JP2006176586A - 透明複合体組成物及び光学シート並びに表示素子用プラスチック基板 - Google Patents

Abstract

【課題】 透明で線膨張係数が小さく、耐熱性に優れ、従来にも増して光学特性に優れ、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、カラーフィルター、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池、光回路基板、光学レンズ、ＬＥＤ封止材等に好適に用いられる透明複合体組成物及び光学シート並びに表示素子用プラスチック基板を提供する。
【解決手段】 透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）から構成され、該透明樹脂（ａ）中にオキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を含む透明複合体組成物、及びこれを使用した光学シート並びに表示素子用プラスチック基板。
【選択図】 なし

Description

本発明は、線膨張係数が小さく、耐熱性、透明性に優れた複合体組成物及び光学シート並びに表示素子用プラスチック基板に関するものである。

一般に、液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子用基板、カラーフィルター基板、太陽電池用基板等としては、ガラス板が広く用いられている。しかしながらガラス板は、割れ易い、曲げられない、比重が大きく軽量化に不向きなどの理由から、近年、その代替としてプラスチック素材が検討されている。
表示素子用プラスチック基板に用いられる樹脂は例えば特許文献１には脂環式エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤、アルコール、硬化触媒からなる組成物、特許文献２には脂環式エポキシ樹脂、アルコールで部分エステル化した酸無水物系硬化剤、硬化触媒からなる樹脂組成物が、特許文献３には脂環式エポキシ樹脂、カルボン酸を有する酸無水物系硬化剤、硬化触媒からなる樹脂組成物が示されている。しかしながら、これら従来のガラス代替用プラスチック材料は、ガラス板に比べ線膨張係数が大きく、特に、アクティブマトリックス表示素子基板に用いるとその製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じ、これら用途への使用は困難である。したがって、表示素子基板、特にアクティブマトリックス表示素子用基板に要求される、透明性や耐熱性等を満足しつつ線膨張係数の小さなプラスチック素材が求められている。
線膨張係数を低減するため、樹脂にガラスパウダーやガラスクロスなどの無機フィラーを配合する材料の複合化も種々行われている。例えば、特許文献４には、エポキシ樹脂及びガラス繊維製布状体を含む樹脂シートが示されている。また、特許文献５には、ガラスクロスと樹脂からなる透明基板が示されている。しかしながら、ここで示されている材料をアクティブマトリック表示素子基板などに用いるには耐熱性が不十分であった。一方、本発明者らは、透明で線膨張係数が低く、かつ耐熱性が高い材料を種々発明した（特許文献６〜１２など）。

特開平６−３３７４０８号公報 特開２００１−５９０１５号公報 特開２００１−５９０１４号公報 特開２００４−５１９６０号公報 特開２００４−２３３８５１号公報 特開２００４−１６８９４４号公報 特開２００４−１６８９４５号公報 ＷＯ ２００３／０６４５３５号公報 ＷＯ ２００３／０６４５３０ 号公報 特開２００４−２６９７２７号公報 特開２００４−２３１９３４号公報 特開２００４−３０７８４５号公報

本発明の目的は、透明で線膨張係数が小さく、耐熱性に優れ、従来にも増して光学特性に優れた透明複合体組成物及び光学シート並びに表示素子用プラスチック基板を提供することにある。特に、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、カラーフィルター、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池、光回路基板、光学レンズ、ＬＥＤ封止材等に好適に用いられる材料を提供する。

本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した。その結果、透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）からなり、該透明樹脂（ａ）がオキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を構成成分として含む透明複合体組成物及び光学シート並びに表示素子用プラスチック基板が、透明で線膨張係数が小さく、耐熱性に優れ、従来にも増して光学特性に優れ、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、カラーフィルター、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池、光回路基板、光学レンズ、ＬＥＤ封止材等に好適に用いられることを見出し本発明を完成するに至った。

すなわち本発明は、
（１）透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）とから構成され、該透明樹脂（ａ）中にオキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を含む透明複合体組成物、
（２）前記エポキシ樹脂が下記化学式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂である透明複合体組成物、

（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)−、又は−(ＣＨ₃)₂−を表す。）

（３）前記エポキシ樹脂（ａ）が下記化学式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂である透明複合体組成物、

