JP2654314B2 - 裏面洗浄装置 - Google Patents

裏面洗浄装置

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JP2654314B2 JP4170246A JP17024692A JP2654314B2 JP 2654314 B2 JP2654314 B2 JP 2654314B2 JP 4170246 A JP4170246 A JP 4170246A JP 17024692 A JP17024692 A JP 17024692A JP 2654314 B2 JP2654314 B2 JP 2654314B2
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗布装置の下流側に組み
込まれる裏面洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス基板や半導体ウェハ等の板状被処
理物の表面に被膜を形成するには、従来から塗布装置に
よって板状被処理物の表面にレジスト液等を塗布し、こ
れをホットプレート等で加熱するようにしている。そし
て、塗布装置によってレジスト液等を塗布する場合、表
面張力によって板状被処理物の端面や裏面までレジスト
液が多少廻り込んでしまう。この廻り込んだレジスト液
をそのままにして加熱処理すると、端面や裏面に廻り込
んだレジスト液が小さなパーティクルとなって飛散し、
板状被処理物の表面に付着して歩留り低下を招く。
【０００３】そこで、従来から加熱処理を行なう前に図
７に示すように、裏面洗浄装置のスピンチャック１００
で板状被処理物Ｗの下面を吸着保持し、スピンチャック
１００で板状被処理物Ｗを一定方向に回転させつつ板状
被処理物Ｗの下方に配置したノズル１０１から板状被処
理物Ｗの下面周縁に向けて洗浄液を噴出し、板状被処理
物Ｗの端面や裏面まで廻り込んだレジスト液等を除去す
るようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図７に示すように、板
状被処理物Ｗがガラス基板のように矩形状の場合には、
ガラス基板の一辺に向かって噴出された洗浄液は、ガラ
ス基板が回転しているために辺に沿って矢印方向に移動
し、回転方向を基準として辺の上流側では洗浄が不十分
で下流側では洗浄が過剰に行なわれてしまう。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係る裏面洗浄装置は、表面に塗布液が塗布された
板状被処理物の下面を吸着保持するスピンチャックを正
逆回転可能として板状被処理物の回転方向を切り換え、
また洗浄液を噴出するノズルとしては、ノズルの洗浄液
噴出方向の中心は、平面視において前記スピンチャック
の中心からノズルへ向かう線と略一致させるか、ノズル
を正転時に洗浄液を噴出する第１ノズルと逆転時に洗浄
液を噴出する第２ノズルとで構成し、第１ノズルの洗浄
液噴出方向の中心と第２ノズルの洗浄液噴出方向の中心
とは前記スピンチャックの中心を通り、第１ノズルと第
２ノズルとを結ぶ線と直角をなす線に対してお互いに対
象関係にあるようにした。
【０００６】
【作用】洗浄の途中で板状被処理物の回転方向が逆にな
るので、板状被処理物の辺に沿って移動する洗浄液の向
きも反対方向になり、洗浄液の偏りがなくなる。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１は本発明に係る裏面洗浄装置を
組み込んだ被膜形成装置の平面図、図２は同裏面洗浄装
置の断面図、図３及び図４は同裏面洗浄装置の平面図、
図５及び図６は作用を説明した平面図である。
【０００８】被膜形成装置は図１の左側を上流部とし、
この上流部にガラス基板等の板状被処理物Ｗの投入部１
を設け、この投入部１の下流側に塗布装置２を配置し、
この塗布装置２の下流側に順次、減圧乾燥装置３、本発
明に係る裏面洗浄装置４及びホットプレート５ａ・・・と
クーリングプレート５ｂを備えた加熱部５を配置し、投
入部１から加熱部５に至るまでは搬送装置６によって被
処理物Ｗの前後端の下面を支持した状態で搬送し、加熱
部５においては垂直面内でクランク動をなす搬送装置７
によりガラス基板等の板状被処理物Ｗの下面を支持した
状態で各ホットプレート５ａ上を順次移し換え、最終的
にクーリングプレート５ｂで温度を調整しつつ板状被処
理物Ｗを取出し部８まで搬送するようにしている。
【０００９】また、塗布装置２の前面側には交換可能な
塗布液供給装置９を配置し、この塗布液供給装置９から
供給される塗布液を移動可能なノズル１０を用いて被処
理物Ｗ表面に滴下するようにしている。
【００１０】そして、塗布装置２で表面に均一に塗布液
が塗布された被処理物Ｗは減圧乾燥器３において、ある
程度（生乾き）乾燥せしめられて裏面洗浄装置に送られ
る。この時被処理物Ｗの周端面及び周端の裏面には図２
に示すように塗布液Ｒの一部が廻り込んでいる。
【００１１】裏面洗浄装置４は図１乃至図３に示すよう
に、カップ１１内にマウント１２を設け、このマウント
１２を貫通してスピンチャック１３を設け、更にマウン
ト１２上に洗浄液Ｓを噴出するノズル１４を取り付けて
いる。
【００１２】スピンチャック１３は中心に真空ポンプに
つながる吸引孔１３ａを形成するとともに、正逆回転可
能とされている。またノズル１４の洗浄液噴出方向の中
