TW201527091A - 光學異向性薄片 - Google Patents

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Tadahiro Kobayashi
Akira Yokota
Tatsuaki Kasai
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Abstract

本發明之課題乃提供一種薄型、可賦予能轉印至顯示裝置之光學異向性薄膜的光學異向性薄片。 本發明之解決方法在於一種光學異向性薄片之提供，其係依序具有基材、液晶硬化膜與黏接著劑層之光學異向性薄片，且該液晶硬化膜係在聚合性液晶化合物已配向之狀態下硬化之厚度為5μm以下之膜，且液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)較基材之密著力(F4)更大。

Description

光學異向性薄片
本發明係關於光學異向性薄片。
將聚乙烯基醇延伸所成之偏光薄膜非常地脆，必需以透明薄膜挾持，因而會有變厚之問題(非專利文獻1)。又，使用高分子薄膜之相位差薄膜，因熱延伸時會破裂之故，難以變薄。
〔先前技術文獻〕 〔非專利文獻〕
〔非專利文獻1〕鈴木八十二編著，「直到液晶顯示器完成為止」，日刊工業新聞社，2005年11月28日發行
本發明所求為一種可賦予薄型光學異向性薄膜之光學異向性薄片。
本發明係提供以下發明。
〔1〕一種光學異向性薄片，其係依序具有基材、液晶硬化膜與黏接著劑層之光學異向性薄片，其中該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以配向狀態硬化之厚度為5μm以下的膜，液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)大於基材之密著力(F4)，F4為0.02N/25mm以上且未達1N/25mm。
〔2〕一種光學異向性薄片，其係依序具有基材、配向膜、液晶硬化膜與黏接著劑層之光學異向性薄片，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜，該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜，液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)大於基材與配向膜之密著力(F2)或配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)，F2及F3為0.02N/25mm以上、F2或F3未達1N/25mm。
〔3〕如〔2〕之光學異向性薄片，其中，配向膜係光配向膜。
〔4〕如〔1〕~〔3〕中任一項之光學異向性薄片，其 中，液晶硬化膜具有滿足下述式(1)、(2)及式(3)之波長分散特性。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
100<Re(550)<150 (3)
Re(450)、Re(550)、Re(650)各自表示在波長450nm、550nm、650nm之遲滯量。
〔5〕如〔1〕~〔4〕中任一項之光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜具有下述式(4)所示之折射率關係。
nz>nx≒ny (4)
nz表示厚度方向之折射率。nx顯示面內中，產生最大折射率之方向的折射率。ny顯示面內中，對nx之方向呈垂直方向的折射率。
〔6〕如〔1〕~〔3〕中任一項之光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜進一步包含二色性色素。
〔7〕如〔6〕之光學異向性薄片，其中，二色性色素係含3種類以上的偶氮化合物。
〔8〕如〔1〕~〔3〕中任一項之光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜係於X線繞射測定中，顯示布拉格波峰。
〔9〕如〔1〕~〔8〕中任一項之光學異向性薄片，其中，黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
〔10〕一種光學異向性薄膜，其係自〔1〕~〔9〕中任一項之光學異向性薄片去除基材者。
〔11〕一種圓偏光板，其係依序積層偏光板、第一黏 接著劑層、液晶硬化膜與第二黏接著劑層而成之圓偏光板，其中該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜、具有滿足下述式(1)、(2)及式(3)之波長分散特性的膜。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
100<Re(550)<150 (3)
Re(450)、Re(550)、Re(650)各自表示在波長450nm、550nm、650nm之遲滯量。
〔12〕如〔11〕之圓偏光板，其中，第一黏接著劑層與液晶硬化膜之間進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
〔13〕如〔11〕或〔12〕之圓偏光板，其中，液晶硬化膜與第二黏接著劑層之間進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
〔14〕如〔11〕~〔13〕中任一項之圓偏光板，其中，第一黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
〔15〕如〔11〕~〔14〕中任一項之圓偏光板，其中，第二黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
〔16〕一種圓偏光板，其係依序積層液晶硬化膜、黏接著劑層、相位差薄膜與黏接著劑層所成之圓偏光板，其 中該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜、包含二色性色素的膜。
〔17〕如〔16〕之圓偏光板，其中，於液晶硬化膜之表面進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
〔18〕如〔16〕或〔17〕之圓偏光板，其中，黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
〔19〕一種圓偏光板，其係依序積層第一液晶硬化膜、第一黏接著劑層、第二液晶硬化膜與第二黏接著劑層所成之圓偏光板，其中第一液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜、包含二色性色素的膜、第二液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜、具有滿足下述式(1)、(2)及式(3)之波長分散特性的液晶硬化膜。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
100<Re(550)<150 (3)
Re(450)、Re(550)、Re(650)各自表示在波長450nm、550nm、650nm之遲滯量
〔20〕如〔19〕之圓偏光板，其中，第一黏接著劑層 與第二液晶硬化膜之間，進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
〔21〕如〔19〕或〔20〕之圓偏光板，其中，於第一液晶硬化膜之表面進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
〔22〕如〔19〕之圓偏光板，其中，於第一液晶硬化膜之表面、及黏接著劑層與第二液晶硬化膜之間，進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
〔23〕如〔19〕~〔22〕中任一項之圓偏光板，其中，第一黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
〔24〕如〔19〕~〔23〕中任一項之圓偏光板，其中，第二黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
〔25〕一種附光學異向性薄膜之顯示裝置，其係具備了〔11〕~〔24〕中任一項之圓偏光板。
〔26〕一種附光學異向性薄膜之顯示裝置之製造方法，其特徵係將〔1〕~〔9〕中任一項之光學異向性薄片介由黏接著劑層貼合於顯示裝置之顯示面之後，去除該光學異向性薄片之基材。
〔27〕一種附光學異向性薄膜之顯示裝置之製造方法，其特徵係將〔4〕之光學異向性薄片介由黏接著劑層貼合於顯示裝置之顯示面之後，去除該光學異向性薄片之 基材，再將〔6〕~〔8〕中任一項之黏接著劑付光學異向性薄片介由黏接著劑層貼合於其上之後，去除該光學異向性薄片之基材。
根據本發明，可獲得薄型且、可賦予能轉印至顯示裝置之光學異向性薄膜的光學異向性薄片。
1‧‧‧液晶硬化膜為偏光膜之光學異向性薄膜
2‧‧‧液晶硬化膜為相位差膜之光學異向性薄膜
3‧‧‧黏接著劑層
4‧‧‧相位差薄膜
5‧‧‧偏光薄膜
10‧‧‧液晶顯示裝置
12a、12b‧‧‧偏光膜
13a、13b‧‧‧相位差膜
14a、14b‧‧‧基材
15‧‧‧彩色濾光器
16‧‧‧透明電極
17‧‧‧液晶層
18‧‧‧層間絕緣膜
19‧‧‧背光單元
20‧‧‧黑色矩陣
21‧‧‧薄膜電晶體
22‧‧‧像素電極
23‧‧‧間隔物
30‧‧‧EL顯示裝置
31‧‧‧圓偏光板
33‧‧‧基材
34‧‧‧層間絕緣膜
35‧‧‧像素電極
36‧‧‧有機機能層
37‧‧‧陰極電極
38‧‧‧乾燥劑
39‧‧‧封止蓋
40‧‧‧薄膜電晶體
41‧‧‧凸條
〔圖1〕包含由本發明之光學異向性薄片所得光學異向性薄膜之液晶顯示裝置的模式圖。
〔圖2〕包含由本發明之光學異向性薄片所得光學異向性薄膜之圓偏光板的剖面模式圖。
〔圖3〕使用包含由本發明之光學異向性薄片所得光學異向性薄膜之圓偏光板所成EL顯示裝置的模式圖。
〔圖4〕使用包含由本發明之光學異向性薄片所得光學異向性薄膜之圓偏光板所成EL顯示裝置的模式圖。
〔實施發明之形態〕
本發明之光學異向性薄片(以下稱為本光學異向性薄片)係依序具有基材、液晶硬化膜與黏接著劑層者，較佳為依序具有基材、配向膜、液晶硬化膜與黏接著 劑層者。自本光學異向性薄片去除基材所得之光學異向性薄膜(以下稱為本光學異向性薄膜)在作為偏光膜或相位差膜方面，乃適用於液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等之顯示裝置中。
本說明書中所謂基材之密著力(F4)意指本光學異向性薄片所有之用以分離基材與液晶硬化膜所需要的力，具體而言，意指基材與液晶硬化膜之密著力、基材與配向膜之密著力(F2)及配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)之中最低者的密著力。
<基材>
基材方面，可舉出玻璃基材及塑膠基材，且較佳為塑膠基材。構成塑膠基材之塑膠方面，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、降冰片烯系聚合物等之聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯基醇；聚乙烯對苯二甲酸酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等之纖維素酯；聚乙烯萘二甲酸酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等之塑膠。較佳為纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚乙烯對苯二甲酸酯或聚甲基丙烯酸酯。
纖維素酯係纖維素中所含羥基之至少一部被酯化而成者，容易自市場取得。又，纖維素酯基材也容易自市場取得。市售之纖維素酯基材方面，可舉例如“FUJITAC薄膜”(富士寫真薄膜(股))； “KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(KONICA MINOLTA OPTO(股))等。
所謂環狀烯烴系樹脂，例如，由降冰片烯或多環降冰片烯系單體等之環狀烯烴之聚合物或共聚物(環狀烯烴系樹脂)所構成者，該環狀烯烴系樹脂可包含部分開環部。又，亦可為使含開環部之環狀烯烴系樹脂氫化者。再者，該環狀烯烴系樹脂在未顯著損及透明性之點，或是未顯著地使吸濕性大增之點，可為例如環狀烯烴與鏈狀烯烴或乙烯基化芳香族化合物(苯乙烯等)之共聚物。又，該環狀烯烴系樹脂亦可於其分子內導入極性基。
環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與具有鏈狀烯烴或乙烯基之芳香族化合物所成之共聚物時，來自環狀烯烴之構造單位的含有比例，對共聚物之全構造單位而言通常為50莫耳%以下，較佳為15~50莫耳%之範圍。鏈狀烯烴方面，可舉出乙烯及丙烯，且具有乙烯基之芳香族化合物方面，可舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯。當環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、鏈狀烯烴、具有乙烯基之芳香族化合物的三元共聚物時，來自鏈狀烯烴之構造單位的含有比例，對共聚物之全構造單位而言，通常為5~80莫耳%，來自具有乙烯基之芳香族化合物之構造單位的含有比例，對共聚物之全構造單位而言，通常為5~80莫耳%。如此之三元共聚物，在其製造中，有所用的高價環狀烯烴之使用量較少的優點。
環狀烯烴系樹脂可輕易地自市場取得。市售 之環狀烯烴系樹脂方面，可舉出“Topas”(登錄商標)〔Ticona公司(德)〕、“ARTON”(登錄商標)〔JSR(股)〕、“ZEONOR”(登錄商標)〔日本ZEON(股)〕、“ZEONEX”(登錄商標)〔日本ZEON(股)〕及“APEL”(登錄商標)〔三井化學(股)製〕。將如此的環狀烯烴系樹脂，藉由例如溶劑澆鑄法、熔融押出法等之公知的手段予以製膜，可作為基材。又，可使用市售之環狀烯烴系樹脂基材。市售之環狀烯烴系樹脂基材方面，可舉出“Escena”(登錄商標)〔積水化學工業(股)〕、“SCA40”(登錄商標)〔積水化學工業(股)〕、“ZEONOR薄膜”(登錄商標)〔OPTES(股)〕及“ARTON薄膜”(登錄商標)〔JSR(股)〕。
基材的厚度，從可實用操作左右之重量的點來看，係以薄者為佳，若過薄，則強度會降低、加工性差。基材的厚度通常為5~300μm，較佳為20~200μm。
基材上亦可實施表面處理。表面處理之方法方面，可舉出真空下或大氣壓下以電暈或電漿處理基材的表面之方法、將基材表面予以雷射處理之方法、將基材表面予以臭氧處理之方法、將基材表面予以皂化處理之方法或將基材表面予以火焰處理之方法、將基材表面塗佈耦合劑之底塗處理方法、將反應性單體或具有反應性之聚合物附著於基材表面之後，照射放射線、電漿或紫外線使其反應之接枝聚合法等。較佳為於真空下或大氣壓下將基材表面予以電暈或電漿處理之方法。
以電暈或電漿進行基材的表面處理之方法方面，可舉出下述等方法。
在大氣壓附近的壓力下，於對向之電極間設置基材，使電暈或電漿產生而進行基材的表面處理之方法、於對向之電極間使氣體流入，在電極間將氣體予以電漿化，並將已電漿化之氣體吹附於基材之方法、及於低壓條件下使輝光放電電漿產生，進行基材的表面處理之方法。
其中，以在大氣壓附近的壓力下，於對向之電極間設置基材，使電暈或電漿產生而進行基材的表面處理之方法、或於對向之電極間使氣體流入，在電極間將氣體予以電漿化，並將已電漿化之氣體吹附於基材之方法為佳。該電暈或電漿所為之表面處理，通常可藉由市售之表面處理裝置來進行。
表面具有與配向膜或液晶硬化膜形成化學鍵結之官能基的基材，係有基材與配向膜之密著力(F2)或基材與液晶硬化膜之密著力會變大的傾向。因此，為了使基材與液晶硬化膜之密著力及基材與配向膜之密著力(F2)未達1N/25mm，係以表面之官能基少的基材為佳，又以未對表面施予形成官能基之表面處理的基材為佳。惟，表面的官能基若過少，基材與液晶硬化膜之密著力或F2因成為0.02N/25mm以下，要選擇基材及基材的表面處理方法以具有一定的密著力。
<配向膜>
本發明中之配向膜，係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜，係使聚合性液晶化合物向所期望之方向所液晶配向之具有配向規制力者。
配向膜使聚合性液晶化合物之液晶配向變得容易。水平配向、垂直配向、混成配向、傾斜配向等之液晶配向的狀態，會因配向膜及聚合性液晶化合物之性質而變化，其組合可任意地選擇。例如，配向膜若為在配向規制力上使水平配向表現之材料，聚合性液晶化合物可形成水平配向或混成配向，若為使其垂直配向表現之材料，則聚合性液晶化合物可形成垂直配向或傾斜配向。水平、垂直等之表現表示液晶硬化膜平面為基準時已配向之聚合性液晶化合物的長軸方向。例如，所謂垂直配向，係指具有對液晶硬化膜平面而言呈垂直方向配向之聚合性液晶化合物的長軸。在此所謂垂直，意指對液晶硬化膜平面而言成90°±20°者。
配向規制力，在配向膜層由配向性聚合物所形成時，可藉由表面狀態或摩擦條件而任意調整，而由光配向性聚合物所形成時，可藉由偏光照射條件等而任意調整。又，亦可藉由選擇聚合性液晶化合物之表面張力或液晶性等之物性，控制液晶配向。
基材與液晶硬化膜之間所形成的配向膜方面，係以對在配向膜上形成液晶硬化膜時所使用的溶劑不溶，又對用在溶劑的去除或液晶的配向所為之加熱處理具 耐熱性者為佳。配向膜方面，可舉出由配向性聚合物所成之配向膜、光配向膜及溝槽配向膜等，較佳為光配向膜。光配向膜因無須摩擦等之物理性配向處理，密著力會提昇，有容易使F2及F3為0.02N/25mm以上之傾向。
配向膜之厚度，通常為10nm~500nm之範圍，較佳為10nm~100nm之範圍。
