JP4461464B2 - スピンヘッド - Google Patents
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Description
第1従動部は、第1及び第2高さと異なる第4高さに位置する第1補助磁性体をさらに含む。第2従動部は、第4高さに位置する第2補助磁性体をさらに含む。駆動磁性体は、第1及び第2補助磁性体に磁力を印加して第1及び第2チャッキングピンを同時に支持プレートの半径外側方向へ移動させる。
3チャッキングピンを支持プレートの半径方向へ移動させる駆動ユニットとを含み、工程進行のとき、駆動ユニットは、磁力によって第1乃至第3チャッキングピンの中で何れかの一つを基板の側部と非接触させる。
前記駆動ユニットは、前記第1チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第1チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第1磁性体を各々具備する複数の第1従動部と、前記第2チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第2チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第2磁性体を各々具備する複数の第2従動部と、前記第3チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第3チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第3磁性体を各々具備する複数の第3従動部と、前記複数の第1乃至第3従動部の内側に配置される駆動磁性体と、第1高さに位置する前記第1磁性体と前記第1高さと異なる第2高さに位置する前記第2磁性体と前記第1及び第2高さと異なる第3高さに位置する前記第3磁性体に選択的に磁力を印加するために前記駆動磁性体を昇降させる昇降部材とを含む。前記第1従動部は、前記第1乃至第3高さと異なる第4高さに位置する第1補助磁性体をさらに含む。前記第2従動部は、前記第4高さに位置する第2補助磁性体をさらに含む。前記第3従動部は、前記第4高さに位置する第3補助磁性体をさらに含む。前記駆動磁性体は、前記第1乃至第3補助磁性体に磁力を印加して前記第1乃至第3チャッキングピンを同時に前記支持プレートの半径外側方向へ移動させる。
10 支持プレート
12回転軸
20、30、40 チャッキングピン
100 容器
200、300、400 従動部
220、320、420 従動体
240、340、440 従動ロッド
260 第1ブッシュ
280 第1固定体
282 第1弾性体
500 駆動磁性体
600 昇降部材
700 安全ユニット
720 回転バー
740 安全錘
760 ヒンジ
780 移動ヒンジ
Claims (9)
- 回転可能な支持プレートと、
前記支持プレートの上部面に設置され、前記支持プレート上にローディングされた前記基板が回転によって前記支持プレートから離脱されることを防止するために前記基板の側部を支持する複数の第1チャッキングピン及び複数の第2チャッキングピンと、
工程進行のとき、前記複数の第1及び第2チャッキングピンが前記基板の側部と選択的に非接触となるように磁力によって前記複数の第1及び複数の第2チャッキングピンを選択的に前記支持プレートの半径外側方向へ移動させる駆動ユニットとを含み、
前記駆動ユニットは、前記第1チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第1チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第1磁性体を各々具備する複数の第1従動部と、
前記第2チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第2チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第2磁性体を各々具備する複数の第2従動部と、
前記複数の第1及び第2従動部の内側に配置される駆動磁性体と、
第1高さに位置する前記第1磁性体と前記第1高さと異なる第2高さに位置する前記第2磁性体に選択的に磁力を印加するために前記駆動磁性体を昇降させる昇降部材とを含み、
前記第1従動部は、前記第1及び第2高さと異なる第4高さに位置する第1補助磁性体をさらに含み、
前記第2従動部は、前記第4高さに位置する第2補助磁性体をさらに含み、
前記駆動磁性体は、前記第1及び第2補助磁性体に磁力を印加して前記第1及び第2チャッキングピンを同時に前記支持プレートの半径外側方向へ移動させることを特徴とするスピンヘッド。 - 前記駆動磁性体に対向する前記第1及び第2磁性体の一側と、前記第1及び第2磁性体に対向する前記駆動磁性体の一側は、同一極性を持つことを特徴とする請求項1に記載のスピンヘッド。
- 前記スピンヘッドは、前記支持プレートの上部面に設置され、前記基板の側部を支持する第3チャッキングピンをさらに含み、
前記駆動ユニットは、前記第3チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第3チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第3磁性体を具備する第3従動部をさらに含み、
前記第3磁性体は、前記第1及び第2高さと異なる第3高さに位置することを特徴とする請求項1に記載のスピンヘッド。 - 前記駆動ユニットは、
前記第1チャッキングピンに連結され、前記第1チャッキングピンに対して前記支持プレートの半径内側方向に向かう弾性力を提供する第1弾性体と、
前記第2チャッキングピンに連結され、前記第2チャッキングピンに対して前記支持プレートの半径内側方向に向かう弾性力を提供する第2弾性体とをさらに含み、
前記駆動磁性体は、前記第1及び第2チャッキングピンを前記支持プレートの半径外側方向へ移動させることを特徴とする請求項1に記載のスピンヘッド。 - 前記第1従動部は、
前記第1磁性体を受納する第1ハウジングと、
前記第1チャッキングピンから前記支持プレートの半径方向に延長され、前記第1チャッキングピンと前記第1ハウジングを連結する第1従動ロッドと、
前記支持プレートの下部面に固定され、前記第1従動ロッドの移動方向を案内する第1ガイドホールが形成された第1ブッシュと、
一端が前記第1ブッシュに連結され、前記第1従動ロッドに対して前記支持プレートの内側半径方向に向かう弾性力を提供する第1弾性体と、
前記第1弾性体の他端に連結され、前記第1従動ロッド上に固定される第1固定体とを含むことを特徴とする請求項1に記載のスピンヘッド。 - 前記スピンヘッドは、前記基板の側部と接触した前記第1又は、第2チャッキングピンが前記支持プレートの回転による遠心力によって前記支持プレートの半径外側方向へ移動することを防止する安全ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のスピンヘッド。
- 前記安全ユニットは、
前記第1チャッキングピンに連結された第1従動ロッド上に一端が連結され、回転可能な第1回転バーと、
前記第1回転バーの他端に連結される第1安全錘と、
前記第1回転バーの中央を固定して前記第1回転バーの中央が前記支持プレートの半径方向へ移動することを防止する第1ヒンジと、
