JP5381983B2 - 電子部品 - Google Patents

電子部品 Download PDF

Info

Publication number
JP5381983B2
JP5381983B2 JP2010516802A JP2010516802A JP5381983B2 JP 5381983 B2 JP5381983 B2 JP 5381983B2 JP 2010516802 A JP2010516802 A JP 2010516802A JP 2010516802 A JP2010516802 A JP 2010516802A JP 5381983 B2 JP5381983 B2 JP 5381983B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
insulating layer
axis direction
electronic component
strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010516802A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2009150921A1 (ja
Inventor
陽一 中辻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2010516802A priority Critical patent/JP5381983B2/ja
Publication of JPWO2009150921A1 publication Critical patent/JPWO2009150921A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5381983B2 publication Critical patent/JP5381983B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • H01F17/0013Printed inductances with stacked layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F3/00Cores, Yokes, or armatures
    • H01F3/10Composite arrangements of magnetic circuits
    • H01F2003/106Magnetic circuits using combinations of different magnetic materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • H01F17/0013Printed inductances with stacked layers
    • H01F2017/002Details of via holes for interconnecting the layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F3/00Cores, Yokes, or armatures
    • H01F3/10Composite arrangements of magnetic circuits
    • H01F3/14Constrictions; Gaps, e.g. air-gaps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Description

