JP4956606B2 - 正帯電性現像剤及び画像形成方法 - Google Patents
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Description
本発明の目的は長期にわたる使用においても画像欠陥を生じることなく、安定した画像品質を得ることができる現像剤、及びこの現像剤を用いた画像形成方法を提供することにある。
該無機微粉末は、酸化亜鉛、アルミナ及び酸化マグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物の微粉末であり、
該正帯電性現像剤は、該無機微粉末の他にシリカ微粉末を有し、
該正帯電性トナー粒子を水中に分散させた時の分散液のpHにおける該正帯電性トナー粒子のゼータ電位と、同pHにおける該無機微粉末のゼータ電位との差が40mV以下であり、
該正帯電性現像剤の最大圧密応力5.0kPa時における単軸崩壊応力(U5kPa)が、
0.1kPa≦U5kPa≦2.5kPa
であり、
該正帯電性現像剤の最大圧密応力20.0kPa時における単軸崩壊応力(U20kPa)が、
2.5kPa≦U20kPa≦5.5kPa
であることを特徴とする。
0.01質量%≦D≦2.00質量%
であることが好ましい。
0.1%≦E≦5.0%
であることが好ましい。
65体積%≦F≦80体積%
であることが好ましい。
現像剤層が形成された状態における該現像剤担持体にかかるトルク(T)が、
0.1N・m≦T≦50N・m
であり、
該現像剤として、上記の正帯電性現像剤を用いることを特徴とする。
単軸崩壊応力=2c(1+sinφ)/cosφ
最大圧密応力=((A−(A2sin2φ−τssp 2cos2φ)0.5)/cos2φ)×(1+sinφ)−(c/tanφ)
(A=σssp+(c/tanφ)、c=凝集力、φ=内部摩擦角、τssp=c+σssp×tanφ、σssp=定常点における垂直荷重)
各荷重において算出した単軸崩壊応力と最大圧密応力をプロット(Flow Function Plot)し、そのプロットに基づき直線を引く。この直線より、単軸崩壊応力5.0kPa及び20.0kPa時の最大圧密応力を求める。
1)500mlのビーカーに現像剤3gに対し、200mlのメタノールを加える。
2)超音波で3分間分散させ、外添剤を遊離させる。
3)ビーカーの裏から磁石を当て、磁性トナー粒子を捕捉した状態で、遊離した外添剤を含むメタノール上澄み液を分離する。
4)上澄み液を分離した後、ビーカー内の磁性トナー粒子に再びメタノールを200ml加え2)、3)の操作を3回繰り返す。
5)分離したメタノール上澄み液を目開き2μmのメンブランフィルターにより真空ろ過を行い固形分を回収し、外添剤サンプルを得た。
使用測定機:リガク社製/試料水平型強力X線回折装置(RINT TTRII)
管球:Cu
平行ビーム光学系
電圧:50kV
電流:300mA
開始角度:30°
終了角度:50°
サンプリング幅:0.02°
スキャンスピード:4.00°/min
発散スリット:開放
発散縦スリット:10mm
散乱スリット:開放
受光スリット:1.0mm
得られたX線回折ピークの帰属及び半値幅の算出は、リガク社製解析ソフト「Jade6」を用いて行った。
2.06×X−9.0≦Y≦2.06×X−7.5
を満足することがよい。
また(F)式で示されるジオール類;
樹脂約1.0gを秤量(W1g)し、円筒ろ紙(例えばNo.86Rサイズ28×100mm東洋ろ紙社製)に入れてソックスレー抽出器にかけ、溶媒としてTHF200mlを用いて、16時間抽出する。このとき、溶媒の抽出サイクルが約4分〜5分に一回になるような還流速度で抽出を行う。抽出終了後、円筒ろ紙を取り出し、40℃で8時間真空乾燥し、抽出残分を秤量する(W2g)。次にトナー中の焼却残灰分の重さを求める(W3g)。焼却残灰分は以下の手順で求める。予め精秤した30mlの磁性るつぼに約2gの試料を入れ精秤し、そして、るつぼの質量を差し引くことにより試料であるトナーの質量(Wag)を求める。るつぼを電気炉に入れ約900℃で約3時間加熱し、電気炉中で放冷し常温下でデシケーター中に1時間以上放冷しるつぼの質量を精秤する。ここからるつぼの質量を差し引くことにより焼却残灰分(Wbg)を求める。
(Wb/Wa)×100=焼却残灰分含有率(質量%)
この含有率から試料W1g中の焼却残灰分の質量(W3g)が求められる。
THF不溶分(質量%)={(W2−W3)/(W1−W3)}×100
尚、結着樹脂等の樹脂以外の成分を含まない試料のTHF不溶分の測定は、所定量(W1g)を秤量した樹脂を上記と同じ工程で抽出残分(W2g)を求め、下記式より求められる。
THF不溶分(質量%)=(W2/W1)×100
[GPCによる分子量分布の測定]