（４）前記透明樹脂（ａ）中に、更にオキセタニル基をもつシルセスキオキサン（ｃ）を含む（１）〜（３）の透明複合体組成物、
（５）前記透明樹脂（ａ）中に、更にカチオン系硬化触媒（ｄ）を含む（１）〜（４）の透明複合体組成物、
（６）前記透明樹脂（ａ）の硬化後の屈折率と前記ガラスフィラー（ｂ）の屈折率との差が０．０１以下である（１）〜（５）の透明複合体組成物、
（７）前記透明樹脂（ａ）の硬化後のガラス転移温度が２００℃以上である（１）〜（６）の透明複合体組成物、
（８）前記ガラスフィラー（ｂ）がガラス繊維布である（１）〜（７）の透明複合体組成物、
（９）（１）〜（８）の透明複合体組成物から構成され、厚さが５０〜２０００μｍである光学シート、
（１０）３０〜２００℃での平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である（９）の光学シート、
（１１）波長５５０ｎｍでの光線透過率が８０％以上である（９）または（１０）の光学シート、
（１２）（９）〜（１１）の光学シートを用いた表示素子用プラスチック基板、
である。

本発明の透明複合体組成物及び光学シート並びに表示素子用プラスチック基板は、透明で線膨張係数が低く、耐熱性に優れ、従来にも増して光学特性に優れ、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、カラーフィルター、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池、光回路基板、光学レンズ、ＬＥＤ封止材等に好適に利用できる。

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）から構成され、該透明樹脂（ａ）中にオキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を構成成分として含むことを特徴とする。純度は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９２％以上、最も好ましくは９５％以上である。ここでオキシラン酸素濃度から求めた純度とは、（オキシラン酸素の測定値）／（理論値：構造式中のオキシラン酸素の割合）で求めることができる。また、オキシラン酸素濃度は、ＡＳＴＭ−１６５２に従って測定できる。本発明者らは、オキシラン酸素濃度から求めた純度が樹脂の耐熱性に影響することを見出した。すなわち純度が８５％以上のエポキシ樹脂を構成成分として用いることで優れた耐熱性を発現できる。また、ガラスフィラーと複合した場合の光学特性にもエポキシ樹脂の純度が影響することも見出した。すなわち純度が８５％以上のエポキシ樹脂を構成成分として用いることでフィラーとの界面に生ずる歪が低減し、光学特性に優れた複合体が得られる。

本発明に用いられるエポキシ樹脂としては、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であれば特に限定されないが、耐熱性や透明性が優れることから２つ以上のエポキシ基を有する脂環式エポキシ樹脂が好ましい。なかでも一般式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂または一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂（ビシクロヘキシル３，３’ジオキシド）が特に好ましい。

（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)−、又は−(ＣＨ₃)₂−を表す。）

一般式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂または一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂（ビシクロヘキシル３，３’ジオキシド）を用いることにより、極めて優れた耐熱性と良好な透明性を両立することができる。具体的には、熱カチオン系硬化触媒で一般式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂または一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂（ビシクロヘキシル３，３’ジオキシド）を硬化した場合には、ガラス転移温度が２００℃以上で透明な硬化物を得ることができる。特に一般式（１）でＸが−Ｃ(ＣＨ₃)₂−である２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパンを用いた場合にはガラス転移温度が２５０℃以上、一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂（ビシクロヘキシル３，３’ジオキシド）を用いた場合にはガラス転移温度が３００℃以上となり、特に好ましい。

一般式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂または一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂（ビシクロヘキシル３，３’ジオキシド）は、特開２００２−２７５１６９号公報や特開２００４−９９４６７号公報で開示されている製造方法で合成することができる。また、これらエポキシ樹脂は、一般的に知られる蒸留等によって、オキシラン酸素濃度から求めた純度を８５％以上にすることができる。

本発明の透明樹脂（ａ）は、ガラスフィラー（ｂ）との屈折率を合わせる目的で一般式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂または一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂と屈折率の異なる成分を併用することが好ましい。屈折率の異なる成分としては、併用することでガラスフィラー（ｂ）と屈折率を合わせる事ができ、透明な複合体を得ることができる成分であれば特に制限されないが、エポキシ基を有する化合物やオキセタニル基を有する化合物が、一般式（１）や一般式（２）で示される環式エポキシ樹脂と共架橋するので好ましい。

