is a polyamide-imide polymer solid content.
  • the temperature of the reactor was maintained at 10° C. and stirred for a certain period of time. Thereafter, 75 g of the prepared polyimide-based polymer solid powder was added, and after stirring for 1 hour, the temperature was raised to 25° C. to prepare a liquid polyimide-based resin solution.
  • the obtained polyimide-based resin solution was applied to a glass substrate with an applicator, dried with hot air at 130° C. for 30 minutes to prepare a film, and then the prepared film was peeled off the glass substrate and fixed to the frame with pins.
  • the frame on which the film was fixed was placed in a vacuum oven and slowly heated from 100° C. to 300° C. for 2 hours, then cooled slowly and separated from the frame to obtain a high refractive index polyimide-based substrate. Again, the high refractive index polyimide-based substrate was heat-treated at 250° C. for 5 minutes.
  • the high refractive polyimide-based substrate has a thickness of 50 ⁇ m, is light transmissive, and has birefringence.
  • the polyimide-based polymer solid content prepared herein is a polyamide-imide polymer solid content.
  • a low-refractive polyimide-based substrate was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 using the obtained polyimide-based polymer solid content.
  • the low-refractive polyimide-based substrate has a thickness of 50 ⁇ m, is light-transmitting, and has birefringence.
  • the polyimide-based polymer solid content prepared herein is a polyamide-imide polymer solid content.
  • an intermediate refractive polyimide-based substrate was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 using the obtained polyimide-based polymer solid content.
  • the intermediate refractive polyimide-based substrate has a thickness of 50 ⁇ m, is light-transmitting, and has birefringence.
  • the high refractive polyimide-based substrate prepared in Preparation Example 1 was used as the substrate 10 .
  • the first coating composition was applied to the upper surface of the high refractive polyimide-based substrate of Preparation Example 1 using a bar, and then dried at 60° C./2 minutes, 80° C./3 minutes, and 100° C./3 minutes to swell the substrate due to the solvent.
  • the ring layer thickness was formed to an average of 25 nm.
  • a second coating composition having a refractive index of 1.50 upon curing was prepared by excluding KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM Corporation), which is a Zirconia dispersion, from the first coating composition.
  • the second coating composition is applied on the upper surface of the cured film of the primary film using a bar, dried at 100° C. for 10 minutes, and exposed to 2 J/cm 2 with an ultraviolet lamp having a wavelength of 315 nm.
  • a polyimide-based film was prepared.
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 43 parts by weight of the zirconia dispersion KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM) compared to the prepared epoxy resin based on the solid content was added.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.60.
  • a second coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 17 parts by weight of the zirconia dispersion KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM) compared to the prepared epoxy resin based on the solid content was added.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.54.
  • a second coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 13 parts by weight of the zirconia dispersion KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM) compared to the prepared epoxy resin based on the solid content was added.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.53.
  • a second coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • a transparent polyimide-based film including first and second coating layers on the upper surface of the low-refractive polyimide-based substrate prepared in Preparation Example 2 was prepared. prepared.
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 22 parts by weight of the zirconia dispersion KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM) compared to the prepared epoxy resin based on the solid content was added.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.55.
  • a second coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • a transparent polyimide-based film including first and second coating layers on the upper surface of the intermediate refractive polyimide-based substrate prepared in Preparation Example 3 was prepared. prepared.
  • a secondary film having the first and second coating layers was prepared in the same manner as in Example 1.
  • the second coating composition is applied to the other side of the secondary film using a bar, and then dried at 60° C./2 minutes, 80° C./3 minutes, and 100° C./3 minutes to the thickness of the swelling layer of the substrate due to the solvent. was formed to an average of 0.2 ⁇ m.
  • a transparent polyimide-based film having a third coating layer having a thickness of 0.8 ⁇ m was prepared by exposing it to 2 J/cm 2 with an ultraviolet lamp having a wavelength of 315 nm.
  • the high refractive polyimide-based substrate prepared in Preparation Example 1 was used as the substrate 10 .
  • the first coating composition was applied to the upper surface of the high refractive polyimide-based substrate of Preparation Example 1 using a bar, and then dried at 60° C./2 minutes, 80° C./3 minutes, and 100° C./3 minutes to swell the substrate due to the solvent.
  • the ring layer thickness was formed to an average of 25 nm.
  • a second coating composition having a refractive index of 1.50 upon curing was prepared by excluding KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM Corporation), which is a Zirconia dispersion, from the first coating composition.
  • the second coating composition is applied on the upper surface of the cured film of the primary film using a bar, dried at 100° C. for 10 minutes, and exposed to 2 J/cm 2 with an ultraviolet lamp having a wavelength of 315 nm.
  • a polyimide-based film was prepared.
  • IRGACURE 250 (BASF Corporation) as a photoinitiator was added in 3 parts by weight compared to the prepared epoxy-based resin, and cured with a refractive index of 1.50 of the epoxy resin composition was obtained.
  • the high refractive polyimide-based substrate prepared in Preparation Example 1 was used as the substrate 10 .
  • the epoxy-based resin composition was applied to the upper surface of the high refractive polyimide-based substrate of Preparation Example 1 using a bar, and then dried at 60° C./2 minutes, 80° C./3 minutes, and 100° C./3 minutes to swell the substrate due to the solvent.
  • the ring layer thickness was formed to an average of 25 nm.
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 60 parts by weight of the zirconia dispersion KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM) was added based on the solid content of the prepared epoxy resin.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.64.
  • a second coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 5 parts by weight of the zirconia dispersion KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM) compared to the prepared epoxy resin based on the solid content was added.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.51.
  • a second coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.57.
  • KT-300Z-S-KR which is a Zirconia dispersion liquid
  • a first coating composition was prepared in the same manner as in Example 1.
  • the refractive index upon curing of the first coating composition is 1.57.
  • the first coating composition After applying the first coating composition to the upper surface of the high refractive polyimide-based substrate of Preparation Example 1 using a bar, it was dried at 60° C./2 minutes, 80° C./3 minutes, and 100° C./3 minutes to form a swelling layer of the substrate due to the solvent. The thickness was formed to an average of 1.25 nm.
  • a second coating layer was formed on the upper surface of the cured primary film to prepare a transparent polyimide-based film including the first and second coating layers. .
  • a secondary film having the first and second coating layers was prepared in the same manner as in Example 1.
  • KT-300Z-S-KR which is a Zirconia dispersion liquid
  • the third coating composition was applied to the other side of the secondary film using a bar, and then dried at 60 ° C./2 min, 80 ° C./3 min, and 100 ° C./3 min to reduce the thickness of the swelling layer of the substrate due to the solvent. An average of 0.2 ⁇ m was formed.
  • a transparent polyimide-based film having a third coating layer having a thickness of 0.8 ⁇ m was prepared by exposing it to 2 J/cm 2 with an ultraviolet lamp having a wavelength of 315 nm.
  • a secondary film having the first and second coating layers was prepared in the same manner as in Example 1.
  • the second coating composition is applied to the other side of the secondary film using a bar, and then dried at 60° C./2 minutes, 80° C./3 minutes, and 100° C./3 minutes to the thickness of the swelling layer of the substrate due to the solvent. was formed to an average of 1.25 ⁇ m.
  • a transparent polyimide-based film having a third coating layer having a thickness of 5 ⁇ m was prepared by exposing it to 2 J/cm 2 with an ultraviolet lamp having a wavelength of 315 nm.
  • O m1 is the average (O m ) of the reflectance oscillation values in the 500 nm to 550 nm wavelength region (W1)
  • O m2 is the reflectance oscillation value in the 650 nm to 780 nm wavelength region (W2).
  • Equation 3 Min(O m1 ,O m2 ) refers to the average (O m ) of small reflectance oscillation values among O m1 and O m2 , and in Equation 2, R m1 is 500 nm It is an arithmetic mean value of the reflectance value corresponding to the first peak (P 1 ) and the reflectance value corresponding to the first valley (V 1 ) of the reflectance graph in the wavelength region of to 780 nm , R m2 is the wavelength of 500 nm to 780 nm It is an arithmetic mean value of the reflectance value corresponding to the last peak (P f ) of the reflectance graph in the region and the reflectance value corresponding to the last valley (V f ).