前記第2チャッキングピンに連結された第2従動ロッド上に一端が連結され、回転可能な第2回転バーと、
前記第2回転バーの他端に連結する第2安全錘と、
前記第2回転バーの中央を固定して前記第2回転バーの中央が前記支持プレートの半径方向へ移動することを防止する第2ヒンジとを含み、
前記支持プレートの回転による遠心力によって前記第1及び第2回転バーは、前記第1及び第2ヒンジを中心に各々回転し、
前記第1及び第2回転バーの一端は、前記支持プレートの半径内側方向へ移動して、前記第1及び第2回転バーの他端は、前記支持プレートの半径外側方向へ移動することを特徴とする請求項6に記載のスピンヘッド。 - 回転可能なプレートと、
前記支持プレートの上部面に設置され、前記支持プレート上にローディングされた前記基板が回転によって前記支持プレートから離脱されることを防止するために前記基板の側部を支持する複数の第1チャッキングピン、複数の第2チャッキングピン、及び複数の第3チャッキングピンと、
前記複数の第1乃至第3チャッキングピンが前記基板の側部と接触/非接触するように前記複数の第1乃至第3チャッキングピンを前記支持プレートの半径方向へ移動させる駆動ユニットとを含み、
工程進行のとき、前記駆動ユニットは、磁力によって前記第1乃至第3チャッキングピンの中の何れか一つを前記基板の側部と非接触させ、
前記駆動ユニットは、
前記第1チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第1チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第1磁性体を各々具備する複数の第1従動部と、
前記第2チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第2チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第2磁性体を各々具備する複数の第2従動部と、
前記第3チャッキングピンに連結され、前記磁力によって前記第3チャッキングピンと共に前記支持プレートの半径方向へ移動する第3磁性体を各々具備する複数の第3従動部と、
前記複数の第1乃至第3従動部の内側に配置される駆動磁性体と、
第1高さに位置する前記第1磁性体と前記第1高さと異なる第2高さに位置する前記第2磁性体と前記第1及び第2高さと異なる第3高さに位置する前記第3磁性体に選択的に磁力を印加するために前記駆動磁性体を昇降させる昇降部材とを含み、
前記第1従動部は、前記第1乃至第3高さと異なる第4高さに位置する第1補助磁性体をさらに含み、
前記第2従動部は、前記第4高さに位置する第2補助磁性体をさらに含み、
前記第3従動部は、前記第4高さに位置する第3補助磁性体をさらに含み、
前記駆動磁性体は、前記第1乃至第3補助磁性体に磁力を印加して前記第1乃至第3チャッキングピンを同時に前記支持プレートの半径外側方向へ移動させることを特徴とするスピンヘッド。 - 前記駆動磁性体に対向する前記第1乃至第3磁性体の一側と、前記第1乃至第3磁性体に対向する前記駆動磁性体の一側は、同一極性を持つことを特徴とする請求項8に記載のスピンヘッド。
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KR101036605B1 (ko) * | 2008-06-30 | 2011-05-24 | 세메스 주식회사 | 기판 지지 유닛 및 이를 이용한 매엽식 기판 연마 장치 |
KR101004434B1 (ko) * | 2008-11-26 | 2010-12-28 | 세메스 주식회사 | 기판 지지 유닛과, 이를 이용한 기판 연마 장치 및 방법 |
KR101017654B1 (ko) * | 2008-11-26 | 2011-02-25 | 세메스 주식회사 | 기판 척킹 부재, 이를 갖는 기판 처리 장치 및 이를 이용한기판 처리 방법 |
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JP5243491B2 (ja) * | 2010-06-18 | 2013-07-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置決め装置、基板処理装置及び基準部材の固定方法 |
KR101306751B1 (ko) * | 2011-04-29 | 2013-09-10 | 주식회사 테라세미콘 | 기판 지지용 홀더 및 이를 사용한 기판 처리 장치 |
US9421617B2 (en) | 2011-06-22 | 2016-08-23 | Tel Nexx, Inc. | Substrate holder |
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JP6400977B2 (ja) * | 2013-09-25 | 2018-10-03 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
CN103762196B (zh) * | 2014-02-20 | 2017-03-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 盘状物的夹持装置及盘状物的旋转平台 |
CN103811399B (zh) * | 2014-03-04 | 2016-04-06 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 一种半导体晶圆的支撑装置 |
US9947572B2 (en) * | 2014-03-26 | 2018-04-17 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
CN104538345B (zh) * | 2014-12-31 | 2017-06-06 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 一种盘状物夹持旋转装置 |
KR101841342B1 (ko) * | 2015-03-30 | 2018-03-22 | 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 | 스핀 처리 장치 |
CN104801472B (zh) * | 2015-04-29 | 2017-03-08 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法 |
WO2017062141A1 (en) * | 2015-10-04 | 2017-04-13 | Applied Materials, Inc. | Substrate support and baffle apparatus |
US10373858B2 (en) | 2016-04-06 | 2019-08-06 | Lam Research Corporation | Chuck for edge bevel removal and method for centering a wafer prior to edge bevel removal |
JP6570074B2 (ja) * | 2016-08-12 | 2019-09-04 | 株式会社Sumco | チャック機構 |
