KR101426755B1 - 투명 복합 시트 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 선팽창율이 낮고, 투명성 및 내열성이 우수하며, 광학 이방성이 낮으며, 평탄성이 높고, 내충격성 및 유연성이 우수한, 투명 복합 시트 및 표시 소자용 기판을 제공한다. 하기 화학식 (1)로 표시되는 지환식 에폭시 수지 및/또는 하기 화학식 (2)로 표시되는 지환식 에폭시 수지, 양이온 중합 가능한 작용기를 가지는 지환식 에폭시 수지 이외의 1종 이상의 화합물 및 경화제를 포함하는 투명 수지 조성물과 유리 필러를 포함하는 복합 조성물을 경화시켜 수득되는 투명 복합 시트에 관한 것으로서, 바람직하게는, 지환식 에폭시 수지와 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물의 배합비가 99:1 - 70:30인 투명 복합 시트에 관한 것이다.
Figure 112009027795317-pct00007

Description

투명 복합 시트{TRANSPARENT COMPOSITE SHEET}
본 발명은 투명 복합 시트 및 그것을 사용한 표시 소자용 기판에 관한 것이다.
일반적으로, 액정 표시 소자나 유기 EL 표시 소자용 기판, 컬러 필터 기판, 태양 전지 기판 등으로서, 내열성 및 투명성이 높고, 선팽창 계수가 낮고, 광학 이방성이 작은 유리판이 널리 이용되고 있다. 최근, 표시 디바이스에는 소형화, 박형화, 경량화, 내충격성, 유연성이 요구되기 때문에, 두께가 얇은 유리판을 이용한 디스플레이가 제안되고 있다. 두께가 얇은 유리는 종래의 유리와 비교하여 유연성은 개선되었지만, 유리 단독으로는 기계 강도가 매우 낮기 때문에 유리 표면에 수지 필름을 붙이거나, 보호 수지층을 구비시켜 내충격성을 향상시키고 있다(특허문헌 1). 그러나, 기판의 내충격성, 유연성을 한층 더 향상시키는 것이 요망되고 있다.
이러한 유리 기판의 대체품으로서 내충격성이나 유연성을 가진 플라스틱 소재가 검토되고 있다. 표시 소자용 플라스틱 기판에 이용되고 있는 수지로는, 예를 들면, 특허문헌 2의 지환식 에폭시 수지, 산무수물계 경화제, 알코올, 경화 촉매로부터 제조되는 조성물, 특허문헌 3의 지환식 에폭시 수지, 알코올로 부분 에스테르 화된 산무수물계 경화제, 경화 촉매로부터 제조되는 수지 조성물, 특허문헌 4의 지방족환식 에폭시 수지, 카르본산을 포함하는 산무수물계 경화제, 경화 촉매로부터 제조되는 수지 조성물이 개시되어 있다.
그러나, 특허문헌 2 - 4에 언급된 유리 대체용 플라스틱 재료는 유리와 비교하여 극한곡율 경(徑)이 작아 유연성이나 내충격성을 가지지만, 플라스틱 재료의 선팽창 계수는 플라스틱 재료 상에 적층하는 Si 등의 박막 재료와 비교하면 상당히 큰 편이다. 이러한 선팽창 계수의 미스매치는, 열 스트레스, 변형, 형성한 층의 크랙이나 탈피를 발생시키며, 층이 형성된 플라스틱 기판에 만곡을 발생시키는 원인이 되는 것으로 알려져 있다(비특허문헌 1).
이러한 문제를 해결하기 위해, 특허문헌 5에서는 에스테르기를 포함하는 지환식 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 산무수물계 경화제 및 촉매와 유리 크로스로부터 제조되는 투명 복합 광학 시트가, 특허문헌 6에서는 에스테르기를 포함하는 지환식 에폭시 수지와 디사이클로펜타디엔 골격을 가지는 에폭시 수지, 산무수물계 경화제와 유리 크로스로부터 제조되는 투명 복합 광학 시트가, 특허문헌 7에서는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락(novolac)형 에폭시 수지, 산무수물계 경화제 및 유리 크로스로 제조되는 투명 기판을 개시하고 있다.
특허문헌 5 - 7에 언급되어 있는 유리 크로스 복합체는 특허문헌 1 - 3의 플라스틱 재료에 비해 선팽창율이 매우 낮지만, 이러한 유리 크로스 복합체는 내열성이 충분하지 않은 편이다. 또한, 광학 이방성이 크기 때문에, 표시 성능을 저하시킬 가능성도 있다.
액정용 표시 소자와 같이 편광판과 액정 구동과의 광 셔터 기능을 이용한 표시 소자는, 투명 기판을 통과하는 투과광의 편광 상태의 변화에 의해, 소자의 표시 성능에 영향을 받게 된다. 투명 기판의 광학 이방성이 클 경우, 편광판을 통과한 입사 직선 편광이 투명 기판의 광학 이방성에 의해 타원 편광으로 되어, 액정을 구동했을 때 출사측 편광판을 통과하는 투과광의 투과와 불투과의 스위칭(switching) 성능이 저하될 수 있다. 즉, 콘트라스트가 높은 표시 소자를 얻기 위해서는, 광학 이방성이 낮은 투명 기판을 적용하여야 한다.