  • O k is an oscillation value in the corresponding wavelength region
  • n is the number of oscillation values in the corresponding wavelength region
  • the oscillation value is a pair of adjacent peaks (P k ) and valleys ( V k )
  • A Difficult to perceive with the naked eye.
  • a small number can be recognized with the naked eye, and use may be limited depending on the layered structure.
  • Example 7 > 90% ⁇ 1.0% -1.54 0.063 A Comparative Example 1 5B > 90% ⁇ 1.0% 1.12 0.063 C
  • the film according to the embodiment of the present invention was excellent in optical properties such as transmittance and haze as well as adhesion and flexibility between the substrate and the coating layer.
  • the first coating layer is applied between the second coating layer and the substrate so that the reflectance oscillation ratio (O r ) and the reflectance graph slope (G r ) satisfy the range of the present application. It was found that the level of interference fringes was better than that of the film to which this first coating layer was not applied.
  • Example 1 and Comparative Example 5 even if the first coating layer is applied between the second coating layer and the substrate, as the thickness of the first coating layer deviates from a certain range level, the reflectance graph slope (G r ) If it exceeds 0.122, it can be seen that there is also no effect of improving the interference fringes.
  • Example 6 Comparative Examples 6 to 7
  • the third coating layer is formed on the other side of the structure to which the first coating layer having an appropriate refractive index and thickness is applied between the first coating layer and the substrate

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Abstract

본 발명은 기재 및 상기 기재 상의 제1 코팅층을 포함하고, 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하이며, 간섭 무늬가 개선된 필름을 제공한다.

Description

간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치
본 발명은 간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치에 대한 것이다.
불용성, 내화학성, 내열성, 내방사선성 및 저온특성 등이 우수한 고분자 수지는 자동차 재료, 항공소재, 우주선 소재, 절연코팅제, 절연막, 보호필름 등으로 사용되고 있다.
최근, 표시장치의 박형화, 경량화, 플렉서블화로 인하여, 표시장치의 커버 윈도우로 유리 대신 고분자 수지로 형성된 고분자 필름을 사용하는 것이 검토되고 있다. 고분자 필름이 표시장치의 커버 윈도우로 사용되기 위해서는, 고분자 필름이 우수한 경도, 내마모성, 굴곡성 등의 물리적 특성을 가질 필요가 있다. 목적하는 물성을 부여하기 위하여, 기재 상에 코팅층을 형성시킨다.
다만, 기재 상에 코팅층이 형성된 필름은, 코팅층과 기재 간의 광학적 물성 차이에 의해 광학적인 간섭이 발생하고, 이로 인해 필름의 표면에 무지개 빛과 같은 간섭 무늬가 발생하게 되어 필름의 시인성이 저하된다는 문제점이 있다.
본 발명의 일 실시예는, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하인 필름을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예는, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예는, 기재 및 상기 기재 상의 제1 코팅층을 포함하고, 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고, 하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 필름을 제공한다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며, 상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며, 상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
상기 기재는 복굴절성을 갖는다.
상기 기재는, X 축 방향 굴절률(Nx)이 1.57 내지 1.67 이고; Y 축 방향 굴절률(Ny)이 1.57 내지 1.67 이며; Z 축 방향 굴절률(Nz)이 1.53 내지 1.57이다.
상기 제1 코팅층은 하기 식 4을 만족하는 굴절률(N1)을 갖는다.
<식 4>
0.927*Nx ≤ N1 ≤ 0.978*Ny
상기 기재 상의 제2 코팅층을 더 포함한다.
상기 제2 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제1 코팅층 사이에 배치된다.
상기 제1 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제2 코팅층 사이에 배치된다.
상기 제2 코팅층은 하기 식 5를 만족하는 굴절률(N2)을 갖는다.
<식 5>
0.793*Nx ≤ N2 ≤ 0.975*Ny
상기 기재 상의 제3 코팅층을 더 포함한다.
상기 제3 코팅층은 하기 식 6를 만족하는 굴절률(N3)을 갖는다.
<식 6>
0.793*Nx ≤ N3 ≤ 0.975*Ny
상기 제1 코팅층은 광투과성 매트릭스 및 상기 광투과성 매트릭스에 분산된 입자를 포함한다.
상기 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함한다.
상기 입자는 지르코니아(zirconia, ZrO2), 실리카(silica, SiO2), 알루미나(alumina, Al2O3), 이산화 타이타늄(titanium dioxide, TiO2), 스티렌(Styrene) 및 아크릴(Acrylic) 중 적어도 하나를 포함한다.
상기 제1 코팅층은 0.01 내지 3.4 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
상기 제2 코팅층은 1 내지 14 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
상기 제3 코팅층은 1㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예는, 폴리이미드계 기재; 및 상기 폴리이미드계 기재 상의 제1 코팅층;을 포함하고, 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고, 하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 폴리이미드계 필름을 제공한다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며, 상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며, 상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
본 발명의 또 다른 일 실시예는, 표시패널 및 상기 표시패널 상에 배치된 상기의 필름을 포함하는, 표시장치를 제공한다.
일반적으로, 유리와 달리 고분자 필름은 경도, 내마모성, 굴곡성 등과 같은 물리적 특성을 향상시키기 위하여 기재 상에 코팅층을 포함하나, 기재 및 코팅층으로 이루어진 필름은 기재 및 코팅층의 광학적 특성 차이에 의하여 간섭 무늬가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)를 1.0 이하로 조절하고, 반사율 그래프 기울기(Gr)를 0.122 이하로 조절함으로써 간섭 무늬가 발생하지 않으며, 시인성이 향상된 필름이 제조될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 필름은 우수한 광학적 특성 및 기계적 특성을 가져, 표시장치의 커버 윈도우로 사용되는 경우, 표시장치의 표시 면을 효과적으로 보호할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필름(100)의 개략도이다.
도 2는 HITACHI社의 UH4150 장비를 이용하여 380~780㎚ 파장영역에서 필름의 빛 반사율을 측정하여 얻은 필름의 반사율 그래프이다.
도 3은 필름의 반사율 그래프 중 임의의 파장영역 범위 Wx에서의 그래프를 확대한 것이다.
도 4는 필름의 반사율 그래프에서 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 그래프 기울기를 표시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 코팅층(20)의 확대도이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예의 스웰링층(12)을 더 포함하는 필름(101)의 개략도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제2 코팅층(30)을 더 포함하는 필름(102)의 개략도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제2 코팅층(30)을 더 포함하는 필름(102)의 또 다른 형태의 개략도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제3 코팅층(40)을 더 포함하는 필름(103)의 개략도이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명한다. 다만, 아래에서 설명되는 실시예들은 본 발명의 명확한 이해를 돕기 위한 예시적 목적으로 제시되는 것일 뿐, 본 발명의 범위를 제한하지 않는다.
본 발명의 실시예들을 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도면에 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 구성 요소는 동일 참조 부호로 지칭될 수 있다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명은 생략된다.
본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이라는 표현이 사용되지 않는 이상, 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소가 단수로 표현된 경우, 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함한다. 또한, 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수 있다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below, beneath)", "하부 (lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해 되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 마찬가지로, 예시적인 용어인 "위" 또는 "상"은 위와 아래의 방향을 모두 포함할 수 있다.
시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1 항목, 제2 항목 및 제3 항목 중 적어도 하나"의 의미는 제1 항목, 제2 항목 또는 제3 항목 각각 뿐만 아니라 제1 항목, 제2 항목 및 제3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필름(100)의 개략도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 발명의 일 실시예에 따른 필름(100)은 기재(10) 및 제1 코팅층(20)을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 필름(100)은 380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의하여 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 하기 식 2에 의하여 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하이다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
이하, 도 2 및 3을 참조하여, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)를 설명한다. 본 발명에서 오실레이션(oscillation)은 진폭이라고도 한다.