40℃のヒートチャンバー中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに溶媒としてTHFを毎分1mlの流速で流し、THF試料溶液を約100μl注入して測定する。試料の分子量測定にあたっては試料の有する分子量分布を数種の単分散ポリスチレン標準試料により作成された検量線の対数値とカウント値との関係から算出した。検量線作成用の標準ポリスチレン試料としては例えば、東ソー社製あるいは昭和電工社製の分子量が102〜107程度のものを用い、少なくとも10点程度の標準ポリスチレン試料を用いるのが適当である。又、検出器はRI(屈折率)検出器を用いる。尚、カラムとしては市販のポリスチレンジェルカラムを複数本組み合わせるのが良く、例えば昭和電工社製のshodex GPC KF−801,802,803,804,805,806,807,800Pの組み合せや、東ソー社製のTSKgel G1000H(HXL)、G2000H(HXL)、G3000H(HXL)、G4000H(HXL)、G5000H(HXL)、G6000H(HXL)、G7000H(HXL)、TSK guard columnの組み合せを挙げることができる。
基本操作はJIS K−0070に準ずる。
1)試料0.5〜2.0gを精秤し、試料の質量W(g)とする。
2)300mlのビーカーに試料を入れ、トルエン/エタノール(4/1)の混合液150mlを加え溶解する。
3)0.1モル/リットルのKOHのメタノール溶液を用いて、電位差滴定装置を用いて滴定する(例えば、京都電子株式会社製の電位差滴定装置AT−400(win workstation)とABP−410電動ビュレットを用いての自動滴定が利用できる。)
4)この時のKOH溶液の使用量S(ml)とし、同時にブランクを測定しこの時のKOH溶液の使用量をB(ml)とする。
5)次式により酸価を計算する。fはKOHのファクターである。
酸価(mgKOH/g)={(S−B)×f×5.61}/W
尚、試料として、現像剤を用いる場合には、THF不溶分の測定と同様にして焼却残灰分を求め、焼却残灰分の質量を差し引いたものを試料の質量W(g)とする。
現像剤の粒度分布は種々の方法によって測定できるが、本発明においてはコールターカウンターを用いて行う。測定装置としては、コールターマルチサイザーIIE(コールター社製)を用いる。電解液は、1級塩化ナトリウムを用いて、約1%NaCl水溶液を調整する。例えば、ISOTON(R)−II(コールターサイエンティフィックジャパン社製)が使用できる。測定方法としては、前記電解水溶液100〜150ml中に分散剤として、界面活性剤(好ましくはアルキルベンゼンスルホン酸塩)を、0.1〜5.0ml加え、さらに測定試料を2〜20mg加える。試料を懸濁した電解液は、超音波分散器で約1〜3分間分散処理を行い、前記測定装置により、アパーチャーとして100μmアパーチャーを用いて、トナー粒子の体積、個数を測定して体積分布と個数分布とを算出する。このとき、測定されたデータは粒径1.59〜64.0μmを256分割したチャンネルで得られる。その256チャンネルで得られたデータを用いて、重量平均粒径(D4)(各チャンネルの中央値をチャンネル毎の代表値とする)、個数平均粒径(D1)、及び体積分布から求めた粗粉量(10.1μm以上)、個数分布から求めた微粉個数(4.00μm以下)を求める。
上記現像剤の粒度分布で測定したコールターマルチサイザーIIE(コールター社製)において得られた256チャンネルの粒度分布(図4参照)からピーク粒度Xの時の頻度A(個数%)を算出する。
四つ口フラスコ内にキシレン300質量部を投入し、攪拌しながら容器内を充分に窒素で置換した後、昇温して還流させる。
この還流下で、スチレン76.0質量部、アクリル酸−n−ブチル24.0質量部及びジ−tert−ブチルパーオキサイド(開始剤1;半減期10時間温度:129℃)2質量部の混合液を4時間かけて滴下した後、2時間保持し重合を完了し、低分子量重合体溶液(B−1)を得た。
スチレン77.0質量部、アクリル酸−n−ブチル23.0質量部、開始剤1を2.5質量部用いて低分子量成分B−1の製造例と同様に重合を行い、低分子量重合体溶液B−2を得た。
スチレン73.0質量部,アクリル酸−n−ブチル23.0質量部、マレイン酸モノn−ブチル4.0質量部、開始剤1を2.5質量部用いて低分子量成分B−1の製造例と同様に重合を行い、低分子量重合体溶液B−3を得た。
四つ口フラスコ内に脱気水180質量部とポリビニルアルコールの2質量%水溶液20質量部を投入した後、スチレン71.0質量部、アクリル酸−n−ブチル24.0質量部、マレイン酸モノn−ブチル5.0質量部、ジビニルベンゼン0.005質量部、及び2,2−ビス(4,4−ジ−tert−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン(開始剤2;半減期10時間温度:92℃)0.1質量部の混合液を加え、攪拌し懸濁液とした。