配向性聚合物方面，可舉出分子內具有醯胺鍵結之聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵結之聚醯亞胺及作為其加水分解物之聚醯胺酸、聚乙烯基醇、烷基改性聚乙烯基醇、聚丙烯醯胺、聚噁唑、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類等。其中，以聚乙烯基醇為佳。此等之配向性聚合物可單獨使用亦可組合使用。
由配向性聚合物所成之配向膜，通常是將配向性聚合物溶解於溶劑所成之組成物(以下稱為配向性聚合物組成物)塗佈於基材並去除溶劑所得，或是將配向性聚合物組成物塗佈於基材，去除溶劑且予以摩擦(摩擦法)所得。
前述溶劑方面，可舉出水；甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、丙二醇、甲基賽路蘇、丁基賽路蘇及丙二醇單甲基醚等之醇溶劑；乙酸乙基酯、乙酸丁基酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲基醚乙酸酯及乳酸乙基酯等之酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮及甲基異丁基酮等之酮溶劑；戊烷、己烷 及庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等之芳香族烴溶劑、乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等之醚溶劑；氯仿及氯苯等之氯取代烴溶劑；等。此等溶劑可單獨使用亦可組合使用。
配向性聚合物組成物中的配向性聚合物之濃度，若在配向性聚合物材料可以完全溶解於溶劑中之範圍即可，對溶液而言，以固形分換算為0.1~20%者佳，0.1~10%左右更佳。
配向性聚合物組成物方面，亦可直接使用市售之配向膜材料。市售之配向膜材料方面，可舉出SUNEVER(登錄商標、日產化學工業(股)製)或Optomer(登錄商標、JSR(股)製)等。
將配向性聚合物組成物塗佈於基材之方法方面，可舉出旋轉塗佈法、擠壓法、凹版塗佈法、模具塗佈法、棒塗佈法及塗抹器法等之塗佈法、柔版印刷法等之印刷法等之公知的方法。使本光學異向性薄片藉由後述之Roll to Roll形式之連續性製造方法製造時，該塗佈方法上通常可採用凹版塗佈法、模具塗佈法或柔版印刷法等之印刷法。
藉由去除配向性聚合物組成物中所含的溶劑，可形成配向性聚合物之乾燥被膜。溶劑的去除方法方面，可舉出自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及減壓乾燥法等。
摩擦方法方面，可舉出以摩擦布捲繞著的摩 擦輥，使其與藉由將配向性聚合物組成物塗佈於基材並予以退火而形成於基材表面之配向性聚合物之膜接觸之方法。
光配向膜通常是將含有具光反應性基之聚合物或單體與溶劑所成的組成物(以下稱為「光配向膜形成用組成物」)塗佈於基材，並照射偏光(較佳為偏光UV)所得。光配向膜，乃藉由選擇照射之偏光的偏光方向而得以任意地控制配向規制力之方向的點而較佳。
所謂光反應性基，係指藉由照射光而產生液晶配向能之基。具體而言，係產生以照射光而產生的分子之配向激發或異性化反應、二聚化反應、光交聯反應、或產生如光分解反應般成為液晶配向能之起源的光反應者。該光反應性基之中，以引發二聚化反應或光交聯反應者，因配向性優異的點而較佳。可產生如上述反應的光反應性基方面，係以具有不飽和鍵結特別是具有雙鍵者為佳，並以具有由碳-碳雙鍵(C=C鍵結)、碳-氮雙鍵(C=N鍵結)、氮-氮雙鍵(N=N鍵結)、及碳-氧雙鍵(C=O鍵結)所成之群選出的至少一種之基特別佳。
具有C=C鍵結之光反應性基方面，可舉例如乙烯基、多烯基、二苯乙烯基、茋唑基、茋唑鎓基、查耳酮基及桂皮醯基等。具有C=N鍵結之光反應性基方面，可舉出具有芳香族希夫鹼及芳香族腙等之構造的基。具有N=N鍵結之光反應性基方面，可舉出以偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基及甲簪基等或氧偶氮苯 為基本構造者。具有C=O鍵結之光反應性基方面，可舉出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及馬來醯亞胺基等。此等之基亦可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基及鹵素化烷基等之取代基。
其中，以與光二聚化反應相關之光反應性基為佳，從光配向所需的偏光照射量較少且容易獲得熱安定性或經時安定性優異的光配向層之點來看，係以桂皮醯基及查耳酮基為佳。具有光反應性基之聚合物方面，係以具桂皮醯基者以使該聚合物側鏈的末端部成為桂皮酸構造而特佳。
光配向膜形成用組成物之溶劑方面，係以具有光反應性基之聚合物及溶解單體者為佳，該溶劑方面，可舉例如作為前述的配向性聚合物組成物之溶劑中所舉的溶劑等。
對光配向膜形成用組成物而言，具有光反應性基之聚合物或單體的含量，雖可視具該光反應性基之聚合物或單體的種類或所欲製造之光配向膜之厚度來適當地調節，但以至少0.2質量%以上者為佳，0.3~10質量%之範圍特別佳。又，在未明顯地損及光配向膜之特性的範圍下，亦可包含聚乙烯基醇、聚醯亞胺等之高分子材料或光增感劑。
將光配向膜形成用組成物塗佈於基材之方法方面，可舉出與將配向性聚合物組成物塗佈於基材之方法 同樣的方法。自所塗佈之光配向膜形成用組成物去除溶劑之方法方面，可舉例如與自配向性聚合物組成物去除溶劑之方法相同的方法。
在照射偏光上，可為對自已塗佈於基板上之光配向膜形成用組成物去除了溶劑者直接照射偏光之形式，亦可為自基材側照射偏光，並使偏光透過來進行照射之形式。又，該偏光係以實質上為平行光者特佳。照射偏光之波長，係以具有光反應性基之聚合物或單體的光反應性基可吸收光能量的波長領域者即可。具體而言，以波長250~400nm之範圍的UV(紫外線)特別佳。用於該偏光照射之光源方面，可舉出氙氣燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵素燈、KrF、ArF等之紫外光雷射等，以高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵素燈更佳。此等之燈，因波長313nm之紫外線的發光強度大而較佳。藉由將來自前述光源的光通過適當的偏光片來進行照射，而得以照射偏光。該偏光片方面，可使用偏光濾光片或格蘭-湯普遜、格蘭-泰勒等之偏光稜鏡、線柵型之偏光片。
此外，進行摩擦或偏光照射時，若進行掩蔽，則可形成液晶配向之方向不同的複數領域(圖型)。
溝槽(groove)配向膜，係於膜表面具有凹凸圖型或複數溝槽(溝)之膜。在具有等間隔排列的複數直線狀溝槽之膜上置有液晶分子時，液晶分子會沿該溝之方向配向。
獲得溝槽配向膜之方法方面，可舉出於感光 性聚醯亞胺膜表面介由具圖型形狀之狹縫的曝光用遮罩予以曝光後，進行顯像及潤洗處理而形成凹凸圖型之方法、在表面具有溝的板狀原盤上形成硬化前之UV硬化樹脂的層，並將樹脂層移向基材之後予以硬化之方法，以及在已在基材上形成硬化前之UV硬化樹脂的膜上，壓入具複數溝之輥狀原盤以形成凹凸後予以硬化之方法等。具體而言，可舉出日本特開平6-34976號公報及日本特開2011-242743號公報記載之方法等。
上述方法之中，係以將具有複數溝的輥狀原盤壓入硬化前之UV硬化樹脂的層表面而形成凹凸，之後予以硬化的方法為佳。輥狀原盤方面，從耐久性之觀點來看，係以不鏽鋼(SUS)鋼為佳。
UV硬化樹脂方面，可舉出單官能丙烯酸酯之聚合物、多官能丙烯酸酯之聚合物或此等之混合物之聚合物。
所謂單官能丙烯酸酯，意指具有1個由丙烯醯基氧基(CH2=CH-COO-)及甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)-COO-)所成之群選出的基(以下記為(甲基)丙烯醯基氧基)之化合物。又，所謂(甲基)丙烯酸酯，意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
具有1個(甲基)丙烯醯基氧基之單官能丙烯酸酯方面，可舉出碳數4~16之烷基(甲基)丙烯酸酯、碳數2~14之β羧基烷基(甲基)丙烯酸酯、碳數2~14之烷基化苯基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇 (甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯及異莰基(甲基)丙烯酸酯等。
所謂多官能丙烯酸酯，係以具有2個以上之(甲基)丙烯醯基氧基的化合物、具有2~6個(甲基)丙烯醯基氧基的化合物為佳。
具有2個(甲基)丙烯醯基氧基之多官能丙烯酸酯方面，可舉出1,3-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；1,3-丁烷二醇(甲基)丙烯酸酯；1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；聚乙二醇二丙烯酸酯；雙酚A之雙(丙烯醯氧基乙基)醚；乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯；丙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及3-甲基戊烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
具有3~6個(甲基)丙烯醯基氧基之多官能丙烯酸酯方面，可舉出三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；參(2-羥基乙基)異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯；乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇六 (甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；己內酯改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性參(2-羥基乙基)異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；己內酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物、及己內酯改性三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐等。
所謂己內酯改性，係於(甲基)丙烯酸酯化合物之來自醇的部位與(甲基)丙烯醯基氧基之間，導入己內酯之開環體或開環聚合物之意。
多官能丙烯酸酯可由市場取得。市售品方面，可舉出A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM- 3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT〔新中村化學(股)〕、“ARONIX M-220”、同“M-325”、同“M-240”、同“M-270”同“M-309”同“M-310”、同“M-321”、同“M-350”、同“M-360”、同“M-305”、同“M-306”、同“M-450”、同“M-451”、同“M-408”、同“M-400”、同“M-402”、同“M-403”、同“M-404”、同“M-405”、同“M-406”〔東亞合成(股)〕、“EBECRYL11”、同“145”、同“150”、同“40”、同“140”、同“180”、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYL系列〔Daicel-Cytec(股)〕等。
為了獲得配向混亂的小配向，溝槽配向膜之凸部的寬幅係以0.05μm~5μm為佳，凹部的寬幅係0.1μm~5μm為佳，凹凸的段差深度係以2μm以下為佳，0.01μm~1μm以下更佳。
具有會與基材形成化學鍵之官能基的配向膜，基材與配向膜之密著力(F2)會有變大的傾向。又，於配向性聚合物組成物或光配向膜形成用組成物中，若包含使基材與配向膜交聯之試藥的話，F2會有變大的傾向。又，於配向性聚合物組成物或光配向膜形成用組成物中，若包含溶解基材之溶劑等成分的話，F2會有變大的傾向。因此，為使F2小於1N/25mm，係以與基材形成化學鍵之官能基少的配向膜為佳，又，於配向性聚合物組 成物及光配向膜形成用組成物中，係以不含使基材與配向膜交聯之試藥及溶解基材之溶劑等之成分者佳。藉由以配向性聚合物組成物或光配向膜形成用組成物中所含的溶劑等之成分來溶解基材表面，F2會有變大的傾向。又，為使F2為0.02N/25mm以上，乃將此等之因子適當地調整即可。
又，具有會與液晶硬化膜形成化學鍵之官能基的配向膜，液晶硬化膜與配向膜之密著力(F3)會有變大的傾向。又，於配向性聚合物組成物或光配向膜形成用組成物中，若包含使液晶硬化膜與配向膜交聯之試藥，則F3會有變大的傾向。因此，為使F3小於1N/25mm，係以會與液晶硬化膜形成化學鍵之官能基少的配向膜為佳，又，於配向性聚合物組成物及光配向膜形成用組成物中，係以不含會使液晶硬化膜與配向膜交聯之試藥者佳。又，為使F3為0.02N/25mm以上，乃適當地調整此等因子即可。
<液晶硬化膜>
本發明中的液晶硬化膜，係於以聚合性液晶化合物配向的狀態下硬化之厚度為5μm以下的膜，較佳為聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態下硬化之膜。
液晶硬化膜之厚度係以0.5μm以上3μm以下之範圍為佳，1μm以上3μm以下更佳。液晶硬化膜之厚度係可以干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計來測 定。
液晶硬化膜若為以複折射率△n(λ)對波長 λnm之光顯示出以下述式(1)、(2)及下述式(3)所示之相位差性的相位差膜，或是具有下述式(4)所示之折射率關係的相位差膜，或者是包含二色性色素之偏光膜者為佳。
△n(450)/△n(550)≦1.00 (1)
1.00≦△n(650)/△n(550) (2)
100<Re(550)<150 (3)
△n(450)、△n(550)、△n(650)各自表示波長450nm、550nm、650nm之複折射。
nz>nx≒ny (4)
nz表示厚度方向之折射率。nx顯示面內中，產生最大折射率之方向的折射率。ny顯示面內中，對nx之方向呈垂直方向的折射率。
複折射率△n(λ)，乃測定遲滯量並以液晶硬化膜之厚度除之所得者。具體的測定方法雖顯示於實施例，但此時因測定在如玻璃基板般本身不具遲滯量之基材上製膜者，而得以測定實質的液晶硬化膜之特性。
具有式(4)所示之折射率關係之相位差膜，其對550nm之光的正面相位差值Re(550)較佳為0~10nm、更佳為0~5nm。厚度方向之相位差值Rth較佳為-10nm~-300nm，更佳為-20nm~-200nm。具有式(4)所示之折射率關係的相位差膜之中，具有如此的光學特性者，特別適合IPS(in-plane switching)模式的液晶顯示 裝置之補償。
Rth係可由使面內進相軸作為傾斜軸傾斜40度所測定之相位差值R50與面內之相位差值R0算出。意即，Rth係使面內之相位差值R0、進相軸作為傾斜軸傾斜40度所測定之相位差值R40、液晶硬化膜之厚度d，以及液晶硬化膜之平均折射率n0，藉由以下之式(9)~(11)求得nx、ny及nz，並將此等代入式(8)而得以算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (8)
R0=(nx-ny)×d (9)
(nx+ny+nz)/3=n0 (11) 在此，
液晶硬化膜通常是於配向膜表面塗佈含聚合性液晶化合物之組成物(以下稱為液晶硬化膜形成用組成物)，並將聚合性液晶化合物予以聚合所得。又可於基材表面塗佈液晶硬化膜形成用組成物，並將聚合性液晶化合物予以聚合而得。
所謂聚合性液晶化合物，意指具有聚合性基且具有液晶性之化合物。聚合性基意指與聚合反應相關的基，以光聚合性基為佳。在此，所謂光聚合性基意指後述因自光聚合起始劑產生的活性自由基或酸等而與聚合反應相關之基。聚合性基方面，可舉出乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、 甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，以丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁烷基為佳，丙烯醯基氧基更佳。液晶性可為熱向性性液晶亦可為向液性液晶，又可為熱向性液晶中的向列型液晶或層列狀液晶。
其中，液晶硬化膜為相位差膜時的聚合性液晶化合物方面，從製造的容易與否之觀點來看，係以熱向性性之向列型液晶為佳，又，從賦予前述式(1)及前述式(2)所示之相位差性的觀點來看，係以下述式(A)所示之化合物(以下稱為化合物(A))為佳。該聚合性液晶化合物可單獨使用亦可組合使用。
〔式(A)中，X1表示氧原子、硫原子或NR1-。R1表示氫原子或碳數1~4之烷基。
Y1表示可具有取代基之碳數6~12的1價芳香族烴基或可具有取代基之碳數3~12的1價芳香族雜環式基。
Q3及Q4各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1~20的1價脂肪族烴基、碳數3~20的1價脂環式烴基、可具有取代基之碳數6~20的1價芳香族烴基、鹵素 原子、氰基、硝基、-NR2R3或-SR2，或者是Q3與Q4互相鍵結，與此等所鍵結之碳原子一起形成芳香環或芳香族雜環。R2及R3各自獨立地表示氫原子或碳數1~6之烷基。