本発明は、電子部品に関し、より特定的には、積層体内にコイルを内蔵している電子部品に関する。
コイルを内蔵している従来の電子部品としては、例えば、特許文献1に記載の積層型インダクタンス素子が知られている。該積層型インダクタンス素子は、内部導体からなる螺旋状のコイルと、該コイルのコイル軸と直交するように設けられた第1の非磁性体層と、内部導体間に設けられている第2の非磁性体層とにより構成されている。
前記積層型インダクタンス素子によれば、コイルを横切るように第1の非磁性体層が設けられているので、コイルが開磁路構造をとるようになる。その結果、積層型インダクタンス素子の電流が大きくなっても、磁気飽和によるインダクタンス値の急激な低下が発生しにくくなる。すなわち、積層インダクタンス素子の直流重畳特性が向上する。
ところで、コイルを内蔵している電子部品は、携帯電話等の電子機器内のDC−DCコンバータに用いられることがある。携帯電話等の電子機器では、通常の動作を行っている通常状態と多くの機能を停止している待機状態とが存在する。通常状態では、比較的大きな電流がDC−DCコンバータを構成する電子部品のコイルに流れ(以下、高出力電流領域と称す)、待機状態では、微弱な電流がDC−DCコンバータを構成する電子部品のコイルに流れる(以下、低出力電流領域と称す)。
前記電子部品において、低出力電流領域では、十分に大きなインダクタンス値が得られるような直流重畳特性が要求される。一方、該電子部品において、高出力電流領域では、コイルを流れる直流電流値が変化してもインダクタンス値が大きく変化しない安定した直流重畳特性が要求される。以下では、このように、低出力電流領域で十分に大きなインダクタンス値が得られ、かつ、高出力電流領域で安定したインダクタンス値が得られるような直流重畳特性を階段状の直流重畳特性と呼ぶ。
しかしながら、特許文献1に記載の積層型インダクタンス素子では、階段状の直流重畳特性を得ることができない。より具体的には、該積層型インダクタンス素子では、磁気飽和によるインダクタンス値の急激な低下が発生しないので、積層型インダクタンス素子は、直流電流の増加に伴い単調にインダクタンス値が徐々に減少する直流重畳特性を有する。したがって、積層型インダクタンス素子は、DC−DCコンバータに適用しにくいという問題を有していた。
特開2007−214424号公報
そこで、本発明の目的は、階段状の直流重畳特性を有するコイルを内蔵した電子部品を提供することである。
本発明の第1の形態に係る電子部品は、複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記積層体内に設けられているコイルと、前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、を備えており前記第2の絶縁層は、前記コイル軸方向から平面視したときに、前記コイルの内側に設けられており、前記コイルは、前記複数の第1の絶縁層と共に積層されている複数のコイル電極により構成されており、前記コイル軸方向は、積層方向と平行であること、を特徴とする。
本発明の第2の形態に係る電子部品は、複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記積層体内に設けられているコイルと、前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、を備えており、前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、前記コイルは、相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、を含んだ螺旋状のコイルであり、前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、を特徴とする。
本発明の第3の形態に係る電子部品は、複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記積層体内に設けられているコイルと、前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、を備えており、前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、前記コイルは、相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、を含んだ螺旋状のコイルであり、前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層と、前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層との間に設けられており、前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、を特徴とする。
本発明の第4の形態に係る電子部品は、複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記積層体内に設けられているコイルと、前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、を備えており、前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、前記コイルは、相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、を含んだ螺旋状のコイルであり、 前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、前記第2の絶縁層は、前記コイル軸方向において、前記第1の絶縁層と交互に並んでいること、を特徴とする。
本発明によれば、階段状の直流重畳特性を有する電子部品を得ることができる。
第1の実施形態に係る電子部品の透視図である。 第1の実施形態に係る電子部品の積層体の分解斜視図である。 図1の電子部品のA−Aにおける断面構造図である。 比較例に係る電子部品の断面構造図である。 解析結果を示したグラフである。 第1の実施形態に係る電子部品の第1の変形例に係る電子部品の断面構造図である。 比較例に係る電子部品の断面構造図である。 解析結果を示したグラフである。 第1の実施形態に係る電子部品の第2の変形例に係る電子部品の積層体の分解斜視図である。 第2の実施形態に係る電子部品の透視図である。 第2の実施形態に係る電子部品の積層体の分解斜視図である。 図10の電子部品のB−Bにおける断面構造図である。 第2の実施形態に係る電子部品の第1の変形例に係る電子部品の断面構造図である。 第2の実施形態に係る電子部品の第の変形例に係る電子部品の断面構造図である。
以下に、本発明の実施形態に係る電子部品について説明する。
(第1の実施形態)
(電子部品の構成)
以下に、本発明の第1の実施形態に係る電子部品10aについて図面を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態に係る電子部品10aの透視図である。図2は、第1の実施形態に係る電子部品10aの積層体12aの分解斜視図である。図3は、図1の電子部品10aのA−Aにおける断面構造図である。以下、電子部品10aの積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10aの長辺に沿った方向をx軸方向と定義し、電子部品10aの短辺に沿った方向をy軸方向と定義する。x軸、y軸及びz軸は互いに直交している。
電子部品10aは、図1に示すように、積層体12a及び外部電極14a,14bを備えている。積層体12aは、直方体状を有しており、コイルLを内蔵している。外部電極14a,14bはそれぞれ、コイルLに電気的に接続されており、x軸方向の両端に位置する側面を覆うように形成されている。
積層体12aは、図2に示すように、複数の長方形状の磁性体層16a〜16l(絶縁層)がz軸方向の上から順に積層されて構成されている。磁性体層16a〜16lは、強磁性のフェライト(例えば、Ni−Zn−Cuフェライト又はNi−Znフェライト等)により作製されている。なお、図2において、磁性体層16a〜16lは、12層の磁性体層により構成されているが、磁性体層16a〜16lの総数はこれに限らない。以下では、個別の磁性体層16a〜16lを指す場合には、参照符号の後ろにアルファベットを付し、これらを総称する場合には、参照符号の後ろのアルファベットを省略する。
コイルLは、図2に示すように、旋廻しながらz軸方向に進行する螺旋状のコイルである。すなわち、コイルLのコイル軸Xは、図3に示すように、z軸方向に平行である。コイルLは、図2に示すように、コイル電極18a〜18f、引き出し部20a,20b及びビアホール導体b1〜b5を含んでいる。
コイル電極18a〜18fはそれぞれ、図2に示すように、磁性体層16d〜16iの主面上に形成されており、磁性体層16と共に積層されている。各コイル電極18a〜18fは、Agからなる導電性材料からなり、7/8ターン分の長さを有しており、z軸方向に互いに重なるように配置されている。これにより、コイル電極18a〜18fにより構成されるコイルLは、z軸方向から平面視したときに、長方形状の環を形成するようになる。なお、コイル電極18a〜18fの長さは、7/8ターンに限らない。以下では、個別のコイル電極18a〜18fを指す場合には、参照符号の後ろにアルファベットを付し、これらを総称する場合には、参照符号の後ろのアルファベットを省略する。
また、コイル電極18a,18fの端部にはそれぞれ、引き出し部20a,20bが設けられている。引き出し部20a,20bはそれぞれ、外部電極14a,14bと接続されている。これにより、コイルLは、外部電極14a,14bに接続される。
ビアホール導体b1〜b5はそれぞれ、図2に示すように、磁性体層16d〜16hをz軸方向に貫通するように形成されている。ビアホール導体b1〜b5は、磁性体層16a〜16lが積層されたときに、隣り合うコイル電極18同士を接続する接続部として機能する。より詳細には、ビアホール導体b1は、コイル電極18aの端部の内、引き出し部20aが設けられていない方の端部と、コイル電極18bの端部とを接続している。ビアホール導体b2は、コイル電極18bの端部の内、ビアホール導体b1が接続されていない方の端部と、コイル電極18cの端部とを接続している。ビアホール導体b3は、コイル電極18cの端部の内、ビアホール導体b2が接続されていない方の端部と、コイル電極18dの端部とを接続している。ビアホール導体b4は、コイル電極18dの端部の内、ビアホール導体b3が接続されていない方の端部と、コイル電極18eの端部とを接続している。ビアホール導体b5は、コイル電極18eの端部の内、ビアホール導体b4が接続されていない方の端部と、コイル電極18fの端部の内、引き出し部20bが設けられていない方の端部とを接続している。
