JP5613870B2 - ポリシラン及びポリシランを含む樹脂組成物 - Google Patents
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Description
前記式(1)において、R1は、炭化水素基(例えば、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基)であってもよい。また、前記ポリシランにおいて、前記式(1)で表される構造単位の割合は、ケイ素原子換算で、3〜90モル%程度であってもよい。
前記コポリシランは、耐熱性や溶解性などの観点から、前記式(3)で表される構造単位および前記式(4)で表される構造単位から選択された少なくとも1つの分岐状構造単位を有していてもよく、特に、前記式(3)においてR4がシクロアルキル基又はアリール基である構造単位を少なくとも有するコポリシランであってもよい。このような分岐状構造単位を有するコポリシランにおいて、式(1)で表される構造単位と分岐状構造単位との割合は、ケイ素原子換算で、例えば、前者/後者(モル比)=90/10〜3/97程度であってもよい。
前記ポリシランは、少なくとも下記式(1)で表される構造単位を有している。なお、前記ポリシランは、下記式(1)で表される構造単位を有するポリシランであってもよく、下記式(1)で表される構造単位と、他の構造単位(例えば、後述の構造単位(2)〜(4)など)とを有するコポリシランであってもよい。
上記式(1)において、R1で表される有機基としては、例えば、炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基など)、これらの炭化水素基に対応するエーテル性置換基(例えば、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など)、ヒドロキシル基、アミノ基など]、シリル基などが挙げられる。なお、これらの置換基は、さらに1又は複数の他の置換基[例えば、アルキル基(例えば、C1−10アルキル基、好ましくはC1−6アルキル基、さらに好ましくはC1−4アルキル基)などの炭化水素基、アルコキシ基(例えば、C1−10アルコキシ基、好ましくはC1−6アルコキシ基、さらに好ましくはC1−4アルコキシ基)などの上記例示の置換基、アシル基(例えば、アセチル基などのC1−10アルキル−カルボニル基、好ましくはC1−6アルキル−カルボニル基、さらに好ましくはC1−4アルキル−カルボニル基など)など]で置換されていてもよい。
上記式(2)又は(3)において、R2〜R4で表される基としては、前記置換基R1の項で例示の同様の基[例えば、炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基など)、これらの炭化水素基に対応するエーテル基(例えば、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など)など]などが挙げられる。
本発明の機能性ポリシランは、前記ポリシラン(より詳細には、前記ポリシランのケイ素原子に結合した水素原子)にヒドロシリル化可能な化合物(又はヒドロシリル化により還元される化合物)が付加したポリシランである。すなわち、本発明のポリシランは、前記ポリシラン(特にコポリシラン)のケイ素−水素結合を介して(又はケイ素−水素結合に対するヒドロシリル可能な化合物の反応により)、前記ヒドロシリル化可能な化合物の分子骨格が導入された機能性ポリシランである。
本発明の機能性ポリシランは、前記ポリシラン(前記式(1)で表される構造単位を有するポリシラン)と、前記ヒドロシリル化可能な化合物とを反応させることにより得られる。すなわち、本発明の機能性ポリシランは、前記ポリシランのケイ素原子に結合した水素原子(又はヒドロシリル基)に、前記ヒドロシリル化可能な化合物を反応(ヒドロシリル化反応)させることにより製造できる。
前記ポリシランは、種々のポリシランの製造方法を適用又は応用することにより調製できる。すなわち、前記ポリシランは、公知のポリシランの製造方法において、ポリシランを調製するためのモノマー成分(例えば、ハロシラン類)の一部又は全部として、前記式(1)で表される構造単位に対応するモノマー(例えば、アルキルジハロシラン、アリールジハロシランなど)を使用することにより調製できる。
前記式(1)で表される構造単位に対応するジハロシランとしては、下記式(1A)で表されるジハロシランが挙げられる。
上記式(1A)において、X1およびX2で表されるハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が含まれ、塩素原子および臭素原子(特に塩素原子)が好ましい。なお、X1およびX2は同一又は異なるハロゲン原子であってもよい。なお、上記式(1A)において、nは、前記と同様に1以上であればよい。すなわち、前記ジハロシランは、n=1であるジハロシラン(モノジハロシラン、単量体)であってもよく、nが複数(例えば、2〜1000程度)の多量体(ポリジハロシラン)であってもよい。なお、ポリジハロシランを用いると、ブロックコポリマーのポリシランを得やすい。