D1及D2各自獨立地表示單鍵、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR4R5-、-CR4R5-CR6R7-、-O-CR4R5-、-CR4R5-O-CR6R7-、-CO-O-CR4R5-、-O-CO-CR4R5-、-CR4R5-O-CO-CR6R7-、-CR4R5-CO-O-CR6R7-或NR4-CR5R6-或CO-NR4-。
R4、R5、R6及R7各自獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基。
G1及G2各自獨立地表示碳數5~8的2價脂環式烴基，且構成該脂環式烴基之亞甲基亦可取代為氧原子、硫原子或NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可取代為第三級氮原子。
L1及L2各自獨立地表示1價之有機基，且L1及L2之中的至少一者具有聚合性基〕。
化合物(A)中之L1若為式(A1)所示之基則佳，又，L2若為式(A2)所示之基則佳。
P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2) 〔式(A1)及式(A2)中，B1、B2、E1及E2各自獨立地表示-CR4R5-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR1-、-O-CH2-、-S-CH2-或單鍵。
A1及A2各自獨立地表示碳數5~8的2價脂環式烴基或碳數6~18的2價芳香族烴基，且構成該脂環式烴基之 亞甲基亦可取代為氧原子、硫原子或NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可取代為第三級氮原子。
k及l各自獨立地表示0~3之整數。
F1及F2表示碳數1~12的2價脂肪族烴基。
P1表示聚合性基。
P2表示氫原子或聚合性基。
R4及R5各自獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基〕。
較佳的化合物(A)方面，可舉出日本特表2011-207765號公報之聚合性液晶化合物。
與化合物(A)相異的聚合性液晶化合物方面，可舉例如含式(X)所示之基的化合物(以下稱為「化合物(X)」)。
P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)〔式(X)中，P11表示聚合性基。
A11表示2價脂環式烴基或2價芳香族烴基。該2價脂環式烴基及2價芳香族烴基中所含的氫原子可被鹵素原子、碳數1~6之烷基、碳數1~6烷氧基、氰基或硝基所取代，該碳數1~6之烷基及該碳數1~6烷氧基中所含的氫原子可被氟原子所取代。
B11表示-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CO-NR16-、-NR16-CO-、-CO-、-CS-或單鍵。R16表示氫原子或碳數1~6之烷基。
B12及B13各自獨立地表示-C≡C-、-CH=CH-、 -CH2-CH2-、-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-O-C(=O)-O-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-C(=O)-NR16-、-NR16-C(=O)-、-OCH2-、-OCF2-、-CH2O-、-CF2O-、-CH=CH-C(=O)-O-、-O-C(=O)-CH=CH-或單鍵。
E11表示碳數1~12之烷烴二基，該烷烴二基中所含的氫原子係可以碳數1~5之烷氧基所取代，且該烷氧基中所含的氫原子係可以鹵素原子所取代。又，構成該烷烴二基之-CH2-亦可取代為-O-或-CO-〕。
聚合性液晶化合物之具體例方面，可舉出液晶便覽(液晶便覽編集委員會編、丸善(股)平成12年10月30日發行)之「3.8.6網路(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」中所記載的化合物之中具有聚合性基之化合物，以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報及、日本特開2011-207765號公報記載中所記載的聚合性液晶化合物等。
當液晶硬化膜為具有上述式(4)所示之折射率關係的相位差膜時，其形成該液晶硬化膜之聚合性液晶化合物的液晶配向，較佳為垂直配向。為使聚合性液晶化合物垂直配向，係以使用由矽原子、氟原子等所成具有非極性取代基之配向膜者佳，該配向膜方面，可使用如日本專利第4605016號、日本專利第4985906號、日本專利第4502119號及、WO2008/117760號中所記載的，一般可使用作為垂直配向型液晶顯示元件之液晶配向膜的材料。
液晶硬化膜為偏光膜時，其聚合性液晶化合物方面，雖可為向列型液晶化合物或層列狀液晶化合物，但從獲得更高偏光特性之點來看，係以層列狀液晶化合物為佳，高次層列狀液晶化合物更佳。其中，以形成層列狀B相、層列狀D相、層列狀E相、層列狀F相、層列狀G相、層列狀H相、層列狀I相、層列狀J相、層列狀K相或層列狀L相之高次層列狀液晶化合物更佳，且形成層列狀B相、層列狀F相或層列狀I相之高次層列狀液晶化合物又再更佳。聚合性液晶化合物所形成之液晶相若為此等之高次層列狀相，係可製造配向秩序度更高的偏光膜。又，如此地配向秩序度高的偏光膜，在X線繞射測定中，可獲得稱之為六角液相或六方晶相之來自高次構造的布拉格波峰。該布拉格波峰乃是來自於分子配向的周期構造之波峰，可獲得其周期間隔為3.0~6.0Å之膜。如此的化合物方面，具體而言，可舉出下述式(B)所示之化合物(以下稱為化合物(B))等。該聚合性液晶化合物可單獨使用亦可組合使用。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (B)〔式(B)中，X1、X2及X3互相獨立地表示可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基。惟，X1、X2及X3之中至少1者為可具有取代基之1,4-伸苯基。構成環己烷-1,4-二基之-CH2-亦可取代為-O-、-S-或-NR-。R表示碳 數1~6之烷基或苯基。
Y1及Y2互相獨立地表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa=N-。Ra及Rb互相獨立地表示氫原子或碳數1~4之烷基。
U1表示氫原子或聚合性基。
U2表示聚合性基。
W1及W2互相獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-。
V1及V2互相獨立地表示可具有取代基之碳數1~20的烷烴二基，且構成該烷烴二基之-CH2-亦可取代為-O-、-S-或-NH-〕。
化合物(B)中，係以X1、X2及X3之中至少1者為可具有取代基之1,4-伸苯基者佳。
可具有取代基之1,4-伸苯基係以無取代者佳。可具有取代基之環己烷-1,4-二基係以可具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基者佳，可具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基係以無取代者佳。
可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基所任意具有的取代基方面，可舉出甲基、乙基及丁基等之碳數1~4之烷基、氰基及鹵素原子等。
Y1若為-CH2CH2-、-COO-或單鍵者佳、Y2若為-CH2CH2-或-CH2O-者佳。
U2為聚合性基。U1為氫原子或聚合性基，較 佳為聚合性基。U1及U2同時為聚合性基者佳，且同時為光聚合性基者佳。具有光聚合性基之聚合性液晶化合物，因可在更低溫條件下聚合之點而較有利。
U1及U2所示之聚合性基雖可相異，但以相同者佳。聚合性基方面，可舉出乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，以丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁烷基為佳，丙烯醯基氧基更佳。
V1及V2所示之烷烴二基方面，可舉出亞甲基、乙烯基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及廿烷-1,20-二基等。V1及V2較佳為碳數2~12的烷烴二基，更佳為碳數6~12的烷烴二基。
可具有取代基之碳數1~20的烷烴二基所任意具有的取代基方面，雖可舉出氰基及鹵素原子等，但該烷烴二基係以無取代者佳，無取代且直鏈狀的烷烴二基者更佳。
W1及W2互相獨立，較佳為單鍵或-O-。
化合物(B)的具體例方面，可舉出式(1-1)~式(1-23)所示之化合物等。化合物(B)具有環己烷-1,4-二基時，其環己烷-1,4-二基係以反式體者佳。
所例示之化合物(B)中，係以由以式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)、式(1-6)、式(1-7)、式(1-8)、式(1-13)、式(1-14)及式(1-15)之各自所示的化合物所成之群選出的至少1種為佳。
所例示之化合物(B)係可單獨或組合地用於液晶硬化膜。又，組合2種以上之聚合性液晶化合物時，係以至少1種為化合物(B)者佳、2種以上為化合物(B)者更佳。藉由組合，會有即使於液晶-結晶相轉移溫度以下之溫度亦可保持暫時性液晶性的情況。組合2種類之聚合性液晶化合物情況下的混合比方面，通常為1：99~50：50，較佳為5：95~50：50，更佳為10：90~50：50。
化合物(B)，例如，可以Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)、或日本專利第4719156號等之公知方法來製造。
液晶硬化膜形成用組成物中的聚合性液晶化合物之含有比例，相對於液晶硬化膜形成用組成物之固形分100質量份，通常為70~99.5質量份，較佳為80~99質量份，更佳為80~94質量份、再更佳為80~90質量份。聚合性液晶化合物之含有比例若為上述範圍內，則有配向性變高之傾向。在此，所謂固形分意指由液晶硬化膜形成用組成物去除了溶劑後的成分之合計量。
液晶硬化膜形成用組成物，在聚合性液晶化合物以外的成分方面，亦可含二色性色素、溶劑、聚合起始劑、聚合反應助劑及調平劑。
<二色性色素>
液晶硬化膜為偏光膜時，液晶硬化膜形成用組成物較佳係含二色性色素。所謂二色性色素意指具有分子之長軸方向中的吸光度與短軸方向中的吸光度不同之性質的色素。
二色性色素方面，係以在300~700nm之範圍具有吸收極大波長(λMAX)者為佳。如此的二色性色素方面，可舉例如吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等，其中更以偶氮色素為佳。偶氮色素方面，可舉出單偶氮色素、雙偶氮色素、參偶氮色素、肆偶氮色素及二苯乙烯偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素及參偶氮色素。二色性色素可單獨亦可組合，但以組合3種類以上為佳。特別是以組合3種類以上之偶氮化合物 為佳。
偶氮色素方面，可舉例如式(2)所示之化合物(以下視情況而稱為「化合物(2)」)。
A1(-N=N-A2)p-N=N-A3 (2) 〔式(2)中，A1及A3互相獨立地表示可具有取代基之苯基、可具有取代基之萘基或可具有取代基之1價雜環基。A2表示可具有取代基之1,4-伸苯基、可具有取代基之萘-1,4-二基或可具有取代基之2價雜環基。p表示1~4之整數。p為2以上之整數時，複數的A2可互為相同或相異〕。
1價雜環基方面，可舉出由喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、噁唑及苯并噁唑等之雜環化合物去除1個氫原子所成之基。2價雜環基方面，可舉出由前述雜環化合物去除2個氫原子所成之基。
A1及A3中的苯基、萘基及1價雜環基，以及A2中的p-伸苯基、萘-1,4-二基及2價雜環基所任意具有的取代基方面，可舉出碳數1~4之烷基；甲氧基、乙氧基及丁氧基等之碳數1~4之烷氧基；三氟甲基等之碳數1~4之氟化烷基；氰基；硝基；鹵素原子；胺基、二乙基胺基及吡咯烷基等之取代或無取代胺基(所謂取代胺基意指具有1個或2個碳數1~6之烷基的胺基、或2個取代烷基互相鍵結而形成碳數2~8之烷烴二基的胺基。無取代胺基為-NH2)。此外，碳數1~6之烷基的具體例係與以化合物(1)之伸苯基等所任意具有的取代基所例示者相同。
化合物(2)之中，更以下述式(2-1)~式(2-6)所各自表示之化合物為佳。
〔式(2-1)~(2-6)中，B1~B20互相獨立地表示氫原子、碳數1~6之烷基、碳數1~4之烷氧基、氰基、硝基、取代或無取代之胺基(取 代胺基及無取代胺基之定義係如前述所言)、氯原子或三氟甲基。
n1~n4互相獨立地表示0~3之整數。
n1為2以上時，複數的B2互為相同或相異、 n2為2以上時，複數的B6互為相同或相異、 n3為2以上時，複數的B9互為相同或相異、 n4為2以上時，複數的B14可互為相同或相異。〕
前述蒽醌色素方面，可舉出式(2-7)所示之化合物為佳。
〔式(2-7)中，R1~R8互相獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子。
Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12的芳基〕。
前述噁酮色素方面，可舉出式(2-8)所示之化合物為佳。
〔式(2-8)中， R9~R15互相獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子。
Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12的芳基。〕
前述吖啶色素方面，係以式(2-9)所示之化合物為佳。
〔式(2-9)中，R16~R23互相獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子。
Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12的芳基〕。
式(2-7)、式(2-8)及式(2-9)中Rx所示之碳數1~4之烷基方面，可舉出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基等，碳數6~12的芳基方面，可舉出苯基、甲苯基、二甲苯基及萘基等。
前述花青色素方面，係以式(2-10)所示之化合物及式(2-11)所示之化合物為佳。
〔式(2-10)中，D1及D2互相獨立地表示式(2-10a)~式(2-10d)之任一所示之基。
n5表示1~3之整數〕。
〔式(2-11)中，D3及D4互相獨立地表示式(2-11a)~式(2-11h)之任一所示之基。
n6表示1~3之整數〕。
液晶硬化膜形成用組成物中的二色性色素的含量，對聚合性液晶化合物之含量100質量份而言，係以0.1質量份以上30質量份以下為佳，0.1質量份以上20質量份以下更佳，0.1質量份以上10質量份以下更佳、0.1質量份以上5質量份以下特別佳。二色性色素的含量，若 為此範圍內，則因可在不使聚合性液晶化合物之配向混亂下聚合而較佳。二色性色素的含量若過多，恐會阻礙聚合性液晶化合物之配向。因此，聚合性液晶化合物，在可保持液晶狀態的範圍下，亦可訂定二色性色素的含量。
<溶劑>
液晶硬化膜形成用組成物通常包含溶劑。溶劑方面，係以可完全溶解聚合性液晶化合物者為佳，又以對聚合性液晶化合物之聚合反應為惰性之溶劑者佳。
溶劑方面，可舉出甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚及丙二醇單甲基醚等之醇溶劑；乙酸乙基酯、乙酸丁基酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲基醚乙酸酯及乳酸乙基酯等之酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等之酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等之芳香族烴溶劑、乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等之醚溶劑；氯仿及氯苯等之含氯溶劑；等。此等溶劑可單獨使用亦可組合使用。
溶劑的含量，對前述液晶硬化膜形成用組成物之總量而言，係以50~98質量%為佳。換言之，液晶硬化膜形成用組成物中的固形分係以2~50質量%為佳。該固形分若為50質量%以下，會因偏光膜形成用組成物之黏度變低而使偏光膜之厚度略為均一，有對該偏光膜難以 產生不均之傾向。又，該固形分可考慮所欲製造之液晶硬化膜之厚度來決定。
<聚合起始劑>
液晶硬化膜形成用組成物通常含有聚合起始劑。聚合起始劑係得以起始聚合性液晶化合物等之聚合反應的化合物。聚合起始劑方面，係以藉由光的作用來產生活性自由基之聚合起始劑為佳。
聚合起始劑方面，可舉例如安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基膦氧化物化合物、三嗪化合物、錪鹽及鋶鹽等。
安息香化合物方面，可舉例如安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚及安息香異丁基醚等。
二苯甲酮化合物方面，可舉例如二苯甲酮、o-苯甲醯基安息香酸甲基、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4’-甲基二苯基硫醚、3,3’,4,4’-四(tert-丁基過氧羰基)二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