게다가, 유리 크로스 복합체는, 열선팽창율이 다른 재료와 복합화하기 때문에, 기판 제작시의 프로세스 온도나 열팽창율 차이에 기인하는 열응력이 복합 재료중에 분포하게 된다. 유리 섬유와 수지 매트릭스 복합 재료 중의 열응력 분포는, 복합 재료의 축 대칭성으로부터 유리 섬유의 경 방향, 원주 방향(circumferential direction), 축 방향의 3가지 주된 응력 방향을 생각할 수 있다(특허문헌 2). 즉, 수지 및 유리 섬유는, 열응력에 의해 유리 섬유에 따른 광학 이방성이나 유리 섬유에 직행한 광학 이방성이 발현될 가능성이 있다. 예를 들면, 유리 섬유를 세로와 가로로 짠 유리 직포와 수지의 복합 기판에서는, 유리 섬유의 축 방향 및 직행 방향으로 국소적인 광학 이방성이 발현되기 때문에, 편광자와 분광자를 편향축을 90°로하여 교차시킨(크로스 니콜 상태로 됨) 편광 현미경 하에서는 격자상의 투과광 패턴이 나타난다. 또한, 유리 크로스 복합체의 광학 이방성이 유리 크로스 섬유 축과 평행한 방향과 직행하는 방향으로 발현되었을 때에는, 격자상의 투과광 패턴은 편광자로부터 유리 섬유축이 45°로 기울어진 상태에서 가장 밝아진다. 즉, 유 리 크로스 복합체를 투명 기판으로서 이용한 표시 소자의 경우, 편광판과 복합체 기판의 유리 크로스 섬유 축의 배치에 따라 투과광의 편광 상태의 혼란에 의해 표시 소자의 콘트라스트가 저하될 가능성이 있다.
미세하고 국소적인 편광 상태의 혼란은 표시 소자의 성능에 강력한 영향을 미친다. 예를 들면, 염료계 컬러 필터에 비해 내열성, 내광성이 우수한 안료 분산계 컬러 필터는, 안료의 응집에 의한 광산란에 기인하는 표시 콘트라스트가 저하되기 때문에, 안료의 분산 안정성을 개선하고자 하는 검토가 이루어지고 있다(특허문헌 8, 9, 10). 즉, 유리 크로스 복합체에 발생하는 미세한 광학 이방성으로 인한 편광 상태의 혼란 역시 콘트라스트가 높은 고정세(高精細) 표시 소자를 제작할 때 무시할 수 없는 특성이다.
게다가, 특허문헌 5 - 7과 같은 유리 크로스 복합체나 유리 크로스를 이용한 적층판, 또는 프리프레그는 이종 재료의 복합체(FRP)이기 때문에, 압축, 인장, 휨 등의 외부 자극에 대한 내성이 낮아 파손되기 쉬운 것으로 알려져 있다(특허문헌 11). 일반적으로 섬유와 수지 매트릭스와의 복합 재료에 외부 요인 또는 내부 요인(예를 들면, 섬유와 수지 매트릭스와의 선팽창율 차이)으로 인해 응력이 생기면, 다양한 과정에 의해 파손되게 된다. 예를 들면, 섬유 축 방향과 평행하게 발생되는 응력(축 방향 인장 응력, σ1u)으로 인해 파손되는 경우, 섬유 방향과 수직으로 발생되는 응력(횡 방향 인장 , σ2u)으로 인해 파손되는 경우, 전단 방향으로 발생되는 응력(τ12u)으로 인해 파손되는 경우 등을 들 수 있다.
섬유에 평행한, 높은 인장 응력에 의해 섬유 및 매트릭스 수지가 파괴되는 경우, 파괴 방향은 섬유에 대해 수직 방향이 되어, 횡 방향 인장과 전단 모드에 있어서는 강도가 훨씬 낮고, 복합 재료는 섬유 방향과 평행한 파괴면에서 파괴되는 것으로 알려져 있다. 파괴 장소는 완전히 매트릭스 내부이거나, 섬유/매트릭스 계면, 또는 섬유 내부일 수 있다(비특허문헌 3, 비특허문헌 4).
이상과 같이, 종래의 기술에 있어서는, 선팽창율이 작고, 투명성 및 내열성이 우수하고, 광학 이방성이 작으며, 평탄성이 높아 표시 품위를 저하시키지 않으며, 아울러 충격, 인장, 휨 등의 외부 자극에 대한 내성이 우수한 투명 복합 시트를 제공하기가 곤란하다.
특허문헌 1: 일본 공개공보 2004-50565호
특허문헌 2: 일본 공개공보 평6-337408호
특허문헌 3: 일본 공개공보 2001-59015호
특허문헌 4: 일본 공개공보 2001-59014호
특허문헌 5: 일본 공개공보 2004-51960호
특허문헌 6: 일본 공개공보 2005-146258호
특허문헌 7: 일본 공개공보 2004-233851호
특허문헌 8: 일본 공개공보 평8-94823호
특허문헌 9: 일본 공개공보 평8-259876호
특허문헌 10: 일본 공개공보 평8-295820호
특허문헌 11: 국제 공개공보 제03/018675호
비특허문헌 1: 월간 디스플레이 2000년 1월호 p35
비특허문헌 2: H. Pristshky, Physics ,5, [12] (1934) 406-411.
비특허문헌 3: 복합 재료입문(1984년, 培風館)
비특허문헌 4: 복합 재료입문(1997, 裳華房)
발명의 개시
본 발명이 해결하고자 하는 과제
본 발명의 목적은, 선팽창율이 낮고, 투명성 및 내열성이 우수하고, 광학 이방성이 낮고, 평탄성이 높아 표시 품위를 저하시키지 않으며, 충격, 인장 및 휨 등의 외부 자극에 대한 내성이 우수한 투명 복합 시트 및 그것을 사용한 표시 소자용 기판을 제공하는 것이다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명에 따른 투명 복합 시트의 특징적 구성은, 하기 화학식 (1)로 표시되는 지환식 에폭시 수지 및/또는 하기 화학식 (2)로 표시되는 지환식 에폭시 수지, 양이온 중합가능한 작용기를 가지는, 상기 지환식 에폭시 수지 이외의 1종 이상의 화합물 및 경화제를 포함하는 투명 수지 조성물과, 유리 필러를 포함하는 복합 조성물을 경화시켜서 수득한다는 점에 있다.