도 2는 H다. 도 2의 그래프는 하나의 예시에 불과하고, 그래프의 형태 및 결과값은 필름마ITACHI社의 UH4150 장비를 이용하여 380~780㎚ 파장영역에서 필름의 빛 반사율을 측정하여 얻은 필름의 반사율 그래프이다 달라질 수 있으므로, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
도 3은 도 2의 필름의 반사율 그래프 중 임의의 파장영역 범위 Wx에서의 그래프를 확대한 것이다.
필름의 반사율 오실레이션 비(Or)는 도 2의 필름의 반사율 그래프로부터 상기 식 1에 의하여 산출될 수 있다.
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역(W1)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역(W2)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이며, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이다.
상기 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출된다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이다.
이하, 도 2 및 3을 참조하여, 상기 식 3에 의하여 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)을 산출하는 방법을 보다 구체적으로 설명한다.
도 2의 그래프에는 빛의 파장 별 필름의 빛 반사 정도가 퍼센트(%)로 표시되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 코팅층을 포함하는 필름은 기재와 코팅층의 광학적 특성 차이로 인하여 광학적인 간섭이 발생하고, 이에 따라 반사율의 피크(peak)와 밸리(valley)가 불규칙적으로 반복하는 진폭(oscillation)이 나타나고, 이와 같은 파장에 따른 반사율의 진폭은 필름의 표면에 발생하는 간섭 무늬의 원인이 된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 임의의 파장영역 범위(Wx)의 필름의 반사율 그래프에서 파장이 증가함에 따라 반사율의 피크(Pk = P1, P2, P3, ..., Pn)와 밸리(Vk = V1, V2, V3, ..., Vn)가 반복해서 나타난다. 이때, 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk)는 하나의 오실레이션을 구성하고, 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)는 하나의 오실레이션 값(Ok)이 된다. 이와 같이 계산된 n개의 오실레이션 값(Ok = O1, O2, O3, ..., On)을 상기 식 3에 대입하면 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 산출할 수 있다.
500 nm 내지 550 nm 파장영역(W1)에서 상기 식 3에 의하여 산출한 반사율 오실레이션 값의 평균을 Om1으로 하고, 650 nm 내지 780 nm 파장영역(W2)에서 상기 식 3에 의하여 산출한 반사율 오실레이션 값의 평균을 Om2으로 하여, 상기 식 1을 통해 반사율 오실레이션 비(Or)를 산출할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이다.
본 발명의 반사율 오실레이션 비(Or)는 파장의 변화에 따른 광간섭 현상에 의해 생기는 필름의 반사율의 변화폭의 크기를 뜻하는 것으로, 반사율 오실레이션 비(Or)가 클수록 광간섭이 증가하고, 반사율 오실레이션 비(Or)가 작을수록 광간섭이 감소된다.
반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하인 경우에는, 파장의 변화에 따른 반사율의 변화폭이 감소하여 반사된 광이 사람의 눈에 균일하게 시인되므로, 간섭 무늬가 관찰되지 않는다. 반면에, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하는 경우에는, 파장의 변화에 따른 반사율의 변화폭이 증가하여 반사된 광이 사람의 눈에 불균일하게 시인되므로, 필름의 표면에 다양한 색감이 좁은 간격으로 보이는 간섭 무늬가 발생할 수 있다.
이하, 도 4를 참조하여, 반사율 그래프 기울기(Gr)를 설명한다.
도 4는 필름의 반사율 그래프에서 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 그래프 기울기를 표시한 것이다. 도 4의 그래프는 하나의 예시에 불과하고, 그래프의 형태 및 결과값은 필름마다 달라질 수 있으므로, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)는 도 4의 필름의 반사율 그래프로부터 상기 식 2에 의하여 산출될 수 있다.
상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 코팅층을 포함하는 필름의 반사율은 파장이 증가함에 따라 진폭이 불규칙적으로 나타난다. 따라서, 반사율 그래프의 임의의 특정 지점에서의 기울기는 측정할 수 있으나, 500 nm 내지 780 nm 파장영역 전체에서의 기울기를 측정하는 것은 어려움이 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시예는 반사율 그래프로부터 해당 파장영역 내의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 평균(Rm1)을 구하고, 마지막 피크(Pf)에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 평균(Rm2)을 구하여, 상기 식 2에 따라 500 nm 내지 780 nm 파장영역 전체에서의 기울기 경향을 판단할 수 있는 반사율 그래프 기울기(Gr)를 산출하였다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하이다.
본 발명의 반사율 그래프 기울기(Gr)는 파장에 따른 필름의 반사율의 증감수준을 뜻하는 것으로, 파장의 변화에 따라 반사율이 급격하게 증가 또는 감소하는 경우 반사율 그래프 기울기(Gr)가 커진다. 반사율 그래프 기울기(Gr)가 클수록 반사된 광이 사람의 눈에 불균일하게 시인되므로, 다양한 색감이 넓은 영역에서 나타나는 간섭 무늬가 발생할 수 있다. 반면에 반사율 그래프 기울기(Gr)가 작을수록 반사된 광이 사람의 눈에 균일하게 시인된다.
반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 경우에는 광간섭이 감소하고, 간섭 무늬가 발생하지 않는다. 반면에 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하는 경우에는 광간섭이 증가하고, 필름의 표면에 간섭무늬가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기재(10)는 투명한 고분자를 포함한다. 투명한 고분자라면 특별한 제한 없이 본 발명의 일 실시예에 따른 기재(10)로 사용될 수 있다. 고분자로서는, 폴리이미드계 고분자, 폴리에스테르계 고분자, 폴리올리핀계 고분자, 노르보르넨계 고분자, 폴리카보네이트계 고분자, 폴리에테르술폰계 고분자, 폴리아릴레이트계 고분자, 폴리아크릴계 고분자, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 고분자, 셀룰로스계 고분자 등의 단일 성분의 고분자, 이들의 공중합 고분자, 에폭시계 고분자 등을 들 수 있다.
특히 폴리이미드계 고분자는 열적 특성, 경도, 내마모성, 굴곡성 등의 물리적 특성뿐만 아니라, 광투과율, 헤이즈와 같은 광학적 특성 역시 우수하여, 표시장치의 커버 윈도우로 사용되는 필름의 기재로 폴리이미드계 고분자를 포함되는 것이 바람직하다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명에서 폴리이미드계 고분자란, 주 사슬구조 내에 이미드(imide) 작용기의 반복단위를 포함하는 고분자를 말하며, 일반적으로 아민(amine)과 카복실산 무수물(carboxylic anhydride)기 간의 축합 반응에 의해 형성되는 것을 말한다. 또한, 폴리이미드계 고분자는 아미드 반복단위를 포함할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드계 고분자로 폴리아마이드-이미드 고분자가 있다.
기재(10)의 고분자에 따라 필름(100)의 종류가 달라질 수 있다. 예를 들어, 기재(10)가 폴리이미드계 고분자를 포함하는 필름(100)은 폴리이미드계 필름이라 할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 고분자는 광학이방성 성질을 가지고, 그에 따라 기재(10)는 복굴절성을 가진다.
기재(10)의 X 축 방향 굴절률(Nx)은 1.57 내지 1.67일 수 있으며, Y 축 방향 굴절률(Ny)은 1.57 내지 1.67일 수 있고, Z 축 방향 굴절률(Nz)은 1.53 내지 1.57일 수 있다.
본 발명에서 기재의 Z축 방향은 기재의 높이 방향을 말하며, 기재의 X 축 방향 및 Y 축 방향은 가로 및 세로 방향의 굴절률에 따라 정해진다. 본 발명에서, 가로 방향의 굴절률 및 세로 방향의 굴절률 중 큰 값의 굴절률의 방향이 X 축 방향이고, 작은 값의 굴절률의 방향이 Y 축 방향이다.