烷基苯酮化合物方面，可舉例如二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基硫代基苯基)丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-〔4-(2-羥基乙氧基)苯基〕丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2- 甲基-1-〔4-(1-甲基乙烯基)苯基〕丙烷-1-酮之寡聚物等。
醯基膦氧化物化合物方面，可舉出2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物等。
三嗪化合物方面，可舉例如2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪及2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪等。
聚合起始劑方面，可使用市售者。市售之聚合起始劑方面，可舉出“IRGACURE(Irgacure)(登錄商標)907”、“IRGACURE(登錄商標)184”、“IRGACURE(登錄商標)651”、“IRGACURE(登錄商標)819”、“IRGACURE(登錄商標)250”、“IRGACURE(登錄商標)369”(Chiba Japan(股))；“SEIKUOL(登錄商標)BZ”、“SEIKUOL(登錄商標)Z”、“SEIKUOL(登錄商標)BEE”(精工化學(股))；“Kayacure(登錄商標)BP100”(日本化藥(股))；“Kayacure(登錄商標)UVI-6992”(Dow公司製)；“Adeka Optomer SP- 152”、“Adeka Optomer SP-170”((股)ADEKA)；“TAZ-A”、“TAZ-PP”(Japan Siber Hegner社)；及“TAZ-104”(三和化學公司)等。
液晶硬化膜形成用組成物中之聚合起始劑的含量雖可因應聚合性液晶化合物之種類及其量來適當地調節，通常，對聚合性液晶化合物之含量100質量份而言，為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。聚合起始劑的含量若為此範圍內，因不使聚合性液晶化合物之配向混亂而較佳。
<增感劑>
液晶硬化膜形成用組成物亦可進一步含有增感劑。增感劑方面，係以光增感劑為佳。該增感劑方面，可舉例如氧雜蒽酮及噻吨酮等之氧雜蒽酮化合物(例如，2,4-二乙基硫代基氧雜蒽酮、2-異丙基硫代基氧雜蒽酮等)；蒽及含烷氧基之蒽(例如，二丁氧基蒽等)等之蒽化合物；吩噻嗪及紅螢烯等。
液晶硬化膜形成用組成物含有增感劑時，可更加促進液晶硬化膜形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物之聚合反應。該增感劑的使用量，對聚合性液晶化合物之含量100質量份而言，係以0.1~30質量份為佳，0.5~10質量份更佳，0.5~8質量份更佳。
<聚合禁止劑>
為了使聚合反應安定地進行，亦可於液晶硬化膜形成用組成物中含有聚合禁止劑。藉由聚合禁止劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應及聚合性非液晶化合物之聚合反應的進行程度。
前述聚合禁止劑方面，可舉例如氫醌、含烷氧基之氫醌、含有烷氧基之苯二酚(例如，丁基苯二酚等)、苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基自由基等之自由基捕捉劑；硫代苯酚類；β-萘基胺類及β-萘酚類等。
液晶硬化膜形成用組成物中含有聚合禁止劑時，其含量，對聚合性液晶化合物之含量100質量份而言，係以0.1~30質量份為佳，0.5~10質量份更佳，0.5~8質量份更佳。聚合禁止劑的含量，若為此範圍內，則因可在不使聚合性液晶化合物之配向混亂下進行聚合而為佳。
<調平劑>
液晶硬化膜形成用組成物中亦可含有調平劑。所謂調平劑，係具有調整液晶硬化膜形成用組成物之流動性並使塗佈液晶硬化膜形成用組成物所得之膜更為平坦之機能者，可舉例如界面活性劑。較佳的調平劑方面，可舉出以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑及以含氟原子之化合物為主成分之調平劑。
以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑方面，可舉出“BYK-350”、“BYK-352”、“BYK-353”、“BYK-354”、“BYK-355”、“BYK-358N”、“BYK-361N”、“BYK- 380”、“BYK-381”及“BYK-392”〔BYK Chemie公司〕等。
以含氟原子之化合物為主成分之調平劑方面，可舉出“Megafac(登錄商標)R-08”、同“R-30”、同“R-90”、同“F-410”、同“F-411”、同“F-443”、同“F-445”、同“F-470”、同“F-471”、同“F-477”、同“F-479”、同“F-482”及同“F-483”〔DIC(股)〕；“Surflon(登錄商標)S-381”、同“S-382”、同“S-383”、同“S-393”、同“SC-101”、同“SC-105”、“KH-40”及“SA-100”〔AGC SEIMI CHEMICAL(股)〕；“E1830”、“E5844”〔(股)Daikin Fine Chemical研究所〕；“Eftop EF301”、同“EF303”、同“EF351”及同“EF352”〔三菱材料電子化成(股)〕等。
液晶硬化膜形成用組成物中含有調平劑時，對聚合性液晶化合物之含量100質量份而言，係以0.1質量份以上5質量份以下為佳，0.3質量份以上5質量份以下更佳，0.5質量份以上3質量份以下又更佳。調平劑的含量若在前述的範圍內，可輕易地使聚合性液晶化合物水平配向，且有所得之液晶硬化膜會更為平滑之傾向而較佳。調平劑的含量對聚合性液晶化合物而言若超過前述的範圍，會有所得之液晶硬化膜上容易產生不均之傾向而不佳。此外，液晶硬化膜形成用組成物可含有調平劑2種類以上。
具有會與配向膜形成化學鍵之官能基的液晶硬化膜，其配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)會有變大的傾向。又，液晶硬化膜形成用組成物中，若包含使液晶 硬化膜與配向膜交聯之試藥，則F3會有變大的傾向。因此，為了使F3小於1N/25mm，係以與配向膜形成化學鍵之官能基少的液晶硬化膜為佳，又液晶硬化膜形成用組成物中，係以不含配向膜與液晶硬化膜會交聯之試藥為佳。又，F3若為0.02N/25mm以上，此等之因子可適當地調節。
<反應性添加劑>
液晶硬化膜形成用組成物亦可含反應性添加劑。藉由含反應性添加劑，可使配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)變高。
反應性添加劑方面，係以其分子內具以碳-碳不飽和鍵與活性氫反應性基者為佳。此外，在此所謂「活性氫反應性基」，意指對羧基(-COOH)、羥基(-OH)、胺基(-NH2)等之具有活性氫的基具有反應性之基，環氧丙基、噁唑啉基、碳二醯亞胺基、氮丙啶基、醯亞胺基、異氰酸酯基、硫代異氰酸酯基、無水馬來酸基等為其代表例。反應性添加劑所具有之碳-碳不飽和鍵及活性氫反應性基的個數，通常各自為1~20個，較佳乃各為1~10個。
反應性添加劑中，活性氫反應性基若至少存在2個則較佳，此時，複數存在的活性氫反應性基可為相同者或相異者。
反應性添加劑所具有的碳-碳不飽和鍵，意指碳-碳雙鍵或碳-碳三鍵、或該等之組合，其中以碳-碳雙鍵 者佳。其中，反應性添加劑方面，乙烯基及/或(甲基)丙烯酸基係以包含碳-碳不飽和鍵為佳。再者，活性氫反應性基係以由環氧基、環氧丙基及異氰酸酯基所成之群選出的至少1種者佳，以具有丙烯酸基與異氰酸酯基之反應性添加劑特別佳。
反應性添加劑的具體例方面，可舉出甲基丙烯醯氧基環氧丙基醚或丙烯醯氧基環氧丙基醚等之具有(甲基)丙烯酸基與環氧基之化合物；環氧丙烷丙烯酸酯或環氧丙烷甲基丙烯酸酯等之具有(甲基)丙烯酸基與環氧丙烷基之化合物；內酯丙烯酸酯或內酯甲基丙烯酸酯等之具有(甲基)丙烯酸基與內酯基之化合物；乙烯基噁唑啉或異丙烯基噁唑啉等之具有乙烯基與噁唑啉基之化合物；異氰酸基甲基丙烯酸酯、異氰酸基甲基甲基丙烯酸酯、2-異氰酸基乙基丙烯酸酯及2O異氰酸基乙基甲基丙烯酸酯等之具有(甲基)丙烯酸基與異氰酸酯基之化合物之寡聚物等。又可舉出甲基丙烯酸酐、丙烯酸酐、無水馬來酸及乙烯基無水馬來酸等之具有乙烯基或伸乙烯基與酸酐之化合物等。其中，以甲基丙烯醯氧基環氧丙基醚、丙烯醯氧基環氧丙基醚、異氰酸基甲基丙烯酸酯、異氰酸基甲基甲基丙烯酸酯、乙烯基噁唑啉、2-異氰酸基乙基丙烯酸酯、2-異氰酸基乙基甲基丙烯酸酯及前述的寡聚物為佳，以異氰酸基甲基丙烯酸酯、2-異氰酸基乙基丙烯酸酯及前述的寡聚物特別佳。
具體而言，下述式(Y)所示之化合物為佳。
〔式(Y)中，n表示1~10為止之整數、R1’表示碳數2~20的2價脂肪族或脂環式烴基、或碳數5~20的2價芳香族烴基。各重複單位中有的2個R2’，一者為-NH-、另一者為以>N-C(=O)-R3’所示之基。R3’表示具有羥基或碳-碳不飽和鍵之基。
式(Y)中的R3’之中，至少1個R3’為具有碳-碳不飽和鍵之基。〕
前述式(Y)所示之反應性添加劑中，特別佳為以下述式(YY)所示之化合物(以下稱為化合物(YY))(此外，n係與前述同義)。
化合物(YY)上，可直接使用市售品，或可因應需要而予以純化後使用。市售品方面，可舉例如Laromer(登錄商標)LR-9000(BASF公司製)。
液晶硬化膜形成用組成物含有反應性添加劑時，對聚合性液晶化合物100質量份而言，其含量通常為0.01~10質量份，較佳為0.1~5質量份。
<黏接著劑層>
黏接著劑層可由黏接著劑所形成。
黏接著劑方面，可舉例如黏著劑、乾燥固化型接著劑及化學反應型接著劑。化學反應型接著劑方面，可舉例如活性能量線硬化型接著劑。較佳的黏接著劑為黏著劑或活性能量線硬化型接著劑。黏接著劑方面，因使用黏著劑或活性能量線硬化型接著劑，而得以對可被轉印的基材顯示出良好的接著性，能輕易地對所期望的領域賦予來自液晶硬化膜之相位差機能或偏光機能。
<黏著劑>
黏著劑通常包含聚合物，亦可包含溶劑。
前述聚合物方面，可舉例如丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、多胺基甲酸酯、或聚醚等。其中，以包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系的黏著劑，因在光學的透明性優異、具有適度之沾濕性或凝聚力、接著性優異、甚至耐候性或耐熱性等高、加熱或加濕條件下難以發生浮起或剝離等而較佳。
前述丙烯酸系聚合物方面，係以酯部分之烷基為甲基、乙基或丁基等之碳數20以下之烷基的(甲基)丙烯酸酯(以下，總稱丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯為(甲基)丙烯酸酯、總稱丙烯酸與甲基丙烯酸為(甲基)丙烯酸)與具有(甲基)丙烯酸或羥基乙基(甲基)丙烯 酸酯等之官能基的(甲基)丙烯酸系單體所成的共聚物為佳。
包含如此的共聚物之黏著劑，因黏著性優異，又，於已貼合至顯示裝置後去除之際，也無糊劑等殘留於顯示裝置而為比較容易去除之故而較佳。該丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度係以25℃以下為佳，0℃以下更佳。如此的丙烯酸系聚合物之重量平均分子量以10萬以上者佳。
前述溶劑方面，可舉例如前述被舉出作為配向性聚合物組成物之溶劑的溶劑等。
又，黏著劑亦可含有光擴散劑。光擴散劑乃是用以賦予黏著劑光擴散性者，若為具有與黏著劑所含之前述聚合物不同的折射率之微粒子即可，且光擴散劑方面，可舉出由無機化合物所成之微粒子及由有機化合物(聚合物)所成之微粒子。包含前述丙烯酸系聚合物，因黏著劑所含作為有效成分之聚合物的多數為具有1.4左右之折射率之故，在光擴散劑方面，係以由其折射率為1~2左右者來適當地選擇即可。黏著劑所含作為有效成分之聚合物與光擴散劑之折射率差，通常為0.01以上，又從顯示裝置的明亮度與顯示性之觀點來看，係以0.01以上0.5以下者較佳。使用作為光擴散劑之微粒子，係以球形者且接近單分散者為佳，較佳係使用例如位於平均粒徑為2~6μm左右之範圍的微粒子。
折射率可藉由一般的最小偏角法或阿貝折射計來測定。
由無機化合物所成之微粒子方面，可舉出氧化鋁(折射率1.76)及氧化矽(折射率1.45)等。
由有機化合物(聚合物)所成之微粒子方面，可舉例如三聚氰胺珠粒(折射率1.57)、聚甲基丙烯酸甲基酯珠粒(折射率1.49)、甲基丙烯酸甲基酯/苯乙烯共聚物樹脂珠粒(折射率1.50~1.59)、聚碳酸酯珠粒(折射率1.55)、聚乙烯珠粒(折射率1.53)、聚苯乙烯珠粒(折射率1.6)、聚氯化乙烯珠粒(折射率1.46)、及聚矽氧樹脂珠粒(折射率1.46)等。
光擴散劑的摻合量，雖是考量由黏著劑所形成之黏接著劑層必要的霧度值、或其所適用之顯示裝置的明亮度等來適當地決定即可，但是，對前述聚合物之含量100重量份而言，通常為3~30重量份。
由分散有光擴散劑之黏著劑所形成的黏接著劑層之霧度值，從確保本光學異向性薄片所適用之顯示裝置的明亮度同時難以產生顯示影像之滲出或模糊的觀點來看，係以20~80%之範圍為佳。霧度值係(擴散透過率/全光線透過率)×100(%)所示之值，且依據JIS K 7105來測定。
由黏著劑所形成之黏著劑層之厚度，乃是因應其密著力等所決定者，雖無特別限制，但通常為1~40μm。從加工性或耐久性等之點來看，該厚度係以3~25μm為佳。藉由使由黏著劑所形成之黏著劑層之厚度為3~15μm左右，可保持由正面看顯示裝置時或由斜角看 顯示裝置時的明亮度，且難以產生顯示影像的滲出或模糊。
<乾燥固化型接著劑>
乾燥固化型接著劑亦可包含溶劑。
乾燥固化型接著劑方面，可舉出具羥基、羧基或胺基等之質子性官能基與乙烯性不飽和基之單體的聚合物、或含有胺基甲酸酯樹脂作為主成分且進一步含有多價醛、環氧化合物、環氧基樹脂、三聚氰胺化合物、二氧化鋯化合物、及鋅化合物等之交聯劑或硬化性化合物的組成物等。
具羥基、羧基或胺基等之質子性官能基與乙烯性不飽和基之單體的聚合物方面，可舉出乙烯-馬來酸共聚物、伊康酸共聚物、丙烯酸共聚物、丙烯醯胺共聚物、聚乙酸乙烯基酯的皂化物及聚乙烯基醇系樹脂等。
聚乙烯基醇系樹脂方面，可舉出聚乙烯基醇、部分皂化聚乙烯基醇、完全皂化聚乙烯基醇、羧基改性聚乙烯基醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯基醇、羥甲基改性聚乙烯基醇、及胺基改性聚乙烯基醇等。水系接著劑中的聚乙烯基醇系樹脂的含量，對水100質量份而言，通常為1~10重量份，較佳為1~5重量份。
胺基甲酸酯樹脂方面，可舉出聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂等。在此所謂聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂乃是具有聚酯骨格之胺基甲酸酯樹脂，且於其中導入有少量離子性成分(親水成分)者。該離子聚 合物型胺基甲酸酯樹脂，因在未使用乳化劑下，可於水中乳化成為乳劑之故，可作為水系的接著劑。使用聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂時，係以摻合水溶性之環氧化合物作為交聯劑者有效。
環氧基樹脂方面，可舉出使二伸乙基三胺或三伸乙基四胺等之聚伸烷基多胺與己二酸等之二羧酸反應所得之聚醯胺多胺，與表氯醇反應所得之聚醯胺環氧基樹脂等。該聚醯胺環氧基樹脂之市售品方面，可舉出住化CHEMTEX(股)製“Sumirez Resin 650”及“Sumirez Resin 675”、日本PMC(股)製“WS-525”等。摻合環氧基樹脂時，其添加量，對聚乙烯基醇系樹脂100質量份而言，通常為1~100質量份，較佳為1~50質量份。
由乾燥固化型接著劑所形成之黏接著劑層之厚度，通常為0.001~5μm，較佳為0.01μm以上、又更佳為2μm以下、再更佳為1μm以下。由乾燥固化型接著劑所形成之黏接著劑層若過厚，光學異向性薄膜之外觀容易不良。
<活性能量線硬化型接著劑>
活性能量線硬化型接著劑亦可包含溶劑。
所謂活性能量線硬化型接著劑，意指接受活性能量線的照射而硬化之接著劑。
活性能量線硬化型接著劑方面，可舉出含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性者、含有丙烯酸系 硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性者、含有環氧化合物等之陽離子聚合性的硬化成分及丙烯酸系化合物等之自由基聚合性的硬化成分兩者且進一步含有陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑者，以及不含聚合起始劑而以照射電子束所硬化者等。較佳為含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性的活性能量線硬化型接著劑。又，實質上係以無溶劑中可使用的含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性的活性能量線硬化型接著劑為佳。
前述環氧化合物方面，可舉出具有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物的環氧丙基醚化物、具有胺基之化合物的環氧丙基胺基化物、具有C-C雙鍵之鏈狀化合物的環氧化物、於飽和碳環上直接地或介由伸烷基而有環氧丙基氧基或環氧基乙基鍵結著的或是於飽和碳環上直接有環氧基鍵結著的脂環式環氧化合物等。此等之環氧化合物可各自單獨使用，亦可組合使用。其中更以脂環式環氧化合物因陽離子聚合性優異而較佳。
