JPWO2008143003A1 - 透明複合シート - Google Patents
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Abstract
Description
そこで、本構成では、前記ジエポキシビシクロヘキシル化合物を主成分とし、前記異性体の含有量を、ガスクロマトグラフィーによるピーク面積の割合として前記ジエポキシビシクロヘキシル化合物と前記異性体との総和の20%以下とした脂環式エポキシ化合物を用いる。このような脂環式エポキシ化合物は、前記異性体の含有量が20%を越えるものと比較して、硬化反応速度が速く、硬化後のガラス転移温度は高くなり、耐熱性等の物性が向上する。また、低温での硬化性に優れ、硬化後の線膨張係数が低いという特性を有する。
したがって、本構成によれば、透明性及び耐熱性に優れ、線膨張係数及び光学異方性が小さく、平坦性が高い透明複合シートを提供することができる。
したがって、本構成によれば、透明性及び耐熱性に優れ、線膨張係数及び光学異方性が小さく、平坦性が高い透明複合シートを提供することができる。
カラム:HP−5、長さ30m、膜厚0.25μm、内径0.32mm、液相5%−ジフェニル−95%−ジメチルポリシロキサン
キャリアガス:窒素
キャリアガス流量:1.0ml/分
検出器:FID
出入口温度:250℃
検出器温度:300℃
昇温パターン(カラム):100℃で2分保持、5℃/分で300℃まで昇温、30℃で10分保持
スプリット比:100
サンプル:1μl(エポキシ化合物:アセトン=1:40)
(I)前記式(2)で表されるジヒドロキシビシクロヘキシル化合物を、有機溶媒中で、脱水触媒の存在下、20Torr(2.67kPa)を超える圧力下で130〜200℃に加熱し、副生する水を留去しながら脱水反応を行う工程
(II)前記工程(I)の反応混合液を、200Torr(26.7kPa)を超える圧力下で100〜200℃に加熱することで生成した前記式(3)で表されるジエン化合物を留出させる工程
(III)前記工程(II)で製造したジエン化合物をエポキシ化する工程
(a)前記反応中間体は、さらに分子内脱水を進行させることにより目的化合物に変換できることから、これを留去することは目的化合物の収量の低下を招く。
(b)前記反応中間体は、一般に昇華性の固体であることから、例えば、当該工程において蒸留塔を設ける場合には、副生水の留出経路上に固体が析出することで留出経路が閉塞し、反応容器内部の圧力が上昇する。その結果、反応容器の破裂、破損、反応液の飛散等のトラブルを招く。
以上の理由から、工程(I)において、反応中間体の留去が生じない圧力下で、副生水を留去しながら脱水反応を行う必要がある。
カラム:HP−5、長さ60m、内径0.32mm、液相 5%−ジフェニル−95%−ジメチルポリシロキサン
キャリアガス:窒素
キャリアガス流量:2.6ml/分
検出器:FID
出入口温度:250℃
検出器温度:250℃
昇温パターン(カラム):60℃で5分保持、10℃/分で300℃まで昇温
スプリット比:100
サンプル:1μl(エポキシ化合物:アセトン=1:40)
合成例1(異性体含有量9%)
95重量%硫酸70g(0.68モル)と1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)55g(0.36モル)を攪拌混合して脱水触媒を調製した。攪拌機、温度計、および脱水管を備え且つ保温された留出配管を具備した3リットルのフラスコに前記式(2)おいて、R1〜R18が水素原子である水添ビフェノール(4,4'−ジヒドロキシビシクロヘキシル)1000g(5.05モル)、上記で調製した脱水触媒125g(硫酸として0.68モル)、プソイドクメン1500gを入れ、フラスコを加熱した。内温が115℃を超えたあたりから水の生成が確認された。さらに昇温を続けてプソイドクメンの沸点まで温度を上げ(内温162〜170℃)、常圧で脱水反応を行った。副生した水は留出させ、脱水管により系外に排出した。なお、脱水触媒は反応条件下において液体であり、反応液中に微分散していた。3時間経過後、ほぼ理論量の水(180g)が流出したため反応終了とした。反応終了溶液を10段のオールダーショウ型の蒸留等を用い、プソイドクメンを留去した後、内部圧力10Torr(1.33kPa)、内温137〜140℃にて蒸留し、731gの前記式(3)おいて、R1〜R18が水素原子であるビシクロヘキシル−3,3'−ジエンを得た。GC分析の結果、得られたビシクロヘキシル−3,3−ジエン中にはその異性体が含まれており(GC−MS分析のより確認)、ビシクロヘキシル3,3'−ジエンとその異性体の含有比は91:9であった。