US20190300296A1 (en) * | 2016-10-27 | 2019-10-03 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for securing an article |
DE202017101471U1 (de) * | 2017-03-14 | 2017-04-11 | Kemmann & Koch Gmbh & Co. Kg | Gelenkbeschlag insbesondere für Möbel |
JP6892774B2 (ja) * | 2017-03-24 | 2021-06-23 | 株式会社Screenホールディングス | 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法 |
CN111063652B (zh) * | 2018-10-16 | 2022-08-30 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 一种基板夹持承载台 |
EP3734303B1 (en) * | 2019-05-03 | 2024-04-03 | Afore Oy | Cryogenic probe station with loading assembly |
EP3734304A1 (en) * | 2019-05-03 | 2020-11-04 | Afore Oy | Cryogenic probe station |
CN112185885B (zh) * | 2020-12-01 | 2021-07-16 | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 | 一种用于卡夹硅片的卡盘销及用于保持硅片的装置 |
JP2022191540A (ja) * | 2021-06-16 | 2022-12-28 | 株式会社荏原製作所 | 基板支持機構、基板洗浄装置及び基板処理方法 |
KR20230053155A (ko) * | 2021-10-14 | 2023-04-21 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Family Cites Families (156)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3862856A (en) * | 1972-06-29 | 1975-01-28 | Headway Research Inc | Method for achieving thin films on substrates |
US4001659A (en) * | 1974-09-12 | 1977-01-04 | Headway Research, Inc. | Apparatus for spinning a microelectronic substrate |
JPS54136304A (en) * | 1978-04-13 | 1979-10-23 | Tdk Corp | Disc form magnetic recording medium and polishing device |
US4280442A (en) * | 1980-02-19 | 1981-07-28 | Miles Laboratories, Inc. | Apparatus for producing monocellular layers of cell-containing biological fluid |
JPS57166250A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Conveyance positioning device of sheet material |
US4473455A (en) * | 1981-12-21 | 1984-09-25 | At&T Bell Laboratories | Wafer holding apparatus and method |
US4489740A (en) * | 1982-12-27 | 1984-12-25 | General Signal Corporation | Disc cleaning machine |
JP2855046B2 (ja) * | 1993-03-31 | 1999-02-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 回転式基板処理装置用の基板回転保持装置 |
US4439261A (en) * | 1983-08-26 | 1984-03-27 | International Business Machines Corporation | Composite pallet |
JPS60263371A (ja) * | 1984-06-12 | 1985-12-26 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | デイスクの回転駆動装置 |
US4585337A (en) * | 1985-01-14 | 1986-04-29 | Phillips Edward H | Step-and-repeat alignment and exposure system |
JPS62264128A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-17 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ真空処理装置 |
JPS62185321A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-13 | Nec Corp | スピンナ装置 |
JPS63153839A (ja) | 1986-08-13 | 1988-06-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の回転保持装置 |
US4788994A (en) | 1986-08-13 | 1988-12-06 | Dainippon Screen Mfg. Co. | Wafer holding mechanism |
JPS63191535A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-09 | Hitachi Ltd | 薄板加工装置 |
JPS63271931A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-09 | Tokyo Electron Ltd | 現像装置 |
US4960142A (en) * | 1987-12-21 | 1990-10-02 | Herrules Equipment Corporation | Paint cleaning apparatus |
US5168887A (en) * | 1990-05-18 | 1992-12-08 | Semitool, Inc. | Single wafer processor apparatus |
US5431421A (en) * | 1988-05-25 | 1995-07-11 | Semitool, Inc. | Semiconductor processor wafer holder |