(화학식 1)
Figure 112009027795317-pct00001
(화학식 2)
Figure 112009027795317-pct00002
(상기 식에서, -X-는 -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CH2-, -CH(CH3)- 또는 -C(CH3)2-임)
이러한 지환식 에폭시 수지는 저온에서의 경화성이 우수하고 내열성이 매우 높으며, 경화 후 에폭시 수지의 선팽창 계수가 낮기 때문에, 투명 복합 시트 제작시 유리 필러와 수지의 계면에 생기는 변형을 작게 함으로써, 잔류 응력을 낮출 수 있다. 그 결과, 복합 시트의 광학 이방성이 저감되어, 복합 시트의 평탄성은 한층 더 향상된다.
또한, 이러한 지환식 에폭시 수지 이외의 양이온 중합가능한 화합물을 첨가 함으로써, 이러한 지환식 에폭시 수지 이외의 양이온 중합가능한 화합물을 첨가하지 않았을 경우에 발생하는 수지의 파괴 및 유리 필러와 매트릭스 수지간의 계면 박리를 억제시킬 수 있어, 내충격성, 유연성을 더 향상시킬 수 있다.
또한, 전술한 구성에 있어서, 상기 지환식 에폭시 수지와 상기 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물의 배합비는 99:1 - 70:30가 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 상기 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물은 에폭시기를 포함하는 화합물, 옥세타닐기를 포함하는 화합물 및 비닐에테르기를 포함하는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 상기 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물은 하나의 분자에 하나의 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물이 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 상기 양이온 중합가능한 화합물은 양이온 중합가능한 작용기 이외의 극성기를 하나의 분자에 1개 이상 포함하는 화합물이 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 상기 극성기는 수산기가 바람직하다. 또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 전술한 경화제는 양이온계 경화 촉매를 포함하는 것이 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 상기 유리 필러의 함유량은 투명 복합 시트에 대하여 1-90 중량%이 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 상기 유리 필러는 유리 섬유포(fiber cloth)가 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 상기 투명 수지 조성물의 경화 후 굴절율과 유리 필러의 굴절율의 차이는 0.01 이하인 것이 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 두께는 40-200μm이 바람직하다. 또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 파장 400nm에서의 광선 투과율은 80% 이상이 바람직하다.
또, 전술한 임의의 구성에 있어서, 30℃ - 250℃에서의 평균 선팽창 계수는 2O ppm 이하가 바람직하다.
또, 본 발명에 따른 표시 소자용 기판은, 전술한 임의의 구성을 포함하는 투명 복합 시트를 포함하는 것으로 구성된다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은, 하기 화학식 (3) 및/또는 (4)로 표시되는 지환식 에폭시 수지, 화학식 (3) 또는 (4) 이외의 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 최소 1종 이상의 화합물 및 경화제를 포함하는 투명 수지 조성물과, 유리 필러를 포함하는 복합 조성물을 경화시켜서 수득되는 투명 복합 시트에 관한 것이다.
(화학식 3)
Figure 112009027795317-pct00003
(화학식 4)
Figure 112009027795317-pct00004
(상기 식에서, -X-는 -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CH2-, -CH(CH3)-,또는 -C (CH3)2-임)
본 발명에서 이용할 수 있는 주성분인 지환식 에폭시 수지는, 화학식 (3) 또는 (4)로 표시되는 지환식 에폭시 수지이며, 단독 또는 적절하게 혼합하여 이용할 수 있다. 이러한 지환식 에폭시 수지는 저온에서의 경화성이 우수하고, 내열성이 매우 높으며, 또한 경화 후의 에폭시 수지의 선팽창 계수가 낮기 때문에 투명 복합 시트 제작시 유리 필러와 수지의 계면에 발생되는 변형을 감소시킴으로써, 잔류 응력을 낮출 수 있기 때문이다. 계면 응력을 감소시키는 것은 복합 시트의 광학 이방성을 저감시키고, 평탄성을 한층 더 향상시키는데 중요하다.
본 발명에 사용되는 화학식 (3) 또는 (4)로 표시되는 지환식 에폭시 수지 이외의 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물로는, 에폭시기를 포함하는 화합물, 옥세타닐기를 포함하는 화합물 또는 비닐에테르기를 포함하는 화합물이 바람직하며, 단독으로 또는 여러가지를 혼합 사용할 수도 있다.
화학식 (3), (4)로 표시되는 지환식 에폭시 수지 이외의 양이온 중합가능한 에폭시기를 포함하는 화합물로는, 분자 중에 적어도 1개 이상의 에폭시기를 포함하는 것이라면 충분하며, 각종 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 예를 들면, 글리시딜형 에폭시 수지로서는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지 또는 이의 수소첨가물, 디사이클로펜타디엔 골격을 포함하는 에폭시 수지, 트리글리시딜 이소시아누레이트 골격을 포함하는 에폭시 수지, 카르드(カルド) 골격을 포함하는 에폭시 수지, 폴리실록산 구조를 포함하는 에폭시 수지, 에폭시화 α 올레핀, 페닐글리시딜에테르, 지환식 에폭시 수지로서는, 예를 들면, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸, 3',4'-에폭시사이클로헥산카르복실레이트, 1,2,8,9-디에폭시리모넨, 디사이클로펜타디엔디옥사이드, 사이클로옥텐디옥사이드, 아세탈디에폭사이드, ε-카프로락톤 올리고머의 양 말단에 각각 3,4-에폭시사이클로헥실메탄올과 3,4-에폭시 사이클로헥산 카르복시산이 에스테르 결합된 것, 에폭시화된 헥사하이드로벤질알코올 등을 들 수 있다.