따라서, 기재의 X 축 방향 굴절률(Nx)은 기재의 가로 방향의 굴절률 및 세로방향의 굴절률 중 더 큰 굴절률을 말하며, 기재의 Y 축 방향 굴절률(Ny)은 기재의 가로 방향 굴절률 및 세로 방향의 굴절률 중 더 작은 굴절률을 말하고, 기재의 Z 축 방향 굴절률(Nz)은 기재의 높이 방향의 굴절률을 말한다.
기재의 각 방향에 따른 굴절률이 상기 범위를 벗어나는 경우, 기재와 코팅층의 굴절률 차이로 인하여, 간섭무늬가 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기재(10)는 100㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다.
이하, 도 5를 참조하여, 본 발명의 제1 코팅층(20)을 상세하게 설명한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 코팅층(20)의 확대도이다.
제1 코팅층(20)은 기재(10) 상에 위치하여, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하는 역할을 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)은 광투과성 매트릭스(21) 및 광투과성 매트릭스에 분산된 입자(22)를 포함할 수 있다.
광투과성 매트릭스(21) 및 광투과성 매트릭스에 분산된 입자(22)를 표현한 제1 코팅층(20)은 도 5와 같다.
제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스에 분산된 입자(22)는 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제1 코팅층(20)의 굴절률을 조절한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 입자는 지르코니아(zirconia, ZrO2), 실리카(silica, SiO2), 알루미나(alumina, Al2O3), 이산화 타이타늄(titanium dioxide, TiO2), 스티렌(Styrene) 및 아크릴(Acrylic) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 특히, 지르코니아는 제1 코팅층의 굴절률을 조절하고, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하여 간섭 무늬의 발생을 방지하기 유리하다.
제1 코팅층(20)은 제1 코팅 조성물에 의해 형성될 수 있다. 제1 코팅 조성물은 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제1 코팅 조성물은 입자를 포함할 수 있다. 제1 코팅 조성물은 용매를 포함할 수 있다.
반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)의 종류, 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 종류, 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 함량, 제1 코팅층(20)의 굴절률, 제1 코팅층(20)의 두께 및 제1 코팅층(20) 형성을 위한 "제1 코팅 조성물의 용매"를 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)의 종류를 조절할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스(21)의 종류에 따라, 제1 코팅층(20)의 굴절률이 달라질 수 있으며, 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 종류를 조절할 수 있다.
입자(22)는 지르코니아, 실리카, 알루미나, 이산화 타이타늄, 스티렌 및 아크릴 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게, 입자(22)는 지르코니아를 포함할 수 있다.
제1 코팅층(20) 내의 입자(22)는 제1 코팅층(20)의 굴절률을 조절함으로써, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122가 될 수 있다. 특히 지르코니아는 제1 코팅층(20)의 굴절률을 조절하는데 용이하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)에 포함된 입자(22)의 함량을 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20) 내 입자(22)는 광투과성 매트릭스(21) 100 중량부 대비 10 내지 50 중량부 포함한다.
제1 코팅층(20) 내 입자(22)가 광투과성 매트릭스(21) 100 중량부 대비 10 중량부 미만이거나, 50 중량부 초과이면, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)은 기재의 X 축 및 Y 축 굴절률에 따라 하기 식 4의 굴절률(N1)을 가질 수 있다.
<식 4>
0.927*Nx ≤ N1 ≤ 0.978*Ny
제1 코팅층(20)의 굴절률(N1)이 상기의 범위를 벗어나는 경우에는 필름(100)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
따라서, 필름(100)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하로 조절하기 위해, 제1 코팅층(20)의 굴절률을 상기 식 4의 범위로 조절할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)은 0.01 내지 3.4 ㎛의 두께를 가질 수 있고, 바람직하게는 0.07 내지 1.3㎛의 두께를 가질 수 있다.
제1 코팅층(20)의 두께를 0.01 내지 3.4 ㎛로 조절함으로써, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하의 필름을 제조할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 두께가 0.01㎛ 미만인 경우, 코팅 안정성이 저하되고, 스웰링층(12)의 두께가 얇아져, 반사율 오실레이션 비(Or) 조절 효과가 미비하다. 또한, 제1 코팅층(20)의 두께가 3.4 ㎛ 초과인 경우, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅층(20)을 형성하기 위한 제1 코팅 조성물의 용매를 조절함으로써, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하의 필름을 제조할 수 있다.
구체적으로, 제1 코팅 조성물의 용매는 MEK (Methyl Ethyl Ketone), MIBK (Methyl Isobutyl Ketone), PGME (Propylene Glycol Methyl Ether) 및 EA (Ethyl Acetate) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 특히, MEK를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅 조성물의 용매는 MEK; 및 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나;를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 코팅 조성물의 용매 중 MEK와 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나의 질량비는 8:2 내지 6:4일 수 있다.
제1 코팅 조성물의 용매에 의해 스웰링층이 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 필름(101)은 스웰링층(12)을 더 포함할 수 있다.
스웰링층(12)은 잔여 기재층(11) 및 제1 코팅층(20) 사이에 위치할 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예의 스웰링층(12)을 더 포함하는 필름(101)의 개략도이다.
이하 도 6을 참고하여, 스웰링층(12)을 설명한다.
스웰링층(12)은 제1 코팅 조성물의 용매에 의해 형성될 수 있다.
도 6에 도시된 바와 같이, 스웰링층(12)은 잔여 기재층(11) 및 제1 코팅층(20) 사이에 위치하는 층으로, 기재(10) 상에 제1 코팅 조성물로 제1 코팅층(20)을 형성하는 과정에서, 제1 코팅 조성물에 포함된 용매는 필름(101)의 기재(10)를 스웰링(swelling)시킬 수 있다. 그에 따라, 기재(10)에 스웰링층(12)이 형성될 수 있다. 이때, 스웰링되지 않은 기재(10) 부분을 잔여 기재층(11)이라 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기재(10)는 잔여 기재층(11) 및 스웰링층(12)을 포함할 수 있다.
잔여 기재층(11)과 제1 코팅층(20) 사이에 스웰링층(12)이 배치됨으로써, 필름(101)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하가 될 수 있고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하가 될 수 있다.
스웰링층(12)은 1.66 이하의 굴절률을 가질 수 있다.
필름(101)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하가 되도록 하기 위하여, 스웰링층(12)의 굴절률은 1.66 이하로 조절될 수 있다.
스웰링층(12)의 굴절률이 1.66 초과인 경우, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0보다 커지고, 필름(101)의 표면에 간섭무늬가 시인되는 문제이다.
스웰링층(12)은 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%의 두께를 가질 수 있다.
필름(101)의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하이고, 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하가 되도록 하기 위하여, 스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%의 범위로 할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께가 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10% 미만인 경우, 기재(10) 및 제1 코팅층(20)의 밀착력이 약해질 수 있다. 그리고, 50%를 초과하는 경우, 필름(101)의 유연성이 감소할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께는 "제1 코팅 조성물의 용매"의 종류, 함량, 함량비에 따라 달라질 수 있고, 제1 코팅층(20)의 건조 시간 및 온도에 따라서도 달라질 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅 조성물의 용매는 MEK; 및 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나;를 포함할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅 조성물의 용매의 MEK; 및 MIBK, PGME 및 EA 중 적어도 하나;를 8:2 내지 6:4의 질량비로 혼합하여 사용할 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅층(20)의 두께를 0.01 내지 3.4 ㎛로 할 수 있다.
제1 코팅층(20) 두께가 0.01㎛ 미만인 경우, 코팅 안정성이 저하되고, 스웰링층(12)의 두께가 얇아져, 반사율 오실레이션 비(Or) 조절 효과가 미비하다. 또한, 3.4㎛ 초과인 경우, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하게 되어 간섭무늬가 발생하고, 필름의 시인성이 나빠질 수 있다.