フラスコ内を充分に窒素で置換した後、85℃まで昇温して、重合を開始した。同温度に24時間保持した後、ベンゾイルパーオキサイド(半減期10時間温度:72℃)0.1質量部を追加した。さらに、12時間保持して重合を完了した。その後、該高分子量重合体を濾別し、水洗、乾燥し高分子量成分(A−1)を得た。
高分子量成分(A−1)の製造例と同様にスチレン70.0質量部、アクリル酸−n−ブチル27.0質量部、マレイン酸モノn−ブチル3.0質量部、ジビニルベンゼン0.005質量部及び開始剤2を1質量部用いて高分子量成分(A−2)を得た。
四つ口フラスコ内にキシレン300質量部を投入し、攪拌しながら容器内を充分に窒素で置換した後、昇温して還流させる。
この還流下で、まず、スチレン81.0質量部、アクリル酸−n−ブチル15.0質量部及び開始剤2を0.8質量部の混合液を4時間かけて滴下する。これらの混合液を2時間滴下した時点で,メタクリル酸4.0質量部及び開始剤2を0.2質量部の混合液を2時間かけて滴下する。全てを滴下した後、2時間保持し重合を完了し、高分子量成分(A−3)溶液を得た。
四つ口フラスコ内に、上記低分子量成分(B−2)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分60質量部相当)を投入し、昇温して還流下で攪拌する。一方、別容器に上記高分子量成分(A−3)溶液200質量部(高分子量成分40質量部相当)を投入し、還流させる。上記低分子量成分(B−2)溶液と高分子量成分(A−3)溶液を還流下で混合した後、有機溶剤を留去し、得られた樹脂を冷却、固化後粉砕して樹脂(C−1)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
四つ口フラスコ内に、上記低分子量成分(B−1)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分70質量部相当)を投入し、昇温して還流下で攪拌する。そのフラスコ内に上記高分子量成分(A−2)30質量部を投入し、還流させる。上記低分子量成分(B−1)溶液と高分子量成分(A−2)を還流下で混合した後、有機溶剤を留去し、得られた樹脂を冷却、固化後粉砕して樹脂(C−2)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
四つ口フラスコ内に、上記低分子量成分(B−1)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分80質量部相当)を投入し、昇温して還流下で攪拌する。そのフラスコ内に上記高分子量成分(A−1)20質量部を投入し、還流させる。上記低分子量成分(B−1)溶液と高分子量成分(A−1)を還流下で混合した後、有機溶剤を留去し、得られた樹脂を冷却、固化後粉砕して樹脂(C−3)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
四つ口フラスコ内に、上記低分子量成分(B−3)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分70質量部相当)を投入し、昇温して還流下で攪拌する。そのフラスコ内に上記高分子量成分(A−1)30質量部を投入し、還流させる。上記低分子量成分(B−3)溶液と高分子量成分(A−1)を還流下で混合した後、有機溶剤を留去し、得られた樹脂を冷却、固化後粉砕して樹脂(C−4)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
・結着樹脂C−1 100質量部
・磁性酸化鉄粒子(八面体,個数平均粒径:0.20μm) 90質量部
・ワックスb(フィッシャートロプシュワックス,物性は表2に示す。最大吸熱ピーク温度:101℃,数平均分子量:1500,重量平均分子量:2500) 4質量部
・荷電制御剤A(下記トリフェニルメタンレーキ顔料) 2質量部
上記材料をヘンシェルミキサーで前混合した後、二軸混練押し出し機によって、溶融混練した。
・シリカ微粉末の母体(BET比表面積200m2/g)100質量部に対して、アミノ変性シリコーンオイル(ジメチルシリコーンオイルを主骨格とするシリコーンオイル、アミノ当量=830、25℃における粘度=70mm2/s)17質量部で処理した疎水性シリカ微粉末a(透過率80%の時のメタノール濃度が75%、BET比表面積が110m2/g)0.8質量部
・アルミナ粒子(pH=4の時のゼータ電位:36.5mV,BET比表面積:100m2/g)0.2質量部