양이온 중합가능한 옥세타닐기를 포함하는 화합물로서는, 예를 들면, 1,4-비스{[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]메틸}벤젠(아론옥세탄 OXT-121(XDO)), 디[2-(3-옥세타닐)부틸]에테르(아론옥세탄 OXT-221(DOX)), 1,4-비스(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시벤젠(HQOX), 1,3-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시벤젠(RSOX), 1,2-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠(CTOX), 4,4'-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐(4,4'-BPOX), 2,2'-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]비페닐(2,2'-BPOX), 3,3', 5,5'-테트라메틸[4,4'-비스(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]비페닐(TM-BPOX), 2,7-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]나프탈렌(2,7-NpDOX), 1,6-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산(OFH-DOX), 3(4),8(9)-비스[(1-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]-트리사이클로[5.2.1.O2.6]데칸, 1,2-비스[2-{(1-에틸-3-옥세타닐)메톡시}에틸티오]에탄, 4,4'-비스[(1-에틸-3-옥세타닐)메틸]티오디벤젠티오에테르, 2,3-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시 메틸]노르보르난(NDMOX), 2-에틸-2-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시 메틸]-1,3-O-비스[(1-에틸-3-옥세타닐)메틸]-프로판-1,3-디올(TMPTOX), 2,2-디메틸-1,3-O-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메틸]-프로판-1,3-디올(NPGOX), 2-부틸-2-에틸-1,3-O-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메틸]-프로판-1,3-디올, 1,4-O-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메틸]-부탄-1,4-디올, 2,4,6-O-트리스[(3-에틸옥세탄-3-일)메틸]시아누르산, 비스페놀 A와 3-에틸-3-클로로메틸옥세탄(OXC라 약칭함)의 에테르화물(BisAOX), 비스페놀 F와 OXC의 에테르화물(BisFOX), 페놀 노볼락과 OXC의 에테르화물(PNOX), 크레졸 노볼락과 OXC의 에테르화물(CNOX), 옥세타닐 실세스퀴옥산(OX-SQ), 3-에틸-3-하이드록시메틸 옥세탄의 실리콘 알콕사이드(OX-SC), 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄(아론옥세탄 OXT-212(EHOX)), 3-에틸-3-(도데실옥시메틸)옥세탄(OXR-12), 3-에틸-3-(옥타데실옥시메틸)옥세탄(OXR-18), 3-에틸-3- (페녹시메틸)옥세탄(아론옥세탄 OXT-211(POX)), 3-에틸-3-하이드록시메틸 옥세탄(OXA), 3-(사이클로헥실옥시)메틸-3-에틸옥세탄(CHOX) 등을 들 수 있다. 여기에서, 괄호 안의 기재는 동아합성 주식회사의 제품명 또는 약칭이다.
양이온 중합가능한 비닐에테르기를 포함하는 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만, 2-히드록시에틸 비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 4-하이드록시부틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜의 비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 사이클로헥산디메탄올디비닐에테르, 사이클로헥산디메탄올 모노비닐에테르, 트리사이클로데칸비닐에테르, 사이클로헥실 비닐에테르, 메톡실에틸 비닐에테르, 에톡시에틸비닐에테르, 펜타에리트리톨형의 테트라비닐에테르 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 하나의 분자에 1개의 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물이 바람직하고, 보다 바람직하게는 하나의 분자에 1개의 양이온 중합가능한 작용기와 적어도 1개의 양이온 중합가능한 작용기 이외의 극성기를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 성분을 첨가함으로써 경화물의 가교 밀도는 낮아지고, 또한 경화물의 극성은 향상된다. 이로 인하여, 화학식 (3) 또는 (4) 이외의 양이온 중합가능한 화합물을 첨가하지 않을 경우에 나타나는 수지의 파괴 및 유리 필러와 매트릭스 수지의 계면에서의 박리를 억제할 수 있고, 내충격성, 유연성을 향상시킬 수 있다.
화학식 (3) 또는 (4)로 표시되는 지환식 에폭시 수지를, 화학식 (3) 또는 (4)로 표시되는 지환식 에폭시 수지 이외의, 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물과 배합함에 있어서, 중량비는 99:1 - 70:30인 것이 바람직하다.
본 발명에서 이용할 수 있는 수지 조성물의 경화제는 특별히 한정되지 않지만, 산무수물이나 지방족 아민 등의 가교제 또는 양이온계 경화 촉매나 음이온계 경화 촉매 등의 경화제를 이용할 수 있다.
그러나, 유리 필러와 수지의 계면에서 발생하는 변형을 억제하고, 잔류 응력을 가능한 작게 하기 위해서는, 양이온계 경화 촉매를 이용하여 경화시킬 수 있는 수지가 바람직하다. 이는, 상기 지환식 에폭시 수지의 경화를 양이온계 경화 촉매를 이용하여 실시하면, 수지 재료를 저온에서 경화시킬 수 있기 때문이다. 산무수물 등의 경화제를 이용하여 경화하였을 경우, 본 발명의 목적은 달성할 수 있지만, 양이온 중합계와 비교하여 저온에서의 경화가 어려우며, 선팽창 계수도 양이온 중합계에 비해 커지기 때문에 유리 필러와 수지의 계면 응력이 높아지게 된다.
또, 상기 양이온계 경화 촉매를 이용하여 상기 수지 조성물을 경화하면, 경화물의 내열성(예, 유리 전이 온도)이, 다른 경화제(예, 산무수물)를 이용하여 경화한 경화물의 내열성 보다 강화되기 때문이다. 양이온계 경화 촉매를 이용한 경화물의 내열성이 다른 촉매를 이용한 것보다 높아지는 이유는, 상기 양이온계 경화 촉매를 이용하여 상기 수지 조성물을 경화시킨 경화물의 가교 밀도가, 다른 경화제 (예를 들면, 산무수물)를 이용하여 경화시킨 경화물의 가교 밀도에 비해 커지기 때문인 것으로 생각된다.
따라서, 상술한 바와 같이, 경화제롯는 산무수물 등도 적용가능하지만, 양이온계 경화 촉매가 보다 바람직하다.
상기 양이온계 경화 촉매로서는, 예를 들면 가열에 의해 양이온 중합을 개시하는 물질을 방출하는 것(예를 들면, 오늄염계 양이온 경화 촉매 또는 알루미늄 킬레이트계 양이온 경화 촉매)이나, 활성 에너지선에 의해 양이온 중합을 개시하는 물질을 방출하는 것(예를 들면, 오늄염계 양이온계 경화 촉매 등)을 들 수 있다. 이중에서도, 열 양이온계 경화 촉매가 바람직하다. 이로써, 보다 내열성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다.
