JPH09107023A - 被処理物の回転保持装置 - Google Patents
被処理物の回転保持装置Info
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- JPH09107023A JPH09107023A JP26556695A JP26556695A JPH09107023A JP H09107023 A JPH09107023 A JP H09107023A JP 26556695 A JP26556695 A JP 26556695A JP 26556695 A JP26556695 A JP 26556695A JP H09107023 A JPH09107023 A JP H09107023A
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 エッチング、洗浄、乾燥等の処理において処
理ムラが生じることがなく、歩留まりの向上を図ること
ができる被処理物の回転保持装置を提供する。 【解決手段】 回転体を回転可能に設け、この回転体に
被処理物の外縁を支持可能な複数の挟持爪を有する挟持
手段を設ける。複数の挟持爪を挟持位置又は解放位置に
移動させる駆動手段を設ける。駆動手段は被処理物の処
理中において複数の挟持爪を挟持位置及び解放位置に反
復動作させながら常にいずれかの挟持爪によって被処理
物を挟持する。
理ムラが生じることがなく、歩留まりの向上を図ること
ができる被処理物の回転保持装置を提供する。 【解決手段】 回転体を回転可能に設け、この回転体に
被処理物の外縁を支持可能な複数の挟持爪を有する挟持
手段を設ける。複数の挟持爪を挟持位置又は解放位置に
移動させる駆動手段を設ける。駆動手段は被処理物の処
理中において複数の挟持爪を挟持位置及び解放位置に反
復動作させながら常にいずれかの挟持爪によって被処理
物を挟持する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理物の回転保
持装置に係わり、特に、半導体製造用のウェハのような
板状の被処理物を保持しつつ回転させて薬液等の液体に
よる洗浄、ウェットエッチング等を行うための被処理物
の回転保持装置に関する。
持装置に係わり、特に、半導体製造用のウェハのような
板状の被処理物を保持しつつ回転させて薬液等の液体に
よる洗浄、ウェットエッチング等を行うための被処理物
の回転保持装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造工程の中には、薬液等の液
体によるウェハの洗浄、ウェットエッチング等の処理を
実施する工程がある。このような処理をウェハ面内で均
一に行うために、ウェハを回転させながらその表面に薬
液等の液体を供給して処理する方法が採用されている。
体によるウェハの洗浄、ウェットエッチング等の処理を
実施する工程がある。このような処理をウェハ面内で均
一に行うために、ウェハを回転させながらその表面に薬
液等の液体を供給して処理する方法が採用されている。
【０００３】図５は、半導体製造用のウェハを保持して
回転させる従来の回転保持装置４０を示しており、この
回転保持装置４０は、上端に回転台４１を有する回転体
４２を備えている。回転台４１の外周部には図６に示し
たように等間隔で３個の回転板４３、４３、４３が回動
可能に設けられており、回転板４３の上面にはその回動
中心から偏心させて挟持爪４４が立設されている。挟持
爪４４のウェハ挟持部分には図７に示したように溝４４
ａが刻設されている。回転板４３の裏面にはその回動中
心から偏心させてリンク機構４５の一端が接続されてお
り、リンク機構４５の他端は、回転体４２の外周に回動
自在にはめ込まれた回転筒体４６に接続されている。回
転板４３は、挟持爪４４がウェハＷを挟持する方向へ回
転するように付勢手段（図示を省略）によって付勢され
ている。リンク機構４５の一部には操作レバー４７が設
けられており、この操作レバー４７はシリンダー４８の