また、磁性体層16e〜16hにはそれぞれ、非磁性体層22a〜22dが設けられている。非磁性体層22a〜22dはそれぞれ、図2及び図3に示すように、コイルLのコイル軸X方向(本実施形態ではz軸方向)から平面視したときに、コイルLと隙間Sが空けられた状態で積層体12aに設けられている絶縁層である。隙間Sは、10μm以上150μm以下の幅Wを有していることが好ましい。本実施形態では、非磁性体層22a〜22dはそれぞれ、図2に示すように、磁性体層16e〜16hの主面上において、コイル電極18b〜18eの外側において、該コイル電極18b〜18eの周囲を囲むように設けられている。ただし、非磁性体層22a〜22dは、必ずしも、コイル電極18b〜18eを囲むように環状に形成されている必要はなく、コイル電極18b〜18eの外側の一部に形成されていてもよい。また、以下では、個別の非磁性体層22a〜22dを指す場合には、参照符号の後ろにアルファベットを付し、これらを総称する場合には、参照符号の後ろのアルファベットを省略する。
(効果)
以上のように構成された電子部品10aによれば、コイル軸X方向から平面視したときに、非磁性体層22がコイルLと隙間Sを残した状態で設けられているので、以下に説明するように、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
より詳細には、コイルLに発生する磁束は、図3に示すように、z軸方向に並ぶコイル電極18a〜18fを周回する磁束φ1,φ2からなっている。電子部品10aにおいて、非磁性体層22とコイルLとの間に隙間Sを設けることにより、磁束φ1は、コイル電極18a〜18fの周囲において、非磁性体層22とコイルLとの隙間Sを通過するようになる。すなわち、磁束φ1は、閉磁路を形成する。一方、磁束φ2は、コイル電極18a〜18fの周囲において、磁束φ1よりも大回りに周回しており、非磁性体層22を通過する。すなわち、磁束φ2は、開磁路を形成する。なお、図3に示す電子部品10aの断面構造では、コイル電極18a〜18fは、コイル軸Xを挟んで左右に2列に並んでいるので、磁束φ1,φ2は、コイル電極18a〜18fのそれぞれの列において発生している。
まず、コイルLに流す直流電流が微小な場合には、磁束φ1,φ2が通過しているいずれの領域でも、磁気飽和は発生していない。更に、磁束φ1は、閉磁路を構成しているので、コイルLのインダクタンス値は、十分な大きさをとっている。
次に、コイルLに流す直流電流値を徐々に大きくしていくと、閉磁路である磁束φ1が通過している領域において、磁気飽和が発生する。ただし、磁束φ2が開磁路であるので、磁束φ1が通過している領域に磁気飽和が発生した直後では、磁束φ2が通過している領域では、磁気飽和は発生していない。そのため、コイルLでは、磁束φ1が寄与しているインダクタンス値のみ、急激に低下する。一方、コイルLでは、磁束φ2が寄与しているインダクタンス値は、大きく低下することなく維持される。
次に、コイルLに流れる直流電流値を更に大きくしていくと、磁束φ2が通過している領域に磁気飽和が発生するまでは、コイルLのインダクタンス値は、大きく低下することなく維持される。この後、コイルLに流れる直流電流値を更に大きくしていくと、磁束φ2が通過している領域においても磁気飽和が発生し、コイルLのインダクタンスは、再び急激に低下する。以上より、電子部品10aによれば、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
(解析結果)
本願発明者は、電子部品10aが奏する効果をより明確なものとするために、以下に説明するコンピュータシミュレーションによる解析を行った。より詳細には、図3に示す本実施形態に係る電子部品10aに相当する第1のモデルを作成し、該第1のモデルの直流重畳特性を計算した。また、図4の断面図に示す比較例に係る電子部品110aに相当する第2のモデルを作成し、該第2のモデルの直流重畳特性を計算した。電子部品10aと電子部品110aとは、電子部品10aではコイル電極18と非磁性体層22との間に隙間Sが存在するのに対して、電子部品110aではコイル電極18と非磁性体層122との間に隙間Sが存在しない点において相違する。また、第1のモデルと第2のモデルとは、共にインダクタンス値の初期値が揃うように設計した。ただし、第1のモデルのコイルLと第2のモデルのコイルLとを同じ構成にした場合には、第1のモデルのインダクタンス値の初期値は、第2のモデルのインダクタンス値の初期値よりも大きくなる。すなわち、第1のモデルは、微小な直流電流では、第2のモデルよりも大きなインダクタンス値を有している。
図5は、解析結果を示したグラフである。縦軸は、インダクタンス値を示し、横軸は、直流電流値を示す。図5に示すように、第2のモデルの直流重畳特性は、直流電流値の増加に伴って、インダクタンス値が単調に減少しているのに対して、第1のモデルの直流重畳特性は、階段状となっていることがわかる。より詳細には、第2のモデルでは、直流電流値が大きくなるにしたがって、徐々にインダクタンス値が低下する直流重畳特性が得られている。一方、第1のモデルでは、直流電流が少し流れると、インダクタンス値が低下し、その後、インダクタンス値が大きく低下することなく維持されている。
以上より、電子部品10aでは、コイルLに流れる直流電流が微小な領域では、十分に大きなインダクタンス値が得られる直流重畳特性が得られ、かつ、コイルLに流れる直流電流が大きい領域では、直流電流値が変化してもインダクタンス値が殆ど変化しない直流重畳特性が得られる。その結果、該電子部品10aを好適にDC−DCコンバータに適用することができる。
(電子部品の製造方法)
以下に、電子部品10aの製造方法について図面を参照しながら説明する。
磁性体層16a〜16lとなるセラミックグリーンシートを、以下の工程により作製する。酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ニッケル(NiO)、及び、酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量し、それぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を750℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、強磁性のフェライトセラミック粉末を得る。
このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、シート状に形成して乾燥させ、磁性体層16a〜16lとなるセラミックグリーンシートを作製する。
次に、磁性体層16d〜16hとなるセラミックグリーンシートのそれぞれに、ビアホール導体b1〜b5を形成する。具体的には、図2に示すように、磁性体層16d〜16hとなるセラミックグリーンシートにレーザビームを照射してビアホールを形成する。次に、このビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性ペーストを印刷塗布などの方法により充填する。
次に、磁性体層16d〜16iとなるセラミックグリーンシート上に、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などを主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法などの方法で塗布することにより、コイル電極18a〜18f及び引き出し部20a,20bを形成する。なお、コイル電極18a〜18f及び引き出し部20a,20bの形成と同時に、ビアホール導体に対して導電性ペーストを充填してもよい。
次に、以下に説明する工程により、磁性体層16e〜16hとなるセラミックグリーンシート上に非磁性体層22a〜22dとなる層を形成する。酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、及び、酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量し、それぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を750℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、非磁性のフェライトセラミック粉末を得る。
このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをスクリーン印刷により、磁性体層16e〜16hに塗布する。この後、セラミックスラリーを乾燥させることにより、図2に示すように、非磁性体層22a〜22dとなる層が磁性体層16e〜16hとなるセラミックグリーンシート上に形成される。
次に、図2に示すように、磁性体層16a〜16lとなるセラミックグリーンシートを上側から下側へとこの順に並ぶように積層する。より詳細には、磁性体層16lとなるセラミックグリーンシートを配置する。次に、磁性体層16lとなるセラミックグリーンシート上に、磁性体層16kとなるセラミックグリーンシートの配置及び仮圧着を行う。この後、磁性体層16j,16i,16h,16g,16f,16e,16d,16c,16b,16aとなるセラミックグリーンシートについても同様にこの順番に積層及び仮圧着して、マザー積層体を得る。更に、マザー積層体には、静水圧プレスなどにより本圧着が施される。
次に、マザー積層体をギロチンカットにより所定寸法の積層体12aにカットして、未焼成の積層体12aを得る。この未焼成の積層体12aには、脱バインダー処理及び焼成がなされる。脱バインダー処理は、例えば、低酸素雰囲気中において500℃で2時間の条件で行う。焼成は、例えば、1000℃で2時間の条件で行う。
以上の工程により、焼成された積層体12aが得られる。積層体12aには、バレル加工を施して、面取りを行う。その後、積層体12aの表面には、例えば、浸漬法等の方法により主成分が銀である電極ペーストを塗布及び焼き付けすることにより、外部電極14a,14bとなるべき銀電極を形成する。銀電極の乾燥は、120℃で10分間行われ、銀電極の焼き付けは、890℃で60分間行われる。最後に、銀電極の表面に、Niめっき/Snめっきを施すことにより、外部電極14a,14bを形成する。以上の工程を経て、図1に示すような電子部品10aが完成する。
(第1の変形例)
以下に、電子部品10aの第1の変形例に係る電子部品10bについて説明する。図6は、第1の変形例に係る電子部品10bの断面構造図である。なお、電子部品10bの外観斜視図については、図1を援用する。
図3に示した電子部品10aでは、非磁性体層22a〜22dの4枚の非磁性体層が設けられているが、非磁性体層の数はこれに限らない。図6に示す電子部品10bのように、2枚の非磁性体層22b,22cが設けられていてもよい。図6に示す電子部品10bにおいても、以下に説明する解析結果からわかるように、階段状の直流重畳特性を得ることできる。
本解析では、図6に示す本実施形態に係る電子部品10bに相当する第3のモデルを作成し、該第3のモデルの直流重畳特性を計算した。また、図7の断面図に示す比較例に係る電子部品110bに相当する第4のモデルを作製し、該第4のモデルの直流重畳特性を計算した。電子部品10bと電子部品110bとは、電子部品10bではコイル電極18と非磁性体層22との間に隙間Sが存在するのに対して、電子部品110bではコイル電極18と非磁性体層122との間に隙間Sが存在しない点において相違する。また、第3のモデルと第4のモデルとは、共にインダクタンス値の初期値が揃うように設計した。
