JP5381983B2 - 電子部品 - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 148
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 55
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 41
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 16
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 16
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 16
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 4
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910007565 Zn—Cu Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 2
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
- H01F17/0013—Printed inductances with stacked layers
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F3/00—Cores, Yokes, or armatures
- H01F3/10—Composite arrangements of magnetic circuits
- H01F2003/106—Magnetic circuits using combinations of different magnetic materials
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- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
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- H01F2017/002—Details of via holes for interconnecting the layers
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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- H01F3/10—Composite arrangements of magnetic circuits
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Description
本発明の第2の形態に係る電子部品は、複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記積層体内に設けられているコイルと、前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、を備えており、前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、前記コイルは、相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、を含んだ螺旋状のコイルであり、前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、を特徴とする。
本発明の第3の形態に係る電子部品は、複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記積層体内に設けられているコイルと、前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、を備えており、前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、前記コイルは、相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、を含んだ螺旋状のコイルであり、前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層と、前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層との間に設けられており、前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、を特徴とする。
本発明の第4の形態に係る電子部品は、複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記積層体内に設けられているコイルと、前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、を備えており、前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、前記コイルは、相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、を含んだ螺旋状のコイルであり、 前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、前記第2の絶縁層は、前記コイル軸方向において、前記第1の絶縁層と交互に並んでいること、を特徴とする。
(電子部品の構成)
以下に、本発明の第1の実施形態に係る電子部品10aについて図面を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態に係る電子部品10aの透視図である。図2は、第1の実施形態に係る電子部品10aの積層体12aの分解斜視図である。図3は、図1の電子部品10aのA−Aにおける断面構造図である。以下、電子部品10aの積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10aの長辺に沿った方向をx軸方向と定義し、電子部品10aの短辺に沿った方向をy軸方向と定義する。x軸、y軸及びz軸は互いに直交している。
以上のように構成された電子部品10aによれば、コイル軸X方向から平面視したときに、非磁性体層22がコイルLと隙間Sを残した状態で設けられているので、以下に説明するように、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
本願発明者は、電子部品10aが奏する効果をより明確なものとするために、以下に説明するコンピュータシミュレーションによる解析を行った。より詳細には、図3に示す本実施形態に係る電子部品10aに相当する第1のモデルを作成し、該第1のモデルの直流重畳特性を計算した。また、図4の断面図に示す比較例に係る電子部品110aに相当する第2のモデルを作成し、該第2のモデルの直流重畳特性を計算した。電子部品10aと電子部品110aとは、電子部品10aではコイル電極18と非磁性体層22との間に隙間Sが存在するのに対して、電子部品110aではコイル電極18と非磁性体層122との間に隙間Sが存在しない点において相違する。また、第1のモデルと第2のモデルとは、共にインダクタンス値の初期値が揃うように設計した。ただし、第1のモデルのコイルLと第2のモデルのコイルLとを同じ構成にした場合には、第1のモデルのインダクタンス値の初期値は、第2のモデルのインダクタンス値の初期値よりも大きくなる。すなわち、第1のモデルは、微小な直流電流では、第2のモデルよりも大きなインダクタンス値を有している。
以下に、電子部品10aの製造方法について図面を参照しながら説明する。
以下に、電子部品10aの第1の変形例に係る電子部品10bについて説明する。図6は、第1の変形例に係る電子部品10bの断面構造図である。なお、電子部品10bの外観斜視図については、図1を援用する。
次に、電子部品10aの第2の変形例に係る電子部品10cについて図面を参照しながら説明する。図9は、第2の変形例に係る電子部品10cの積層体12cの分解斜視図である。なお、電子部品10cの外観斜視図については、図1を援用する。
(電子部品の構成)
以下に、本発明の第2の実施形態に係る電子部品10dについて図面を参照しながら説明する。図10は、第2の実施形態に係る電子部品10dの透視図である。図11は、第2の実施形態に係る電子部品10dの積層体12dの分解斜視図である。図12は、図10の電子部品10dのB−Bにおける断面構造図である。以下、電子部品10dの積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10dの長辺に沿った方向をx軸方向と定義し、電子部品10dの短辺に沿った方向をy軸方向と定義する。x軸、y軸及びz軸は互いに直交している。図10では、内部の様子が理解し易いように、外部電極14bの一部をカットして記載した。また、電子部品10aと同じ構成については、同じ参照符号を付した。
以上のように構成された電子部品10dによれば、図12に示すように、コイル軸X方向から平面視したときに、磁性体層46よりも低い透磁率を有する磁性体層47がコイルLと隙間Sを残した状態で設けられている。そのため、電子部品10aと同様に、階段状の直流重畳特性を得ることができる。