상기 열 양이온계 경화 촉매로서는, 예를 들면 방향족 설포늄 염, 방향족 요오도늄 염, 암모늄 염, 알루미늄 킬레이트, 3불화 붕소 아민 착물 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 방향족 설포늄 염으로는 삼신화학공업사의 SI-60L, SI-80L, SI-100L, 아사히덴카공업사의 SP-66이나 SP-77 등의 헥사플루오로안티모네이트염을 들 수 있으며, 알루미늄 킬레이트로는 에틸아세토아세테이트알루미늄디이소프로필레이트, 알루미늄 트리스(에틸아세토아세테이트) 등을 들 수 있으며, 3불화 붕소 아민 착물로는, 3불화 붕소 모노에틸 아민 착물, 3불화 붕소 이미다졸 착물, 3불화 붕소 피페리딘 착물 등을 들 수 있다.
상기 광 양이온계 경화 촉매로는 아사히덴카공업사의 SP170 등을 들 수 있다.
상기 양이온계 촉매의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 상기 화학식 (1)로 표시되는 에폭시 수지를 사용할 경우에는, 상기 에폭시 수지 100 중량부에 대하여 0.1 - 5 중량부가 바람직하고, 특히 0.5 - 3 중량부가 바람직하다.
광 경화할 경우에는, 필요에 따라 경화 반응을 촉진시키기 위해 증감제, 산 증식제 등도 아울러 이용할 수 있다.
본 발명의 투명 복합 시트에서, 투명 수지 조성물의 경화 후 굴절율과 유리 필러와의 굴절율 차이는, 우수한 투명성을 유지하기 위해 0.01 이하인 것이 바람직하며, 0.005 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에 이용하는 유리 필러의 굴절율은 1.4 - 1.6이 바람직하고, 특히 1.5 - 1.55가 바람직하다. 굴절율이 상기 범위내인 경우, 섬유 재료의 아베수(Abbe number)에 가까운 투명 수지를 선택할 수 있고, 투명 수지의 아베수와 유리의 아베수가 가까운 만큼 넓은 파장 영역에서 굴절율이 일치해, 넓은 범위에서 높은 광선 투과율을 얻을 수 있기 때문이다.
본 발명에서 이용하는 유리 필러로는, 크로스나 부직포 등의 섬유포 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 선팽창 계수의 저감 효과가 높은 순으로 유리 크로스, 유리 부직포가 바람직하고, 유리 크로스가 보다 바람직하다.
유리의 종류로는 E 유리, C 유리, A 유리, S 유리, T 유리, D 유리, NE 유리, 석영, 저유전율 유리, 고유전율 유리 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 알카리 금속 등의 이온성 불순물이 적고 입수가 용이한 E 유리, S 유리, T 유리, NE 유리가 바람직하다.
유리 필러의 함유량은, 투명 복합 시트에 대하여 1 - 90 중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 - 80 중량%, 더욱 바람직하게는 30 - 70 중량%이다. 유리 필러의 함유량이 이러한 범위에 있으면 성형이 용이하고 복합화에 의한 선팽창의 저하 효과가 인식된다. 또한, 유리 필러량이 많으면, 단위 부피 당 수지량의 균일성이 향상되고, 응력의 균일성이 투명 복합 기판의 평탄성을 향상시키기 때문이다.
본 발명의 투명 복합 시트에는 필요에 따라 투명성, 내용제성, 저열성, 광학특성, 평탄성 등의 특성을 손상시키지 않는 범위내에서, 열가소성 수지 또는 열경화성 수지의 올리고머나 모노머, 또는 커플링제 등을 병용할 수 있다. 이들 올리고머나 모노머를 사용할 경우, 전체 굴절율이 유리 필러의 굴절율에 맞게 조성비를 조정할 필요가 있다. 또, 본 발명의 복합체 조성물에는, 필요에 따라, 투명성, 내용제성, 내열성 등의 특성을 손상시키지 않는 범위내에서, 소량의 산화 방지제, 자외선 흡수제, 염색 안료, 기타 무기 필러를 포함할 수도 있다.
본 발명의 투명 복합 시트의 생산 방법은 한정되지 않으며, 예를 들면, 미경화의 수지 조성물과 유리 필러를 직접 혼합하고, 필요한 틀에 주형한 후 가교하여 시트를 제조하는 방법, 미경화의 수지 조성물을 용제에 용해시켜, 유리 필러를 분산되게 해서 캐스팅한 후, 가교하여 시트를 제조하는 방법, 미경화의 수지 조성물 또는 수지 조성물을 용제에 용해시킨 바니스를 유리 크로스나 유리 부직포에 함침시킨 후 가교하여 시트 등으로 제조하는 방법 등을 들 수 있다.
본 발명의 투명 복합 시트를, 액정 표시 소자용 플라스틱 기판, 컬러 필터용 기판, 유기 EL 표시 소자용 플라스틱 기판, 전자 페이퍼용 기판, 태양 전지용 기판, 터치 패널 등의 광학 용도로서 이용할 경우, 두께는 바람직하게는 40 - 200μm이며, 보다 바람직하게는 50 - 100μm이다.
또한, 이 투명 복합 시트를 광학 용도로서 이용할 경우, 30 ℃ - 250 ℃에서의 평균 선팽창 계수는 40 ppm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 ppm 이하, 가장 바람직하게는 10 ppm 이하이며, 유리 전이 온도는 바람직하게는 200 ℃ 이상이며, 보다 바람직하게는 250 ℃ 이상이다.
본 발명의 투명 복합 시트를 표시용 플라스틱 기판으로서 이용할 경우, 파장 400 nm에서의 전체 광선 투과율은 80% 이상이 요구되며, 더욱 바람직하게는 85% 이상이며, 더욱 바람직하게는 88% 이상이다.