図8は、解析結果を示したグラフである。縦軸は、インダクタンス値を示し、横軸は、直流電流値を示す。図8に示すように、第4のモデルの直流重畳特性は、直流電流値の増加に伴って、インダクタンス値が単調に減少しているのに対して、第3のモデルの直流重畳特性は、階段状となっていることがわかる。
(第2の変形例)
次に、電子部品10aの第2の変形例に係る電子部品10cについて図面を参照しながら説明する。図9は、第2の変形例に係る電子部品10cの積層体12cの分解斜視図である。なお、電子部品10cの外観斜視図については、図1を援用する。
電子部品10aでは、非磁性体層22a〜22dは、コイル軸X方向から平面視したときに、コイルLの外側に設けられている。しかしながら、非磁性体層22a〜22dが設けられる位置は、これに限らない。図9に示すように、非磁性体層32a〜32dは、コイル軸X方向から平面視したときに、コイルLの内側に設けられていてもよい。
より詳細には、非磁性体層32a〜32dは、磁性体層16e〜16h上において、コイル電極18b〜18eに囲まれた領域内に該コイル電極18b〜18eと隙間Sを空けた状態で形成されている。以上のような構成を有する電子部品10cにおいても、電子部品10aと同様に、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
なお、電子部品10a〜10cにおいて、非磁性体層22a〜22d,32a〜32dが設けられているが、例えば、非磁性体層22a〜22d,32a〜32dの代わりに、磁性体層16よりも低い透磁率を有する磁性体層が設けられていてもよい。
(第2の実施形態)
(電子部品の構成)
以下に、本発明の第2の実施形態に係る電子部品10dについて図面を参照しながら説明する。図10は、第2の実施形態に係る電子部品10dの透視図である。図11は、第2の実施形態に係る電子部品10dの積層体12dの分解斜視図である。図12は、図10の電子部品10dのB−Bにおける断面構造図である。以下、電子部品10dの積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10dの長辺に沿った方向をx軸方向と定義し、電子部品10dの短辺に沿った方向をy軸方向と定義する。x軸、y軸及びz軸は互いに直交している。図10では、内部の様子が理解し易いように、外部電極14bの一部をカットして記載した。また、電子部品10aと同じ構成については、同じ参照符号を付した。
電子部品10dは、図10に示すように、積層体12d及び外部電極14a,14bを備えている。積層体12dは、直方体状を有しており、コイルLを内蔵している。外部電極14a,14bはそれぞれ、コイルLに電気的に接続されており、x軸方向の両端に位置する側面を覆うように形成されている。
積層体12dは、図11に示すように、複数の長方形状の磁性体層47a,47b,46a〜46j,47c,47d(絶縁層)がz軸方向の上から順に積層されて構成されている。磁性体層47a,47b,46a〜46j,47c,47dは、強磁性のフェライト(例えば、Ni−Zn−Cuフェライト又はNi−Znフェライト等)により作製されている。ただし、磁性体層46a〜46jの透磁率は、磁性体層47a〜47dの透磁率よりも高い。故に、磁性体層46a〜46jのNiの含有率は、磁性体層47a〜47dのNiの含有率よりも高い。また、磁性体層47a〜47dは、磁性体層46a〜46jと同じ形状(長方形状)を有している。
なお、図11において、磁性体層46a〜46jは、10層の磁性体層により構成されているが、磁性体層46a〜46jの数はこれに限らない。電子部品10dにおいて、磁性体層46eと磁性体層46fとの間に更なる磁性体層が挿入されていてもよい。そのため、磁性体層46eと磁性体層46fとの間は、点線で繋いである。以下では、個別の磁性体層46a〜46j,47a〜47dを指す場合には、参照符号の後ろにアルファベットを付し、これらを総称する場合には、参照符号の後ろのアルファベットを省略する。
コイルLは、図10に示すように、旋廻しながらx軸方向に進行する螺旋状のコイルである。すなわち、コイルLのコイル軸は、x軸方向に平行である。コイルLは、図11に示すように、引き出し電極48a,48b、複数の帯状電極50a〜50f,52a〜52g及び複数のビアホール導体B1〜B14,B21〜B34を含んでいる。
引き出し電極48a,48b及び帯状電極50a〜50fは、図11に示すように、相対的にz軸方向の上側に位置している磁性体層46c上に形成されている。帯状電極50a〜50fは、z軸方向の上側から平面視したときに、xy平面において正の傾きを有するように傾斜すると共に、互いに平行となるように等間隔に形成されている。なお、帯状電極50a〜50fは、必ずしも平行である必要はない。
引き出し電極48aは、図11に示すように、略L字型を有しており、より詳細には、y軸方向の奥側から帯状電極50a〜50fと平行に延びていると共に、途中で折り曲げられてx軸方向の左側の辺まで引き出された形状を有している。同様に、引き出し電極48bは、略L字型を有しており、より詳細には、y軸方向の手前側から帯状電極50と平行に延びていると共に、途中で折り曲げられてx軸方向の右側の辺まで引き出された形状を有している。引き出し電極48a,48bはそれぞれ、外部電極14a,14bに対して接続されている。
引き出し電極48a,48b及び帯状電極50a〜50fが磁性体層46c上に形成されることにより、磁性体層47a,47bが、引き出し電極48a,48b及び帯状電極50a〜50fが形成されている磁性体層46cよりもz軸方向の上側に位置するようになる。更に、磁性体層47bと引き出し電極48a,48b及び帯状電極50a〜50fとの間には、磁性体層46a,46bが位置するようになる。そのため、図12に示すように、電子部品10dにおいても、コイル軸X方向から電子部品10dを平面視したときに、コイルLのz軸方向の上側と磁性体層47bとの間に隙間Sが形成されるようになる。
帯状電極52a〜52gは、図10及び図11に示すように、相対的にz軸方向の下側に位置している磁性体層46h上に形成されている。帯状電極52a〜52gは、z軸方向の上側から平面視したときに、xy平面において負の傾きを有するように傾斜すると共に、互いに平行となるように等間隔に形成されている。
帯状電極52a〜52gが磁性体層46h上に形成されることにより、磁性体層47c,47dが、帯状電極52a〜52gが形成されている磁性体層46hよりもz軸方向の下側に位置するようになる。更に、磁性体層47cと帯状電極52a〜52gとの間には、磁性体層46h〜46jが位置するようになる。そのため、図12に示すように、電子部品10dにおいても、コイル軸X方向から電子部品10dを平面視したときに、コイルLのz軸方向の下側と磁性体層47cとの間に隙間Sが形成されるようになる。なお、帯状電極52a〜52gは、必ずしも平行である必要はない。
ビアホール導体B21〜B27はそれぞれ、図11に示すように、引き出し電極48a及び帯状電極50a〜50fのy軸方向の奥側の端部と接続されており、磁性体層46cをz軸方向に貫通するように形成されている。ビアホール導体B28〜B34は、帯状電極50a〜50f及び引き出し電極48bのy軸方向の手前側の端部と接続されており、磁性体層46cをz軸方向に貫通するように形成されている。
ビアホール導体B1〜B7は、磁性体層46d〜46gのそれぞれにおいて、z軸方向から平面視したときに、ビアホール導体B21〜B27と一致する位置に形成されており、磁性体層46d〜46gをz軸方向に貫通するように形成されている。また、ビアホール導体B8〜B14は、磁性体層46d〜46gのそれぞれにおいて、z軸方向から平面視したときに、ビアホール導体B28〜B34と一致する位置に形成されており、磁性体層46d〜46gをz軸方向に貫通するように形成されている。
以上のように構成された磁性体層47a,47b,46a〜46j,47c,47dがこの順に並ぶように積層されることにより、図12に示すように、積層体12d内を旋廻しながらx軸方向に進行する螺旋状のコイルLが形成される。より詳細には、ビアホール導体B1とビアホール導体B21とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、引き出し電極48aのy軸方向の奥側の端部と帯状電極52aのy軸方向の奥側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B2とビアホール導体B22とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50aのy軸方向の奥側の端部と帯状電極52bのy軸方向の奥側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B3とビアホール導体B23とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50bのy軸方向の奥側の端部と帯状電極52cのy軸方向の奥側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B4とビアホール導体B24とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50cのy軸方向の奥側の端部と帯状電極52dのy軸方向の奥側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B5とビアホール導体B25とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50dのy軸方向の奥側の端部と帯状電極52eのy軸方向の奥側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B6とビアホール導体B26とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50eのy軸方向の奥側の端部と帯状電極52fのy軸方向の奥側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B7とビアホール導体B27とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50fのy軸方向の奥側の端部と帯状電極52gのy軸方向の奥側の端部とを接続する接続部として機能している。