以下に、電子部品10dの製造方法について図面を参照しながら説明する。
以下に、電子部品10dの第1の変形例に係る電子部品10eについて説明する。図13は、第1の変形例に係る電子部品10eの断面構造図である。なお、電子部品10eの外観斜視図については、図10を援用する。
以下に、電子部品10dの第2の変形例に係る電子部品10fについて説明する。図14は、第2の変形例に係る電子部品10fの断面構造図である。なお、電子部品10fの外観斜視図については、図10を援用する。
L コイル
10a〜10f 電子部品
12a〜12f 積層体
14a,14b 外部電極
16a〜16l,46a〜46j,47a〜47d 磁性体層
22a〜22d,32a〜32d 非磁性体層
20a,20b 引き出し部
48a,48b 引き出し電極
50a〜50f,52a〜52g 帯状電極
Claims (6)
- 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
前記積層体内に設けられているコイルと、
前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
を備えており、
前記第2の絶縁層は、前記コイル軸方向から平面視したときに、前記コイルの内側に設けられており、
前記コイルは、前記複数の第1の絶縁層と共に積層されている複数のコイル電極により構成されており、
前記コイル軸方向は、積層方向と平行であること、
を特徴とする電子部品。 - 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
前記積層体内に設けられているコイルと、
前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
を備えており、
前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、
前記コイルは、
相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、
相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、
前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、
を含んだ螺旋状のコイルであり、
前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、
前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、
を特徴とする電子部品。 - 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
前記積層体内に設けられているコイルと、
前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
を備えており、
前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、
前記コイルは、
相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、
相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、
前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、
を含んだ螺旋状のコイルであり、
前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層と、前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層との間に設けられており、
前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層と同じ形状を有していること、
を特徴とする電子部品。 - 複数の第1の絶縁層が積層されてなる積層体と、
前記積層体内に設けられているコイルと、
前記コイルのコイル軸方向から平面視したときに、該コイルと隙間が空けられた状態で前記積層体に設けられている絶縁層であって、前記第1の絶縁層よりも低い透磁率を有する第2の絶縁層と、
を備えており、
前記コイル軸方向は、積層方向と直交しており、
前記コイルは、
相対的に積層方向の上側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第1の帯状電極と、
相対的に積層方向の下側に設けられている前記第1の絶縁層に形成されている複数の第2の帯状電極と、
前記積層体において積層方向に延びるように形成され、前記第1の帯状電極と前記第2の帯状電極とを接続している複数の接続部と、
を含んだ螺旋状のコイルであり、
前記第2の絶縁層は、前記第1の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側、及び 前記第2の帯状電極が形成されている前記第1の絶縁層よりも積層方向の下側のそれぞれに設けられており、
前記第2の絶縁層は、前記コイル軸方向において、前記第1の絶縁層と交互に並んでいること、
を特徴とする電子部品。 - 前記第2の絶縁層は、非磁性体層であること、
を特徴とする請求項4に記載の電子部品。 - 前記コイルと前記第2の絶縁層との間の隙間は、10μm以上150μm以下であること、
を特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の電子部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010516802A JP5381983B2 (ja) | 2008-06-12 | 2009-05-18 | 電子部品 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008153747 | 2008-06-12 | ||
JP2008153747 | 2008-06-12 | ||
PCT/JP2009/059116 WO2009150921A1 (ja) | 2008-06-12 | 2009-05-18 | 電子部品 |
JP2010516802A JP5381983B2 (ja) | 2008-06-12 | 2009-05-18 | 電子部品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009150921A1 JPWO2009150921A1 (ja) | 2011-11-10 |
JP5381983B2 true JP5381983B2 (ja) | 2014-01-08 |
Family
ID=41416632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010516802A Active JP5381983B2 (ja) | 2008-06-12 | 2009-05-18 | 電子部品 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8395471B2 (ja) |
JP (1) | JP5381983B2 (ja) |
KR (1) | KR101267857B1 (ja) |
CN (1) | CN102057452A (ja) |
WO (1) | WO2009150921A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103764593B (zh) * | 2011-09-02 | 2016-06-15 | 株式会社村田制作所 | 铁氧体陶瓷组合物、陶瓷电子部件和陶瓷电子部件的制造方法 |
JP5682548B2 (ja) * | 2011-12-14 | 2015-03-11 | 株式会社村田製作所 | 積層型インダクタ素子およびその製造方法 |
US20130271251A1 (en) * | 2012-04-12 | 2013-10-17 | Cyntec Co., Ltd. | Substrate-Less Electronic Component |
JP6048509B2 (ja) * | 2012-11-01 | 2016-12-21 | 株式会社村田製作所 | 積層型インダクタ素子 |
WO2014139169A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Laird Technologies, Inc. | Laminated high bias retention ferrite suppressors and methods of making the same |
US9791470B2 (en) * | 2013-12-27 | 2017-10-17 | Intel Corporation | Magnet placement for integrated sensor packages |
WO2016006542A1 (ja) | 2014-07-08 | 2016-01-14 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