본 발명의 투명 복합 시트를 표시 소자용 플라스틱 기판으로서 이용할 경우, 평활성을 향상시키기 위해 기판의 양측으로 수지 코트 층을 구축할 수도 있다. 이용가능한 수지로서는 우수한 내열성, 투명성, 내약품성을 가지고 있는 수지가 바람직하고, 구체적으로는 상기 에폭시 수지가 바람직하다. 코트 층의 두께는 0.1 μm - 30 μm이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 - 30 μm이다.
이하, 본 발명의 내용을 실시예를 들어 상세히 설명하지만, 본 발명은 요지를 벗어나지 않는 한, 이하의 예로 한정되지 않는다.
도 1: 투명 복합 시트의 내절곡 특성의 시험 방법을 나타낸 개략도
도 2: 표면 형상 계측 장치의 개략 및 계측 피치를 나타낸 도
도 3: 계측된 기판 표면 및 국소 부분의 확대도
부호의 설명
1 기판
2 X -Y 오토 스테이지
3 레이저 변위계
4 계측 범위
5 계측된 기판 표면
6 계측 표면의 국소 부분
7 서로 이웃한 4 지점으로 구성된 요소
11 투명 복합 시트
12 금속봉
13 추
(실시예 1)
T 유리계 유리 크로스(두께 95 μm, 굴절율 1.526, 닛토보사 제품)에, 화학 식 (1)의 구조를 가지는 수소첨가 비페닐형 지환식 에폭시 수지(다이셀 화학 공업사 제품, E-BP) 75 중량부, 3-에틸 3-하이드록시메틸 옥세탄(동아합성사 제품, OXT-101) 20 중량부, 비스페놀 S형 에폭시 수지(다이니폰잉크 화학사 제품, EXA-1514) 5 중량부, 방향족 설포늄계 열 양이온 촉매(삼신화학사 제품 SI-100L) 1 중량부를 혼합한 수지 조성물을 함침 및 탈포하였다. 이 유리 크로스를 이형(離型) 처리한 유리판에 끼워, 80 ℃에서 2시간 가열한 후, 250 ℃에서 다시 2시간 가열하여, 두께 97 μm의 투명 복합 시트를 수득하였다.
(실시예 2)
T 유리계 유리 크로스(두께 95 μm, 굴절율 1.526, 닛토보사 제품)에, 화학식 (1)의 구조를 포함하는 수소첨가 비페닐형 지환식 에폭시 수지(다이셀 화학 공업사 제품, E-BP, Tg:> 250 ℃) 75 중량부, 3-(사이클로헥실옥시)메틸-3-에틸 옥세탄(동아합성사 제품, OXT-213) 20 중량부, 비스페놀 S형 에폭시 수지(다이니폰잉크 화학사 제품, EXA-1514) 5 중량부, 방향족 설포늄계 열 양이온 촉매(삼신화학사 제품 SI-100L) 1 중량부를 혼합한 수지 조성물을 함침 및 탈포하였다. 이 유리 크로스를 이형 처리한 유리판에 끼워, 80 ℃에서 2시간 가열한 후, 250 ℃에서 다시 2시간 가열하여, 두께 97 μm의 투명 복합 시트를 수득하였다.
(실시예 3)
T 유리계 유리 크로스(두께 95 μm, 굴절율 1.526, 닛토보사 제품)에, 화학식 (1)의 구조를 포함하는 수소첨가 비페닐형 지환식 에폭시 수지(다이셀 화학 공업사 제품, E-BP, Tg:> 250 ℃) 85 중량부, 글리시돌(도쿄화성사 제품) 15 중량부, 방향족 설포늄계 열 양이온 촉매(삼신화학사 제품 SI-100L) 1 중량부를 혼합한, 수지 조성물을 함침 및 탈포하였다. 이 유리 크로스를 이형 처리한 유리판에 끼워, 80 ℃에서 2시간 가열한 후, 250 ℃에서 다시 2시간 가열하여, 두께 97 μm의 투명 복합 시트를 수득하였다.
(실시예 4)
T 유리계 유리 크로스(두께 95 μm, 굴절율 1.526, 닛토보사 제품)에, 화학식 (1)의 구조를 포함하는 수소첨가 비페닐형 지환식 에폭시 수지(다이셀 화학 공업사 제품, E-BP) 75 중량부, 3-에틸3-하이드록시메틸 옥세탄(동아합성사 제품, OXT-101) 20 중량부, 카르도 골격을 포함하는 에폭시 수지(온파인 주식회사 제품, EX-1040) 5 중량부, 방향족 설포늄계 열 양이온 촉매(삼신화학사 제품 SI-100L) 1 중량부를 혼합한, 수지 조성물을 함침 및 탈포하였다. 이 유리 크로스를 이형 처리한 유리판에 끼워, 80 ℃에서 2시간 가열한 후, 250 ℃에서 다시 2시간 가열하여, 두께 97 μm의 투명 복합 시트를 수득하였다.
(실시예 5)
T 유리계 유리 크로스(두께 95 μm, 굴절율 1.526, 닛토보사 제품)에 화학식 (1)의 구조를 포함하는 수소첨가 비페닐형 지환식 에폭시 수지(다이셀 화학 공업사 제품, E-BP) 75 중량부, 3-에틸3-하이드록시메틸 옥세탄(동아합성사 제품, OXT-101) 20 중량부, 카르도 골격을 포함하는 에폭시 수지(온파인 주식회사 제품, EX-1011) 5 중량부, 방향족 설포늄계 열 양이온 촉매(삼신화학사 제품 SI-100L) 1 중량부를 혼합한, 수지 조성물을 함침 및 탈포하였다. 이 유리 크로스를 이형 처리 한 유리판에 끼워, 80 ℃에서 2시간 가열한 후, 250 ℃에서 다시 2시간 가열하여, 두께 97 μm의 투명 복합 시트를 수득하였다.