また、ビアホール導体B8とビアホール導体B28とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50aのy軸方向の手前側の端部と帯状電極52aのy軸方向の手前側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B9とビアホール導体B29とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50bのy軸方向の手前側の端部と帯状電極52bのy軸方向の手前側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B10とビアホール導体B30とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50cのy軸方向の手前側の端部と帯状電極52cのy軸方向の手前側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B11とビアホール導体B31とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50dのy軸方向の手前側の端部と帯状電極52dのy軸方向の手前側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B12とビアホール導体B32とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50eのy軸方向の手前側の端部と帯状電極52eのy軸方向の手前側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B13とビアホール導体B33とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、帯状電極50fのy軸方向の手前側の端部と帯状電極52fのy軸方向の手前側の端部とを接続する接続部として機能している。ビアホール導体B14とビアホール導体B34とは、互いに接続されることにより、z軸方向に延在していると共に、引き出し電極48bのy軸方向の手前側の端部と帯状電極52gのy軸方向の手前側の端部とを接続する接続部として機能している。
(効果)
以上のように構成された電子部品10dによれば、図12に示すように、コイル軸X方向から平面視したときに、磁性体層46よりも低い透磁率を有する磁性体層47がコイルLと隙間Sを残した状態で設けられている。そのため、電子部品10aと同様に、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
(電子部品の製造方法)
以下に、電子部品10dの製造方法について図面を参照しながら説明する。
磁性体層46a〜46jとなるセラミックグリーンシートを、以下の工程により作製する。酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ニッケル(NiO)、及び、酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量し、それぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を750℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、フェライトセラミック粉末を得る。
このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、シート状に形成して乾燥させ、磁性体層46a〜46jとなるセラミックグリーンシートを作製する。
次に、磁性体層47a〜47dとなるセラミックグリーンシートを、以下の工程により作製する。酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ニッケル(NiO)、及び、酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量し、それぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。この際、磁性体層46a〜46jとなるセラミックグリーンシートの作製時よりも、酸化亜鉛(ZnO)の含有率を低くする。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を750℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、フェライトセラミック粉末を得る。
このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、シート状に形成して乾燥させ、磁性体層47a〜47dとなるセラミックグリーンシートを作製する。
次に、磁性体層46cとなるセラミックグリーンシートに、ビアホール導体B21〜B34を形成する。具体的には、図11に示すように、磁性体層46cとなるセラミックグリーンシートにレーザビームを照射してビアホールを形成する。次に、このビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性ペーストを印刷塗布などの方法により充填する。
また、磁性体層46d〜46gとなるセラミックグリーンシートに、ビアホール導体B1〜B14を形成する。具体的には、図11に示すように、磁性体層46d〜46gとなるセラミックグリーンシートにレーザビームを照射してビアホールを形成する。次に、このビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性ペーストを印刷塗布などの方法により充填する。
次に、磁性体層46cとなるセラミックグリーンシート上に、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などを主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法などの方法で塗布することにより、引き出し電極48a,48b及び帯状電極50a〜50fを形成する。なお、帯状電極50a〜50fを形成する工程とビアホールに対して導電性ペーストを充填する工程とは、同じ工程において行われてもよい。
次に、磁性体層46hとなるセラミックグリーンシート上に、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などを主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法などの方法で塗布することにより、帯状電極52a〜52gを形成する。
次に、図11に示すように、磁性体層47a,47b,46a〜46j,47c,47dとなるセラミックグリーンシートを上側から下側へとこの順に並ぶように積層する。より詳細には、磁性体層47dとなるセラミックグリーンシートを配置する。次に、磁性体層47dとなるセラミックグリーンシート上に、磁性体層47cとなるセラミックグリーンシートの配置及び仮圧着を行う。この後、磁性体層46j,46i,46h,46g,46f,46e,46d,46c,46b,46a,47b,47aとなるセラミックグリーンシートについても同様にこの順番に積層及び仮圧着して、マザー積層体を得る。更に、マザー積層体には、静水圧プレスなどにより本圧着が施される。
次に、マザー積層体をギロチンカットにより所定寸法の積層体12dにカットして、未焼成の積層体12dを得る。この未焼成の積層体12dには、脱バインダー処理及び焼成がなされる。脱バインダー処理は、例えば、低酸素雰囲気中において500℃で2時間の条件で行う。焼成は、例えば、1000℃で2時間の条件で行う。
以上の工程により、焼成された積層体12dが得られる。積層体12dには、バレル加工を施して、面取りを行う。その後、積層体12dの表面には、例えば、浸漬法等の方法により主成分が銀である電極ペーストを塗布及び焼き付けすることにより、外部電極14a,14bとなるべき銀電極を形成する。銀電極の乾燥は、120℃で10分間行われ、銀電極の焼き付けは、890℃で60分間行われる。最後に、銀電極の表面に、Niめっき/Snめっきを施すことにより、外部電極14a,14bを形成する。以上の工程を経て、図10に示すような電子部品10dが完成する。
電子部品10dは、図12に示すように、積層方向とコイル軸Xとが直交しているので、電子部品10a〜10cに比べて簡単に作製可能である。以下に、電子部品10dの製造の容易性について、電子部品10aと対比しながら説明する。
より詳細には、電子部品10aでは、図3に示すように、積層方向(z軸方向)とコイル軸Xとが平行である。そのため、図2に示すようにコイルLの外側に非磁性体層22を形成するためには、磁性体層16を積層する前に、該磁性体層16上に非磁性体層22をスクリーン印刷等により形成しておく必要がある。
一方、電子部品10dでは、図12に示すように、積層方向(z軸方向)とコイル軸Xとが直交している。そのため、図12に示すようにコイルLの外側に磁性体層47を形成するには、z軸方向において磁性体層46よりも上側及び下側に磁性体層47を積層するだけで足りる。故に、磁性体層46上に磁性体層47をスクリーン印刷により形成するなどの工程が不要となる。その結果、電子部品10dは、電子部品10a〜10cに比べて、簡単に作成できる。
(第1の変形例)
以下に、電子部品10dの第1の変形例に係る電子部品10eについて説明する。図13は、第1の変形例に係る電子部品10eの断面構造図である。なお、電子部品10eの外観斜視図については、図10を援用する。
電子部品10dでは、図12に示すように、磁性体層47は、コイル軸X方向から平面視したときに、コイルLの外側に設けられている。しかしながら、磁性体層47が設けられる位置は、これに限らない。図13に示すように、磁性体層47は、コイル軸X方向から平面視したときに、コイルLの内側に設けられていてもよい。
より詳細には、磁性体層47は、帯状電極50a〜50fが形成されている磁性体層46と、帯状電極52a〜52gが形成されている磁性体層46との間に設けられている。以上のような構成を有する電子部品10eにおいても、電子部品10aと同様に、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
(第2の変形例)
以下に、電子部品10dの第2の変形例に係る電子部品10fについて説明する。図14は、第2の変形例に係る電子部品10fの断面構造図である。なお、電子部品10fの外観斜視図については、図10を援用する。
電子部品10dでは、図11及び図12に示すように、磁性体層47は、磁性体層46と同じ形状を有しているが、磁性体層47の形状はこれに限らない。例えば、図14に示すように、x軸方向に磁性体層46と磁性体層47とが交互に並んでいてもよい。以上のような構成を有する電子部品10fにおいても、電子部品10aと同様に、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
なお、電子部品10fにおいて、磁性体層47の代わりに、非磁性体層が用いられてもよい。
本発明は、電子部品に有用であり、特に、階段状の直流重畳特性を有するコイルを内蔵している点において優れている。
b1〜b5,B1〜B14,B21〜B34 ビアホール導体
L コイル
10a〜10f 電子部品
12a〜12f 積層体
14a,14b 外部電極
16a〜16l,46a〜46j,47a〜47d 磁性体層
22a〜22d,32a〜32d 非磁性体層
20a,20b 引き出し部
48a,48b 引き出し電極
50a〜50f,52a〜52g 帯状電極