上記式(2A)〜(4A)において、X3〜X11で表されるハロゲン原子は、前記と同様であり、塩素原子および臭素原子(特に塩素原子)が好ましく、同一又は異なるハロゲン原子であってもよい。また、上記式(2A)〜(4A)において、r、s及びtは、それぞれ、前記と同様に1以上であればよく、単量体(r=s=t=1)であってもよく、多量体(r、sおよびtが2以上)であってもよい。例えば、式(2A)で表されるジハロシランにおいて、rは、1〜1000、好ましくは1〜500、さらに好ましくは1〜100(例えば、1〜10)程度であってもよい。rが大きい多量体を用いると、ブロックコポリマーを得やすく、単量体又はrが小さい多量体を用いるとランダムコポリマーを得やすい。コポリマーの製造効率の点からは、単量体又はrが小さい多量体(例えば、rが1〜2程度のハロシラン)を好適に用いてもよい。なお、トリハロシラン類およびテトラハロシラン類は、通常、単量体(s=t=1)で使用する場合が多い。
前記ハロシラン類(前記式(1)で表される構造単位に対応するジハロシランを少なくとも含むハロシラン類)の反応は、マグネシウム金属成分の存在下で好適に行うことができ、マグネシウム金属成分を作用させることにより、ポリシランを効率よく生成できる。
リチウム化合物としては、ハロゲン化リチウム(塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウムなど)、無機酸塩(硝酸リチウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、塩酸リチウム、硫酸リチウム、過塩素酸リチウム、リン酸リチウムなど)などが使用できる。これらのリチウム化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。好ましいリチウム化合物は、ハロゲン化リチウム(特に塩化リチウム)である。
金属ハロゲン化物(リチウムハロゲン化物を除く金属ハロゲン化物)としては、多価金属ハロゲン化物、例えば、遷移金属(例えば、サマリウムなどの周期表3A族元素、チタンなどの周期表4A族元素、バナジウムなどの周期表5A族元素、鉄、ニッケル、コバルト、パラジウムなどの周期表8族元素、銅などの周期表1B族元素、亜鉛などの周期表2B族元素など)、周期表3B族金属(アルミニウムなど)、周期表4B族金属(スズなど)などの金属のハロゲン化物(塩化物、臭化物又はヨウ化物など)が挙げられる。金属ハロゲン化物を構成する前記金属の価数は、特に制限されないが、好ましくは2〜4価、特に2又は3価である。これらの金属ハロゲン化物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
ハロシラン類の反応方法は、例えば、密閉可能な反応容器に、前記ハロシラン類、マグネシウム金属成分、及び必要に応じてリチウム化合物及び/又は金属ハロゲン化物を溶媒とともに収容し、好ましくは機械的又は磁気的に攪拌しつつ、反応を行ってもよい。原料のハロシラン類は、予め、複数のハロシラン類の混合物として用いてもよいし、複数のハロシラン類を並行又は間欠的に添加してもよく、時系列的に添加してもよい(例えば、第一のハロシラン成分を反応系に添加して、反応を進行させてポリシラン又はオリゴシランを生成した後、第二のハロシラン成分を添加して反応させてもよい)。複数のハロシラン化合物の混合物として用いる方法は、ランダムコポリマー(ランダムコポリシラン)を得るのに好適である。第一のハロシラン成分の反応途中で第二のハロシラン成分を添加する方法は、ブロックコポリマーを得るのに好適である。すなわち、前記式(1A)で表されるジハロシラン、および前記式(2A)〜(4A)で表されるジ乃至テトラハロシランから選択された少なくとも一種のうち、一方の成分を反応させてポリシラン又はオリゴシランを生成した後、他方の成分を反応系に添加して反応させてポリシランを生成させてもよい。
前記ポリシランと、前記ヒドロシリル化可能な化合物との反応(ヒドロシリル化反応)は、公知のヒドロシリル化反応と同様に行うことができる。ヒドロシリル化反応において、ヒドロシリル化可能な化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用してもよい。
本発明の機能性ポリシランは、主鎖のケイ素原子に直接結合した水素原子のヒドロシリル化を利用するので、通常のポリシランの特性(高耐熱性、高い屈折率、感光性など)に加えて、前記ヒドロシリル化可能な化合物(およびその官能基)の種類などに応じて、さらに優れた機能性が付与されている。そして、このような機能性ポリシランは、慣用のポリシランの用途に適用して、より一層の優れた機能を付与できるとともに、官能基を導入することによりポリシランの用途を広げることができる。
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム25gと、触媒として塩化リチウム20gとを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して、反応器(フラスコ)内部を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン(THF)500mlを加え、25℃で約60分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したフェニルトリクロロシラン63.5g(0.3mol)とメチルジクロロシラン34.5g(0.3mol)とをシリンジで加え、25℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸1000mlを投入し、さらにトルエン500mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで10回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、フェニルトリクロロシラン−メチルジクロロシラン共重合体(前者/後者(モル比)=1/1)を得た(重量平均分子量2500)。