스웰링층(12)의 두께를 제1 코팅층(20) 두께에 대하여 10 내지 50%로 하기 위해, 제1 코팅층(20)을 제조 시, 50 내지 60 ℃에서 1~2분, 70 내지 80 ℃에서 2~3 분, 90 내지 100 ℃에서 2~3 분의 단계로 그라데이션 건조를 할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 제조 시에 단계별 상한 온도를 초과하게 되면, 용매가 급격히 휘발되어 스웰링층(12)이 충분히 형성되지 못하는 문제가 발생할 수 있고, 단계별 하한 온도 미만인 경우, 스웰링층(12)의 두께가 본 발명의 범위보다 두꺼워지는 문제가 발생할 수 있다.
제1 코팅층(20)의 건조 시간이 단계별 상한 시간을 초과하게 되면, 스웰링층(12)의 두께가 본 발명의 범위보다 두꺼워지는 문제가 발생할 수 있으며, 단계별 하한 시간 미만인 경우, 스웰링층(12)이 충분히 형성되지 못하는 문제가 발생할 수 있다.
반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제조방법을 조절할 수 있다. 예를 들어, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0 이하 및 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122 이하인 필름(100)을 제조하기 위해 제1 코팅층(20)의 제조과정에서 건조방법을 조절할 수 있다.
예를 들어, 제1 코팅층(20)을 제조 시, 50 내지 60 ℃에서 1~2분, 70 내지 80 ℃에서 2~3 분, 90 내지 100 ℃에서 2~3 분의 단계로 그라데이션 건조를 할 수 있다.
이와 같이, 제1 코팅층(20)의 성분, 굴절률, 두께 및 제조방법을 조절함으로써, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제1 코팅층의 굴절률을 조절할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 필름(102)은 기재(10) 상의 제2 코팅층(30)을 더 포함할 수 있다.
도 7 및 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제2 코팅층(30)을 더 포함하는 필름(102)의 개략도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 제2 코팅층(30)이 기재(10) 및 제1 코팅층(20) 사이에 배치될 수도 있다.
도 8에 도시된 바와 같이, 제1 코팅층(20)이 기재(10) 및 제2 코팅층(30) 사이에 배치될 수도 있다.
필름(102)의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)는 제2 코팅층(30)에 의해서도 조절될 수 있다.
제2 코팅층(30)은 기재(10) 또는 제1 코팅층(20), 필름(102)이 부착된 피착물을 외부의 환경으로부터 보호하는 층으로, 제2 코팅층(30)은 하드 코팅층일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제2 코팅층(30)은 기재의 X 축 및 Y 축 굴절률에 따라 하기 식 5의 굴절률(N2)을 가질 수 있다.
<식 5>
0.793*Nx ≤ N2 ≤ 0.975*Ny
제2 코팅층(30)의 굴절률(N2)이 상기의 범위를 벗어나는 경우에는 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제2 코팅층(30)은 광투과성 매트릭스를 포함할 수 있다.
제2 코팅층(30)의 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제2 코팅층(30)의 광투과성 매트릭스는 제1 코팅층(20)의 광투과성 매트릭스와 동일할 수도 있고, 다를 수도 있다. 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 다만, 동일한 광투과성 매트릭스를 사용하는 경우에는 제1 및 제2 코팅층 간의 밀착력이 증가하므로, 동일한 광투과성 매트릭스를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제2 코팅층(30)은 1 내지 14 ㎛의 두께를 가질 수 있고, 바람직하게는, 3 내지 7 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
제2 코팅층(30)의 두께를 조절함으로써, 필름(102)의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제2 코팅층(30)의 굴절률을 조절할 수 있다.
제2 코팅층(30)은 제2 코팅 조성물을 이용하여 형성될 수 있다. 제2 코팅 조성물은 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제2 코팅 조성물은 용매를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 필름(103)은 기재(10) 상의 제3 코팅층(40)을 더 포함할 수 있다.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예의 제3 코팅층(40)을 더 포함하는 필름(103)의 개략도이다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 제3 코팅층(40)은 기재의 X 축 및 Y 축 굴절률에 따라 하기 식 6의 굴절률(N3)을 가질 수 있다.
<식 6>
0.793*Nx ≤ N3 ≤ 0.975*Ny
제3 코팅층(40)의 굴절률(N3)이 상기의 범위를 벗어나는 경우에는 필름의 반사율 오실레이션 비(Or)가 1을 초과하거나, 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하게 된다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제3 코팅층(40)은 광투과성 매트릭스를 포함할 수 있다.
제3 코팅층(40)의 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제3 코팅층(40)의 광투과성 매트릭스는 제1 코팅층(20) 또는 제2 코팅층(30)의 광투과성 매트릭스와 동일할 수도 있고, 다를 수도 있다. 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 제3 코팅층(40)은 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
제3 코팅층(40)의 두께를 조절함으로써, 필름의 반사율 오실레이션 비(Or) 및 필름의 반사율 그래프 기울기(Gr)를 조절하고, 제3 코팅층(40)의 굴절률을 조절할 수 있다.
제3 코팅층(40)은 제3 코팅 조성물을 이용하여 형성될 수 있다. 제3 코팅 조성물은 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제3 코팅 조성물은 용매를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 표시장치는 표시패널 및 표시패널 상의 필름을 포함한다. 표시장치의 필름은 본 발명의 일 실시예에 따른 필름을 포함할 수 있다.
표시패널은 기판, 기판 상의 박막 트랜지스터(TFT) 및 박막 트랜지스터(TFT)와 연결된 유기 발광 소자를 포함한다. 유기 발광 소자는 제1 전극, 제1 전극 상의 유기 발광층 및 유기 발광층 상의 제2 전극을 포함한다. 표시장치는 유기발광 표시장치일 수 있다.
기판은 유리 또는 플라스틱으로 만들어질 수 있다. 구체적으로, 기판은 폴리이미드계 수지 또는 폴리이미드계 필름과 같은 플라스틱으로 만들어질 수 있다. 기판 상에 버퍼층이 배치될 수 있다.
박막 트랜지스터(TFT)는 기판 상에 배치된다. 박막 트랜지스터(TFT)는 반도체층, 반도체층과 절연되어 반도체층의 적어도 일부와 중첩하는 게이트 전극, 반도체층과 연결된 소스 전극 및 소스 전극과 이격되어 반도체층과 연결된 드레인 전극을 포함한다.
게이트 전극과 반도체층 사이에 게이트 절연막이 배치된다. 게이트 전극 상에 층간 절연막이 배치되고, 층간 절연막 상에 소스 전극 및 소스 전극이 배치될 수 있다.
평탄화막은 박막 트랜지스터(TFT) 상에 배치되어 박막 트랜지스터(TFT)의 상부를 평탄화시킨다.
제1 전극은 평탄화막 상에 배치된다. 제1 전극은 평탄화막에 구비된 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(TFT)와 연결된다.
뱅크층은 제1 전극의 일부 및 평탄화막 상에 배치되어 화소 영역 또는 발광 영역을 정의한다. 예를 들어, 뱅크층이 복수의 화소들 사이의 경계 영역에 매트릭스 구조로 배치됨으로써, 뱅크층에 의해 화소 영역이 정의될 수 있다.
유기 발광층은 제1 전극 상에 배치된다. 유기 발광층은 뱅크층 상에도 배치될 수 있다. 유기 발광층은 하나의 발광층을 포함할 수도 있고, 상하로 적층된 2개의 발광층을 포함할 수도 있다. 이러한 유기 발광층에서는 적색, 녹색 및 청색 중 어느 하나의 색을 갖는 광이 방출될 수 있으며, 백색(White) 광이 방출될 수도 있다.
제2 전극은 유기 발광층 상에 배치된다.
제1 전극, 유기 발광층 및 제2 전극이 적층되어 유기 발광 소자가 이루어질 수 있다.
유기 발광층이 백색(White) 광을 발광하는 경우, 개별 화소는 유기 발광층에서 방출되는 백색(White) 광을 파장 별로 필터링하기 위한 컬러 필터를 포함할 수 있다. 컬러 필터는 광의 이동경로 상에 형성된다.