ガラスフィラー（ｂ）として、ＮＥガラスを用いる場合には、一般式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂または一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂よりも屈折率の低い樹脂を併用することが好ましい。一般式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂または一般式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂よりも屈折率の低い成分としては、各種のエポキシ基を有する化合物やオキセタニル基を有する化合物を用いることができるが、耐熱性が優れていることからオキセタニル基を有するシルセスキオキサン（ｃ）が特に好ましい。オキセタニル基を有するシルセスキオキサン（ｃ）を併用することで、優れた耐熱性を維持したまま、ガラスフィラー（ｂ）と屈折率を合わせる事ができる。

本発明で用いられる透明樹脂（ａ）は、耐熱性が高い硬化物が得られることからカチオン系硬化触媒（ｄ）で硬化することが好ましい。カチオン系硬化触媒（ｄ）としては、加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出する開始剤や活性エネルギー線によってカチオン重合を開始させる物質を放出させる開始剤などがあげられるが、耐熱性が高い硬化物が得られることから加熱によりカチオン重合を開始する物質を放出する開始剤、すなわち熱カチオン系硬化触媒が特に好ましい。

好ましい熱カチオン硬化触媒としては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アルミニウムキレートなどがある。具体的な例としては、芳香族スルホニウム塩としては三新化学工業製のＳＩ−６０Ｌ、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、旭電化工業製のＣＰ−６６、ＣＰ−７７などがあり、アルミニウムキレートとしては、ダイセル化学工業製ＤＡＩＣＡＴ ＥＸ−１などがあげられる。

本発明の透明樹脂(ａ)の屈折率とガラスフィラー(ｂ)の屈折率との差は、優れた透明性を維持するため０.０１以下であることが好ましく、０.００５以下がより好ましい。屈折率差が０.０１を超える場合には、得られる透明複合体組成物や光学シートの透明性が劣る傾向がある。
本発明で用いるガラスフィラー(ｂ)の屈折率は、優れた透明性の複合体を得るため１.４５〜１.５５であるのが好ましい。特にガラスフィラーの屈折率が１.５０〜１.５４の場合には、ガラスのアッベ数に近い透明樹脂が選択できるので特に好ましい。透明樹脂とガラスとのアッベ数が近いと広い波長領域で屈折率が一致し、広範囲で高い光線透過率が得られる。

本発明で用いるガラスフィラー(ｂ)としては、ガラス繊維、ガラスクロスやガラス不織布などのガラス繊維布、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスパウダー、ミルドガラスなどがあげられ、中でも線膨張係数の低減効果が高いことから、ガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布が好ましく、ガラスクロスが最も好ましい。

ガラスの種類としては、Ｅガラス、Ｃガラス、Ａガラス、Ｓガラス、Ｄガラス、ＮＥガラス、Ｔガラス、クオーツ、低誘電率ガラス、高誘電率ガラスなどが挙げられ、中でもアルカリ金属などのイオン性不純物がすくなく入手の容易なＥガラス、Ｓガラス、Ｔガラス、ＮＥガラスが好ましい。

ガラスフィラー(ｂ)の配合量は全透明複合体組成物に対し、１〜９０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％である。ガラスフィラーの配合量がこの範囲であれば成形が容易で、複合化による線膨張の低減の効果が認められる。

本発明の透明複合体組成物においては、ガラスフィラーと樹脂とが密着しているほど、得られる透明複合体組成物や光学シートの透明性がよくなるため、ガラスフィラー表面をシランカップリング剤などの公知の表面処理剤で処理するのが好ましい。好ましいシランカップリング剤としては、カチオン硬化触媒で樹脂とともに反応することからエポキシシランやオキセタニルシランなどがあげられる。

本発明の透明複合体組成物には、必要に応じて、透明性、耐溶剤性、耐熱性等の特性を損なわない範囲で、熱可塑性又は熱硬化性のオリゴマーやポリマーを併用してよい。これら熱可塑性または熱硬化性のオリゴマーやポリマーを併用する場合は、全体の屈折率がガラスフィラーの屈折率に合うように組成比を調整する必要がある。また、本発明の透明複合体組成物中には、必要に応じて、透明性、耐溶剤性、耐熱性等の特性を損なわない範囲で、少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、他の無機フィラー等の充填剤等を含んでいても良い。