US5168886A (en) * | 1988-05-25 | 1992-12-08 | Semitool, Inc. | Single wafer processor |
US5224504A (en) * | 1988-05-25 | 1993-07-06 | Semitool, Inc. | Single wafer processor |
JPH06103687B2 (ja) * | 1988-08-12 | 1994-12-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 回転式表面処理方法および回転式表面処理における処理終点検出方法、ならびに回転式表面処理装置 |
US4944860A (en) * | 1988-11-04 | 1990-07-31 | Eaton Corporation | Platen assembly for a vacuum processing system |
US5238500A (en) * | 1990-05-15 | 1993-08-24 | Semitool, Inc. | Aqueous hydrofluoric and hydrochloric acid vapor processing of semiconductor wafers |
US5357991A (en) * | 1989-03-27 | 1994-10-25 | Semitool, Inc. | Gas phase semiconductor processor with liquid phase mixing |
US4898639A (en) * | 1989-04-14 | 1990-02-06 | Bjorne Enterprises, Inc. | Wafer retention device |
JP2645135B2 (ja) | 1989-04-25 | 1997-08-25 | 株式会社東芝 | 半導体ウェーハ保持装置 |
JPH0758708B2 (ja) * | 1989-05-18 | 1995-06-21 | 松下電器産業株式会社 | ドライエッチング装置 |
US5156174A (en) * | 1990-05-18 | 1992-10-20 | Semitool, Inc. | Single wafer processor with a bowl |
US6375741B2 (en) * | 1991-03-06 | 2002-04-23 | Timothy J. Reardon | Semiconductor processing spray coating apparatus |
US5222310A (en) * | 1990-05-18 | 1993-06-29 | Semitool, Inc. | Single wafer processor with a frame |
US5063990A (en) | 1990-06-22 | 1991-11-12 | Armco Inc. | Method and apparatus for improved melt flow during continuous strip casting |
JPH0735395Y2 (ja) * | 1990-09-27 | 1995-08-09 | 株式会社エンヤシステム | スピンチャック |
US5203360A (en) * | 1990-12-17 | 1993-04-20 | Seagate Technology, Inc. | Disc washing system |
EP0499413B1 (en) * | 1991-02-12 | 1997-09-03 | Sony Corporation | Disc and disc chucking device |
US5365031A (en) * | 1992-03-23 | 1994-11-15 | Hughes Aircraft Company | Apparatus and method for shielding a workpiece holding mechanism from depreciative effects during workpiece processing |
KR100230694B1 (ko) * | 1992-05-18 | 1999-11-15 | 다카시마 히로시 | 기판세정처리장치 |
JP2654314B2 (ja) * | 1992-06-04 | 1997-09-17 | 東京応化工業株式会社 | 裏面洗浄装置 |
US5224503A (en) * | 1992-06-15 | 1993-07-06 | Semitool, Inc. | Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus |
JP3183575B2 (ja) * | 1992-09-03 | 2001-07-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
DE59407361D1 (de) * | 1993-02-08 | 1999-01-14 | Sez Semiconduct Equip Zubehoer | Träger für scheibenförmige Gegenstände |
JPH08507326A (ja) * | 1993-02-19 | 1996-08-06 | コナー ペリフェラルズ,インコーポレイティド | 基板上に組成物をスパッタするためのシステム |
JP2862754B2 (ja) * | 1993-04-19 | 1999-03-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び回転部材 |
DE69413589T2 (de) * | 1993-04-22 | 1999-04-08 | Nippon Telegraph And Telephone Corp., Tokio/Tokyo | Polierscheibe für die Endfläche einer optischen Faserverbindung und Poliervorrichtung |
US5456758A (en) * | 1993-04-26 | 1995-10-10 | Sematech, Inc. | Submicron particle removal using liquid nitrogen |
JP3388628B2 (ja) * | 1994-03-24 | 2003-03-24 | 東京応化工業株式会社 | 回転式薬液処理装置 |
US5895549A (en) * | 1994-07-11 | 1999-04-20 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Method and apparatus for etching film layers on large substrates |
US5753133A (en) * | 1994-07-11 | 1998-05-19 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Method and apparatus for etching film layers on large substrates |
JPH08257469A (ja) * | 1995-01-24 | 1996-10-08 | Canon Inc | 基板回転装置および基板処理装置 |