攪拌機、温度計、及び脱水管を備え且つ保温された留出配管を具備した3リットルのフラスコに、合成例1と同様の水添ビフェノール840g(4.24モル)、リン酸170g(1.73モル)、ウンデカン2350gを入れ、フラスコを加熱した。内温が110℃を超えたあたりから水の生成が確認された。さらに昇温を続けてウンデカンの沸点まで温度を上げ(内温189〜194℃)、常圧で脱水反応を行った。副生した水は留出させ、脱水管により系外に排出した。なお、リン酸は反応条件下において反応液に完全に溶解していた。5時間半経過後、ほぼ理論量の水(150g)が留出したため反応終了とした。反応終了溶液を10段のオールダーショウ型の蒸留塔を用い、ウンデカンを留去した後、内部圧力10Torr(1.33kPa)、内温138〜141℃にて蒸留し、474.2gのビシクロヘキシル−3,3'−ジエンを得た。GC分析の結果、得られたビシクロヘキシル−3,3−ジエン中にはその異性体が含まれており、ビシクロヘキシル3,3'−ジエンとその異性体の含有比は87:13であった。
攪拌機、20段のオールダーショウ型蒸留塔、温度計を備えている5リットルのフラスコに、合成例1と同様の水添ビフェノール1000g(5.05g)、硫酸水素アンモニウム40g(0.265モル)、クメン2800gを入れ、フラスコを加熱した。内温が115℃を超えたあたりから水の精製が確認された。さらに昇温を続け、蒸留塔の塔頂より副生水を留出させながら反応と続けてクメンの沸点まで温度を上げ(内温165〜170℃)、常圧で脱水反応を行った。なお、硫酸水素アンモニウムは反応条件下において固体であり、大部分が反応液に溶解していなかった。6時間半経過後、理論量の94%の水(170.9g)が留出したため反応終了とした。反応終了後、系内を減圧にしてクメンを留去した後、10Torr(1.33kPa)まで減圧し、内温137〜141℃にて蒸留し、590gのビシクロヘキシル−3,3'−ジエンを得た。GC分析の結果、得られたビシクロヘキシル−3,3−ジエン中にはその異性体が含まれており、ビシクロヘキシル−3,3'−ジエンとその異性体の含有比は81:19であった。
攪拌機、20段の蒸留塔、温度計を備えている10リットルの四つ口フラスコに、合成例1と同様の水添ビフェノール6kgと硫酸水素カリウム620gを加えた。続いて、フラスコを180℃に加熱し、水添ビフェノールを融解後、攪拌を開始した。蒸留塔の塔頂より副生水を留出させながら反応を続け、3時間経過後、反応系内を10Torr(1.33kPa)に減圧し、水とビシクロヘキシル−3,3’−ジエンを蒸留塔の最上段より連続的に系外に留出させた。系外に留去させた水とビシクロヘキシル−3,3’−ジエンはデカンターで二層に分離させ、上層液のみを取り出した。その後、4時間かけて反応温度を220℃まで上げ、水とビシクロヘキシル−3,3’−ジエンの留去が無くなった時点で反応終了とした。ビシクロヘキシル−3,3’−ジエンの留出粗液の収量は4507gであった。上記ビシクロヘキシル−3,3’−ジエンの留出粗液4500gを攪拌機、20段の蒸留塔、温度計を備えている5リットルの四つ口フラスコに入れ、オイルバスで180℃に昇温した。その後、反応系内を10Torr(1.33kPa)に減圧し、水を留去してから蒸留塔の最上段の温度を145℃に維持し、還流比1で5時間かけてビシクロヘキシル−3,3’−ジエンを蒸留精製し、無色透明の液体を得た。収量は4353gであった。前記液体についてGC分析を行った結果、得られたビシクロヘキシル−3,3’−ジエン中にはその異性体が含まれており、ビシクロヘキシル−3,3’−ジエンとその異性体の含有比は80:20であった。
(実施例1)
NEガラス系ガラスクロス(厚み95μm、屈折率1.510、日東紡製)に合成例1で得られた脂環式エポキシ化合物(異性体含有量9%)70重量部、オキセタニルシルセスキオキサン(東亞合成製、製品名OX−SC)30重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒(三新化学製SI−100L)1重量部を混合した樹脂組成物を含浸させ脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込み、80℃で2時間加熱後、250℃でさらに2時間加熱し、厚み97μmの透明複合シートを得た。
NEガラス系ガラスクロス(厚み95μm、屈折率1.510、日東紡製)に合成例2で得られた脂環式エポキシ化合物(異性体含有量14%)70重量部、オキセタニルシルセスキオキサン(東亞合成製、OX−SC)30重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒(三新化学製SI−100L)1重量部を混合した樹脂組成物を含浸させ脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込み、80℃で2時間加熱後、250℃でさらに2時間加熱し、厚み97μmの透明複合シートを得た。
NEガラス系ガラスクロス(厚み95μm、屈折率1.510、日東紡製)に合成例3で得られた脂環式エポキシ化合物(異性体含有量17%)70重量部、オキセタニルシルセスキオキサン(東亞合成製、OX−SC)30重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒(三新化学製SI−100L)1重量部を混合した樹脂組成物を含浸させ脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込み、80℃で2時間加熱後、250℃でさらに2時間加熱し、厚み97μmの透明複合シートを得た。