実施例1において、アクリル酸エチル5.0gに代えてアクリル酸3.7g(50mmol)を使用する以外は実施例1と同様に反応を行い、カルボキシル基を有するコポリシラン11.2gを得た(収率100%)。
実施例2において、AIBN0.41gに代えて、過酸化ジベンゾイル0.061gを使用する以外は実施例2と同様に反応を行い、カルボキシル基を有するコポリシラン11.2gを得た(収率100%)。
内容積300mlのナス型フラスコに、実施例1で得られたフェニルトリクロロシラン−メチルジクロロシラン共重合体7.5g、およびテトラヒドロフラン30gを仕込み、撹拌により溶液を作製した後、触媒H2PtCl6・6H2Oを0.001mol/Lの割合で含むイソプロパノール(IPA)溶液2.5mlを加え、室温で約30分間撹絆した。この混合物に、予め蒸留により精製したアクリル酸3.7gを滴下しながら加熱し、67℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を厚み5μmのろ紙でろ過した。得られたろ液にトルエン100mlを加え、水20mlで3回抽出を行った後、トルエン層を硫酸マグネシウムで脱水し、厚み5μmのろ紙でろ過した。脱水したろ液を70℃で減圧蒸留し、溶媒およびアクリル酸を除去した。さらに真空下で70℃で24時間乾燥を行うことにより、カルボキシル基を有するコポリシラン11.2gを得た(収率100%)。
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム90gと、触媒として塩化リチウム20gとを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して、反応器(フラスコ)内部を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン(THF)500mlを加え、25℃で約60分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したメチルフェニルジクロロシラン114.7g(0.6mol)とフェニルジクロロシラン35.4g(0.2mol)とをシリンジで加え、25℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸2000mlを投入し、さらにトルエン500mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで10回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、メチルフェニルジクロロシラン−フェニルジクロロシラン共重合体(前者/後者(モル比)=3/1)を得た(重量平均分子量4000)。
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム40gと、触媒として塩化リチウム20gとを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して、反応器(フラスコ)内部を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン(THF)500mlを加え、25℃で約60分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したフェニルトリクロロシラン31.7g(0.15mol)とメチルジクロロシラン34.5g(0.3mol)とをシリンジで加え、25℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸1000mlを投入し、さらにトルエン500mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで10回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、フェニルトリクロロシラン−メチルジクロロシラン共重合体(前者/後者(モル比)=1/2)を得た(重量平均分子量3500)。
実施例1において、アクリル酸エチル5.0gに代えて2−アリルフェノール6.7g(50mmol)を使用する以外は実施例1と同様に反応を行い、ヒドロキシル基(フェノール性水酸基)を有するコポリシラン11.7gを得た(収率100%)。
実施例1において、アクリル酸エチル5.0gに代えてメタクリル酸グリシジル7.2g(50mmol)を使用する以外は実施例1と同様に反応を行い、グリシジル基を有するコポリシラン14.7gを得た(収率100%)。
内容積300mlのナス型フラスコに、実施例1で得られたフェニルトリクロロシラン−メチルジクロロシラン共重合体7.5g、シクロヘキサノン30gを仕込み、撹拌により溶液を作製した後、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.41gを加えて加熱し、100℃で約12時間攪拌した。反応終了後、反応混合物を厚み5μmのろ紙でろ過した。そして、得られたろ液を80℃で減圧蒸留し、余剰のシクロヘキサノンを除去した。さらに真空下、80℃で24時間乾燥を行うことにより、シクロヘキシルオキシを有するコポリシラン9.3gを得た(収率75%)。
マグネシウムMgを用いて、メチルフェニルジクロロシラン(MePhSiCl2)を重合し、ポリメチルフェニルシラン(PMPS、重量平均分子量20000)を得た。
マグネシウムMgを用いて、ジフェニルジクロロシラン(Ph2SiCl2)を重合し、ポリジフェニルシラン(PDPS、重量平均分子量900)を得た。