AT405225B (de) * | 1995-05-02 | 1999-06-25 | Sez Semiconduct Equip Zubehoer | Vorrichtung zum behandeln annähernd runder oder kreisscheibenförmiger gegenstände, insbesondere siliziumwafer |
JPH08316190A (ja) * | 1995-05-18 | 1996-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US5954911A (en) * | 1995-10-12 | 1999-09-21 | Semitool, Inc. | Semiconductor processing using vapor mixtures |
JPH09107023A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-22 | Toshiba Microelectron Corp | 被処理物の回転保持装置 |
JPH09213772A (ja) | 1996-01-30 | 1997-08-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板保持装置 |
JPH09232410A (ja) | 1996-02-26 | 1997-09-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 |
US5879576A (en) * | 1996-05-07 | 1999-03-09 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Method and apparatus for processing substrates |
US5863340A (en) * | 1996-05-08 | 1999-01-26 | Flanigan; Allen | Deposition ring anti-rotation apparatus |
KR0149271B1 (ko) | 1996-06-04 | 1999-10-01 | 배순훈 | 냉장고의 도어 |
US5861061A (en) * | 1996-06-21 | 1999-01-19 | Micron Technology, Inc. | Spin coating bowl |
US5985031A (en) * | 1996-06-21 | 1999-11-16 | Micron Technology, Inc. | Spin coating spindle and chuck assembly |
US5759273A (en) * | 1996-07-16 | 1998-06-02 | Micron Technology, Inc. | Cross-section sample staining tool |
SG103277A1 (en) * | 1996-09-24 | 2004-04-29 | Tokyo Electron Ltd | Method and apparatus for cleaning treatment |
KR100508575B1 (ko) * | 1996-09-24 | 2005-10-21 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 세정처리방법및장치와기판처리용장치 |
US6039059A (en) * | 1996-09-30 | 2000-03-21 | Verteq, Inc. | Wafer cleaning system |
DE69737926T2 (de) * | 1996-10-21 | 2008-04-10 | Ebara Corp. | Reinigungsvorrichtung |
JP3831043B2 (ja) * | 1997-01-24 | 2006-10-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 回転処理装置 |
US5966635A (en) * | 1997-01-31 | 1999-10-12 | Motorola, Inc. | Method for reducing particles on a substrate using chuck cleaning |
JP3336898B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2002-10-21 | 三菱電機株式会社 | シリコンウエハ表面の不純物回収方法およびその装置 |
US5857475A (en) * | 1997-03-03 | 1999-01-12 | Volk Optical, Inc. | Optical component cleaning apparatus |
TW539918B (en) * | 1997-05-27 | 2003-07-01 | Tokyo Electron Ltd | Removal of photoresist and photoresist residue from semiconductors using supercritical carbon dioxide process |
US6632292B1 (en) * | 1998-03-13 | 2003-10-14 | Semitool, Inc. | Selective treatment of microelectronic workpiece surfaces |
JP3563605B2 (ja) * | 1998-03-16 | 2004-09-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
DE19814834A1 (de) * | 1998-04-02 | 1999-10-07 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zum Greifen und Halten eines flachen Substrats |
US6146463A (en) * | 1998-06-12 | 2000-11-14 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for aligning a substrate on a support member |
US6062239A (en) * | 1998-06-30 | 2000-05-16 | Semitool, Inc. | Cross flow centrifugal processor |
US6125863A (en) * | 1998-06-30 | 2000-10-03 | Semitool, Inc. | Offset rotor flat media processor |
US6432214B2 (en) * | 1998-07-10 | 2002-08-13 | Semitool, Inc. | Cleaning apparatus |
JP3298001B2 (ja) * | 1998-07-27 | 2002-07-02 | 株式会社スーパーシリコン研究所 | エピタキシャル成長炉 |