・チタン酸ストロンチウム粉末(個数平均1次粒径1.5μm)3.0質量部
トナー粒子内添処方及び現像剤物性を表3に記し、最大圧密応力と単軸崩壊応力の関係を図3に示す。
画像濃度は、マクベス濃度計(マクベス社製)でSPIフィルターを使用して、反射濃度測定を行い、5mm角の画像を測定した。この評価を、初期、20万枚時に行った。
カブリは、反射濃度計(リフレクトメーター モデル TC−6DS 東京電色社製)を用いて行い、画像形成後の白地部反射濃度最悪値をDs、画像形成前の転写材の反射平均濃度をDrとし、Ds−Drをカブリ量としてカブリの評価を行った。数値が小さいほど、カブリが抑制されていることを意味する。この評価を、初期、20万枚時に行った。
画質の評価についても上記画出し試験機を用いて、常温常湿環境で1200dpiの孤立した1ドットのパターンを画出しし、光学顕微鏡で画像を観察してドット再現性を評価した。
A:潜像からのトナーのはみ出しが全く無く、ドットを完全に再現している。
B:潜像からのトナーのはみ出しが少しある。
C:潜像からのトナーのはみ出しが多い。
トナー消費量についても上記画出し試験機を用いて常温常湿環境で1000枚画出し後、600dpiの4ドット横線パターンで潜像ライン幅が約190μmになるように設定し、A4サイズ紙に印字率6%の画像を5000枚出力し、現像器内のトナー量の変化から消費量を求めた。
ライン幅についても上記画出し試験機を用いて常温常湿環境で600dpiの4ドット横線パターン潜像(潜像ライン幅約190μm)を1cm間隔で書かせ、これを現像し、PET製OHP上に転写、定着させた。得られた横線パターン画像を表面粗さ計サーフコーダーSE−30H(小坂研究所製)を用い、横線ラインのトナーの載り方を表面粗さのプロフィールとして得、このプロフィールの幅からライン幅を求めた。ライン幅は潜像ライン幅よりもわずかに太い時に、最も鮮鋭性の高い画像が得られ、潜像ライン幅よりも細くなるに従い細線の再現性などが低下する。
A:空回転前後の帯電量の変化幅が3mC/kg未満である
B:空回転前後の帯電量の変化幅が3〜6mC/kgである
C:空回転前後の帯電量の変化幅が6mC/kgよりも大きい。
表3に記載の処方(結着樹脂に関しては表1参照、ワックスに関しては表2参照)とした以外は実施例1と同様に現像剤2を作製した。現像剤2に含有されるトナー粒子を水に分散させ、分散液のpHを測定したところpH=4であった。このようにして得られた現像剤の物性を表3に示す。また実施例1と同様の試験をした結果を表4〜6に示す。
尚、実施例3〜7、比較例1〜5にかかるトナー粒子を水に分散させた際の分散液のpHはいずれも4であった。
表3に記載の処方(結着樹脂に関しては表1参照、ワックスに関しては表2参照)とした以外は実施例1と同様に現像剤3を作製した。尚、無機微粉末としてアルミナ粒子に代えて用いた酸化亜鉛粒子は、pH=4の時のゼータ電位が8.3mVであり、BET比表面積が30m2/gのものである。このようにして得られた現像剤の物性を表3に示す。また実施例1と同様の試験をした結果を表4〜6に示す。
表3に記載の処方(結着樹脂に関しては表1参照、ワックスに関しては表2参照)とした以外は実施例1と同様に現像剤4を作製した。尚、無機微粉末としてアルミナ粒子に代えて用いた酸化マグネシウム粒子は、pH=4の時のゼータ電位が44.3mVであり、BET比表面積が5.3m2/gのものである。このようにして得られた現像剤の物性を表3に示す。また実施例1と同様の試験をした結果を表4〜6に示す。
表3に記載の処方(結着樹脂に関しては表1参照、ワックスに関しては表2参照)とした以外は実施例1と同様に現像剤5を作製した。尚、荷電制御剤Bとは、下記の構造を有する4級アンモニウム塩であり、複核形状の磁性酸化鉄粒子とは、個数平均粒径が0.19μmのものである。また、無機微粉末としてアルミナ粒子に代えて用いた酸化亜鉛粒子は、実施例3で用いたものであり、その添加量を0.5質量部とした。又、シリカ微粉末bは、シリカ母体(BET比表面積200m2/g)100質量部に対して、アミノ変性シリコーンオイル(ジメチルシリコーンオイルを主骨格とするシリコーンオイル、アミノ当量=830、25℃における粘度=70mm2/s)15質量部とアミノシランカップリング剤2質量部で同時に処理したものであり、透過率80%の時のメタノール濃度が69%の疎水性シリカ微粉末である。このようにして得られた現像剤の物性を表3に示す。また実施例1と同様の試験をした結果を表4〜6に示す。
表3に記載の処方(結着樹脂に関しては表1参照、ワックスに関しては表2参照)とした以外は実施例1と同様に現像剤6を作製した。尚、複核形状の磁性酸化鉄粒子は、実施例5で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表3に示す。また実施例1と同様の試験をした結果を表4〜6に示す。