제2 전극 상에 박막 봉지층이 배치될 수 있다. 박막 봉지층은 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막을 포함할 수 있으며, 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막이 교호적으로 배치될 수 있다.
이상 설명된 적층 구조를 갖는 표시패널 상에 본 발명의 일 실시예에 따른 필름이 배치된다.
이하, 예시적인 제조예 및 실시예를 참조하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 이하 설명되는 제조예나 실시예에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
<제조예 1: 고굴절 폴리이미드계 기재 제조>
교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서, DMAc(N,N-Dimethylacetamide) 735.264g을 채운 후, 반응기의 온도를 25 ℃로 맞춘 후, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 (2,2'-Bis(trifluoromethyl)benzidine, TFDB) 54.439g(0.17mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 유지하였다. 여기에 비페닐-테트라카르복실산 이무수물(biphenyl-tetracarboxylic acid dianhydride, BPDA) 10.003g(0.034mol)을 첨가하고 3시간 동안 교반하여 BPDA를 완전히 용해시킨 후, 4,4'-(헥사플루오로 이소프로필리덴)디 프탈산 무수물 (4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA) 15.105g(0.034mol)을 첨가하여 완전히 용해시켰다. 반응기 온도를 10 ℃로 내린 후 테레프탈로일 클로라이드 (Terephthaloyl chloride, TPC) 20.716g(0.102mol)을 첨가한 후 25 ℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 12중량%인 중합체 용액을 얻었다.
얻어진 중합체 용액에 피리딘 11.833g, 아세틱 안하이드라이드 15.110g을 투입하여 30분 교반 후, 다시 70 ℃에서 1시간 교반하여 상온으로 식히고, 얻어진 중합체 용액에 메탄올 20L를 첨가하여 고형분을 침전시키고, 침전된 고형분을 여과하고 분쇄한 후, 다시 메탄올 2L로 세정한 후, 100 ℃에서 진공으로 6시간 건조하여 분말 상태의 폴리이미드계 중합체 고형분을 얻었다. 여기서 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분은 폴리아마이드-이미드 중합체 고형분이다.
1L 반응기에 550g의 DMAc 채운 후, 반응기의 온도를 10 ℃로 유지한 채 일정시간 교반하였다. 이후 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분 분말의 75g을 투입한 후, 1시간 교반 후 25 ℃로 승온시켜서 액상의 폴리이미드계 수지 용액을 제조하였다.
얻어진 폴리이미드계 수지 용액을 유리 기판에 어플리케이터로 도포한 후 130 ℃의 열풍으로 30분 건조하여 필름을 제조한 후, 제조된 필름을 유리 기판에서 박리하여 프레임에 핀으로 고정하였다.
필름이 고정된 프레임을 진공오븐에 넣고 100 ℃부터 300 ℃까지 2시간 동안 천천히 가열한 후, 서서히 냉각해 프레임으로부터 분리하여 고굴절 폴리이미드계 기재를 수득하였다. 다시 고굴절 폴리이미드계 기재를 250 ℃에서 5분 동안 열처리하였다.
고굴절 폴리이미드계 기재의 두께는 50㎛으로, 광투과성이며, 복굴절성을 갖는다. 기재의 굴절률은 Nx=Ny=1.65, Nz=1.55이다.
<제조예 2: 저굴절 폴리이미드계 기재 제조>
교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서, DMAc(N,N-Dimethylacetamide) 754.06g을 채운 후, 반응기의 온도를 25 ℃로 맞춘 후, TFDB 44.832g(0.14mol)을 용해하여 이 용액을 25 ℃로 유지하였다. 여기에 BPDA 8.238g(0.028mol)을 첨가하고 3시간 동안 교반하여 BPDA를 완전히 용해시킨 후, 6FDA 49.756g(0.112mol)을 첨가한 후 25 ℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 12중량%인 중합체 용액을 얻었다.
얻어진 중합체 용액에 피리딘 24.36g, 아세틱 안하이드라이드 31.11g을 투입하여 30분 교반 후, 다시 70 ℃에서 1시간 교반하여 상온으로 식혀 얻어진 중합체 용액에 메탄올 20L를 첨가하여 고형분을 침전시키고, 침전된 고형분을 여과하고 분쇄한 후, 다시 메탄올 2L로 세정한 후, 100 ℃에서 진공으로 6시간 건조하여 분말 상태의 폴리이미드계 중합체 고형분을 얻었다. 여기서 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분은 폴리아마이드-이미드 중합체 고형분이다.
이후, 얻어진 폴리이미드계 중합체 고형분를 이용하여 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 저굴절 폴리이미드계 기재를 제조하였다.
저굴절 폴리이미드계 기재의 두께는 50㎛으로, 광투과성이며, 복굴절성을 갖는다. 기재의 굴절률은 Nx=Ny=1.57, Nz=1.53이다.
<제조예 3: 중간 굴절 폴리이미드계 기재 제조>
교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서, DMAc(N,N-Dimethylacetamide) 776.655g을 채운 후, 반응기의 온도를 25 ℃로 맞춘 후, TFDB 54.439g(0.17mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 유지하였다. 여기에 BPDA 15.005g(0.051mol)을 첨가하고 3시간 동안 교반하여 BPDA를 완전히 용해시킨 후, 6FDA 22.657g(0.051mol)을 첨가하여 완전히 용해시켰다. 반응기 온도를 10 ℃로 내린 후 TPC 13.805g(0.068mol)을 첨가한 후 25 ℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 12중량%인 중합체 용액을 얻었다.
얻어진 중합체 용액에 피리딘 17.75g, 아세틱 안하이드라이드 22.92g을 투입하여 30분 교반 후, 다시 70 ℃에서 1시간 교반하여 상온으로 식히고, 얻어진 중합체 용액에 메탄올 20L를 첨가하여 고형분을 침전시키고, 침전된 고형분을 여과하고 분쇄한 후, 다시 메탄올 2L로 세정한 후, 100 ℃에서 진공으로 6시간 건조하여 분말 상태의 폴리이미드계 중합체 고형분을 얻었다. 여기서 제조된 폴리이미드계 중합체 고형분은 폴리아마이드-이미드 중합체 고형분이다.
이후, 얻어진 폴리이미드계 중합체 고형분를 이용하여 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 중간 굴절 폴리이미드계 기재를 제조하였다.
중간 굴절 폴리이미드계 기재의 두께는 50㎛으로, 광투과성이며, 복굴절성을 갖는다. 기재의 굴절률은 Nx=Ny=1.62, Nz=1.54이다.
<실시예 1>
2-(3,4-Epoxycylohexyl)ethytrimethoxysilane (TCI社), TEOS (Tetraethyl orthosilicate, Sigma-Aldrich社), H2O를 747.66mL : 38.28mL : 93.88mL 비율로 혼합하여 1500mL 플라스크에 넣은 후, 수산화나트륨 0.1g을 촉매로 첨가하여 60 ℃에서 10시간 동안 교반하였다. 이 후, 0.45um 테프론 필터를 사용해 여과하여 에폭시계 수지를 얻었다.
다음으로, 제조된 에폭시계 수지에 MEK (Methyl Ethyl Ketone) : MIBK (Methyl Isobutyl Ketone)을 8 : 2 비율로 희석하여 600mL 첨가한 후, 광개시제로 IRGACURE 250 (BASF社)을 상기 제조된 에폭시계 수지 대비 3 중량부 첨가하고, Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (고형분 42wt%, Cyclohexanone+MIBK+Aliphatic solvent, TOYOCHEM社)을 고형분 기준 상기 에폭시계 수지 대비 30 중량부 첨가하여 경화 시 굴절율 1.57의 제1 코팅 조성물을 얻었다.
제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재를 기재(10)로 사용하였다.