(비교예 1)
T 유리계 유리 크로스(두께 95 μm, 굴절율 1.526, 닛토보사 제품)에, 화학식 (1)의 구조를 포함하는 수소첨가 비페닐형 지환식 에폭시 수지(다이셀 화학 공업사 제품, E-BP, Tg:> 250 ℃) 100 중량부, 방향족 설포늄계 열 양이온 촉매(삼신화학사 제품 SI-100L) 1 중량부를 혼합한, 수지 조성물을 함침 및 탈포하였다. 이 유리 크로스를 이형 처리한 유리판에 끼워, 80 ℃에서 2시간 가열한 후, 250 ℃에서 다시 2시간 가열하여, 두께 97 μm의 투명 복합 시트를 수득하였다.
(배리어 부착 기판의 제조)
상기 실시예 및 비교예에서 수득한 기판을 RF 스퍼터링 장치의 진공 챔버내에 설치하였다. 5 x 1O-4 Pa의 진공도에 도달하였을 때 Ar 가스를 O.1 Pa로 도입하고, 투명 복합 시트와 원재료의 SiO2 타겟 사이에 0.3 kW의 RF 전력을 투입해, 방전을 개시하였다. 방전이 안정되면 투명 복합 시트와 원재료의 사이에 구비된 셔터를 열어, 투명 복합 시트 상에 SiOx로부터 되는 무기 물질층의 퇴적을 개시하였다.
무기 물질층이 1OO nm로 퇴적되었을 때, 셔터를 닫아 퇴적을 종료하고, 진공 챔버를 대기 중에 개방하여, 배리어 부착 기판을 제조하였다.
실시예, 비교예의 투명 복합 시트의 배합 및 특성의 평가 결과는 표 1에, 배리어 부착 기판의 평가 결과는 표 2에 나타낸다.
평가 방법은 이하와 같다.
(a) 극한곡율 경(절곡 특성)
도 1에 나타낸 바와 같이, 1O mm 폭으로 절단한 투명 복합 시트(11)를, 여러가지 직경의 원주형 금속 막대(12)에 감아, 500 g의 추(13)를 매달아 투명 복합 시트에 크랙을 발생시키는 금속 막대의 직경을 극한곡율 경으로 하였다.
(b) 만곡(うねり) 정도 평가
소정의 계측 면적(S1)의 기판 표면을 레이저 변위계로 스캔하여 계측한 기판 표면적(S2)의, 계측 면적에 대한 증가율(S2-S1)/S1을 만곡 특성값으로서 산출하고, 하기 기준으로 만곡 특성값을 판정하였다.
양호 O: 만곡 특성값 1.5×1O-6 이하
열악 X: 만곡 특성값 1.5×1O-6 초과
측정 방법의 상세한 내용은 이하와 같다. 도 2-a에는 표면 형상 계측 장치를 나타낸다. 계측 장치는 고정된 레이저 변위계(3)(키엔스사 제품; LT-9030M)와 X-Y오토 스테이지(2)(콤스사 제품)로 구성되어 있다. 오토 스테이지 위에 기판(1)을 설치하고, 계측 범위(4)[XL×YL]를 설정한다. 오토 스테이지 X 방향으로 이동시키는 것에 의해 레이저 변위계를 주사시켜, 계측 피치(XP)로 기판 표면의 높이를 계측한다. 이러한 주사를 피치 YP마다 실시함으로써, XP, YP(도 2-b) 간격에서의 기 판 표면 형상 데이터를 얻는다. 이번 계측에서는 XL 및 YL을 50 mm, XP 및 YP를 0.5 mm로 설정하여 계측하였다.
도 3-a는 소정의 범위에서 계측된 기판 표면(5)을 나타낸 것이다. 계측된 기판 형상의 표면적을 산출하기 위해, 이웃한 계측 포인트 4지점으로 구성되는 요소의 면적을 구한다. 계측 표면의 국소 부분(6)을 확대하여 도 3-b에 나타낸다. 서로 이웃한 4지점으로 구성되는 요소(7)에 대해, 기준점(7a)을 설정하고, XP측의 지점(7b)과 기준점의 높이 차이(ZX)를 산출하여 기준점에 대한 7b의 벡터(XP, 0, ZX)와, YP측의 지점 7c와 기준점의 높이 차이(ZY)를 산출하여 기준점에 대한 7c의 벡터(0, YP, ZY)를 구한다. 이 2가지 벡터가 이루는 평면의 면적을 요소(7)의 면적과 근사시켜, 외적(外積)의 크기를 구함으로써, 면적을 구한다. 계측 표면을 구성하고 있는 각 요소에 대하여 동일한 방법을 수행하여 면적을 구하고, 이들의 총합을 산출하는 것으로 계측된 기판의 표면적(S2)을 구한다. 계측된 표면 형상이 플랫(flat)으로 구해지는 표면적은 계측 면적 XL × YL에 근접하므로, 산출된 표면적(S2)에서 계측 면적(S1)을 제함으로써, 요철로 인한 표면적 증가량을 산출한다. 표면적 증가량(S2-S1)을 계측 면적(S1)으로 나누고 정규화한 값을 만곡 특성값으로 하였다.
(c) 평균 선팽창 계수
SEIKO 전자 주식회사 제품의 TMA/SS6000형 열응력 변형 측정 장치를 이용하여, 질소 분위기 하에서 1분간 5 ℃의 비율로 승온시키고, 하중을 5 g으로 하여 인장 모드에서 측정함으로써, 소정 온도 범위에서의 평균 선팽창 계수를 산출하였다.
(d) 내열성
SEIKO 전자 주식회사 제품인 DNS210형의 동적 점탄성 측정 장치를 이용하여, 1 Hz에서의 tanδ의 최대치를 유리 전이 온도(Tg)로 하였다.
(e) 광선투과율
분광광도계 U3200(시마즈제작소 제품)으로 400 nm에서의 전체 광선 투과율을 측정하였다.
(f) 광학 이방성
편광 현미경을 이용하여 크로스 니콜 상태로 설정한 후, 투명 기판을 스테이지 상에서 회전시키면서, 광 투과도가 가장 높은 위치에서 평가를 수행하였다. 각 부호는 다음과 같다.