表3に記載の処方(結着樹脂に関しては表1参照、ワックスに関しては表2参照)とし、ワックスaを2部とワックスbを4部用いた以外は実施例1と同様に現像剤7を作製した。尚、無機微粉末としてアルミナ粒子に代えて用いた酸化亜鉛粒子は、実施例3で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表3に示す。また実施例1と同様の試験をした結果を表4〜6に示す。
表3に記載の処方(結着樹脂に関しては表1参照、ワックスに関しては表2参照)で、実施例1と同様に現像剤8〜12を作製した。このようにして得られた現像剤の物性を表3に示す。また実施例1と同様の試験をした結果を表4〜6に示す。尚、荷電制御剤Cはニグロシンである。また、無機微粉末としてアルミナ粒子に代えて用いた酸化チタン粒子は、pH=4の時のゼータ電位が2.1mVであり、BET比表面積が100m2/gのものである。更に、無機微粉末としてアルミナ粒子に代えて用いたシリカ粒子は、pH=4の時のゼータ電位が−9.5mVであり、BET比表面積が50m2/gのものである。
四つ口フラスコ内にキシレン300質量部を投入し、撹拌しながら容器内を充分に窒素で置換した後、昇温して還流させる。
この還流下で、スチレン75.0質量部、アクリル酸−n−ブチル25.0質量部及びジ−tert−ブチルパーオキサイド(開始剤1)2.0質量部の混合液を4時間かけて滴下した後、2時間保持し重合を完了し、低分子量重合体溶液(E−1)を得た。
スチレン79.0質量部、アクリル酸−n−ブチル21.0質量部、開始剤1を1.0質量部用いて低分子量成分E−1の製造例と同様に重合を行い、低分子量重合体溶液E−2を得た。
スチレン77.0質量部、アクリル酸−n−ブチル23.0質量部、開始剤1を2.0質量部用いて低分子量成分E−1の製造例と同様に重合を行い、低分子量重合体溶液E−3を得た。
スチレン72.0質量部、アクリル酸−n−ブチル24.0質量部、アクリル酸4.0質量部、開始剤1を2.0質量部用いて低分子量成分E−1の製造例と同様に重合を行い、低分子量重合体溶液E−4を得た。
スチレン74.0質量部、アクリル酸−n−ブチル24.0質量部、開始剤1を1.5質量部用いて低分子量成分E−1の製造例と同様に重合を行い、低分子量重合体溶液E−5を得た。
四つ口フラスコ内にキシレン300質量部を投入し、撹拌しながら容器内を充分に窒素で置換した後、昇温して還流させる。
この還流下で、まず、スチレン80.0量部、アクリル酸−n−ブチル16.0質量部及び2,2−ビス(4,4−ジ−tert−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン(開始剤2)2.0質量部、メタクリル酸5.0質量部の混合液を4時間かけて滴下する。全てを滴下した後、2時間保持し重合を完了し、高分子量成分(D−1)溶液を得た。
スチレン81.0質量部、アクリル酸−n−ブチル16.0質量部、開始剤2を2.0質量部及びメタクリル酸4.0質量部の混合液を用いて高分子量成分D−1の製造例と同様に重合を行い、高分子量成分(D−2)溶液を得た。
スチレン79.0質量部、アクリル酸−n−ブチル16.0質量部、開始剤2を2.0質量部及びメタクリル酸6.0質量部の混合液を用いて高分子量成分D−1の製造例と同様に重合を行い、高分子量成分(D−3)溶液を得た。
スチレン82.0質量部、アクリル酸−n−ブチル17.5質量部、ジビニルベンゼン0.6質量部、開始剤2を0.4質量部及びマレイン酸モノn−ブチル2.0質量部の混合液を用いて高分子量成分D−1の製造例と同様に重合を行い、高分子量成分(D−4)溶液を得た。
四つ口フラスコ内に脱気水180質量部とポリビニルアルコールの2質量%水溶液20質量部を投入した後、スチレン73.0質量部、アクリル酸−n−ブチル23.0質量部、マレイン酸モノn−ブチル7.0質量部、ジビニルベンゼン0.005質量部及び開始剤2を0.8質量部の混合液を加え、撹拌し懸濁液とした。
フラスコ内を充分に窒素で置換した後、85℃まで昇温して、重合を開始した。同温度に24時間保持した後、ベンゾイルパーオキサイド(半減期10時間温度;72℃)0.1質量部を追加した。さらに、12時間保持して重合を完了した。その後、該高分子量重合体を濾別し、水洗,乾燥し高分子量成分(D−5)を得た。
スチレン76.0質量部、アクリル酸−n−ブチル26.0質量部、ジビニルベンゼン0.005質量部、開始剤2を1.0質量部及びメタクリル酸7.0質量部の混合液を用いて高分子量成分D−1の製造例と同様に重合を行い、高分子量成分(D−6)溶液を得た。