出力軸４９の先端部によって押圧されるようになってい
る。また、回転体４２はベルト５０を介して回転モータ
５１によって回転されるようになっている。
回転させる従来の回転保持装置４０を示しており、この
回転保持装置４０は、上端に回転台４１を有する回転体
４２を備えている。回転台４１の外周部には図６に示し
たように等間隔で３個の回転板４３、４３、４３が回動
可能に設けられており、回転板４３の上面にはその回動
中心から偏心させて挟持爪４４が立設されている。挟持
爪４４のウェハ挟持部分には図７に示したように溝４４
ａが刻設されている。回転板４３の裏面にはその回動中
心から偏心させてリンク機構４５の一端が接続されてお
り、リンク機構４５の他端は、回転体４２の外周に回動
自在にはめ込まれた回転筒体４６に接続されている。回
転板４３は、挟持爪４４がウェハＷを挟持する方向へ回
転するように付勢手段（図示を省略）によって付勢され
ている。リンク機構４５の一部には操作レバー４７が設
けられており、この操作レバー４７はシリンダー４８の
出力軸４９の先端部によって押圧されるようになってい
る。また、回転体４２はベルト５０を介して回転モータ
５１によって回転されるようになっている。
【０００４】このような構成を備えた従来の回転保持装
置４０においては、回転台４１の上面にウェハＷを位置
決めして移送し、付勢手段の押圧力によって挟持爪４４
でウェハＷを挟持して保持する。このようにウェハＷを
保持した状態で回転モータ５１を駆動し、回転体４２と
一体にウェハＷを回転させる。そして、ウェハＷの表面
に薬液等の液体を供給し、洗浄やエッチング等の処理を
行う。処理済みのウェハＷを取り出す際には、シリンダ
ー４８の出力軸４９を進出させ、その先端部で操作レバ
ー４７を付勢手段の付勢力に抗して押圧する。すると、
回転筒体４６が回転し、リンク機構４５を介して回転板
４３が同期して回転し、挟持爪４４がウェハＷを解放す
る方向へ移動してウェハＷの挟持状態が解除される。
置４０においては、回転台４１の上面にウェハＷを位置
決めして移送し、付勢手段の押圧力によって挟持爪４４
でウェハＷを挟持して保持する。このようにウェハＷを
保持した状態で回転モータ５１を駆動し、回転体４２と
一体にウェハＷを回転させる。そして、ウェハＷの表面
に薬液等の液体を供給し、洗浄やエッチング等の処理を
行う。処理済みのウェハＷを取り出す際には、シリンダ
ー４８の出力軸４９を進出させ、その先端部で操作レバ
ー４７を付勢手段の付勢力に抗して押圧する。すると、
回転筒体４６が回転し、リンク機構４５を介して回転板
４３が同期して回転し、挟持爪４４がウェハＷを解放す
る方向へ移動してウェハＷの挟持状態が解除される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来の回転保持装置４０は、ウェハＷの外縁を挟持してい
る挟持爪４４とウェハＷの表面との間に、図７に示した
ように薬液等の液体Ｌが残留してしまい、エッチング、
洗浄、乾燥等の処理において処理ムラが生じ、歩留まり
の低下を引き起こすという問題があった。
来の回転保持装置４０は、ウェハＷの外縁を挟持してい
る挟持爪４４とウェハＷの表面との間に、図７に示した
ように薬液等の液体Ｌが残留してしまい、エッチング、
洗浄、乾燥等の処理において処理ムラが生じ、歩留まり
の低下を引き起こすという問題があった。
【０００６】そこで、本発明の目的は、エッチング、洗
浄、乾燥等の処理において処理ムラが生じることがな
く、歩留まりの向上を図ることができる被処理物の回転
保持装置を提供することにある。
浄、乾燥等の処理において処理ムラが生じることがな
く、歩留まりの向上を図ることができる被処理物の回転
保持装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
回転可能に設けられた回転体と、この回転体に設けられ
被処理物の外縁を支持可能な複数の挟持爪を有する挟持
手段と、前記複数の挟持爪を挟持位置又は解放位置に移