前述環氧化合物可輕易地取得其市售品。具體而言，可舉出三菱化學(股)製“jER”系列、DIC(股)製“EPICLON”、東都化成(股)製“Epototo(登錄商標)”、(股)ADEKA製“ADEKARESIN(登錄商標)”、Nagase ChemteX(股)製“DENACOL(登錄商標)”、Dow Chemical公司製“Dow Epoxy”、日產化學工業(股)製“TEPIC(登錄商標)”等。脂環式環氧化合物方面，可 舉出(股)Daicel製“CELLOXIDE”系列及“CYCLOMER”、Dow Chemical公司製“CYRACURE UVR”系列等。
含有環氧化合物之活性能量線硬化型接著劑，亦可進一步含有環氧化合物以外的化合物。環氧化合物以外的化合物方面，可舉出環氧丙烷化合物或丙烯酸化合物等。其中，因陽離子聚合係可促進硬化速度之故，以併用環氧丙烷化合物者為佳。
環氧丙烷化合物方面，可舉出東亞合成(股)製“ARON OXETANE(登錄商標)”系列、宇部興產(股)製“ETERNACOLL(登錄商標)”系列等。
含環氧化合物或環氧丙烷化合物之活性能量線硬化型接著劑，係以於無溶劑下使用為佳。
所謂陽離子聚合起始劑，意指受紫外線等之活性能量線的照射而產生陽離子種的化合物，可舉例如芳香族二偶氮鎓鹽；芳香族錪鹽及芳香族鋶鹽等之鎓鹽，並可舉出鐵-芳烴錯合物。此等之陽離子聚合起始劑可各自單獨使用，亦可組合使用。
陽離子聚合起始劑之市售品方面，可舉出日本化藥(股)製“KAYARAD(登錄商標)”系列、Dow Chemical公司製“CYRACURE UVI”系列、Sun-Apro(股)製“CPI”系列、Midori化學(股)製“TAZ”、“BBI”及“DTS”、(股)ADEKA製“ADEKA Optomer”系列、Rhodia公司製“RHODORSIL(登錄商標)”等。
活性能量線硬化型接著劑中陽離子聚合起始 劑的含量，對活性能量線硬化型接著劑之總量100質量份而言，通常為0.5~20質量份，較佳為1~15質量份。
丙烯酸系硬化成分方面，可舉出甲基(甲基)丙烯酸酯、羥基乙基(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸等。
自由基聚合起始劑方面，可舉出去氫型光自由基發生劑、及、開裂型光自由基發生劑等。
去氫型光自由基發生劑方面，可舉例如1-甲基萘等之萘衍生物、蒽衍生物、芘衍生物、咔唑衍生物、二苯甲酮衍生物、噻吨酮衍生物及香豆素衍生物等。
開裂型光自由基發生劑方面，可舉出安息香醚衍生物、苯乙酮衍生物等之芳基烷基酮類、肟酮類、醯基膦氧化物類、硫代安息香酸S-苯基類、二茂鈦類、及使該等高分子量化所成之衍生物等。
開裂型光自由基發生劑之中更以醯基膦氧化物類為佳，具體而言，係以三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物(商品名「DAROCURE TPO」；Chiba Japan(股))、雙(2,6-二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基-戊基)-膦氧化物(商品名「CGI 403」；Chiba Japan(股))、或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基膦氧化物(商品名「Irgacure819」；Chiba Japan(股))為佳。
活性能量線硬化型接著劑亦可含有增感劑。
摻合增感劑時，對活性能量線硬化型接著劑之總量 100質量份而言，其含量較佳為0.1~20質量份。
活性能量線硬化型接著劑中，可再進一步含有離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、黏著賦予劑、熱可塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、可塑劑及消泡劑等。
所謂本發明中的活性能量線，定義為可分解產生活性種之化合物而使活性種產生之能量線。如此的活性能量線方面，可舉出可見光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及電子線等。本發明中的活性能量線硬化型接著劑中，通常使用紫外線及電子線。
電子線照射的加速電壓，通常為5kV~300kV，較佳為10kV~250kV。照射線量通常為5~100kGy，較佳為10~75kGy。
電子線照射，通常雖於惰性氣體中進行，但亦可在大氣中或導入少量氧之條件下進行。
紫外線照射強度，通常為10~5000mW/cm2。紫外線照射強度較佳為對陽離子聚合起始劑或自由基聚合起始劑之活性化有效的波長領域中之強度。以如此的光照射強度照射1次或複數次，以其積算光量為10mJ/cm2以上，較佳為10~5,000mJ/cm2者佳。
紫外線的光源方面，可舉出低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙氣燈、鹵素燈、碳電弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、使波長範圍380~440nm發光之LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈。
溶劑方面，可舉出水；甲醇、乙醇、異丙基醇、1-丁醇、2-丁醇、sec-丁基醇、tert-丁基醇、乙二醇、丙二醇、丁烷二醇等之醇；丙基醚、異丙基醚、丁基醚、異丁基醚、n-戊基醚、異戊基醚、甲基丁基醚、甲基異丁基醚、甲基n-戊基醚、甲基異戊基醚、乙基丙基醚、乙基異丙基醚、乙基丁基醚、乙基異丁基醚、乙基n-戊基醚、乙基異戊基醚等之飽和脂肪族醚化合物；烯丙基醚、乙基烯丙基醚等之不飽和脂肪族醚化合物；甲基苯基醚、乙基苯基醚、苯基醚、苯甲基醚等之芳香族醚化合物；四氫呋喃、四氫吡喃、二氧陸圜等之環狀醚化合物；乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單丁基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單丁基醚等之乙二醇醚化合物；甲酸、乙酸、無水乙酸、丙烯酸、檸檬酸、丙酸、酪酸等之單羧酸化合物；甲酸丁基酯、甲酸戊基酯、乙酸丙基酯、乙酸異丙基酯、乙酸丁基酯、乙酸第二丁基酯、乙酸戊基酯、乙酸異戊基酯、乙酸2-乙基己基酯、乙酸環己基酯、乙酸丁基環己基酯、丙酸乙基酯、丙酸丁基酯、丙酸戊基酯、酪酸丁基酯、碳酸二乙基酯、草酸二乙基酯、乳酸甲基酯、乳酸乙基酯、乳酸丁基酯、磷酸三乙基酯等之有機酸酯化合 物；丙酮、乙基酮、丙基酮、丁基酮、甲基異丙基酮、甲基異丁基酮、二異丁基酮、乙醯基丙酮、二丙酮醇、環己酮、環戊酮、甲基環己酮、環庚酮等之酮化合物；琥珀酸、戊二酸、己二酸、十一烷二酸、丙酮酸、檸康酸等之二羧酸化合物；1,4-二氧陸圜、呋喃甲醛、N-甲基吡咯啶酮等。
其中，以水及醇為佳，碳數為1~4之醇更佳，由甲醇、乙醇、異丙基醇、1-丁醇、2-丁醇、sec-丁基醇、tert-丁基醇、乙二醇、丙二醇及丁烷二醇所成之群選出的至少1種的醇又更佳，異丙基醇及/或1-丁醇又再更佳。
水可為純水，亦可為自來水程度中含有雜質者。
由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層之厚度，通常為0.001~5μm，較佳為0.01μm以上、又更佳為2μm以下、再更佳為1μm以下。由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層若過厚，光學異向性薄膜之外觀容易不良。
液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)，可藉由黏接著劑之種類及黏接著劑層之厚度等來調整。
液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)，通常為1N/25mm以上，較佳為2N/25mm以上、又，較佳為50N/25mm以下，更佳為20N/25mm以下、再更佳為10N/25mm以下。黏接著劑層之密著力若較20N/25mm更高，例如，於黏接著劑層貼合剝離薄膜來製作積層了基 材、配向膜、液晶硬化膜、黏接著劑層、剝離薄膜所成之光學異向性薄片，且自該光學異向性薄片去除剝離薄膜時，因黏接著劑層與剝離薄膜之密著力高，黏接著劑層與剝離薄膜無法剝離，而於其他部分發生剝離之故而不佳。
基材的密著力(F4)較佳為0.02N/25mm以上未達1N/25mm，更佳為0.04N/25mm以上未達0.5N/25mm、再更佳為0.06N/25mm以上未達0.3N/25mm。F4若為0.02N/25mm以上，則在剝離一時保護黏接著劑層之剝離薄膜時，因不於基材與液晶硬化膜之間剝離而較佳。又，F4若未達1N/25mm，則因轉印於目的領域時容易剝離基材而較佳。
基材與配向膜之密著力(F2)較佳為0.02N/25mm以上未達1N/25mm，更佳為0.04N/25mm以上未達0.5N/25mm、再更佳為0.06N/25mm以上未達0.3N/25mm。F2若為0.02N/25mm以上，則在剝離一時保護黏接著劑層之剝離薄膜時，因不於基材與液晶硬化膜之間剝離而較佳。又，F2若未達1N/25mm，則因轉印於目的領域時容易將基材剝離而較佳。
配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)較佳為0.02N/25mm以上未達1N/25mm，更佳為0.04N/25mm以上未達0.5N/25mm、再更佳為0.06N/25mm以上未達0.3N/25mm。F3若為0.02N/25mm以上，則在剝離一時保護黏接著劑層之剝離薄膜時，因不於基材與液晶硬化膜之間剝離而較佳。又，F3若未達1N/25mm，則因轉印於 目的領域時容易將基材剝離而較佳。
基材與液晶硬化膜之密著力較佳為0.02N/25mm以上未達1N/25mm，更佳為0.04N/25mm以上未達0.5N/25mm、再更佳為0.06N/25mm以上未達0.3N/25mm。基材與液晶硬化膜之密著力若為0.02N/25mm以上，則在剝離一時保護黏接著劑層之剝離薄膜時，因不於基材與液晶硬化膜之間剝離而較佳。又，基材與液晶硬化膜之密著力若未達1N/25mm，則因轉印於目的領域時容易將基材剝離而較佳。
<光學異向性薄片之製造方法>
於基材表面或形成於基材上之配向膜表面塗佈液晶硬化膜形成用組成物之方法方面，可舉例如與將配向性聚合物組成物塗佈於基材之方法中所例示者相同的方法。塗佈之液晶硬化膜形成用組成物之厚度，可考慮所得液晶硬化膜之厚度來決定。
接著，藉由在聚合性液晶化合物不聚合之條件下去除液晶硬化膜形成用組成物中所含的溶劑，係可於基材或配向膜表面形成液晶硬化膜形成用組成物之乾燥被膜。溶劑的去除方法方面，可舉例如自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
將前述乾燥被膜予以加熱等，而使前期乾燥被膜中所含的聚合性液晶化合物進行液晶配向之後，以保持此液晶配向之狀態，藉由對前述乾燥被膜照射能量而使 聚合性液晶化合物聚合。液晶硬化膜形成用組成物含有聚合起始劑時，係以照射聚合起始劑可活性化之條件的能量者佳。聚合起始劑為光聚合起始劑時，能量以光為佳。照射之光可因應前述乾燥被膜中所含的聚合起始劑之種類、或聚合性液晶化合物之種類(特別是以該聚合性液晶化合物所具有的聚合基之種類)及其量來適當地選擇。該光方面，可舉出由可見光、紫外光及雷射光所成之群選出的光或活性電子線等，其中，從容易控制聚合反應的進行之點或能使用在有關聚合之裝置上於該領域廣泛地應用之點來看，係以紫外光為佳。因此，如藉由紫外光而得以聚合般，若預先選擇液晶硬化膜形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物及聚合起始劑之種類則佳。又，使其聚合時，藉由紫外光照射同時適當的冷卻手段，而以冷卻前述乾燥被膜來控制聚合溫度者為佳。若可藉由如此的冷卻而於更低溫將聚合性液晶化合物聚合的話，即使在基材中使用耐熱性較低者，仍可適切地製造液晶硬化膜。
如此實施，可將具有液晶配向之液晶硬化膜形成於基材或配向膜表面。其中，在形成有含二色性色素且具有層列狀相之液晶配向的液晶硬化膜(偏光膜)時，除了伴隨著二色性色素的作用之外，相較於具有以往的向列型相之液晶配向的偏光膜，其偏光性能優異，再者，相較於只塗佈二色性色素或向液性液晶者，在強度上較優異。
<底塗層>
本光學異向性薄片亦可於液晶硬化膜與黏接著劑層之間具有底塗層。液晶硬化膜與黏接著劑層之間具有底塗層時，乃稱液晶硬化膜與底塗之密著力以及黏接著劑層與底塗層之密著力中任一較低者的密著力為液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)。
底塗層，通常含透明樹脂，由透明樹脂溶液所形成。於形成黏接著劑層時，底塗層係可抑制液晶硬化膜之缺陷。透明樹脂方面，係以塗工性優異、底塗層形成後之透明性及密著性優異者為佳。
前述透明樹脂溶液之溶劑中，因應前述透明之溶解性，可使用苯、甲苯、二甲苯等之芳香族烴溶劑；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等之酮溶劑；乙酸乙基酯、乙酸異丁基等之酯溶劑；氯化亞甲基、三氯乙烯、氯仿等之氯化烴溶劑；乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇等之醇溶劑等之一般的有機溶劑，若使用含有機溶劑之透明樹脂溶液來形成底塗層，因對液晶硬化膜之光學特性有所影響之故，係以使用以水作為溶劑之溶液來形成底塗層者佳。
前述透明樹脂方面，可舉出環氧基樹脂。環氧基樹脂可為一液硬化型者，亦可為二液硬化型者。水溶性的環氧基樹脂特別佳。水溶性的環氧基樹脂方面，可舉出在使如二乙烯三胺或三乙烯四胺般的聚伸烷基多胺與如己二酸般的二羧酸反應所得之聚醯胺多胺，與表氯醇反應 所得之聚醯胺環氧基樹脂。該聚醯胺環氧基樹脂之市售品方面，可舉出住化CHEMTEX(股)所販售的Sumirez Resin(登錄商標)650(30)或、Sumirez Resin(登錄商標)675等。
前述透明樹脂方面，在使用水溶性的環氧基樹脂的情況時，為了進一步使塗佈性提昇，係以併用聚乙烯基醇系樹脂等之其他水溶性樹脂為佳。聚乙烯基醇系樹脂可為部分皂化聚乙烯基醇、完全皂化聚乙烯基醇、羧基改性聚乙烯基醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯基醇、羥甲基改性聚乙烯基醇，亦可為如胺基改性聚乙烯基醇般經改性之聚乙烯基醇系樹脂。適當的聚乙烯基醇系樹脂之市售品方面，可舉出由(股)KURARAY所販售的含陰離子性基之聚乙烯基醇KL-318(商品名)等。
由含水溶性的環氧基樹脂之溶液形成底塗層時，環氧基樹脂係以對水100重量份而言為0.2~1.5重量份左右之範圍為佳。又，於此溶液中摻合聚乙烯基醇系樹脂時，其量對水100重量份而言係以1~6重量份左右為佳。底塗層之厚度係以0.1~10μm左右之範圍為佳。
底塗層之形成方法並無限制，可使用直接凹版法、反向凹版法、模具塗佈法、缺角輪塗佈法、棒塗佈法等之公知的各種塗佈法。
黏接著劑層乃將黏接著劑塗佈於液晶硬化膜或底塗層之表面所形成。黏接著劑含溶劑時，係以將黏接著劑塗佈於液晶硬化膜或底塗層之表面並去除溶劑所形 成。又，由黏著劑所形成之黏接著劑層，係可於已實施離型處理的薄膜之離型處理面塗佈黏著劑並去除溶劑，在已施予離型處理之的薄膜之離型處理面形成黏著劑層之後，將此附黏接著劑層之薄膜以使黏接著劑層側為貼合面之方式使其貼合於液晶硬化膜或底塗層之表面的方法。
對形成有黏接著劑層之液晶硬化膜或底塗層之表面，係以預先施予電暈放電處理為佳。藉由電暈處理，可進一步提昇液晶硬化膜或底塗層與黏接著劑層之密著性。
塗佈黏接著劑之方法方面，可舉例如與將配向性聚合物組成物塗佈於基材之方法所例示者相同的方法。由經塗佈之黏接著劑去除溶劑之方法方面，可舉例如與自配向性聚合物組成物去除溶劑之方法相同的方法。
<光學異向性薄膜之製造方法>
以自本光學異向性薄片去除基材而得光學異向性薄膜。去除基材之方法係可以任意、剝離等之方法予以去除。
<圓偏光板>
本光學異向性薄片之液晶硬化膜為相位差膜時，係於本光學異向性薄片之黏接著劑層貼合偏光薄膜，去除基材，再於其上形成黏接著劑層，而獲得依序積層了偏光板、第一黏接著劑層、液晶硬化膜、配向膜與第二黏接著劑層之圓偏光板。此時，若與基材同時去除配向膜，或是 使用不具配向膜之本光學異向性薄片的話，可獲得依序積層偏光板、第一黏接著劑層、液晶硬化膜與第二黏接著劑層而成之圓偏光板。
將液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片的基材予以去除，並於經去除基材而出現的配向膜上形成黏接著劑層，以於其上貼合偏光薄膜，而得依序積層有偏光板、第一黏接著劑層、配向膜、液晶硬化膜與第二黏接著劑層之圓偏光板。此時，若與基材同時去除配向膜，或是使用不具配向膜之本光學異向性薄片的話，則可獲得依序積層偏光板、第一黏接著劑層、液晶硬化膜與第二黏接著劑層而成之圓偏光板。
本光學異向性薄片之液晶硬化膜為偏光膜時，係於本光學異向性薄片之黏接著劑層貼合相位差薄膜，去除基材，再以於相位差薄膜之表面形成黏接著劑層，可獲得依序積層有配向膜、液晶硬化膜、第一黏接著劑層、相位差薄膜與第二黏接著劑層之圓偏光板。此時，若與基材同時去除配向膜，或是使用不具配向膜之本光學異向性薄片的話，則可獲得依序積層有液晶硬化膜、第一黏接著劑層、相位差薄膜、第二黏接著劑層之圓偏光板。