0: 양호(광의 투과가 약간 관측되지만, 실용상 문제없음)
X: 불량(광의 투과가 많이 관측되어, 실용상 문제가 됨)
(g) 씰 밀착 강도
도시바 실리콘사의 씰 재료 TSE-3337의 주제(主劑) 및 경화제를 각각 50 중량부, 스페이서로서 촉매화성제 EPOSTAR-GP-H80(8 μmφ) 2 중량부를 용기에 넣고, 쓰리 원 모터로 예비 혼합한 다음, 3개의 롤로 더욱 충분히 혼련(混練) 탈포하여, 씰 재료를 얻었다. 이 씰 재료를 실시예 및 비교예에서 얻어진 기판에 배리어 막 을 붙인 배리어 부착 기판 위에 스크린 인쇄에 의해 도포하고, 40 ℃에서 14분간 예비 경화를 행하였다. 그 다음으로, 1장의 기판을 올려, 실효압 0.015 MPa의 압력을 가하고, 씰 부의 폭이 1×30 mm가 되게 기판에 붙이고, 압력을 가한 채, 70 ℃에서 30분, 120 ℃에서 30분간 경화시켜 평가용 샘플을 제조하였다. 제조된 기판을 8 mm 폭의 스트립 형태로 잘라, 씰 부의 박리 강도(90° 필 강도)를 텐시론으로 측정하였다. 씰 밀착 강도 및 박리시의 씰 부 주변의 크랙 발생 상황을 표 2에 나타낸다.
(표 1)
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 비교예 1
수지성분 지환식 에폭시 수지(E-BP) 75 75 85 75 75 100
옥세탄모노머(OXT-101) 20 20 20
옥세탄모
노머(OXT-
213)
20
글리시딜 15
미스페놀 S형 에폭시 수지 5 5
카르드형 에폭시 수지(EX-1040) 5
카르드형 에폭시 수지(EX-1011) 5
양이온 중합촉매(SI-100L) 1 1 1 1 1 1
유리 필러 T 유리계 유리 크로스(굴절율 1.526) 97 μm x 1장 97 μm x 1장 97 μm x 1장 97 μm x 1장 97 μm x 1장 97 μm x 1장
경화 후 수지의 굴절율 1.519 1.520 1.523 1.518 1.520 1.521
복합 시트 중의 수지의 함유율 36 40 36 40 40 38
복합 시트의 특성 평균 선팽창 계수(30-250 ℃) ppm 12 11 12 11 11 12
광선 투과율(400 mm) % 87 86 87 86 87 90
내열성(유리전이온도) >250 >250 >250 >250 >250 >250
크랙을 발생시키는 절곡 경(극한곡율경) mm 7 8 6 7 7 11
기판의 만곡 O O O O O O
광학 이방성 O O O O O O
(표 2)
필 강도(N/8 mm) 씰 주변부 상태
실시예 1의 배리어 부착 기판 1.6- 4 변화 없음
실시예 2의 배리어 부착 기판 1.6- 4 변화 없음
실시예 3의 배리어 부착 기판 1.6- 4 변화 없음
실시예 4의 배리어 부착 기판 1.6- 4 변화 없음
실시예 5의 배리어 부착 기판 1.6- 4 변화 없음
비교예 1의 배리어 부착 기판 1.6- 3 크랙 발생
본 발명의 투명 복합 시트는, 예를 들면, 투명판, 광학 렌즈, 액정 표시 소자용 플라스틱 기판, 컬러 필터용 기판, 유기 EL 표시 소자용 플라스틱 기판, 태양 전지 기판, 터치 패널, 도광판, 광학 소자, 광도하지(光導波路), LED 봉지재(封止材) 등에 바람직하게 이용할 수 있다.

Claims (14)

  1. 화학식 (1)로 표시되는 지환식 에폭시 수지 및/또는 화학식 (2)로 표시되는 지환식 에폭시 수지, 상기 지환식 에폭시 수지 이외의 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 1종 이상의 화합물, 및 경화제를 포함하는 투명 수지 조성물과, 유리 필러를 포함하는 복합 조성물을 경화시켜 수득한 투명 복합 시트에 있어서, 상기 양이온 중합가능한 화합물이 양이온 중합가능한 작용기 이외의 극성기를, 하나의 분자에 하나 이상 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
    (화학식 1)
    Figure 112014009361266-pct00005
    (화학식 2)
    Figure 112014009361266-pct00006
    (상기 식에서, -X-는 -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CH2-, -CH(CH3)- 또는 -C(CH3)2-임)
  2. 제1항에 있어서, 상기 지환식 에폭시 수지와 상기 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물의 배합 중량비가 99:1 - 70:30인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  3. 제1항에 있어서, 상기 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물이 에폭시기를 포함하는 화합물, 옥세타닐기를 포함하는 화합물 및 비닐에테르기를 포함하는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  4. 제1항에 있어서, 상기 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물이 하나의 분자에 1개의 양이온 중합가능한 작용기를 가지는 화합물인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 극성기가 수산기인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  7. 제1항에 있어서, 상기 경화제가 양이온계 경화 촉매를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  8. 제1항에 있어서, 상기 유리 필러의 함유량이 투명 복합 시트에 대하여 1 - 90 중량%인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  9. 제1항에 있어서, 상기 유리 필러가 유리 섬유포(fiber cloth)인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  10. 제1항에 있어서, 상기 투명 수지 조성물의 경화 후 굴절율과 유리 필러의 굴절율의 차이가 0.01 이하인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  11. 제1항에 있어서, 두께가 40 - 200 μm인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  12. 제1항에 있어서, 파장 400nm에서의 광선 투과율이 80% 이상인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  13. 제1항에 있어서, 30 ℃ - 250 ℃에서의 평균 선팽창 계수가 20 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 투명 복합 시트.
  14. 제1항 기재의 투명 복합 시트를 포함하여 구성된 표시 소자용 기판.
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