高分子量成分(D−5)の製造例と同様にスチレン70.0質量部、アクリル酸−n−ブチル24.0質量部、マレイン酸モノn−ブチル4.0質量部、ジビニルベンゼン0.005質量部及び開始剤2を1.5質量部用いて高分子量成分(D−7)を得た。
四つ口フラスコ内に、上記低分子量成分(E−1)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分60質量部相当)を投入し、昇温して還流下で撹拌する。一方、別容器に上記高分子量成分(D−1)溶液200質量部(高分子量成分40質量部相当)を投入し、還流させる。上記低分子量成分(E−1)溶液と高分子量成分(D−1)溶液を還流下で混合した後、有機溶剤を留去し、得られた樹脂を冷却、固化後粉砕する。この低分子量成分と高分子量成分の混合物95質量部とグリシジル基含有ビニル樹脂(スチレン−アクリル酸グリシジル共重合体、重量平均分子量:14000、エポキシ価:0.1eq/kg)5質量部をヘンシェルミキサーにて混合後、2軸押出機にて200℃で架橋反応後、1℃/minの冷却速度で冷却し、その後粉砕して結着樹脂(F−1)を得た。
上記高分子量成分(D−2)、(D−3)を用い、結着樹脂(F−1)の製造例と同様にして結着樹脂(F−2)、(F−3)を得た。
四つ口フラスコ内に、上記低分子量成分(E−2)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分70質量部相当)を投入し、昇温して還流下で撹拌する。そのフラスコ内に上記高分子量成分(D−4)30質量部を投入し、還流させる。上記低分子量成分(E−2)溶液と高分子量成分(D−4)を還流下で混合した後、有機溶剤を留去し、得られた樹脂を冷却、固化後粉砕して結着樹脂(F−4)を得た。
上記低分子量成分(E−3)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分80質量部相当)及び上記高分子量成分(D−5)20質量部を用い結着樹脂(F−4)の製造例と同様にして結着樹脂(F−5)を得た。
上記低分子量成分(E−4)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分80質量部相当)及び上記高分子量成分(D−6)20質量部を用い結着樹脂(F−4)の製造例と同様にして結着樹脂(F−6)を得た。
上記低分子量成分(E−5)のキシレン溶液200質量部(低分子量成分70質量部相当)及び上記高分子量成分(D−7)30質量部を用い結着樹脂(F−4)の製造例と同様にして結着樹脂(F−7)を得た。
予め精製処理を施した水溶性マグネシウム塩1当量に対しアルカリ性物質を0.90当量を、30℃で混合して反応させ、その後反応物を反応母液とともに約60kg/cm2の加圧下で100℃で約4時間加熱させて水酸化マグネシウムを得た。この水酸化マグネシウムをカンタル炉で1450℃で3時間焼成した。焼成物を気流分級機構のついた粉砕機を用いて粉砕、分級を行い酸化マグネシウム微粉末1を得た。得られた酸化マグネシウム微粉末1の物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末の製造例1において、焼成時間を2時間とする以外は製造例1と同様にして酸化マグネシウム微粉末2を得た。得られた酸化マグネシウム微粉末2の物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末の製造例1において、焼成温度を1150℃とする以外は製造例1と同様にして酸化マグネシウム微粉末3を得た。得られた酸化マグネシウム微粉末3の物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末の製造例1において、焼成温度を1750℃とする以外は製造例1と同様にして酸化マグネシウム微粉末4を得た。得られた酸化マグネシウム微粉末4の物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末の製造例1において、アルカリ性物質を0.70当量添加する以外は製造例1と同様にして酸化マグネシウム微粉末5を得た。得られた酸化マグネシウム微粉末5の物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末の製造例1において、焼成温度を1750℃とし、焼成時間を2時間とする以外は製造例1と同様にして酸化マグネシウム微粉末6を得た。得られた酸化マグネシウム微粉末6の物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末の製造例6において、アルカリ性物質を0.60当量添加する以外は製造例6と同様にして酸化マグネシウム微粉末7を得た。得られた酸化マグネシウム微粉末7の物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末の製造例3において、マグネシウム源として海水、アルカリ源として生石灰を用いた以外は同様にして海水法酸化マグネシウム微粉末8を得た。得られた物性値を表8に示す。