상기 제1 코팅 조성물을 상기 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60 ℃/2분, 80 ℃/3분, 100 ℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 25㎚로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 1J/㎠ 노광시켜 100㎚ 두께의 제1 코팅층을 갖는 1차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제1 코팅 조성물에서 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 제외하여 경화 시 굴절률 1.50의 제2 코팅 조성물을 제조하였다. 상기 제2 코팅 조성물을 1차 필름 경화막 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 100 ℃에서 10분 건조하고, 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 제2 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 2>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 43 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.60이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 3>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 17 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.54이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 4>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 13 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.53이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 2에서 제조된 저굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 5>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 22 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.55이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 3에서 제조된 중간 굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 6>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 및 제2 코팅층을 갖는 2차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제2 코팅 조성물을 상기 2차 필름의 다른 일면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60 ℃/2분, 80 ℃/3분, 100 ℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 0.2㎛로 형성 시켰다. 다음으로 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 0.8㎛ 두께의 제3 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<실시예 7>
3-(Trimethoxysilyl)propyl methacrylate (Sigma-Adrich社), TEOS (Sigma-Aldrich社), H2O를 747.66mL : 38.28mL : 93.88mL비율로 혼합하여 1500mL 플라스크에 넣은 후, 수산화나트륨 0.1g을 촉매로 첨가하여 60 ℃에서 10시간 동안 교반하였다. 이 후, 0.45um 테프론 필터를 사용해 여과하여 아크릴계 수지를 얻었다.
다음으로, 제조된 아크릴계 수지에 MEK : MIBK을 8 : 2 비율로 희석하여 600mL 첨가한 후, 광개시제로 IRGACURE 184 (BASF社)을 상기 제조된 아크릴계 수지 대비 3 중량부 첨가하고, Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 상기 아크릴계 수지 대비 30 중량부 첨가하여 경화 시 굴절율 1.57의 제1 코팅 조성물을 얻었다.
제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재를 기재(10)로 사용하였다.
상기 제1 코팅 조성물을 상기 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60 ℃/2분, 80 ℃/3분, 100 ℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 25nm로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 1J/㎠ 노광시켜 100㎚ 두께의 제1 코팅층을 갖는 1차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제1 코팅 조성물에서 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 제외하여 경화 시 굴절률 1.50의 제2 코팅 조성물을 제조하였다. 상기 제2 코팅 조성물을 1차 필름 경화막 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 100 ℃에서 10분 건조하고, 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 제2 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 1>
2-(3,4-Epoxycylohexyl)ethytrimethoxysilane (TCI社), TEOS (Sigma-Aldrich社), H2O를 747.66mL : 38.28mL : 93.88mL비율로 혼합하여 1500mL 플라스크에 넣은 후, 수산화나트륨 0.1g을 촉매로 첨가하여 60 ℃에서 10시간 동안 교반하였다. 이 후, 0.45um 테프론 필터를 사용해 여과하여 에폭시계 수지를 얻었다.
다음으로, 제조된 에폭시계 수지에 MEK : MIBK을 8 : 2 비율로 희석하여 600mL 첨가한 후, 광개시제로 IRGACURE 250 (BASF社)을 상기 제조된 에폭시계 수지 대비 3 중량부 첨가하여 경화 시 굴절률 1.50의 에폭시계 수지 조성물을 얻었다.
제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재를 기재(10)로 사용하였다.
상기 에폭시계 수지 조성물을 상기 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60 ℃/2분, 80 ℃/3분, 100 ℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 25nm로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 하나의 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 2>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 60 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.64이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 3>
Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 고형분 기준 제조된 에폭시계 수지 대비 5 중량부를 첨가하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.51이다.
실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 4>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.57이다.
상기 제1 코팅 조성물에 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 26 중량부를 추가로 첨가(총 56중량부)하여, 경화 시 굴절률 1.63의 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
제조된 제1 및 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 제조예 1에서 제조된 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 5>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 코팅 조성물을 제조하였다. 제1 코팅 조성물의 경화 시 굴절률은 1.57이다.
상기 제1 코팅 조성물을 제조예 1의 고굴절 폴리이미드계 기재 상면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60 ℃/2분, 80 ℃/3분, 100 ℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 1.25㎚로 형성 시켰다.
그 다음 315㎚ 파장의 자외선 램프로 1J/㎠ 노광시켜 100㎚ 두께의 제1 코팅층을 갖는 1차 필름을 제조하였다.
다음으로, 실시예 1과 동일한 방법으로 제2 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조된 제2 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 동일한 방법으로, 1차 필름 경화막 상면에 제2 코팅층을 형성 시켜, 제1 및 제2 코팅층을 포함하는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 6>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 및 제2 코팅층을 갖는 2차 필름을 제조하였다.
다음으로, 상기 제1 코팅 조성물에 Zirconia 분산액인 KT-300Z-S-KR (TOYOCHEM社)을 26 중량부를 추가로 첨가(총 56중량부)하여, 경화 시 굴절률 1.63의 제3 코팅 조성물을 제조하였다.
그 다음 제3 코팅 조성물을 상기 2차 필름의 다른 일면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60 ℃/2분, 80 ℃/3분, 100 ℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 0.2㎛로 형성 시켰다. 다음으로 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 0.8㎛ 두께의 제3 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<비교예 7>
실시예 1과 동일한 방법으로 제1 및 제2 코팅층을 갖는 2차 필름을 제조하였다.
다음으로, 제2 코팅 조성물을 상기 2차 필름의 다른 일면에 Bar를 이용하여 도포한 후 60 ℃/2분, 80 ℃/3분, 100 ℃/3분 건조시켜 용매로 인한 기재의 스웰링층 두께를 평균 1.25㎛로 형성 시켰다. 다음으로 315㎚ 파장의 자외선 램프로 2J/㎠ 노광시켜 5㎛ 두께의 제3 코팅층을 갖는 투명한 폴리이미드계 필름을 제조하였다.
<측정예>
실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 7에서 제조된 필름에 대하여 다음과 같은 특정을 실행하였다.
(1) 밀착력
TQC社의 CC1000 모델을 사용하여 ASTM D3359에 따라 격자무늬로 절단 후 박리되는 정도 측정하였다.
(2) 투과도 및 Haze
실시예 및 비교예에 따라 제조된 최종 필름을 50mm Х 50mm로 잘라 MURAKAMI社의 헤이즈미터 (모델명: HM-150) 장비를 이용하여 ASTM D1003에 따라 투과도 및 헤이즈를 5회 측정하여 그 평균 값을 확인하였다.
(3) 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)
HITACHI社의 UH4150 장비를 이용하여 380~780㎚ 파장영역에서 빛 반사율을 측정하였다. 측정한 필름의 반사율 그래프로부터, 하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or) 및 하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)를 산출하였다.
<식 1>
Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
<식 2>
Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역(W1)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역(W2)에서의 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며, 상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
<식 3>
Om = (1/n)*∑(Ok)
상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며, 상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
(4) 간섭 무늬
삼파장램프 아래에서 실시예 및 비교예의 필름을 육안으로 평가하여 다음과 같은 등급으로 나누어 평가 하였다.
A: 육안으로 인지 어려움.
B: 소수 전문인력의 육안으로 인지는 할 수 있으나, 사용하는데 무리 없음.
C: 보통의 소수가 육안으로 인지할 수 있으며, 적층 구조에 따라 사용하는데 제한 받을 수 있음.
D: 보통의 다수가 육안으로 확인 할 수 있으며, 사용 불가능.
E: 보통의 다수가 육안으로 명확하게 확인 할 수 있으며, 사용 불가능.
측정결과는 하기 표 1과 같다.