又，將液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片的基材予以去除，並於經去除基材而出現的配向膜之表面，將液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片介由該液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片的黏接著劑層而予以貼合，再藉由去除殘留的基材，可獲得依序積層有第一配向 膜、第一液晶硬化膜、第一黏接著劑層、第二配向膜、第二液晶硬化膜與第二黏接著劑層之圓偏光板。此時，若同時將液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片的基材與配向膜予以去除、或使用不具配向膜之該光學異向性薄片的話，可獲得依序積層第一配向膜、第一液晶硬化膜、第一黏接著劑層、第二液晶硬化膜與第二黏接著劑層所成之圓偏光板。又，若將液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片的基材與配向膜予以去除、或使用不具配向膜之該光學異向性薄片的話，可獲得依序積層有第一液晶硬化膜、第一黏接著劑層、第二配向膜、第二液晶硬化膜與第二黏接著劑層之圓偏光板。又，若與液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片的基材，與液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片的基材一起去除配向膜的話，或使用不具配向膜之該光學異向性薄片的話，可獲得依序積層第一液晶硬化膜、第一黏接著劑層、第二液晶硬化膜與第二黏接著劑層所成之圓偏光板。
<密著力之測定方法>
本光學異向性薄片的密著力係可如下述來予以測定。
自本光學異向性薄片裁斷寬幅25mm×長度約150mm之試驗片，將其黏接著劑層之面貼合至玻璃板後，使用拉張試驗機，捉住試驗片的長度方向一端(寬幅25mm的一邊)，於溫度23℃、相對濕度60%之氛圍下、十字頭速度(捉住移動速度)200mm/分下，依據JIS K 6854- 1：1999「接著劑-剝離接著強度試驗方法-第1部：90度剝離」進行90°剝離試驗。
液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)較基材的密著力(F4)大時，光學異向性薄片。基材與配向膜間、配向膜與液晶硬化膜間或基材與液晶硬化膜間會發生剝離。又，液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)較基材與配向膜之密著力(F2)或配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)大時，基材與配向膜間或配向膜與液晶硬化膜間會發生剝離。
相反地，液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)較基材的密著力(F4)小時，液晶硬化膜與黏接著劑層之間會發生剝離。又，液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)較基材與配向膜之密著力(F2)及配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)小時，液晶硬化膜與黏接著劑層之間會發生剝離。此外，係使(F2)、(F3)及基材與液晶硬化膜之密著力中最低的密著力(單位為N/25mm)作為本光學異向性薄片的密著力。
<光學異向性薄片之用途>
本發明之光學異向性薄片，係可使用於各種顯示裝置之製造。具體而言，將本光學異向性薄片貼合於顯示裝置之顯示面後，去除基材，藉此可得附光學異向性薄膜之顯示裝置。
又，介由接著劑層而將相位差薄膜貼合於顯示裝置之 顯示面後，將液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片介由該本光學異向性薄片之黏接著劑層予以貼合，去除基材，而獲得附光學異向性薄膜(圓偏光板)之顯示裝置。
又，將液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片貼合於顯示裝置之顯示面後，自該本光學異向性薄片去除基材，再於因去除基材而出現的液晶硬化膜上形成黏接著劑層，將偏光薄膜介由該黏接著劑層予以貼合，而獲得附光學異向性薄膜(圓偏光板)之顯示裝置。
又，將液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片貼合於顯示裝置之顯示面後，自該本光學異向性薄片去除基材，再將液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片介由該本光學異向性薄片之黏接著劑層予以貼合，去除基材，可得附光學異向性薄膜(圓偏光板)之顯示裝置。
所謂顯示裝置係具有顯示元件之裝置，包含作為發光源之發光元件或發光裝置。顯示裝置方面，可舉例如液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、電子放出顯示裝置(例如電場放出顯示裝置(FED)、表面電場放出顯示裝置(SED))、電子紙(使用電子油墨或電泳元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如具有柵狀光閥(Grating Light Valve)(GLV)顯示裝置、數位微鏡裝置(DMD)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置也包含透過型液晶顯示裝置、半透過型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型 液晶顯示裝置等之任一者。此等之顯示裝置可為顯示2次元影像之顯示裝置，亦可為顯示3次元影像之立體顯示裝置。
本光學異向性薄片，特別有效地應用於有機電致發光(EL)顯示裝置及無機電致發光(EL)顯示裝置之製造。
圖1表示使用本光學異向性薄片製造的液晶顯示裝置(以下視情況稱為「本液晶顯示裝置」)10的剖面構成之模式圖。液晶層17係以2片基材14a及基材14b所挾持。
圖4表示使用本光學異向性薄片製造的EL顯示裝置(以下視情況稱為「本EL顯示裝置」)的剖面構成之模式圖。
首先，就圖1中所示的本液晶顯示裝置10予以說明。
於基材14a之液晶層17側，配置有彩色濾光器15。彩色濾光器15係以挾住液晶層17而配置於與像素電極22對向之位置，黑色矩陣20乃配置於與像素電極間的境界對向之位置。透明電極16係以覆蓋彩色濾光器15及黑色矩陣20的方式配置於液晶層17側。
此外，彩色濾光器15與透明電極16之間亦可具有被覆層(未圖示)。
基材14b之液晶層17側則正規地配置有薄膜電晶體21與像素電極22。像素電極22係挾持液晶層17 而配置於與彩色濾光器15對向之位置。薄膜電晶體21與像素電極22之間配置有具接續孔(未圖示)之層間絕緣膜18。
基材14a及基材14b方面，可使用玻璃基材及塑膠基材。
該玻璃基材或塑膠基材，可採用與本光學異向性薄片之基材所例示相同者。製造形成於基材上之彩色濾光器15或薄膜電晶體21時，加熱至高溫的步驟為必要時，則以玻璃基材或石英基材為佳。
薄膜電晶體，可採用最適合搭配基材14b之材質者。薄膜電晶體21方面，可舉出形成於石英基材上之高溫聚矽電晶體、形成於玻璃基材上之低溫聚矽電晶體、形成於玻璃基材或塑膠基材上之非晶形矽電晶體。為了使本液晶顯示裝置更加地小型化，驅動IC係可形成於基材14b上。
透明電極16與像素電極22之間，配置有液晶層17。液晶層17上，為了使基材14a及基材14b間保持一定距離，乃配置有間隔物23。此外，圖1中雖圖示柱狀間隔物，但該間隔物並不限於柱狀，若可使基材14a及基材14b間保持一定距離者，其形狀可任意為之。
各構件乃依序積層有基材14a、彩色濾光器15及黑色矩陣20、透明電極16、液晶層17、像素電極22、層間絕緣膜18及薄膜電晶體21，以及基材14b。
挾持如此的液晶層17之基材14a及基材14b 之中，於基材14a及基材14b之外側，可設置偏光膜12a及12b，此等之中，至少1偏光膜中可採用自本光學異向性薄片去除了基材之本光學異向性薄膜。再者，以積層有相位差膜(例如，1/4波長板或光學補償薄膜)13a及13b者為佳，此等之中，至少1相位差膜中可使用自本光學異向性薄片去除了基材之本光學異向性薄膜。藉由此等之本光學異向性薄膜，可賦予本液晶顯示裝置10將入射光變換成直線偏光之機能。此外，相位差膜13a及13b，視液晶顯示裝置之構造或液晶層17中所含的液晶化合物之種類而定，亦可不予配置。
如上述般，於圖1之本液晶顯示裝置10的偏光膜12a及/或12b、及/或相位差膜13a及/或13b中，可使用自本發明之光學異向性薄片去除了基材之本光學異向性薄膜。藉由將自本發明之光學異向性薄片去除了基材之本光學異向性薄膜設於偏光膜12a及/或12b、及/或相位差膜13a及/或13b中，係可達成本液晶顯示裝置10的更加薄型化。
偏光膜12b之外側，可配置作為發光源之背光單元19。背光單元19包含光源、導光體、反射板、擴散薄片及視野角調整薄片。光源方面，可舉出電致發光、冷陰極管、熱陰極管、發光二極體(LED)、雷射光源及水銀燈等。又，配合如此的光源之特性，可選擇本偏光膜之種類。
本液晶顯示裝置10為透過型液晶顯示裝置 時，自背光單元20中的光源發出的白色光乃入射至導光體，藉由反射板改變光進路而於擴散薄片中擴散。擴散光乃藉由視野角調整薄片調整使其具有所期望的指向性之後，自背光單元19入射至偏光膜12b。
作為無偏光之入射光之中，僅某一方之直線偏光透過液晶面板之偏光膜12b。此直線偏光依序透過基材14b、像素電極22等而到達液晶層17。
在此，藉由像素電極22與其對向之透明電極16之間電位差的有無，液晶層17中所含的液晶分子之配向狀態會變化，可控制自本液晶顯示裝置10出射之光的亮度。液晶層17，在使偏光直接透過之配向狀態下，透過液晶層17、透明電極16及彩色濾光器15之光，會被偏光膜12a所吸收。藉此，此像素乃顯示成黑。
相反地，液晶層17，在變換偏光使其透過之配向狀態下，其偏光係透過液晶層17、透明電極16，且某特定波長範圍之光會透過彩色濾光器15而到達偏光膜12a，液晶顯示裝置會將彩色濾光器所決定之色顯示為最明亮。在此等2種狀態中間的配向狀態，因自本液晶顯示裝置10所出射之光的亮度也於上述兩者中間之故，此像素會顯示中間色。
接著，乃參照圖3及圖4來說明本EL顯示裝置30。使用本發明之光學異向性薄片來製造EL顯示裝置時，係以將本發明之光學異向性薄片做成圓偏光板(以下視情況而稱為「本圓偏光板」)來使用者佳。本圓偏光板 方面，通常有3種實施形態。首先，參照圖2來說明本圓偏光板之3種實施形態。
圖2的(A)係表示本圓偏光板之第1實施形態的模式圖。此第1實施形態之有機EL顯示裝置，係於相位差薄膜(1/4波長板)4上使液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片貼合之後，去除該本光學異向性薄片之基材，轉印由偏光膜為光學異向性薄膜與黏接著劑層所成的層1而得者。此時，先介由黏接著劑3而使相位差薄膜形成於有機EL顯示裝置之基材33上後，可使前述本光學異向性薄片貼合，亦可預先將已貼合有相位差薄膜與本光學異向性薄片者，介由黏接著劑3而貼合於有機EL顯示裝置之基材33上。
圖2的(B)表示本圓偏光板之第2實施形態的模式圖。此第2實施形態之有機EL顯示裝置，係將液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片貼合於有機EL顯示裝置之基材33上後，去除該本光學異向性薄片之基材，轉印由作為相位差膜之光學異向性薄膜與黏接著劑層所成的層2，再將偏光膜5貼合至介由黏接著劑3所貼合之光學異向性薄膜上而得者。
圖2的(C)表示本圓偏光板之第3實施形態的模式圖。此第3實施形態之有機EL顯示裝置，係轉印由作為將液晶硬化膜為相位差膜之本光學異向性薄片貼合於有機EL顯示裝置之基材33上後去除了該本光學異向性薄片之基材所得相位差膜之光學異向性薄膜與黏接著劑層所成的 層2，再將液晶硬化膜為偏光膜之本光學異向性薄片貼合於前述層2上，並去除該本光學異向性薄片之基材，且轉印由作為偏光膜之光學異向性薄膜與黏接著劑層所成的層1而得者。
接著，使用本發明之本光學異向性薄片所製造的本EL顯示裝置，係參照圖3來予以說明。
本EL顯示裝置30係於形成有像素電極35之基材33上，積層了作為發光源之有機機能層36及陰極電極37者。於挾持基材33並與有機機能層36為反對側上，配置有圓偏光板31，該圓偏光板31中係使用本圓偏光板。對像素電極35施加正的電壓、對陰極電極37施加負的電壓，藉由對像素電極35及陰極電極37間外加直流電流，有機機能層36會發光。發光源之有機機能層36係由電子輸送層、發光層及電洞輸送層等所成。自有機機能層36出射的光，會通過像素電極35、層間絕緣膜34、基材33、圓偏光板31。雖就具有有機機能層36之有機EL顯示裝置予以說明，但也適用於具有無機機能層之無機EL顯示裝置。
製造本EL顯示裝置30時，首先要於基材33上以所期望的形狀形成薄膜電晶體40。然後，將層間絕緣膜34予以成膜，接著將像素電極35以濺鍍法予以成膜並成型化。之後，積層有機機能層36。
接著，於基材33設有薄膜電晶體40的面之反側的面上，設置圓偏光板31。
基材33方面，可舉出藍寶石玻璃基材、石英玻璃基材、鈉鈣玻璃基材及氧化鋁等之陶瓷基材；銅等之金屬基材；塑膠基材等。雖未圖示但亦可於基材33上形成熱傳導性膜。熱傳導性膜方面，可舉出鑽石薄膜(DLC等)等。像素電極35為反射型時，光會向與基材33為反對方向出射。因此，不只是透明材料，亦可使用不鏽鋼等之非透過材料。基材可為單一形成者，亦可為使複數的基材以黏接著劑貼合而形成為積層基材者。又，此等之基材不受限於板狀者，亦可為薄膜。
薄膜電晶體40方面，若使用例如多結晶矽電晶體等即可。薄膜電晶體40設置於像素電極35之端部，其大小為10~30μm左右。此外，像素電極35之大小為20μm×20μm~300μm×300μm左右。
於基材33上，可設置薄膜電晶體40的配線電極。配線電極的電阻低，可與像素電極35電性接續而具有抑制在低電阻值之機能，一般而言，其配線電極可使用含有Al、Al及過渡金屬(惟Ti除外)、Ti或氮化鈦(TiN)之任1種或2種以上者。
於薄膜電晶體40與像素電極35之間設置層間絕緣膜34。層間絕緣膜34，若為將SiO2等之氧化矽、氮化矽等之無機系材料以濺鍍或真空蒸鍍成膜者，以SOG(旋塗式玻璃)形成之氧化矽層、光阻、聚醯亞胺及丙烯酸樹脂等之樹脂系材料之塗膜等具有絕緣性者，任一種皆可。
於層間絕緣膜34上形成凸條41。凸條41乃配置於像素電極35之周邊部(鄰接像素間)。凸條41的材料方面，可舉出丙烯酸樹脂及聚醯亞胺樹脂等。凸條41之厚度較佳為1.0μm以上3.5μm，更佳為1.5μm以上2.5μm以下。
接著，就由作為透明電極之像素電極35、作為發光源之有機機能層36與陰極電極37所成之EL元件進行說明。有機機能層36分別具有至少1層之洞輸送層及發光層，例如，依序具有電子注入輸送層、發光層、電洞輸送層及電洞注入層。
像素電極35方面，可舉例如ITO(錫摻雜氧化銦)、IZO(鋅摻雜氧化銦)、IGZO、ZnO、SnO2及In2O3等，特別是ITO或IZO為佳。像素電極35之厚度若為具有可充分地進行洞注入之一定以上厚度即可，以10~500nm左右者佳。
像素電極35可藉由蒸鍍法(較佳為濺鍍法)來形成。濺鍍氣體方面，並無特別限制，若可使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等之惰性氣體或此等之混合氣體即可。
陰極電極37之構成材料方面，若可使用例如K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等之金屬元素即可，但為了提昇電極的作動安定性，係以使用由所例示之金屬元素選出的2成分或3成分之合金系為佳。合金系方面，係以例如Ag．Mg(Ag：1~20at%)、Al．Li(Li：0.3~14at%)、In．Mg (Mg：50~80at%)及Al．Ca(Ca：5~20at%)等為佳。
陰極電極37可藉由蒸鍍法及濺鍍法等所形成。陰極電極37之厚度係0.1nm以上，較佳為1~500nm以上者佳。
電洞注入層具有使自像素電極35之電洞的注入變得容易之機能，且電洞輸送層具有輸送電洞之機能及妨礙電子之機能，亦稱為電荷注入層或電荷輸送層。
發光層之厚度、合併電洞注入層與電洞輸送層之厚度，以及電子注入輸送層之厚度方面並無特別限定，也會因形成方法而異，但以使其為5~100nm左右者佳。電洞注入層或電洞輸送層中，可使用各種有機化合物。在電洞注入輸送層、發光層及電子注入輸送層之形成上，從可形成均質薄膜之點來看，係可使用真空蒸鍍法。
作為發光源之有機機能層36方面，可使用下述者：利用來自1重態激發子的發光(螢光)者、利用來自3重態激發子的發光(燐光)者、包含利用來自1重態激發子的發光(螢光)者與利用來自3重態激發子的發光(燐光)者；藉由有機物所形成者、包含藉由有機物所形成者與藉由無機物所形成者；高分子的材料、低分子的材料、包含高分子的材料與低分子的材料者等。惟可使用的並不受限於此，係可將用作為EL元件用之公知的各種所成的有機機能層36應用於本EL顯示裝置30中。
於陰極電極37與封止蓋39的空間中，配置乾燥劑38。此乃是因有機機能層36不耐濕度之故。藉由 乾燥劑38來防止吸收水分導致有機機能層36之劣化。
圖4表示本EL顯示裝置30其他態樣之剖面構成的概略圖。此本EL顯示裝置30乃具有使用薄膜封止膜42的封止構造，且自陣列基材的反對面亦可得出射光。
薄膜封止膜42方面，係以使用對電解電容器的薄膜蒸鍍DLC(類鑽碳)所成之DLC膜為佳。DLC膜具有水分浸透性極差的特性，且防濕性能高。又，可將DLC膜等直接蒸鍍而形成於陰極電極37的表面。又，亦可將樹脂薄膜與金屬薄膜多層地積層而形成薄膜封止膜41。
〔實施例〕
以下，藉由實施例進一步詳細地說明本發明。例中的「%」及「份」在未特別記載的情況下，乃為質量%及質量份。
<密著力之測定方法>
密著力係使用拉張試驗機，捉住試驗片的長度方向一端，在溫度23℃、相對濕度60%之氛圍下，以十字頭速度(捉住移動速度)200mm/分，來實施依據JIS K 6854-1：1999「接著劑-剝離接著強度試驗方法-第1部：90度剝離」之90°剝離試驗而予以測定。此外，試驗片的寬幅為25mm。
實施例1 〔液晶硬化膜形成用組成物(1)之調製〕
藉由混合下述成分，並將所得之混合物在80℃攪拌1小時而得相位差膜形成用組成物。