透明複合体組成物の成形方法に制限はなく、例えば、未硬化の樹脂組成物とガラスフィラーとを直接混合し、必要な型に注型したのち架橋させてシートなどとする方法、未硬化の樹脂組成物を溶剤に溶解しガラスフィラーを分散させキャストした後、架橋させてシートなどとする方法、未硬化の樹脂組成物をガラスクロスやガラス不織布に含浸させたのち架橋させてシートなどとする方法等が挙げられる。

本発明の複合体組成物を、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル等の光学シートとして用いる場合、基板の厚さは好ましくは５０〜２０００μｍであり、より好ましくは５０〜１０００μｍである。基板の厚さがこの範囲にあると平坦性に優れ、ガラス基板と比較して基板の軽量化を図ることができる。

本発明の透明複合体組成物からなる光学シートは、３０〜２００℃における平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０ｐｐｍ以下である。例えば、この光学シートをアクティブマトリックス表示素子基板に用いた場合、この上限値を越えると、その製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じる恐れがある。
本発明の透明複合体組成物からなる光学シートを表示基板用プラスチック基板として用いる場合、波長５５０ｎｍにおける光線透過率８０％以上が好ましく、さらに好ましくは８５％以上であり、最も好ましくは８８％以上である。波長５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％未満では表示性能が劣る傾向にある。

本発明の光学シートを表示素子用プラスチック基板とする場合、平滑牲を向上させるために両面に樹脂のコート層を設けても良い。かかる樹脂は優れた透明性、耐熱性、耐薬品性を有していることが好ましく、具体的には多官能アクリレートやエポキシ樹脂などが好ましい。コート層の厚みは０.１〜５０μｍが好ましく、０.５〜３０μｍがより好ましい。
本発明の光学シートを表示素子用プラスチック基板とする場合は、必要に応じて水蒸気や酸素に対するガスバリア層や透明電極層を設けることができる。

以下、本発明の内容を実施例により詳細に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り以下の例に限定されるものではない。

(実施例１)
Ｓガラス系ガラスクロス(厚さ１００μｍ、屈折率１.５２８、ユニチカクロス製、＃２１１７タイプ)を焼きだしし、有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスクロスに、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８７％のビシクロヘキシル−３，３’−ジオキシド（ＥＰ−１）９４重量部、オキセタニル基を有するシルキセスキオキサン(東亞合成製、ＯＸ−ＳＱ)４重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合した樹脂（硬化後の樹脂の屈折率１．５３０）を含浸し、脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、オーブン中、８０℃にて２時間加熱後、さらに２００℃にて２時間加熱して、厚さ０.１ｍｍの透明シートを得た。

（実施例２）
ＮＥガラス系ガラスクロス(厚さ１００μｍ、屈折率１.５１０、日東紡製)を焼きだしして有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスクロスにオキシラン酸素濃度から求めた純度が９５％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（ＥＰ−２）１００重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合した樹脂（硬化後の樹脂の屈折率１．５１２）を含浸し、脱泡した。溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。樹脂を含浸したこのガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、オーブン中、８０℃にて２時間加熱後、さらに２５０℃にて２時間加熱して、厚さ０.１ｍｍの透明シートを得た。

（実施例３）
ＮＥガラス系ガラスクロス(厚さ１００μｍ、屈折率１.５１０、日東紡製)を焼きだしして有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスクロスにオキシラン酸素濃度から求めた純度が９８％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（ＥＰ−２）１００重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合した樹脂（硬化後の樹脂の屈折率１．５１２）を含浸し、脱泡した。溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。樹脂を含浸したこのガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、オーブン中、８０℃にて２時間加熱後、さらに２５０℃にて２時間加熱して、厚さ０.１ｍｍの透明シートを得た。

（実施例４）
平均粒子径３．２μｍのＮＥガラスパウダー(屈折率１.５１０、日東紡製)を焼きだしして有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスパウダー１００重量部を、オキシラン酸素濃度から求めた純度が９８％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（ＥＰ−２）１００重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合した樹脂（硬化後の樹脂の屈折率１．５１２）に分散し、脱泡した。これを厚さ８０μｍのアルミ箔をスペーサーとしてガラス板に挟み込んで、オーブン中、８０℃にて２時間加熱後、さらに２５０℃にて２時間加熱して、厚さ０.１ｍｍの透明シートを得た。