US6462903B1 (en) * | 1998-07-31 | 2002-10-08 | Sony Corporation | Disc-shaped recording medium and disc driving system |
JP2000133693A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-05-12 | Shibaura Mechatronics Corp | 真空装置用駆動機構および真空装置 |
US6217034B1 (en) * | 1998-09-24 | 2001-04-17 | Kla-Tencor Corporation | Edge handling wafer chuck |
TW484184B (en) * | 1998-11-06 | 2002-04-21 | Canon Kk | Sample separating apparatus and method, and substrate manufacturing method |
US6178361B1 (en) * | 1998-11-20 | 2001-01-23 | Karl Suss America, Inc. | Automatic modular wafer substrate handling device |
US6365995B1 (en) * | 1998-11-20 | 2002-04-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Brushless motor and its assembly method |
US7429537B2 (en) * | 1999-01-22 | 2008-09-30 | Semitool, Inc. | Methods and apparatus for rinsing and drying |
US6167893B1 (en) * | 1999-02-09 | 2001-01-02 | Novellus Systems, Inc. | Dynamic chuck for semiconductor wafer or other substrate |
JP3395696B2 (ja) * | 1999-03-15 | 2003-04-14 | 日本電気株式会社 | ウェハ処理装置およびウェハ処理方法 |
JP4255091B2 (ja) * | 1999-04-07 | 2009-04-15 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造方法 |
JP4104784B2 (ja) * | 1999-06-03 | 2008-06-18 | 松下電器産業株式会社 | 真空処理装置の基板取り外し方法および真空処理装置 |
US6516815B1 (en) * | 1999-07-09 | 2003-02-11 | Applied Materials, Inc. | Edge bead removal/spin rinse dry (EBR/SRD) module |
US6497239B2 (en) * | 1999-08-05 | 2002-12-24 | S. C. Fluids, Inc. | Inverted pressure vessel with shielded closure mechanism |
US6334266B1 (en) * | 1999-09-20 | 2002-01-01 | S.C. Fluids, Inc. | Supercritical fluid drying system and method of use |
TW504776B (en) * | 1999-09-09 | 2002-10-01 | Mimasu Semiconductor Ind Co | Wafer rotary holding apparatus and wafer surface treatment apparatus with waste liquid recovery mechanism |
US6537416B1 (en) * | 1999-10-01 | 2003-03-25 | Novellus Systems, Inc. | Wafer chuck for use in edge bevel removal of copper from silicon wafers |
US6748960B1 (en) * | 1999-11-02 | 2004-06-15 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for supercritical processing of multiple workpieces |
CA2387341A1 (en) * | 1999-11-02 | 2001-05-10 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for supercritical processing of multiple workpieces |
GB0002669D0 (en) * | 2000-02-04 | 2000-03-29 | Applied Materials Inc | A method and apparatus for implanting semiconductor wafer substrates |
EP1204139A4 (en) * | 2000-04-27 | 2010-04-28 | Ebara Corp | SUPPORT AND ROTATION DEVICE AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING DEVICE |
JP2001332486A (ja) * | 2000-05-25 | 2001-11-30 | Nec Yamaguchi Ltd | ウエハ現像装置 |
KR100363326B1 (ko) * | 2000-06-01 | 2002-11-30 | 한국디엔에스 주식회사 | 웨이퍼를 스피닝하기 위한 웨이퍼 척 |
US6599815B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-07-29 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method and apparatus for forming a silicon wafer with a denuded zone |
US6536454B2 (en) * | 2000-07-07 | 2003-03-25 | Sez Ag | Device for treating a disc-shaped object |
US6612014B1 (en) * | 2000-07-12 | 2003-09-02 | Applied Materials, Inc. | Dual post centrifugal wafer clip for spin rinse dry unit |
US6921456B2 (en) * | 2000-07-26 | 2005-07-26 | Tokyo Electron Limited | High pressure processing chamber for semiconductor substrate |