聚合性液晶化合物A1及聚合性液晶化合物A2係以日本特開2010-31223號公報中所記載之方法予以合成。
聚合性液晶化合物A1(80份)：
聚合性液晶化合物A2(20份)：
聚合起始劑(6份)：
2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE(登錄商標)369；Ciba Specialty Chemicals公司製)
調平劑(0.1份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N； BYK-Chemie公司製
溶劑(400份)：環戊酮
〔光配向膜形成用組成物(1)之調製〕
藉由混合下述成分，並將所得之混合物在80℃攪拌1小時而得光配向膜形成用組成物(1)。
光配向性材料(5份)：
溶劑(95份)：環戊酮
〔黏著劑的調製〕
將下述成分於氮氛圍下在55℃予以混合，得到丙烯酸樹脂。
丙烯酸丁基酯 70份
丙烯酸甲基酯 20份
丙烯酸 1.0份
起始劑：偶氮雙異丁腈 0.2份
溶劑(80份)：乙酸乙基酯
再將CORONATE(登錄商標)L(甲伸苯基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之75%乙酸乙基酯溶液、1分子中的異氰酸酯基數：3個、Nippon Polyurethane Industry股份公司製)0.5份、矽烷耦合劑X-12-981(信越聚矽氧股份公司製)0.5份予以混合，最後添加乙酸乙基酯使全 固形分濃度成為10%，得到黏著劑。
〔光學異向性薄片之製造〕 1. 配向膜之形成
基材中使用作為環烯烴系薄膜之Zeonor(登錄商標)薄膜(日本ZEON股份公司製)。對該基材施予電暈處理，並藉由棒塗佈法塗佈光配向膜形成用組成物(1)，在60℃的烘箱中加熱乾燥1分鐘。對所得之乾燥被膜施予偏光UV照射處理而於基材表面形成光配向膜(1)。偏光UV處理係使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)，以波長365nm下測定強度為100mJ之條件來進行。所得之光配向膜(1)的膜厚為100nm。
2. 液晶硬化膜之形成
於光配向膜(1)之表面上，藉由棒塗佈法塗佈液晶硬化膜形成用組成物(1)，在120℃的烘箱加熱乾燥1分鐘後，冷卻至室溫為止，得到乾燥被膜。對所得之乾燥被膜使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)之紫外線，形成了聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態下硬化之液晶硬化膜(1)。藉由雷射顯微鏡(OLYMPUS股份公司製OLS3000)測定所形成之液晶硬化膜的厚度，其結果為2.0μm。
3. 附剝離薄膜之黏著劑的製造
於經離型處理之聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(LINTEC股份公司製)之離型處理面，使用塗抹器以使乾燥後之厚度為10μm之方式塗佈黏著劑，在100℃乾燥1分鐘，得到附剝離薄膜之黏著劑(1)。
將此黏著劑壓著於已施予電暈處理之Zeonor(登錄商標)薄膜上之後，裁斷所得之薄膜成25mm×150mm之大小，將剝離薄膜予以剝離，並壓著於玻璃基板〔Corning公司製之Eagle XG(商品名)〕上。此後，去除Zeonor(登錄商標)薄膜之後，在玻璃基板與黏著劑之間發生剝離。此時的剝離力以上述密著力之測定方法測定，結果為4N/25mm。
4. 黏著劑層之形成
於液晶硬化膜(1)之表面壓著附剝離薄膜之黏著劑(1)之黏著劑面，得到光學異向性薄片(1)。
5. 遲滯量測定
將光學異向性薄片(1)裁斷成30mm×30mm之大小，將已剝除剝離薄膜之面壓著於玻璃基板〔Corning公司製之Eagle XG(商品名)〕之後，去除光學異向性薄片之基材而成測定樣品。使用測定機(KOBRA-WR、王子計測機器公司製)，於450nm~700nm之波長範圍中，測 定此測定樣品之相位差值，並以裝置附屬程式算出波長450nm之相位差值Re(450)、波長550nm之相位差值Re(550)、波長650nm之相位差值Re(650)，結果為以下所示的值。
Re(450)=134nm
Re(550)=145nm
Re(650)=151nm
Re(450)/Re(550)=0.93
Re(650)/Re(550)=1.04
6. 光學異向性薄膜之轉印
將光學異向性薄片(1)裁斷成25mm×150mm之大小，將剝離薄膜予以剝離，並壓著於玻璃基板〔Corning公司製之Eagle XG(商品名)〕上。此後，去除光學異向性薄片(1)之基材，並於玻璃上轉印光學異向性薄膜。此時含黏著劑之光學異向性薄膜的膜厚為12μm。
液晶硬化膜與黏著劑層之密著力(F1)，乃較基材與配向膜之密著力(F2)及配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)更大，且因前述(F3)最小，故配向膜與液晶硬化膜之間發生剝離，基材被去除。前述(F3)之密著力為0.30N/25mm。意即，F2及F3為0.02N/25mm以上、F2或F3未達1N/25mm。
實施例2 1. 圓偏光板之製作
將光學異向性薄片(1)裁斷成40mm×40mm之大 小，將剝離薄膜予以剝離，壓著於反射板(鏡面鋁板)。此後，去除光學異向性薄片(1)之基材，再於其上，介由黏著劑貼合碘-PVA偏光板(Sumikaran住友化學股份公司製 厚度65μm)。此時，光學異向性薄膜之遲相軸與偏光板之吸收軸所成的角度為45°。如此地實施，得到總厚度為92μm之圓偏光板(1)。
2. 反射率之測定
為了確認圓偏光板(1)之有用性，乃以下述實施，測定反射率。使用分光光度計(島津製作所股份公司製UV-3150)，將波長400~700nm之範圍的光以2nm間距，對測定試料自法線方向12°入射，測定已反射之光的反射率。令未貼合圓偏光板(1)而僅配置反射板所測定時的反射率為100%來算出反射率的話，已知400~700nm之範圍的波長之光的反射率為1~10%左右，且可見光全域整個可獲得充分的抗反射特性。此抗反射原理，因與在有機EL顯示器的金屬電極之外光反射為同樣原理之故，可同樣地適用於有機EL顯示器。
實施例3 〔液晶硬化膜形成用組成物(2)之調製〕
藉由混合下述成分，並將所得之混合物在80℃攪拌1小時而得液晶硬化膜形成用組成物(2)。聚合性液晶化合物B1及聚合性液晶化合物B2係以日本專利第4719156 號公報記載之方法合成。
聚合性液晶化合物B1(化合物(1-6)；75份)
聚合性液晶化合物B2(化合物(1-7)；25份)
二色性色素；
雙偶氮化合物(2-1-1) 2.5份
雙偶氮化合物(2-1-2) 2.5份
雙偶氮化合物(2-4-1) 2.5份
聚合起始劑；
2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE(登錄商標)369；Ciba Specialty Chemicals公司製) 6份
調平劑；
聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製) 1.5份
溶劑；環戊酮 250份
〔相轉移溫度之測定〕
將液晶硬化膜形成用組成物(2)塗佈於玻璃，予以乾燥，製作測定用試料。將測定試料昇溫至140℃為止，藉由以偏光顯微鏡觀察質地來確認降溫時之相轉移溫度時，已分別確認了在108℃往向列型相之相轉移、在101℃往層列狀A相之相轉移、在76℃往層列狀B相之相轉移。
〔光學異向性薄片之製造〕 1. 液晶硬化膜之形成
於與實施例1同樣地實施所得之光配向膜表面，藉由棒塗佈法塗佈液晶硬化膜形成用組成物(2)，在120℃之烘箱中，加熱乾燥1分鐘之後、冷卻至室溫為止。使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)，以曝光量1200mJ/cm2(365nm基準)進行紫外線照射，形成了聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態下硬化之液晶硬化膜(2)。藉由雷射顯微鏡(OLYMPUS股份公司製OLS3000)測定所形成之液晶硬化膜的厚度，其結果為1.8μm。
2. X線繞射測定
對如此地實施所得液晶硬化膜之表面，藉由X線繞射裝置X’Pert PRO MPD(SPECTRIS股份公司製)進行X 線繞射測定。靶材方面，使用Cu而將以X線管電流40mA、X線管電壓45kV之條件所產生的X線介由固定發散狹縫1/2°自摩擦方向(預先求得位於偏光層下之配向層的摩擦方向)使其入射，於掃描範圍2θ=4.0~40.0°之範圍下以2θ=0.01671°間距進行掃描來予以測定。其結果係可於2θ=20.12°附近得到波峰半價寬幅(FWHM)=約0.29°之清晰分離的繞射波峰(布拉格波峰)。又，自摩擦垂直方向使X線入射來測定時，也得到同等的結果。由波峰位置所求得之秩序周期(d)約4.4Å，已知形成有反映出高次層列狀相之構造。
3. 黏著劑層之形成
與實施例1同樣地實施，於液晶硬化膜(2)之表面壓著附剝離薄膜之黏著劑(1)之黏著劑面，製作光學異向性薄片(2)。
4. 光學異向性薄膜之轉印
將光學異向性薄片(2)裁斷成25mm×150mm之大小，將剝離薄膜予以剝離，並壓著於玻璃基板〔Corning公司製之Eagle XG(商品名)〕上。此後，去除光學異向性薄片之基材，將光學異向性薄膜轉印於玻璃上。此時含黏著劑之光學異向性薄膜的厚度為11.8μm。
液晶硬化膜與黏著劑層之密著力(F1)，乃較基材與配向膜之密著力(F2)及配向膜與液晶硬化膜之密著力 (F3)更大，且因前述(F3)最小，故配向膜與液晶硬化膜之間發生剝離，基材被去除。前述(F3)之密著力為0.32N/25mm。意即，F2及F3為0.02N/25mm以上、F2或F3未達1N/25mm。
實施例4 1. 圓偏光板之製作
將實施例1所得的附剝離薄膜之黏著劑(1)壓著於相位差薄膜(一軸延伸薄膜WRF-S(改性聚碳酸酯系樹脂)、相位差值141nm、厚度50μm、帝人化成(股)製)，裁斷成40mm×40mm之大小，將剝離薄膜予以剝離，壓著於反射板(鏡面鋁板)。再者，於其上，壓著實施例3之光學異向性薄片(2)，去除光學異向性薄片之基材，於相位差薄膜上轉印光學異向性薄膜，得到圓偏光板。此時，相位差薄膜之遲相軸與光學異向性薄膜之吸收軸所成的角度為45°。如此地實施，而於反射板上形成了包含黏著劑之總厚為71.8μm之非常薄的圓偏光板。
2. 反射率之測定
為了確認圓偏光板(2)之有用性，係以下述操作來測定反射率。使用分光光度計(島津製作所股份公司製UV-3150)，將波長400~700nm之範圍的光以2nm間距，對測定試料自法線方向12°入射，測定已反射之光的反射率。若令未貼合圓偏光板(2)而僅配置反射板予以 測定時的反射率為100%來算出反射率的話，400~700nm之範圍的波長之光的反射率為1~10%左右，且可見光全域整個可獲得充分的抗反射特性。此抗反射原理，因與在有機EL顯示器的金屬電極之外光反射為同樣原理之故，可同樣地適用於有機EL顯示器。
實施例5 1. 圓偏光板之製作
將實施例1所得光學異向性薄片(1)裁斷成40mm×40mm之大小，將剝離薄膜予以剝離，壓著於反射板(鏡面鋁板)。此後，藉由去除光學異向性薄片之基材而於玻璃上轉印光學異向性薄膜(1)。再者，將實施例3所得光學異向性薄片(2)之剝離薄膜予以剝離，貼合於經轉印至玻璃上的光學異向性薄膜(1)之上，去除光學異向性薄片之基材，於光學異向性薄膜(1)上轉印了光學異向性薄膜(2)。此時，光學異向性薄膜(1)之遲相軸與光學異向性薄膜(2)之吸收軸所成的角度為45°。如此地實施，而於反射板上形成了包含黏著劑之總厚為23.8μm之非常薄的圓偏光板(3)。
2. 反射率之測定
為了確認圓偏光板(3)之有用性，係以下述操作來測定反射率。使用分光光度計(島津製作所股份公司製UV-3150)，將波長400~700nm之範圍的光以2nm間 距，對測定試料自法線方向12°入射，測定已反射之光的反射率。若令未貼合圓偏光板(3)而僅配置反射板予以測定時的反射率為100%來算出反射率的話，400~700nm之範圍的波長之光的反射率為1~10%左右，且可見光全域整個可獲得充分的抗反射特性。此抗反射原理，因與在有機EL顯示器的金屬電極之外光反射為同樣原理之故，可同樣地適用於有機EL顯示器。
實施例6 1. 圓偏光板之製作
除了基板方面使用聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜來取代Zeonor(登錄商標)薄膜之外，其餘係以與實施例1同樣的方法製作光學異向性薄片(3)。除了基板方面使用聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜來取代Zeonor(登錄商標)薄膜之外，其餘係以與實施例3同樣的方法製作光學異向性薄片(4)。分別裁斷成40mm×40mm之大小，將光學異向性薄片(3)之剝離薄膜予以剝離，壓著於反射板(鏡面鋁板)上，並藉由去除聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜，而於反射板上轉印光學異向性薄膜(3)。再者，於其上，壓著光學異向性薄片(4)，藉由去除聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜，而於相位差膜上轉印光學異向性薄膜(4)。此時，光學異向性薄膜(3)之遲相軸與光學異向性薄膜(4)之吸收軸所成的角度為45°。如此地實施，而於反射板上形成了包含黏著劑之總厚為23.8μm之非常薄的圓偏光板 (4)。
2. 反射率之測定
為了確認圓偏光板(4)之有用性，係以下述操作來測定反射率。使用分光光度計(島津製作所股份公司製UV-3150)，將波長400~700nm之範圍的光以2nm間距，對測定試料自法線方向12°入射，測定已反射之光的反射率。若令未貼合圓偏光板(4)而僅配置反射板予以測定時的反射率為100%來算出反射率的話，400~700nm之範圍的波長之光的反射率為1~10%左右，且可見光全域整個可獲得充分的抗反射特性。此抗反射原理，因與在有機EL顯示器的金屬電極之外光反射為同樣原理之故，可同樣地適用於有機EL顯示器。
實施例7 〔活性能量線硬化型接著劑的調製〕
混合以下各成分，調製活性能量線硬化型接著劑(1)。
3,4-環氧基環己基甲基
3,4-環氧基環己烷羧酸酯 40份
雙酚A之二環氧丙基醚 60份
二苯基(4-苯基硫代基苯基)鋶 氟銻酸鹽(光陽離子聚合起始劑) 4部
〔光學異向性薄片之製造〕 1. 配向膜之形成
基材中係使用聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(三菱樹脂股份公司製、DAIAFOIL T140E25)。該基材上乃藉由棒塗佈法塗佈光配向膜形成用組成物(1)，在60℃的烘箱中加熱乾燥1分鐘。對所得之乾燥被膜施予偏光UV照射處理而於基材表面形成光配向膜(1)。偏光UV處理係使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)，而在以波長365nm測定之強度為100mJ的條件下進行。所得之光配向膜(1)的膜厚為100nm。
2. 液晶硬化膜之形成
於光配向膜(1)之表面藉由棒塗佈法塗佈液晶硬化膜形成用組成物(1)，在120℃的烘箱加熱乾燥1分鐘後，冷卻至室溫為止，得到乾燥被膜。對所得之乾燥被膜使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)之紫外線，形成了聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態下硬化之液晶硬化膜(3)。藉由雷射顯微鏡(OLYMPUS股份公司製OLS3000)測定所形成之液晶硬化膜的厚度，其結果為2.0μm。
3. 光學異向性薄膜之轉印
將所得之液晶硬化膜(3)之表面予以電暈處理之 後，朝該處藉由棒塗佈法塗佈活性能量線硬化型接著劑(1)，得到光學異向性薄片(5)。於光學異向性薄片(5)之接著劑側的表面上壓著表面經電暈處理過之Zeonor(登錄商標)薄膜(相位差：0)，自該Zeonor(登錄商標)薄膜側使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)，照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)之紫外線。去除光學異向性薄片(5)之基材，於Zeonor(登錄商標)薄膜上轉印光學異向性薄膜，得到具有光學異向性薄膜之Zeonor(登錄商標)薄膜(10)。此時含接著劑層之光學異向性薄膜的厚度為4.5μm。
液晶硬化膜與接著劑層的密著力(F1)，乃較基材與配向膜之密著力(F2)及配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)更大，且因前述(F3)最小之故，於配向膜與液晶硬化膜發生剝離而使基材被去除。前述(F3)之密著力為0.08N/25mm。意即，F2及F3為0.02N/25mm以上、F2或F3未達1N/25mm。
4. 遲滯量測定
將具有光學異向性薄膜之Zeonor(登錄商標)薄膜(10)的相位差值，使用測定機(KOBRA-WR、王子計測機器公司製)，於450nm~700nm之波長範圍中予以測定，以裝置附屬程式算出波長450nm之相位差值Re(450)、波長550nm之相位差值Re(550)、波長 650nm之相位差值Re(650)，結果為以下所示的值。此外，Zeonor(登錄商標)薄膜之相位差約為0，故對下述相位差值Re沒有影響。
Re(450)=121nm
Re(550)=130nm
Re(650)=135nm
Re(450)/Re(550)=0.93
Re(650)/Re(550)=1.04
實施例8 1. 圓偏光板之製作