心Ｐはスピンチャックの中心Ｏからノズル１４へ向かう
線Ｌと略一致するようにノズル１４の向きを調整してい
る。
【００１３】図４はノズルの向きを異ならせた別実施例
を示す図であり、この実施例にあってはノズル１４を正
転時に洗浄液を噴出する第１ノズル１４ａと逆転時に洗
浄液を噴出する第２ノズル１４ｂとで構成し、第１ノズ
ル１４ａの洗浄液噴出方向の中心Ｐａと第２ノズル１４
ｂの洗浄液噴出方向の中心Ｐｂとをスピンチャックの中
心Ｏから各ノズルへ向かう線Ｌに対し、スピンチャック
の中心Ｏを通る直角線を基準として対象方向に偏心させ
ている。即ち、スピンチャックの中心Ｏから第１ノズル
１４ａへ向かう線Ｌの左側に洗浄液噴出方向の中心Ｐａ
は位置し、スピンチャックの中心Ｏから第２ノズル１４
ｂへ向かう線Ｌの右側に洗浄液噴出方向の中心Ｐｂは向
いている。
【００１４】以上において、塗布装置２において板状被
処理物Ｗの表面に滴下され、遠心力で拡散せしめられた
塗布液Ｒの一部は前記したように板状被処理物Ｗの裏面
まで廻り込む。そして塗布液Ｒは減圧乾燥器３である程
度乾燥せしめられた後、本願の裏面洗浄装置４において
裏面に廻り込んだ塗布液が洗浄液（溶剤）にて除去され
る。
【００１５】上記の除去作用を第１ノズル１４ａと第２
ノズル１４ｂとを備えたものについて説明すると、スピ
ンチャック１３の正転時には第１ノズル１４ａのみから
洗浄液Ｓを噴出し、第２ノズル１４ｂからは洗浄液Ｓを
噴出しないようにして、図５（ａ）に示すように板状被
処理物Ｗの辺のうち、回転方向を基準として下流側（も
ともと洗浄液が貯まりやすい部分）を集中して洗浄し、
次いで、スピンチャック１３を逆転し、今度は第２ノズ
ル１４ｂのみから洗浄液Ｓを噴出し、図５（ｂ）に示す
ように板状被処理物Ｗの辺のうち、回転方向を基準とし
て下流側（図５（ａ）では上流側であった部分）を集中
して洗浄する。
【００１６】尚、洗浄作用としては図３に示したような
単一のノズル１４を備えたものであっても同じである。
【００１７】また洗浄される板状被処理物Ｗとしては、
ガラス基板のように矩形状のものに限らない。例えば図
６に示すような半導体Ｓiウェハでもよい。この半導体
ＳiウェハＷは周縁の一部に位置決め用のオリエンテー
ションフラット２０を設けており、通常の洗浄ではこの
オリエンテーションフラット２０の一端に洗浄液が寄っ
てしまい、洗浄が不均一になるが図６（ａ）、（ｂ）に
示すように正転および逆転を繰り返すことで均一に洗浄
を行なうことができる。
【００１８】
【発明の効果】以上に説明したように本発明に係る裏面
洗浄装置によれば、表面に塗布液が塗布された板状被処
理物の下面を吸着保持するスピンチャックを正逆回転可
能とし、洗浄の途中で板状被処理物の回転方向を逆にす
るようにしたので、板状被処理物の辺に沿って移動する
洗浄液の向きも反対方向になり、洗浄液の偏りがなくな
り、均一な洗浄を行なうことができる。特に、正転時に
洗浄液を噴出するノズルと逆転時に洗浄液を噴出するノ
ズルを用意し、これらを回転方向に合せてオン・オフす
るようにすれば更に効率よく洗浄を行なうことができ、
洗浄に要する時間の短縮が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る裏面洗浄装置を組み込んだ被膜形
成装置の平面図
【図２】同裏面洗浄装置の断面図
【図３】同裏面洗浄装置の平面図
【図４】裏面洗浄装置の別実施例の平面図
【図５】作用を説明した平面図
【図６】作用を説明した平面図
【図７】従来の欠点を説明した平面図
【符号の説明】
２…塗布装置、４…裏面洗浄装置、１３…スピンチャッ
ク、１４…ノズル、１４ａ…第１ノズル、１４ｂ…第２
ノズル、Ｗ…板状被処理物。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 板状被処理物の裏面を吸着して板状被処
    理物を回転せしめるスピンチャックと、板状被処理物の
    表面に塗布した塗布液のうち裏面に廻り込んだ塗布液の
    洗浄液を噴出するノズルを備えた裏面洗浄装置におい
    て、前記スピンチャックは板状被処理物の回転方向を切
    り換えるべく正逆回転し、また前記ノズルの洗浄液噴出
    方向の中心は平面視において前記スピンチャックの中心
    からノズルへ向かう線と略一致するとともに、板状被処
    理物の周端部に向かっていることを特徴とする裏面洗浄
    装置。
  2. 【請求項２】 板状被処理物の裏面を吸着して板状被処
    理物を回転せしめるスピンチャックと、板状被処理物の
    表面に塗布した塗布液のうち裏面に廻り込んだ塗布液の
    洗浄液を噴出するノズルを備えた裏面洗浄装置におい
    て、前記スピンチャックは板状被処理物の回転方向を切
    り換えるべく正逆回転し、また前記ノズルは正転時に洗
    浄液を噴出する第１ノズルと逆転時に洗浄液を噴出する
    第２ノズルとから構成され、第１ノズルの洗浄液噴出方
    向の中心と第２ノズルの洗浄液噴出方向の中心とは前記
    スピンチャックの中心を通り、第１ノズルと第２ノズル
    とを結ぶ線と直角をなす線に対してお互いに対象関係に
    あるとともに、板状被処理物の周端部に向かっているこ
    とを特徴とする裏面洗浄装置。
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