KR101709841B1 (ko) * | 2014-12-30 | 2017-02-23 | 삼성전기주식회사 | 칩 전자부품 및 그 제조방법 |
JP6477427B2 (ja) * | 2015-11-04 | 2019-03-06 | 株式会社村田製作所 | コイル部品 |
JP6597803B2 (ja) * | 2016-02-02 | 2019-10-30 | 株式会社村田製作所 | 表面実装型コイル部品及びその製造方法、並びに、これを用いたdc−dcコンバータ |
JP6686979B2 (ja) * | 2017-06-26 | 2020-04-22 | 株式会社村田製作所 | 積層インダクタ |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5551146A (en) * | 1991-07-08 | 1996-09-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method of manufacturing a solid inductor |
JPH1197245A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Tokin Corp | 積層型インダクタンス素子 |
WO2007088914A1 (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-09 | Hitachi Metals, Ltd. | 積層部品及びこれを用いたモジュール |
JP2007324555A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層インダクタ |
JP2008078234A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Tdk Corp | 積層型インダクタ及びその製造方法 |
WO2009069387A1 (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58184709A (ja) | 1982-04-23 | 1983-10-28 | Tdk Corp | シ−ルド型インダクタ |
JPS6387809U (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-08 | ||
JP3158757B2 (ja) * | 1993-01-13 | 2001-04-23 | 株式会社村田製作所 | チップ型コモンモードチョークコイル及びその製造方法 |
JPH0888121A (ja) | 1994-09-16 | 1996-04-02 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層コイル |
JPH09186017A (ja) | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Tokin Corp | 積層インダクタおよびその製造方法 |
JPH1012443A (ja) | 1996-06-19 | 1998-01-16 | Tokin Corp | 高電流型積層チップインダクタ |
JP3615024B2 (ja) * | 1997-08-04 | 2005-01-26 | 株式会社村田製作所 | コイル部品 |
KR100243360B1 (ko) | 1997-10-29 | 2000-02-01 | 김춘호 | 적층세라믹트랜스포머의제조방법 |
JP2001044037A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-02-16 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層インダクタ |
JP2001323245A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Murata Mfg Co Ltd | 接着剤樹脂組成物、接着剤樹脂組成物の製造方法、およびチップ型コイル部品 |
JP3788325B2 (ja) * | 2000-12-19 | 2006-06-21 | 株式会社村田製作所 | 積層型コイル部品及びその製造方法 |
JP2003086426A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-20 | Nec Tokin Corp | 積層型インピーダンス素子 |
JPWO2005032226A1 (ja) * | 2003-09-29 | 2006-12-14 | 株式会社タムラ製作所 | 多層積層回路基板 |
AU2003266682A1 (en) * | 2003-09-29 | 2005-04-14 | Tamura Corporation | Laminated magnetic component and process for producing the same |
JP4870913B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2012-02-08 | スミダコーポレーション株式会社 | インダクタンス素子 |
DE602005007005D1 (de) * | 2004-06-07 | 2008-07-03 | Murata Manufacturing Co | Mehrschichtige spule |
JP4769033B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2011-09-07 | スミダコーポレーション株式会社 | インダクタ |
JP2007214424A (ja) | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Nec Tokin Corp | 積層型インダクタンス素子 |
JP2007324554A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層インダクタ |
JP2008078243A (ja) | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 素子の接合構造 |
-
2009
- 2009-05-18 CN CN2009801222105A patent/CN102057452A/zh active Pending
- 2009-05-18 KR KR1020107024805A patent/KR101267857B1/ko active IP Right Grant
- 2009-05-18 JP JP2010516802A patent/JP5381983B2/ja active Active
- 2009-05-18 WO PCT/JP2009/059116 patent/WO2009150921A1/ja active Application Filing
-
2010
- 2010-12-06 US US12/961,044 patent/US8395471B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5551146A (en) * | 1991-07-08 | 1996-09-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method of manufacturing a solid inductor |
JPH1197245A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Tokin Corp | 積層型インダクタンス素子 |
WO2007088914A1 (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-09 | Hitachi Metals, Ltd. | 積層部品及びこれを用いたモジュール |
JP2007324555A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層インダクタ |
JP2008078234A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Tdk Corp | 積層型インダクタ及びその製造方法 |
WO2009069387A1 (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2009150921A1 (ja) | 2011-11-10 |
US20110074537A1 (en) | 2011-03-31 |
WO2009150921A1 (ja) | 2009-12-17 |
KR20100127882A (ko) | 2010-12-06 |
US8395471B2 (en) | 2013-03-12 |
KR101267857B1 (ko) | 2013-05-27 |
CN102057452A (zh) | 2011-05-11 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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