將實施例7所得光學異向性薄片(5)與碘-PVA偏光板(Sumikaran住友化學股份公司製 厚度65μm)介由接著劑予以貼合，去除光學異向性薄片(5)之基材。此時，光學異向性薄膜之遲相軸與偏光板之吸收軸所成的角度為45°。如此地實施，得到總厚度為93μm之圓偏光板(5)。
2. 反射率之測定
為了確認圓偏光板(5)之有用性，係以下述操作來測定反射率。使用分光光度計(島津製作所股份公司製UV-3150)，將波長400~700nm之範圍的光以2nm間距，對測定試料自法線方向12°入射，測定已反射之光的反射率。若令未貼合圓偏光板(5)而僅配置反射板予以測定時的反射率為100%來算出反射率的話，400~700nm之範圍的波長之光的反射率為1~10%左右，且可見光全域 整個可獲得充分的抗反射特性。此抗反射原理，因與在有機EL顯示器的金屬電極之外光反射為同樣原理之故，可同樣地適用於有機EL顯示器。
實施例9 〔配向性聚合物組成物(1)之調製〕
配向性聚合物組成物(1)之組成係如表1所示。於作為市售配向性聚合物之SUNEVERSE-610(日產化學工業股份公司製)中加入N-甲基-2-吡咯啶酮、2-丁氧基乙醇及丙二醇單甲基醚(PGME)，得到配向性聚合物組成物(1)。
表1中的值表示各成分對已調製之組成物的全量之含有比例。有關SE-610其固形分量係由樣品規格書之濃度換算所得。
〔液晶硬化膜形成用組成物(3)之調製〕
液晶硬化膜形成用組成物(3)之組成係如表2所示。混合各成分，於80℃攪拌1小時後，冷卻至室溫為 止，得到液晶硬化膜形成用組成物(3)。
表2中括弧內的值表示各成分對已調製之組成物全量之含有比例。表2中之LR9000表示BASF JAPAN公司製的Laromer(登錄商標)LR-9000、Irg907表示BASF JAPAN公司製的IRGACURE(登錄商標)907、BYK361N表示BYK JAPAN製的調平劑、LC242表示下述式所示之BASF公司製之聚合性液晶化合物、PGMEA表示丙二醇1-單甲基醚2-乙酸酯。
1. 配向膜之形成
基材中係使用聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(三菱樹脂股份公司製、DAIAFOIL T140E25)。於該基材上，藉由棒塗佈塗佈配向性聚合物組成物(1)，在90℃的烘箱中加熱乾燥1分鐘，形成配向膜(1)。所得之配向膜(1)的厚度為40nm。
2. 液晶硬化膜之形成
於配向膜(1)之表面，將液晶硬化膜形成用組成物(3)使用棒塗機進行塗佈，在90℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(UNICURE VB-15201 BY-A、USHIO電機股份公司製)，照射紫外線(氮氛圍下、波長：365nm、波長365nm中的積算光量：1000mJ/cm2)，藉此形成以聚合性液晶化合物對基材面內成垂直方向配向之狀態所硬化的液晶硬化膜(4)。將所形成之液晶硬化膜的厚度藉由雷射顯微鏡進行測定，結果為0.5μm。
3. 光學異向性薄膜之轉印
將所得之液晶硬化膜(4)之表面予以電暈處理後，朝該處以棒塗佈法塗佈活性能量線硬化型接著劑(1)，得到光學異向性薄片(6)。於光學異向性薄片(6)之接著劑側的表面，壓著表面已電暈處理過之Zeonor(登錄商標)薄膜(相位差：0)，自該Zeonor(登錄商標)薄膜側，使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)，照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)之紫外線。去除光學異向性薄片(6)之基材，得到Zeonor(登錄商標)薄膜上轉印光學異向性薄膜並具有光學異向性薄膜之Zeonor(登錄商標)薄膜(11)。此時含接著劑層之光學異向性薄膜的厚度為3.0μm。
液晶硬化膜與接著劑層的密著力(F1)，乃較基材與配向膜之密著力(F2)及配向膜與液晶硬化膜之密著力 (F3)更大，且因前述(F3)最小之故，在配向膜與液晶硬化膜間會產生剝離，使基材被去除。前述(F3)之密著力為0.08N/25mm。意即，F2及F3為0.02N/25mm以上、F2或F3未達1N/25mm。
4. 遲滯量測定
具有光學異向性薄膜之Zeonor(登錄商標)薄膜(11)之相位差值使用測定機(KOBRA-WR、王子計測機器公司製)測定的結果，測定於波長550nm之相位差值為Re(550)=1nm、Rth(550)=-70nm。意即，液晶硬化膜(4)乃具有下述式(4)所示之光學特性。此外，Zeonor(登錄商標)薄膜之波長550nm中的相位差值約為0，故對該光學特性不影響。
nz>nx≒ny (4)
實施例10 〔液晶硬化膜形成用組成物(4)之調製〕
混合下述成分，藉由使所得之混合物在80℃攪拌1小時，得到液晶硬化膜形成用組成物(4)。
聚合性液晶化合物X1係以日本特開2010-24438號公報記載之方法所合成。
聚合性液晶化合物A1(93份)：
聚合性液晶化合物X1(7份)：
聚合起始劑(6份)：
2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE(登錄商標)369；Ciba Specialty Chemicals公司製)
調平劑(0.1份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製
溶劑(800份)：N-甲基-2-吡啶酮
添加劑(5份)：Laromer(登錄商標)LR-9000(BASF公司製)
〔光學異向性薄片之製造〕 1. 配向膜之形成
基材中使用聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(三菱樹脂股份公司製、DAIAFOIL T140E25)。於該基材上，藉由棒塗佈法塗佈光配向膜形成用組成物(1)，在60℃的烘箱中加熱乾燥1分鐘。對所得之乾燥被膜施予偏光UV照射處理而於基材表面形成光配向膜(1)。偏光UV處理係使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)，而在以波長365nm測定之強度為100mJ的條件下進行。所得之光配向膜(1)的膜厚為100nm。
2. 液晶硬化膜之形成
於光配向膜(1)之表面，藉由棒塗佈法塗佈液晶硬化膜形成用組成物(4)，在120℃的烘箱加熱乾燥1分鐘後，冷卻至室溫為止，得到乾燥被膜。對所得之乾燥被膜使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份公司製)照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)之紫外線，形成了聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態下硬化之液晶硬化膜(5)。藉由雷射顯微鏡(OLYMPUS股份公司製OLS3000)測定所形成之液晶硬化膜的厚度，其結果為2.2μm。
4. 黏著劑層之形成
於液晶硬化膜(5)之表面壓著附剝離薄膜之黏著劑(5)之黏著劑面，得到光學異向性薄片(3)。
5. 遲滯量測定
將光學異向性薄片(3)裁斷成30mm×30mm之大小，將剝離了剝離薄膜之面壓著於玻璃基板〔Corning公司製之Eagle XG(商品名)〕之後，去除光學異向性薄片之基材以作為測定樣品。此測定樣品之相位差值，係使用測定機(KOBRA-WR、王子計測機器公司製)，於450nm~700nm之波長範圍中予以測定，以裝置附屬程式算出波長450nm之相位差值Re(450)、波長550nm之 相位差值Re(550)、波長650nm之相位差值Re(650)，結果為以下所示的值。
Re(450)=118nm
Re(550)=139nm
Re(650)=142nm
Re(450)/Re(550)=0.85
Re(650)/Re(550)=1.02
6.光學異向性薄膜之轉印
將光學異向性薄片(3)裁斷成25mm×150mm之大小，將剝離薄膜予以剝離，並壓著於玻璃基板〔Corning公司製之Eagle XG(商品名)〕上。此後，去除光學異向性薄片(3)之基材，於玻璃上轉印光學異向性薄膜及光配向膜層。此時含黏著劑之光學異向性薄膜的膜厚為12.3μm。
液晶硬化膜與黏著劑層之密著力(F1)，乃較基材與配向膜之密著力(F2)及配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)更大，且因前述(F2)最小之故，在配向膜與液晶硬化膜之間會發生剝離，而使基材被去除。前述(F2)之密著力為0.03N/25mm。意即，F2及F3為0.02N/25mm以上、F2或F3未達1N/25mm。
實施例11 1. 圓偏光板之製作
將實施例1所得光學異向性薄片(3)裁斷成40mm×40mm之大小，將剝離薄膜予以剝離，壓著於反射板(鏡 面鋁板)。此後，藉由去除光學異向性薄片之基材而於玻璃上轉印光學異向性薄膜(5)。再者，將實施例3所得光學異向性薄片(2)之剝離薄膜予以剝離，貼合於經轉印至玻璃上的光學異向性薄膜(5)之上，去除光學異向性薄片之基材，於光學異向性薄膜(5)上轉印光學異向性薄膜(2)。此時，光學異向性薄膜(5)之遲相軸與光學異向性薄膜(2)之吸收軸所成的角度為45°。如此地實施，而於反射板上形成了包含黏著劑之總厚為24.0μm之非常薄的圓偏光板(6)。
2. 反射率之測定
為了確認圓偏光板(6)之有用性，係以下述操作來測定反射率。使用分光光度計(島津製作所股份公司製UV-3150)，將波長400~700nm之範圍的光以2nm間距，對測定試料自法線方向12°入射，測定已反射之光的反射率。若令未貼合圓偏光板(6)而僅配置反射板予以測定時的反射率為100%來算出反射率的話，400~700nm之範圍的波長之光的反射率為1~10%左右，且可見光全域整個可獲得充分的抗反射特性。此抗反射原理，因與在有機EL顯示器的金屬電極之外光反射為同樣原理之故，可同樣地適用於有機EL顯示器。
〔產業上的可利用性〕
本發明之光學異向性薄片，係可用於獲得薄 型光學異向性薄膜。
10‧‧‧液晶顯示裝置
12a、12b‧‧‧偏光膜
13a、13b‧‧‧相位差膜
14a、14b‧‧‧基材
15‧‧‧彩色濾光器
16‧‧‧透明電極
17‧‧‧液晶層
18‧‧‧層間絕緣膜
19‧‧‧背光單元
20‧‧‧黑色矩陣
21‧‧‧薄膜電晶體
22‧‧‧像素電極
23‧‧‧間隔物

Claims (27)

  1. 一種光學異向性薄片，其係依序具有基材、液晶硬化膜與黏接著劑層之光學異向性薄片，其中，該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以配向狀態硬化之厚度為5μm以下的膜，液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)大於基材之密著力(F4)，F4為0.02N/25mm以上且未達1N/25mm。
  2. 一種光學異向性薄片，其係依序具有基材、配向膜、液晶硬化膜與黏接著劑層之光學異向性薄片，其中，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜，該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜，液晶硬化膜與黏接著劑層之密著力(F1)大於基材與配向膜之密著力(F2)或配向膜與液晶硬化膜之密著力(F3)，F2及F3為0.02N/25mm以上、F2或F3未達1N/25mm。
  3. 如請求項2之光學異向性薄片，其中，配向膜係光配向膜。
  4. 如請求項1~3中任一項之光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜具有滿足下述式(1)、(2)及式(3)之波長分散特性， Re(450)/Re(550)≦1.00 (1) 1.00≦Re(650)/Re(550) (2) 100<Re(550)<150 (3)Re(450)、Re(550)、Re(650)各自表示在波長450nm、550nm、650nm之遲滯量。
  5. 如請求項1~4中任一項之光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜具有下述式(4)所示之折射率關係，nz>nx≒ny (4)nz表示厚度方向之折射率；nx顯示面內中，產生最大折射率之方向的折射率；ny顯示面內中，對nx之方向呈垂直方向的折射率。
  6. 如請求項1~3中任一項之光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜進一步包含二色性色素。
  7. 如請求項6之光學異向性薄片，其中，二色性色素係含3種類以上的偶氮化合物。
  8. 如請求項1~3中任一項之光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜係於X線繞射測定中，顯示布拉格波峰。
  9. 如請求項1~8中任一項之光學異向性薄片，其中，黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
  10. 一種光學異向性薄膜，其係自請求項1~9中任一項之光學異向性薄片去除基材所成者。
  11. 一種圓偏光板，其係依序積層偏光板、第一黏接著劑層、液晶硬化膜與第二黏接著劑層而成之圓偏光板，其中， 該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜，且具有滿足下述式(1)、(2)及式(3)之波長分散特性的膜，Re(450)/Re(550)≦1.00 (1) 1.00≦Re(650)/Re(550) (2) 100<Re(550)<150 (3)Re(450)、Re(550)、Re(650)各自表示在波長450nm、550nm、650nm之遲滯量。
  12. 如請求項11之圓偏光板，其中，第一黏接著劑層與液晶硬化膜之間進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
  13. 如請求項11或12之圓偏光板，其中，液晶硬化膜與第二黏接著劑層之間進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
  14. 如請求項11~13中任一項之圓偏光板，其中，第一黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
  15. 如請求項11~14中任一項之圓偏光板，其中，第二黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
  16. 一種圓偏光板，其係依序積層液晶硬化膜、黏接著劑層、相位差薄膜與黏接著劑層所成之圓偏光板，其中，該液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水 平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜，且包含二色性色素的膜。
  17. 如請求項16之圓偏光板，其中，於液晶硬化膜之表面進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
  18. 如請求項16或17之圓偏光板，其中，黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
  19. 一種圓偏光板，其係依序積層第一液晶硬化膜、第一黏接著劑層、第二液晶硬化膜與第二黏接著劑層所成之圓偏光板，其中，第一液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜，且包含二色性色素的膜；第二液晶硬化膜係聚合性液晶化合物以對基材面內呈水平方向配向之狀態而硬化之厚度為3μm以下的膜，且具有滿足下述式(1)、(2)及式(3)之波長分散特性的液晶硬化膜，Re(450)/Re(550)≦1.00 (1) 1.00≦Re(650)/Re(550) (2) 100<Re(550)<150 (3)Re(450)、Re(550)、Re(650)各自表示在波長450nm、550nm、650nm之遲滯量。
  20. 如請求項19之圓偏光板，其中，於第一黏接著劑層與第二液晶硬化膜之間，進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
  21. 如請求項19或20之圓偏光板，其中，於第一液晶硬化膜之表面進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
  22. 如請求項19之圓偏光板，其中，於第一液晶硬化膜之表面、及黏接著劑層與第二液晶硬化膜之間，進一步具有配向膜，該配向膜係由高分子化合物所成之厚度為500nm以下的膜。
  23. 如請求項19~22中任一項之圓偏光板，其中，第一黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
  24. 如請求項19~23中任一項之圓偏光板，其中，第二黏接著劑層係由活性能量線硬化型接著劑所形成之黏接著劑層。
  25. 一種附光學異向性薄膜之顯示裝置，其係具備請求項11~24中任一項之圓偏光板者。
  26. 一種附光學異向性薄膜之顯示裝置之製造方法，其特徵係在將請求項1~9中任一項之光學異向性薄片介由黏接著劑層貼合於顯示裝置之顯示面後，去除該光學異向性薄片之基材者。
  27. 一種附光學異向性薄膜之顯示裝置之製造方法，其特徵係在將請求項4之光學異向性薄片介由黏接著劑層貼合於顯示裝置之顯示面之後，去除該光學異向性薄片之基 材，再將請求項6~8中任一項之附黏接著劑之光學異向性薄片介由黏接著劑層貼合於其上之後，去除該光學異向性薄片之基材者。
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