（比較例１）
ＮＥガラス系ガラスクロス(厚さ１００μｍ、屈折率１.５１０、日東紡製)を焼きだしして有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスクロスにオキシラン酸素濃度から求めた純度が８０％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（ＥＰ−２）１００重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合した樹脂（硬化後の樹脂の屈折率１．５１２）を含浸し、脱泡した。溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。樹脂を含浸したこのガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、オーブン中、８０℃にて２時間加熱後、さらに２５０℃にて２時間加熱して、厚さ０.１ｍｍの透明シートを得た。

（比較例２）
平均粒子径３．２μｍのＮＥガラスパウダー(屈折率１.５１０、日東紡製)を焼きだしして有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスパウダー１００重量部を、オキシラン酸素濃度から求めた純度が８０％の２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン（ＥＰ−２）１００重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部を溶融混合した樹脂（硬化後の樹脂の屈折率１．５１２）に分散し、脱泡した。これを厚さ８０μｍのアルミ箔をスペーサーとしてガラス板に挟み込んで、オーブン中、８０℃にて２時間加熱後、さらに２５０℃にて２時間加熱して、厚さ０.１ｍｍの透明シートを得た。
以上のようにして作製した光学シートについて、下記に示す評価方法により、各種特性を測定した。

実施例、比較例の配合及び結果を表１、表２にそれぞれ示す。
ａ)平均線膨張係数
セイコー電子(株)製ＴＭＡ／ＳＳ１２０Ｃ型熱応力歪測定装置を用いて、窒素雰囲気下、１分間に５℃の割合で温度を３０℃から１５０℃まで上昇させた後、一旦０℃まで冷却し、再び１分間に５℃の割合で温度を上昇させて３０℃〜２００℃の時の値を測定して求めた。４０ｐｐｍ荷重を５ｇにし、引張モードで測定を行った。
ｂ）耐熱性（Ｔｇ）
セイコー電子（株）製ＤＭＳ―２１０型粘弾性測定装置で測定し、１Ｈｚでのｔａｎδの最大値をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
ｃ）光線透過率
分光光度計Ｕ３２００（島津製作所製）で４００ｎｍ及び５５０ｎｍの光線透過率を測定した。

本発明の透明複合体組成物及び光学シート並びに表示素子用プラスチック基板は、例えば、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、カラーフィルター、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池、光回路基板、光学レンズ、ＬＥＤ封止材等に好適に利用できる。

Claims (12)

1. 透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）とから構成され、該透明樹脂（ａ）中にオキシラン酸素濃度から求めた純度が８５％以上であるエポキシ樹脂を含むことを特徴とする透明複合体組成物。
2. 前記エポキシ樹脂が下記化学式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂である請求項１記載の透明複合体組成物。
   

   

   （式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)−、又は−(ＣＨ₃)₂−を表す。）
3. 前記エポキシ樹脂が下記化学式（２）で示される脂環式エポキシ樹脂である請求項１記載の透明複合体組成物。
   

   
4. 前期透明樹脂（ａ）中に、更にオキセタニル基を有するシルセスキオキサン（ｃ）を含む請求項１〜３何れか記載の透明複合体組成物
5. 前記透明樹脂（ａ）中に、更にカチオン系硬化触媒（ｄ）を含む請求項１〜４何れか記載の透明複合体組成物。
6. 前記透明樹脂（ａ）の硬化後の屈折率と前記ガラスフィラー（ｂ）の屈折率との差が０．０１以下である請求項１〜５何れか記載の透明複合体組成物。
7. 前記透明樹脂（ａ）の硬化後のガラス転移温度が２００℃以上である請求項１〜６何れか記載の透明複合体組成物。
8. 前記ガラスフィラー（ｂ）がガラス繊維布である請求項１〜７何れか記載の透明複合体組成物。
9. 請求項１〜８記載の透明複合体組成物から構成され、厚さが５０〜２０００μｍである光学シート。
10. ３０〜２００℃での平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である請求項９記載の光学シート。
11. 波長５５０ｎｍでの平行光線透過率が８０％以上である請求項９または１０記載の光学シート。
12. 請求項９〜１１何れか記載の光学シートを用いた表示素子用プラスチック基板。