JP3284496B2 (ja) * | 2000-08-09 | 2002-05-20 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき液除去方法 |
US6686597B2 (en) * | 2000-09-04 | 2004-02-03 | Pioneer Corporation | Substrate rotating device, and manufacturing method and apparatus of recording medium master |
US6827092B1 (en) * | 2000-12-22 | 2004-12-07 | Lam Research Corporation | Wafer backside plate for use in a spin, rinse, and dry module and methods for making and implementing the same |
US6770146B2 (en) * | 2001-02-02 | 2004-08-03 | Mattson Technology, Inc. | Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers |
US6645344B2 (en) * | 2001-05-18 | 2003-11-11 | Tokyo Electron Limited | Universal backplane assembly and methods |
US6767176B2 (en) * | 2001-06-29 | 2004-07-27 | Applied Materials, Inc. | Lift pin actuating mechanism for semiconductor processing chamber |
TWI248988B (en) * | 2001-09-19 | 2006-02-11 | Ind Tech Res Inst | Chemical solution's recycle apparatus for spin etching machine |
US6786996B2 (en) * | 2001-10-16 | 2004-09-07 | Applied Materials Inc. | Apparatus and method for edge bead removal |
US6708701B2 (en) * | 2001-10-16 | 2004-03-23 | Applied Materials Inc. | Capillary ring |
TWI246124B (en) * | 2001-11-27 | 2005-12-21 | Tokyo Electron Ltd | Liquid processing apparatus and method |
US6824612B2 (en) * | 2001-12-26 | 2004-11-30 | Applied Materials, Inc. | Electroless plating system |
US6770565B2 (en) * | 2002-01-08 | 2004-08-03 | Applied Materials Inc. | System for planarizing metal conductive layers |
AU2003217184A1 (en) * | 2002-01-11 | 2003-09-02 | Massachusetts Institute Of Technology | Microcontact printing |
US7001468B1 (en) * | 2002-02-15 | 2006-02-21 | Tokyo Electron Limited | Pressure energized pressure vessel opening and closing device and method of providing therefor |
US6824343B2 (en) * | 2002-02-22 | 2004-11-30 | Applied Materials, Inc. | Substrate support |
US7387868B2 (en) * | 2002-03-04 | 2008-06-17 | Tokyo Electron Limited | Treatment of a dielectric layer using supercritical CO2 |
US6913651B2 (en) * | 2002-03-22 | 2005-07-05 | Blue29, Llc | Apparatus and method for electroless deposition of materials on semiconductor substrates |
US6807972B2 (en) * | 2002-03-29 | 2004-10-26 | Applied Materials, Inc. | Gutter and splash-guard for protecting a wafer during transfer from a single wafer cleaning chamber |
US7032287B1 (en) * | 2002-07-19 | 2006-04-25 | Nanometrics Incorporated | Edge grip chuck |
US6722642B1 (en) * | 2002-11-06 | 2004-04-20 | Tokyo Electron Limited | High pressure compatible vacuum chuck for semiconductor wafer including lift mechanism |
US6939403B2 (en) * | 2002-11-19 | 2005-09-06 | Blue29, Llc | Spatially-arranged chemical processing station |
JP2004241492A (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US7021635B2 (en) * | 2003-02-06 | 2006-04-04 | Tokyo Electron Limited | Vacuum chuck utilizing sintered material and method of providing thereof |
US7077917B2 (en) * | 2003-02-10 | 2006-07-18 | Tokyo Electric Limited | High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer |
US7225820B2 (en) * | 2003-02-10 | 2007-06-05 | Tokyo Electron Limited | High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer |
JP4093878B2 (ja) * | 2003-02-20 | 2008-06-04 | 東京応化工業株式会社 | 多段式処理装置 |