酸化マグネシウム微粉末9として気相酸化法マグネシア(宇部マテリアルズ社製500A)を用いた。
本発明で用いた酸化マグネシウム微粉末1〜9は、いずれもCuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2deg)の42.9degにピークを有するものであった。酸化マグネシウム微粉末1〜9の物性値を表8に示す。
・結着樹脂F−1 100質量部
・磁性酸化鉄粒子(八面体,個数平均粒径:0.20μm) 90質量部
・ワックスb(フィッシャートロプシュワックス) 4質量部
・前記荷電制御剤A(トリフェニルメタンレーキ顔料) 2質量部
上記材料をヘンシェルミキサーで前混合した後、二軸混練押し出し機によって、溶融混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルで粗粉砕した後、ジェット気流を用いた微粉砕機で粉砕し、得られた微粉砕粉末をコアンダ効果を利用した多分割分級機を用いて分級し、トナー粒子を得た。このトナー粒子のゼータ電位を測定したところ、分散液のpHは4であり、ゼータ電位の値は41.0mVであった。
・酸化マグネシウム微粉末1を0.2質量部
・前記疎水性シリカ微粉末aを0.8質量部
・実施例1で用いたチタン酸ストロンチウムを3.0質量部
この現像剤13を市販の複写機(iR−105、キヤノン製)を1.3倍のプリントスピードに改造し、23℃,5%RHの環境と23℃,60%RHの環境と30℃,80%RHの環境で印字比率4%のテストチャートを用いて25万枚の連続プリントを行った。
画像濃度はマクベス濃度計(マクベス社製)でSPIフィルターを使用して、反射濃度測定を行い、5mm角の画像を測定した。この評価を、初期、25万枚時に行った。その評価結果を表10〜12に示す。
カブリは反射濃度計(リフレクトメーター、モデルTC−6DS、東京電色社製)を用いて行い、画像形成後の白地部反射濃度最悪値をDs、画像形成前の転写材の反射平均濃度をDrとし、Ds−Drをカブリ量としてカブリの評価を行った。この評価を、初期、25万枚時に行った。その評価結果を表10〜12に示す。
尾引きの評価は各環境において、初期と25万枚画出し後、上記画出し試験機を用いてライン幅を170μmに合わせた条件で4ドットの横ラインを15ドットのスペースに印字したパターンを画出しした。その画像を光学顕微鏡で100倍に拡大し、拡大された像において2.5mm四方に観察される3本の横ライン上で尾引きが生じた数を数えた。
A:発生なし
B:3個未満
C:3〜7個未満
D:7〜15個未満
E:15個以上。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とした以外は実施例8と同様に現像剤14,15を作製した。現像剤14、15に含有されるトナー粒子を水に分散させ、分散液のpHを測定したところpH=4であった。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
尚、以降の実施例11〜17、比較例6〜9にかかるトナー粒子を水に分散させた際の分散液のpHはいずれも4であった。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とした以外は実施例8と同様に現像剤16を作製した。尚、複核形状の磁性酸化鉄粒子は、実施例5で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とし、ヘンシェルミキサーによる外添条件を条件2(1300rpm、1分)にした以外は実施例8と同様に現像剤17を作製した。尚、複核形状の磁性酸化鉄粒子は、実施例5で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とし、ヘンシェルミキサーによる外添条件を条件3(2000rpm、8分)にした以外は実施例8と同様に現像剤18を作製した。尚、複核形状の磁性酸化鉄粒子は、実施例5で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とし、ワックスaを4部とワックスbを2部用いた以外は実施例8と同様に現像剤19を作製した。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とした以外は実施例8と同様に現像剤20を作製した。尚、複核形状の磁性酸化鉄粒子は、実施例5で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とした以外は実施例8と同様に現像剤21を作製した。尚、複核形状の磁性酸化鉄粒子は、実施例5で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とした以外は実施例8と同様に現像剤22を作製した。尚、複核形状の磁性酸化鉄粒子は、実施例5で用いたものである。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。