マグネシウムMgを用いて、フェニルトリクロロシラン(PhSiCl3)を重合し、ポリフェニルシリン(PPSi、重量平均分子量2000)を得た。
マグネシウムMgを用いて、フェニルトリクロロシラン(PhSiCl3)と、メチルフェニルジクロロシラン(MePhSiCl2)とを共重合し、フェニルトリクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体(PPSi−PMPS、重量平均分子量3000、共重合比1/2)を得た。
△…わずかに溶解するか又は溶け残りがある
×…不溶物がある。
△…膜にムラがある
×…膜にクラックが生じている。
△…わずかに溶解する
×…白濁又は溶解する。
実施例2で得られたカルボキシル基を有するコポリシラン(カルボキシル基当量=400g/eq)1.69重量部と、エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、旭化成(株)製:AER−260、エポキシ当量=189g/eq)0.8重量部と、触媒(東京化成工業(株)製:2−メチルイミダゾール;2−Mz)0.017重量部とを固形分35重量%となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に混合した溶液を作製した。得られた溶液を十分に攪拌して溶解後、ろ過して、機能性ポリシランとエポキシ樹脂とで構成された樹脂組成物を得た。
コポリシランを1.69重量部から1.46重量部に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂0.8重量部をフェノールノボラック型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ(株)製:EPN−1138、エポキシ当量=219g/eq)0.8重量部に、および触媒0.017重量部を0.015重量部に代えたこと以外は、実施例8と同様にして樹脂組成物を得た。
コポリシランを1.69重量部から1.78重量部に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂0.8重量部をクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ(株)製:ECN−1273、エポキシ当量=179g/eq)0.8重量部に、および触媒0.017重量部を0.018重量部に代えたこと以外は、実施例8と同様にして樹脂組成物を得た。
△…膜にムラがある
×…膜にクラックが生じている。
△…一部剥離する
×…完全に剥離する。
エポキシ樹脂としての実施例7で得られたグリシジル基を有するコポリシラン(エポキシ当量=570g/eq)2.75重量部と、エポキシ硬化剤(新日本理化(株)製:リカシッドMH−700、酸無水物基当量=166g/eq)0.72重量部と、触媒(東京化成工業(株)製:2−メチルイミダゾール;2−Mz)0.012重量部とを固形分35重量%となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に混合した溶液を作製した。得られた溶液を十分に攪拌して溶解後、ろ過して、機能性ポリシランと硬化剤とで構成された樹脂組成物を得た。
コポリシランを2.75重量部から0.8重量部に、エポキシ硬化剤0.72重量部をノルボルナンジアミン(三井化学(株)製:NBDA、アミン当量=38.5g/eq)0.054重量部に、および触媒0.012重量部を0重量部に代えたこと以外は、実施例11と同様にして樹脂組成物を得た。
コポリシランを2.75重量部から1.11重量部に、エポキシ硬化剤0.72重量部を、実施例6で得られたヒドロキシル基(フェノール性水酸基)を有するコポリシラン(水酸基当量=411g/eq)0.8重量部に代えたこと以外は、実施例11と同様にして樹脂組成物を得た。
△…膜にムラがある
×…膜にクラックが生じている。
△…一部剥離する
×…完全に剥離する。
Claims (11)
- 下記式(1)で表される構造単位を有するポリシランに、ヒドロシリル化可能な化合物が付加した機能性ポリシランであって、
前記式(1)で表される構造単位を有するポリシランが、式(1)で表される構造単位と、下記式(2)〜(4)で表される構造単位のうち、少なくとも式(3)で表される分岐状構造単位とを有するコポリシランであり、
ヒドロシリル化可能な化合物が、炭素−炭素不飽和結合を含有する基と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、酸無水物基、カルボニル基、エステル基、エポキシ基、およびアミノ基から選択された少なくとも1種の官能基とを有する化合物である、機能性ポリシラン。 - 式(1)で表される構造単位の割合が、ケイ素原子換算で、3〜90モル%である請求項1記載の機能性ポリシラン。
- 式(3)で表される構造単位および式(4)で表される構造単位は分岐状構造単位を示し、式(1)で表される構造単位と分岐状構造単位との割合が、ケイ素原子換算で、前者/後者(モル比)=90/10〜3/97である請求項1記載の機能性ポリシラン。
- 請求項1に記載の式(1)で表される構造単位と、請求項1に記載の式(2)〜(4)で表される構造単位のうち、少なくとも式(3)で表される分岐状構造単位とを有するコポリシランと、