Claims (6)

  1. 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
    前記積層体内に設けられているコイルと、
    前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
    を備えており
    前記第2の絶縁層は、前記コイル軸方向から平面視したときに、前記コイルの内側に設けられており、
    前記コイルは、前記複数の第1の絶縁層と共に積層されている複数のコイル電極により構成されており、
    前記コイル軸方向は、積層方向と平行であること、
    を特徴とする電子部品。
  2. 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
    前記積層体内に設けられているコイルと、
    前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
    を備えており
    前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、
    前記コイルは、
    相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、
    相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、
    前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、
    を含んだ螺旋状のコイルであり、
    前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、
    前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、
    を特徴とする電子部品。
  3. 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
    前記積層体内に設けられているコイルと、
    前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
    を備えており
    前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、
    前記コイルは、
    相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、
    相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、
    前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、
    を含んだ螺旋状のコイルであり、
    前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層と、前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層との間に設けられており、
    前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、
    を特徴とする電子部品。
  4. 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
    前記積層体内に設けられているコイルと、
    前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
    を備えており
    前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、
    前記コイルは、
    相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、
    相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、
    前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、
    を含んだ螺旋状のコイルであり、
    前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、
    前記第2の絶縁層は、前記コイル軸方向において、前記第1の絶縁層と交互に並んでいること、
    を特徴とする電子部品。
  5. 前記第2の絶縁層は、非磁性体層であること、
    を特徴とする請求項に記載の電子部品。
  6. 前記コイルと前記第2の絶縁層との間の隙間は、10μm以上150μm以下であること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項のいずれかに記載の電子部品。
JP2010516802A 2008-06-12 2009-05-18 電子部品 Active JP5381983B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010516802A JP5381983B2 (ja) 2008-06-12 2009-05-18 電子部品