US6935638B2 (en) * | 2003-02-21 | 2005-08-30 | Blue29, Llc | Universal substrate holder for treating objects in fluids |
US7520939B2 (en) * | 2003-04-18 | 2009-04-21 | Applied Materials, Inc. | Integrated bevel clean chamber |
US7270137B2 (en) * | 2003-04-28 | 2007-09-18 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method of securing a workpiece during high-pressure processing |
US6860944B2 (en) * | 2003-06-16 | 2005-03-01 | Blue29 Llc | Microelectronic fabrication system components and method for processing a wafer using such components |
US7163380B2 (en) * | 2003-07-29 | 2007-01-16 | Tokyo Electron Limited | Control of fluid flow in the processing of an object with a fluid |
DE102004036435B4 (de) * | 2003-08-07 | 2007-08-30 | Nanophotonics Ag | Haltevorrichtung für scheibenförmige Objekte |
US7186093B2 (en) * | 2004-10-05 | 2007-03-06 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for cooling motor bearings of a high pressure pump |
US7250374B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-07-31 | Tokyo Electron Limited | System and method for processing a substrate using supercritical carbon dioxide processing |
DE502004006497D1 (de) * | 2004-07-15 | 2008-04-24 | Hermle Berthold Maschf Ag | Bearbeitungsmaschine mit Werkstückwechsler |
JP4468775B2 (ja) * | 2004-09-14 | 2010-05-26 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板保持回転装置 |
US7307019B2 (en) * | 2004-09-29 | 2007-12-11 | Tokyo Electron Limited | Method for supercritical carbon dioxide processing of fluoro-carbon films |
US7491036B2 (en) * | 2004-11-12 | 2009-02-17 | Tokyo Electron Limited | Method and system for cooling a pump |
US7140393B2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-11-28 | Tokyo Electron Limited | Non-contact shuttle valve for flow diversion in high pressure systems |
US7651306B2 (en) * | 2004-12-22 | 2010-01-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian robot cluster tool architecture |
US7434590B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-10-14 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for clamping a substrate in a high pressure processing system |
US7255747B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-08-14 | Sokudo Co., Ltd. | Coat/develop module with independent stations |
JP2006205264A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Jel:Kk | 基板搬送装置 |
US7435447B2 (en) * | 2005-02-15 | 2008-10-14 | Tokyo Electron Limited | Method and system for determining flow conditions in a high pressure processing system |
US7291565B2 (en) * | 2005-02-15 | 2007-11-06 | Tokyo Electron Limited | Method and system for treating a substrate with a high pressure fluid using fluorosilicic acid |
US7380984B2 (en) * | 2005-03-28 | 2008-06-03 | Tokyo Electron Limited | Process flow thermocouple |
US7494107B2 (en) * | 2005-03-30 | 2009-02-24 | Supercritical Systems, Inc. | Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels |
US7744730B2 (en) * | 2005-04-14 | 2010-06-29 | Tango Systems, Inc. | Rotating pallet in sputtering system |
US7524383B2 (en) * | 2005-05-25 | 2009-04-28 | Tokyo Electron Limited | Method and system for passivating a processing chamber |
KR100829923B1 (ko) * | 2006-08-30 | 2008-05-16 | 세메스 주식회사 | 스핀헤드 및 이를 이용하는 기판처리방법 |
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