炭素−炭素不飽和結合を含有する基と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、酸無水物基、カルボニル基、エステル基、エポキシ基、およびアミノ基から選択された少なくとも1種の官能基とを有するヒドロシリル化可能な化合物とを反応させて請求項1記載の機能性ポリシランを製造する方法。 - ラジカル発生剤又は貴金属触媒の存在下で、式(1)で表される構造単位を有するポリシランとヒドロシリル化可能な化合物とを反応させる請求項4記載の製造方法。
- 請求項1記載の機能性ポリシランで構成された樹脂組成物であって、下記(i)又は(ii)の樹脂組成物。
(i)請求項1記載の機能性ポリシランと、硬化剤とで構成された硬化性樹脂組成物
(ii)請求項1記載の機能性ポリシランと、請求項1記載の機能性ポリシラン以外の樹脂とで構成された樹脂組成物 - エポキシ基を有する請求項1記載の機能性ポリシランと、硬化剤とで構成された請求項7記載の樹脂組成物。
- 硬化剤が、ヒドロキシル基、カルボキシル基、酸無水物基およびアミノ基から選択された少なくとも1種の官能基を有する請求項1記載の機能性ポリシランである請求項8記載の樹脂組成物。
- 請求項1記載の機能性ポリシランと、熱又は光硬化性樹脂とで構成されている請求項7記載の樹脂組成物。
- 熱又は光硬化性樹脂が、エポキシ樹脂又は末端シラノール基を有するポリシランである請求項10記載の樹脂組成物。
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WO2013105556A1 (ja) * | 2012-01-10 | 2013-07-18 | 三菱化学株式会社 | コーティング用組成物、多孔質膜、光散乱膜及び有機電界発光素子 |
DE102012212365B4 (de) * | 2012-07-13 | 2021-05-20 | Bjs Ceramics Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Polysilans |
DE102012221669A1 (de) * | 2012-11-27 | 2014-05-28 | Evonik Industries Ag | Verfahren zum Herstellen kohlenstoffhaltiger Hydridosilane |
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CN106803445A (zh) * | 2015-11-10 | 2017-06-06 | 李聪 | 一种抗震电缆 |
KR102143709B1 (ko) * | 2016-04-11 | 2020-08-11 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기 폴리실란의 제조 방법 |
JP6989525B2 (ja) * | 2016-12-28 | 2022-01-05 | 東京応化工業株式会社 | ポリシラン化合物の製造方法、組成物、膜、及び基板 |
JP6943594B2 (ja) * | 2017-03-30 | 2021-10-06 | 大阪ガスケミカル株式会社 | ネットワーク状ポリシラン及びその製造方法 |
JP6919626B2 (ja) * | 2018-05-17 | 2021-08-18 | 信越化学工業株式会社 | シルフェニレン骨格及びポリエーテル骨格を含むポリマー |
CN111801388B (zh) * | 2018-09-20 | 2022-04-01 | 株式会社Lg化学 | 高折射组合物、高折射膜和用于制造高折射膜的方法 |
CN110931638A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-03-27 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 钙钛矿膜的制备方法及用于制备钙钛矿膜的组合物 |
KR20240039162A (ko) | 2021-07-29 | 2024-03-26 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 규소-함유 막 형성 조성물 및 이를 사용한 규소-함유 막의 제조 방법 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62201933A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-09-05 | マサチユ−セツツ・インステチユ−ト・オブ・テクノロジ− | 新規なシリコン含有プレセラミツクポリマ−の製造方法 |
FR2616152A1 (fr) * | 1987-06-03 | 1988-12-09 | Inst Rech Appliquee Polym | Nouveaux polysilanes, polysilanes modifies correspondants, leur preparation et leur application dans des compositions reticulables |
JPH0317131A (ja) * | 1989-06-14 | 1991-01-25 | Tonen Corp | ポリシラン類の製造方法 |
JPH0413726A (ja) * | 1990-05-01 | 1992-01-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 感光性ポリシランおよびその製造法 |
JPH04363327A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-12-16 | Toshiba Corp | ポリシラン |