밀착력 투과율 Haze 반사율 오실레이션 비(Or) 반사율 그래프 기울기(Gr) 간섭 무늬 수준
실시예1 5B > 90% < 1.0% -1.54 0.063 A
실시예2 5B > 90% < 1.0% -0.44 0.067 B
실시예3 5B > 90% < 1.0% -0.92 0.067 B
실시예4 5B > 90% < 1.0% -1.63 0.067 A
실시예5 5B > 90% < 1.0% -1.70 0.066 A
실시예6 5B > 90% < 1.0% 0.17 0.121 B
실시예7 5B > 90% < 1.0% -1.54 0.063 A
비교예1 5B > 90% < 1.0% 1.12 0.063 C
비교예2 5B > 90% < 1.0% 1.19 0.057 C
비교예3 5B > 90% < 1.0% 1.36 0.069 D
비교예4 5B > 90% < 1.0% 1.28 0.057 C
비교예5 5B > 90% < 1.0% -0.47 1.125 C
비교예6 5B > 90% < 1.0% 1.31 0.057 D
비교예7 5B > 90% < 1.0% 2.95 0.012 E
상기 표 1의 측정결과에 개시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 필름은 기재와 코팅층의 밀착력 및 유연성뿐만 아니라, 투과율 및 헤이즈와 같은 광학특성 역시 우수하였다.
실시예 1과 비교예 1을 통해 알 수 있듯이, 제2 코팅층과 기재 사이에 제1 코팅층이 적용되어 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)이 본원의 범위를 만족하는 필름이 제1 코팅층이 적용되어 있지 않은 필름보다 간섭 무늬 수준이 양호한 것으로 나타났다.
그리고 실시예 1 내지 3과 비교예 2 내지 3을 비교해보면, 제2 코팅층과 기재 사이에 제1 코팅층이 적용되어 있는 구조라도 굴절률이 본원의 범위를 벗어나, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하는 경우에는 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
또한, 실시예 1과 비교예 5를 통해 알 수 있듯이, 제2 코팅층과 기재 사이에 제1 코팅층이 적용되어 있더라도 제1 코팅층의 두께가 일정 범위 수준을 벗어남에 따라 반사율 그래프 기울기(Gr)가 0.122를 초과하면 마찬가지로 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
실시예 1과 비교예 4를 비교해보면, 제2 코팅층과 기재 사이에 적정 굴절률과 두께를 갖는 제1 코팅층이 적용되어 있더라도, 제1 코팅층의 굴절률이 일정 범위 수준을 벗어남에 따라, 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하면 마찬가지로 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
또한, 실시예 6과 비교예 6 내지 7을 비교해보면, 제1 코팅층과 기재 사이에 적정 굴절률과 두께를 갖는 제1 코팅층이 적용되어 있는 구조의 다른 일면에 제3 코팅층을 형성할 때, 제3 코팅층의 굴절률 및 두께가 일정 범위 수준을 벗어나 반사율 오실레이션 비(Or)가 1.0을 초과하면 마찬가지로 간섭 무늬 개선 효과가 없음을 알 수 있다.
그리고 실시예 4 내지 5에서 알 수 있듯이, 기재의 굴절률이 바뀌더라도 일정 범위를 벗어나지 만족하여, 반사율 오실레이션 비(Or) 및 반사율 그래프 기울기(Gr)이 본원의 범위를 만족하는 경우에는 간섭 무늬 개선 효과가 있다.
또한, 실시예 1과 실시예 7에서 알 수 있듯이, 제1 코팅층 및 제2 코팅층 조성물이 에폭시계 수지 조성물뿐만 아니라, 아크릴계 수지 조성물 인 경우에도 동일한 결과를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다.
[부호의 설명]
100, 101, 102, 103: 필름
10: 기재
11: 잔여 기재층
12: 스웰링층
20: 제1 코팅층
21: 광투과성 매트릭스
22: 입자
30: 제2 코팅층
40: 제3 코팅층

Claims (18)

  1. 기재; 및
    상기 기재 상의 제1 코팅층;
    을 포함하고,
    380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터,
    하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고,
    하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 필름:
    <식 1>
    Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
    <식 2>
    Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
    상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며,
    상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
    <식 3>
    Om = (1/n)*∑(Ok)
    상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며,
    상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기재는 복굴절성을 갖는, 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기재는,
    X 축 방향 굴절률(Nx)이 1.57 내지 1.67 이고;
    Y 축 방향 굴절률(Ny)이 1.57 내지 1.67 이며;
    Z 축 방향 굴절률(Nz)이 1.53 내지 1.57;인,
    필름.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은 하기 식 4을 만족하는 굴절률(N1)을 갖는,
    필름.
    <식 4>
    0.927*Nx ≤ N1 ≤ 0.978*Ny
  5. 제3항에 있어서,
    상기 기재 상의 제2 코팅층을 더 포함하는, 필름.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제1 코팅층 사이에 배치되는, 필름.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은, 상기 기재 및 상기 제2 코팅층 사이에 배치되는, 필름.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 제2 코팅층은 하기 식 5를 만족하는 굴절률(N2)을 갖는,
    필름.
    <식 5>
    0.793*Nx ≤ N2 ≤ 0.975*Ny
  9. 제3항에 있어서,
    상기 기재 상의 제3 코팅층을 더 포함하는, 필름.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제3 코팅층은 하기 식 6를 만족하는 굴절률(N3)을 갖는,
    필름.
    <식 6>
    0.793*Nx ≤ N3 ≤ 0.975*Ny
  11. 제1항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은 광투과성 매트릭스 및 상기 광투과성 매트릭스에 분산된 입자를 포함하는, 필름.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 광투과성 매트릭스는 실록산계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 에폭시계 수지 중 적어도 하나를 포함하는, 필름.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 입자는 지르코니아(zirconia, ZrO2), 실리카(silica, SiO2), 알루미나(alumina, Al2O3), 이산화 타이타늄(titanium dioxide, TiO2), 스티렌(Styrene) 및 아크릴(Acrylic) 중 적어도 하나를 포함하는,
    필름.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 제1 코팅층은 0.01 내지 3.4 ㎛의 두께를 갖는,
    필름.
  15. 제5항에 있어서,
    상기 제2 코팅층은 1 내지 14 ㎛의 두께를 갖는,
    필름.
  16. 제9항에 있어서,
    상기 제3 코팅층은 1㎛ 이하의 두께를 갖는,
    필름.
  17. 폴리이미드계 기재; 및
    상기 폴리이미드계 기재 상의 제1 코팅층;
    을 포함하고,
    380 nm 내지 780 nm 파장영역에서 반사율을 측정하여 얻은 반사율 그래프로부터,
    하기 식 1에 의해 산출되는 반사율 오실레이션 비(Or)는 1.0 이하이고,
    하기 식 2에 의해 산출되는 반사율 그래프 기울기(Gr)는 0.122 이하인 폴리이미드계 필름:
    <식 1>
    Or = [(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1,Om2)
    <식 2>
    Gr = |(Rm1-Rm2)|/Rm2
    상기 식 1에서 Om1은 500 nm 내지 550 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)이고, Om2은 650 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 오실레이션의 값의 평균(Om)으로서, 반사율 오실레이션 값의 평균(Om1, Om2)은 하기 식 3에 의하여 산출되고, Min(Om1,Om2)는 Om1 및 Om2 중에서 작은 반사율 오실레이션 값의 평균(Om)을 말하며,
    상기 식 2에서 Rm1은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 첫 번째 피크(P1)에 대응되는 반사율 값과 첫 번째 밸리(V1)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이며, Rm2은 500 nm 내지 780 nm 파장영역에서의 반사율 그래프의 마지막 피크(Pf) 에 대응되는 반사율 값과 마지막 밸리(Vf)에 대응되는 반사율 값의 산술평균 값이다.
    <식 3>
    Om = (1/n)*∑(Ok)
    상기 식 3의 Ok는 해당 파장영역에서의 오실레이션 값이고, n은 해당 파장영역에서의 오실레이션 값의 개수이며,
    상기 오실레이션 값은 서로 이웃한 한 쌍의 피크(Pk)와 밸리(Vk) 각각에 대응되는 반사율 값의 차(|Pk에 대응되는 반사율 값 - Vk에 대응되는 반사율 값|)이다.
  18. 표시패널; 및
    상기 표시패널 상에 배치된, 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항의 필름;
    을 포함하는, 표시장치.
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