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008153747 2008-06-12
JP2008153747 2008-06-12
PCT/JP2009/059116 WO2009150921A1 (ja) 2008-06-12 2009-05-18 電子部品
JP2010516802A JP5381983B2 (ja) 2008-06-12 2009-05-18 電子部品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009150921A1 JPWO2009150921A1 (ja) 2011-11-10
JP5381983B2 true JP5381983B2 (ja) 2014-01-08

Family

ID=41416632

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010516802A Active JP5381983B2 (ja) 2008-06-12 2009-05-18 電子部品

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8395471B2 (ja)
JP (1) JP5381983B2 (ja)
KR (1) KR101267857B1 (ja)
CN (1) CN102057452A (ja)
WO (1) WO2009150921A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103764593B (zh) * 2011-09-02 2016-06-15 株式会社村田制作所 铁氧体陶瓷组合物、陶瓷电子部件和陶瓷电子部件的制造方法
JP5682548B2 (ja) * 2011-12-14 2015-03-11 株式会社村田製作所 積層型インダクタ素子およびその製造方法
US20130271251A1 (en) * 2012-04-12 2013-10-17 Cyntec Co., Ltd. Substrate-Less Electronic Component
JP6048509B2 (ja) * 2012-11-01 2016-12-21 株式会社村田製作所 積層型インダクタ素子
WO2014139169A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Laird Technologies, Inc. Laminated high bias retention ferrite suppressors and methods of making the same
US9791470B2 (en) * 2013-12-27 2017-10-17 Intel Corporation Magnet placement for integrated sensor packages
WO2016006542A1 (ja) 2014-07-08 2016-01-14 株式会社村田製作所 電子部品
KR101709841B1 (ko) * 2014-12-30 2017-02-23 삼성전기주식회사 칩 전자부품 및 그 제조방법
JP6477427B2 (ja) * 2015-11-04 2019-03-06 株式会社村田製作所 コイル部品
JP6597803B2 (ja) * 2016-02-02 2019-10-30 株式会社村田製作所 表面実装型コイル部品及びその製造方法、並びに、これを用いたdc−dcコンバータ
JP6686979B2 (ja) * 2017-06-26 2020-04-22 株式会社村田製作所 積層インダクタ