JPH05170947A (ja) * | 1991-03-26 | 1993-07-09 | Toshiba Corp | ポリシラン単分子膜およびポリシラン累積膜 |
JPH07239487A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-12 | Toshiba Corp | 光機能デバイス |
JPH08510292A (ja) * | 1993-05-18 | 1996-10-29 | エスアールアイ インターナショナル | プレセラミックケイ素ポリマー |
JPH09241385A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-16 | Toshiba Corp | 含フッ素ポリシラン共重合体、ケイ素ポリマー組成物、および含フッ素シロキサン架橋体の製造方法 |
JPH1135688A (ja) * | 1997-05-19 | 1999-02-09 | Canon Inc | 珪素含有化合物、該珪素含有化合物の製造方法及び該珪素含有化合物を用いた発光素子 |
JPH11189652A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機ケイ素系ポリマー及びその製造方法 |
JP2001048986A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-02-20 | Agency Of Ind Science & Technol | 官能基を有する有機ケイ素ポリマーおよびその製造方法 |
JP2002226586A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-14 | Osaka Gas Co Ltd | 活性金属マグネシウム及びそれを用いたポリシランの製造方法 |
JP2003277507A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシラン系コポリマーの製造方法 |
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WO1998044018A1 (fr) * | 1997-03-27 | 1998-10-08 | Osaka Gas Company Limited | Composition de resine epoxyde et objets moules |
TW538096B (en) * | 1999-06-25 | 2003-06-21 | Shinetsu Chemical Co | Nitrogen atom-containing polysiloxanes, their preparation, and fiber and fabric finishing agent compositions |
JP2003001002A (ja) * | 2001-06-18 | 2003-01-07 | Higashimaru Shoyu Co Ltd | 液状物の抽出方法 |
WO2003087228A1 (fr) * | 2002-04-12 | 2003-10-23 | Clariant International Ltd. | Composition de copolymere contenant du silicium, copolymere contenant du silicium reticule soluble dans un solvant, et articles durcis obtenus a partir de ladite composition |
CN100590149C (zh) * | 2003-07-18 | 2010-02-17 | 小西株式会社 | 固化性树脂组合物及常温固化性粘结剂 |
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Patent Citations (15)
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JPS62201933A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-09-05 | マサチユ−セツツ・インステチユ−ト・オブ・テクノロジ− | 新規なシリコン含有プレセラミツクポリマ−の製造方法 |
FR2616152A1 (fr) * | 1987-06-03 | 1988-12-09 | Inst Rech Appliquee Polym | Nouveaux polysilanes, polysilanes modifies correspondants, leur preparation et leur application dans des compositions reticulables |
JPH0317131A (ja) * | 1989-06-14 | 1991-01-25 | Tonen Corp | ポリシラン類の製造方法 |
JPH0413726A (ja) * | 1990-05-01 | 1992-01-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 感光性ポリシランおよびその製造法 |
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