表9に記載の処方(結着樹脂に関しては表7、ワックスに関しては表2、酸化マグネシウムに関しては表8参照)とした以外は、実施例8と同様に現像剤23〜26を作製した。このようにして得られた現像剤の物性を表9に示す。また実施例8と同様の試験をした結果を表10〜12に示す。尚、球形の磁性体としては、個数平均粒径が0.20μmのものを用いた。酸化錫微粉末としては、粒径が0.30μm、等電点が6.6、pH=4の時のゼータ電位が−12.1mVであり、BET比表面積が35.0m2/gのものを用いた。酸化チタン微粉末としては、粒径が0.27μm、等電点が5.0、pH=4の時のゼータ電位が1.5mVであり、BET比表面積が7.1m2/gのものを用いた。
市販のデジタル複写機iR105(キヤノン製)の転写装置周辺部を図5に示した転写ベルト型に改造し、感光体を下記の感光体1に交換し、マシン本体のプロセススピードを660mm/secになるように改造し使用した。プリントスピードは110枚/分(A4横)とした。
感光体1:円筒状アルミニウム基体上に、ホウ素をドープしたa−Si:H膜で構成された電荷注入阻止層、ホウ素をドープしたa−Si:H膜で構成された光導電層、シリコンと炭素からなるシリコン膜(a−SiC:H)で構成された表面保護層を積層した外径108mmの正帯電性のa−Si系感光体
本実施例において、現像工程はiR105に搭載の現像器を用い、磁性一成分ジャンピング現像方式により感光体11上の静電潜像を反転現像する方式を採用した。
Claims (6)
- 結着樹脂、磁性酸化鉄を少なくとも含有する正帯電性トナー粒子と無機微粉末とを少なくとも有する正帯電性現像剤であって、
該無機微粉末は、酸化亜鉛、アルミナ及び酸化マグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物の微粉末であり、
該正帯電性現像剤は、該無機微粉末の他にシリカ微粉末を有し、
該正帯電性トナー粒子を水中に分散させた時の分散液のpHにおける該正帯電性トナー粒子のゼータ電位と、同pHにおける該無機微粉末のゼータ電位との差が40mV以下であり、
該正帯電性現像剤の最大圧密応力5.0kPa時における単軸崩壊応力(U5kPa)が、
0.1kPa≦U5kPa≦2.5kPa
であり、
該正帯電性現像剤の最大圧密応力20.0kPa時における単軸崩壊応力(U20kPa)が、
2.5kPa≦U20kPa≦5.5kPa
であることを特徴とする正帯電性現像剤。 - 該無機微粉末の含有量(D)が、現像剤全体を基準として、
0.01質量%≦D≦2.00質量%
であることを特徴とする請求項1に記載の正帯電性現像剤。 - 該無機微粉末の遊離率(E)が、
0.1%≦E≦5.0%
であることを特徴とする請求項1又は2に記載の正帯電性現像剤。 - 該シリカ微粉末のメタノール/水混合溶媒に対する濡れ性を780nmの波長光の透過率で測定した場合、透過率が80%のときのメタノール濃度(F)が、
65体積%≦F≦80体積%
であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の正帯電性現像剤。 - 潜像保持体上に形成された静電荷潜像を、現像剤担持体上に形成される現像剤層により現像して現像剤画像を形成する現像工程を少なくとも有する画像形成方法であって、
現像剤層が形成された状態における該現像剤担持体にかかるトルク(T)が、
0.1N・m≦T≦50N・m
であり、
該正帯電性現像剤が、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の正帯電性現像剤であることを特徴とする画像形成方法。 - 該潜像保持体は、導電性基体と、該導電性基体上に少なくともアモルファスシリコンを含む光導電層、該光導電層上にアモルファスシリコン及び/またはアモルファスカーボン及び/またはアモルファスシリコンナイトライドを含む表面保護層を備えることを特徴とする請求項5に記載の画像形成方法。
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