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5551146A (en) * 1991-07-08 1996-09-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing a solid inductor
JPH1197245A (ja) * 1997-09-19 1999-04-09 Tokin Corp 積層型インダクタンス素子
WO2007088914A1 (ja) * 2006-01-31 2007-08-09 Hitachi Metals, Ltd. 積層部品及びこれを用いたモジュール
JP2007324555A (ja) * 2006-06-01 2007-12-13 Taiyo Yuden Co Ltd 積層インダクタ
JP2008078234A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Tdk Corp 積層型インダクタ及びその製造方法
WO2009069387A1 (ja) * 2007-11-29 2009-06-04 Murata Manufacturing Co., Ltd. 積層型電子部品

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58184709A (ja) 1982-04-23 1983-10-28 Tdk Corp シ−ルド型インダクタ
JPS6387809U (ja) * 1986-11-27 1988-06-08
JP3158757B2 (ja) * 1993-01-13 2001-04-23 株式会社村田製作所 チップ型コモンモードチョークコイル及びその製造方法
JPH0888121A (ja) 1994-09-16 1996-04-02 Taiyo Yuden Co Ltd 積層コイル
JPH09186017A (ja) 1995-12-28 1997-07-15 Tokin Corp 積層インダクタおよびその製造方法
JPH1012443A (ja) 1996-06-19 1998-01-16 Tokin Corp 高電流型積層チップインダクタ
JP3615024B2 (ja) * 1997-08-04 2005-01-26 株式会社村田製作所 コイル部品
KR100243360B1 (ko) 1997-10-29 2000-02-01 김춘호 적층세라믹트랜스포머의제조방법
JP2001044037A (ja) * 1999-08-03 2001-02-16 Taiyo Yuden Co Ltd 積層インダクタ
JP2001323245A (ja) * 2000-05-15 2001-11-22 Murata Mfg Co Ltd 接着剤樹脂組成物、接着剤樹脂組成物の製造方法、およびチップ型コイル部品
JP3788325B2 (ja) * 2000-12-19 2006-06-21 株式会社村田製作所 積層型コイル部品及びその製造方法
JP2003086426A (ja) * 2001-09-13 2003-03-20 Nec Tokin Corp 積層型インピーダンス素子
JPWO2005032226A1 (ja) * 2003-09-29 2006-12-14 株式会社タムラ製作所 多層積層回路基板
AU2003266682A1 (en) * 2003-09-29 2005-04-14 Tamura Corporation Laminated magnetic component and process for producing the same
JP4870913B2 (ja) * 2004-03-31 2012-02-08 スミダコーポレーション株式会社 インダクタンス素子
DE602005007005D1 (de) * 2004-06-07 2008-07-03 Murata Manufacturing Co Mehrschichtige spule
JP4769033B2 (ja) * 2005-03-23 2011-09-07 スミダコーポレーション株式会社 インダクタ
JP2007214424A (ja) 2006-02-10 2007-08-23 Nec Tokin Corp 積層型インダクタンス素子
JP2007324554A (ja) * 2006-06-01 2007-12-13 Taiyo Yuden Co Ltd 積層インダクタ
JP2008078243A (ja) 2006-09-19 2008-04-03 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 素子の接合構造

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5551146A (en) * 1991-07-08 1996-09-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing a solid inductor
JPH1197245A (ja) * 1997-09-19 1999-04-09 Tokin Corp 積層型インダクタンス素子
WO2007088914A1 (ja) * 2006-01-31 2007-08-09 Hitachi Metals, Ltd. 積層部品及びこれを用いたモジュール
JP2007324555A (ja) * 2006-06-01 2007-12-13 Taiyo Yuden Co Ltd 積層インダクタ
JP2008078234A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Tdk Corp 積層型インダクタ及びその製造方法
WO2009069387A1 (ja) * 2007-11-29 2009-06-04 Murata Manufacturing Co., Ltd. 積層型電子部品

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2009150921A1 (ja) 2011-11-10
US20110074537A1 (en) 2011-03-31
WO2009150921A1 (ja) 2009-12-17
KR20100127882A (ko) 2010-12-06
US8395471B2 (en) 2013-03-12
KR101267857B1 (ko) 2013-05-27
CN102057452A (zh) 2011-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5381983B2 (ja) 電子部品
TWI467604B (zh) Electronic parts and manufacturing methods thereof
JP4201043B2 (ja) 積層コイル
JP5012991B2 (ja) チップ型コイル部品
JP5533673B2 (ja) 電子部品
JP5644852B2 (ja) 電子部品及びその製造方法
JP5598452B2 (ja) 電子部品及びその製造方法
JPWO2009125656A1 (ja) 電子部品
WO2010084794A1 (ja) 電子部品及びその製造方法
JP5327231B2 (ja) 電子部品
JP5181694B2 (ja) 電子部品
WO2009130935A1 (ja) 電子部品
JP2014078650A (ja) 電子部品及びその製造方法
WO2009147925A1 (ja) 電子部品
WO2010061679A1 (ja) 電子部品
JP2010067758A (ja) 電子部品
JP2009277689A (ja) 電子部品
JP2011091221A (ja) 電子部品
JP2009302380A (ja) 電子部品及びその製造方法
JP2010074067A (ja) 電子部品及びその製造方法
JP2010147416A (ja) 電子部品
JP2010062501A (ja) 電子部品

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130305

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130422

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20130422

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130903

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130916

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5381983

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150