NEガラス系ガラスクロス(厚み95μm、屈折率1.510、日東紡製)に合成比較例1で得られた脂環式エポキシ化合物(異性体含有量21%)70重量部、オキセタニルシルセスキオキサン(東亞合成製、OX−SC)30重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒(三新化学製SI−100L)1重量部を混合した樹脂組成物を含浸させ脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込み、80℃で2時間加熱後、250℃でさらに2時間加熱し、厚み97μmの透明複合シートを得た。
評価方法は以下の通りである。
所定の計測面積(S1)における基板表面をレーザー変位計をスキャンさせて、計測した基板表面積(S2)の計測面積に対する増分率(S2-S1)/S1をうねり特性値として算出し、下記のような基準でうねり特性値を判定した。
○:良好(うねり特性値 1.5×10-6以下)
×:不良(うねり特性値 1.5×10-6を超える値)
測定方法の詳細は以下の通りである。図1(a)は表面形状計測装置を示す。計測装置は固定されたレーザー変位計3(キーエンス社製:LT-9030M)とX−Yオートステージ2(コムス社製)で構成されている。オートステージ上に基板1を設置し、計測範囲4[XL×YL]を設定する。図1(b)に示すように、オートステージX方向に移動させることによりレーザー変位計を走査させ、計測ピッチXPで基板表面の高さを計測する。この走査をピッチYP毎に実施することにより、XP、YP間隔での基板表面形状データを得る。今回の計測ではXLおよびYLを50mm、XPおよびYPを0.5mmに設定し計測を実施した。
偏光顕微鏡を用いクロスニコル状態にした後、透明基板をステージ上で回転させながら、最も光の透過度が強くなる位置で評価を行った。各符号は、以下の通りである。
○:良好(光の透過が若干観測される)
×:不良(光の透過が多く観測される)
SEIKO電子(株)製TMA/SS6000型熱応力歪み測定装置を用いて、窒素雰囲気下、1分間に5℃の割合で昇温させ、荷重を5gにして引っ張りモードで測定を行い、所定温度範囲における平均線膨張係数を算出した。
SEIKO電子(株)製DNS210型動的粘弾性測定装置を用いて、1Hzでのtanδの最大値をガラス転移温度(Tg)とした。
分光光度計U3200(島津製作所製)で波長400nmにおける全光線透過率を測定した。
アタゴ社製アッベ屈折率計DR−M2を用いて、25℃で波長589nmの屈折率を測定した。
Claims (11)
- 脂環式エポキシ化合物及び硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物と、ガラスフィラーとを含有する複合組成物を硬化させて得られる透明複合シートであって、
前記脂環式エポキシ化合物は、下記式(1)で表されるジエポキシビシクロヘキシル化合物を主成分として含み、前記ジエポキシビシクロヘキシル化合物の異性体の含有量が、ガスクロマトグラフィーによるピーク面積の割合として、前記ジエポキシビシクロヘキシル化合物と前記異性体との総和の20%以下である透明複合シート。
- 前記脂環式エポキシ化合物は、下記式(2)で表されるジヒドロキシビシクロヘキシル化合物を有機溶媒中、脱水触媒の存在下、副生する水を留去しながら脱水反応を行うことにより得られる下記式(3)で表されるビシクロヘキシルジエン化合物を主成分として含む脂環式ジエン化合物をエポキシ化して得られる請求項1に記載の透明複合シート。
- 前記硬化剤は、カチオン系硬化触媒を含むものである請求項1に記載の透明複合シート。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、さらにカチオン重合可能な化合物を含有する請求項1に記載の透明複合シート。
- 前記カチオン重合可能な化合物は、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物、ビニルエーテル基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項4に記載の透明複合シート。
- 前記ガラスフィラーの含有量は、前記透明複合シートに対して1〜90重量%である請求項1に記載の透明複合シート。
- 前記エポキシ樹脂組成物の硬化後の屈折率と前記ガラスフィラーの屈折率との差は、0.01以下である請求項1に記載の透明複合シート。
- 前記ガラスフィラーは、ガラス繊維布である請求項1に記載の透明複合シート。
- 波長400nmにおける光線透過率が80%以上である請求項1に記載の透明複合シート。
- 30℃〜250℃における平均線膨張係数が40ppm以下である請求項1に記載の透明複合シート。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の透明複合シートを有する表示素子用基板。
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