動させる駆動手段とを備え、前記駆動手段は前記被処理
物の処理中において前記複数の挟持爪を挟持位置及び解
放位置に反復動作させながら常にいずれかの挟持爪によ
って前記被処理物を挟持するようにしたことを特徴とす
る。
回転可能に設けられた回転体と、この回転体に設けられ
被処理物の外縁を支持可能な複数の挟持爪を有する挟持
手段と、前記複数の挟持爪を挟持位置又は解放位置に移
動させる駆動手段とを備え、前記駆動手段は前記被処理
物の処理中において前記複数の挟持爪を挟持位置及び解
放位置に反復動作させながら常にいずれかの挟持爪によ
って前記被処理物を挟持するようにしたことを特徴とす
る。
【０００８】請求項２記載の発明は、前記駆動手段は、
前記挟持手段を操作する操作リンク機構と、この操作リ
ンク機構を磁力によって駆動する電磁コイルと、この電
磁コイルのオン・オフを制御する制御手段とを備えてい
ることを特徴とする。
前記挟持手段を操作する操作リンク機構と、この操作リ
ンク機構を磁力によって駆動する電磁コイルと、この電
磁コイルのオン・オフを制御する制御手段とを備えてい
ることを特徴とする。
【０００９】請求項３記載の発明は、前記挟持手段は前
記回転体に回動可能に設けられた複数の回転板を備え、
前記回転板にその回動中心から偏心させて前記挟持爪を
立設し、前記操作リンク機構の一端を前記回転板にその
回動中心から偏心させて接続し、前記操作リンク機構の
他端を前記電磁コイルに対向させたことを特徴とする。
記回転体に回動可能に設けられた複数の回転板を備え、
前記回転板にその回動中心から偏心させて前記挟持爪を
立設し、前記操作リンク機構の一端を前記回転板にその
回動中心から偏心させて接続し、前記操作リンク機構の
他端を前記電磁コイルに対向させたことを特徴とする。
【００１０】請求項４記載の発明は、前記駆動手段は前
記挟持手段を操作する操作リンク機構を備え、この操作
リンク機構は回転中の前記回転体に対して相対的に回転
するカム手段によって駆動されることを特徴とする。
記挟持手段を操作する操作リンク機構を備え、この操作
リンク機構は回転中の前記回転体に対して相対的に回転
するカム手段によって駆動されることを特徴とする。
【００１１】請求項５記載の発明は、前記リンク機構を
前記回転体に揺動自在に設け、前記リンク機構の一端に
前記挟持爪を設け、前記リンク機構の他端にローラを設
け、前記カム手段を所定の凹凸形状を表面に備えたリン
グ状の板カムによって形成し、この板カムの凹凸面上を
前記ローラが転動することによって前記挟持爪が挟持位
置及び解放位置に反復動作するようにしたことを特徴と
する。
前記回転体に揺動自在に設け、前記リンク機構の一端に
前記挟持爪を設け、前記リンク機構の他端にローラを設
け、前記カム手段を所定の凹凸形状を表面に備えたリン
グ状の板カムによって形成し、この板カムの凹凸面上を
前記ローラが転動することによって前記挟持爪が挟持位
置及び解放位置に反復動作するようにしたことを特徴と
する。
【００１２】
【発明の実施の形態】第１の実施形態 以下、本発明による被処理物の回転保持装置の第１実施
形態について図面を参照して説明する。図１において符
号１は、本実施形態による被処理物の回転保持装置を示
し、この回転保持装置１は、上端に回転台２を有する回
転軸３を備えている。回転台２の上面中央部にはウェハ
Ｗを載置するための載置台４が設けられている。回転台
２の外周部には、図２に示したように第１回転板５ａと
第２回転板５ｂとが交互に等間隔で回動自在に計６個配
設されている。第１及び第２回転板５ａ、５ｂの上面に
はその回動中心から偏心させて第１及び第２挟持爪６
ａ、６ｂがそれぞれ立設されており、また、第１及び第
２回転板５ａ、５ｂは第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂに
よってウェハＷを挟持する回転方向へ付勢手段（図示を
省略）によって付勢されている。
形態について図面を参照して説明する。図１において符
号１は、本実施形態による被処理物の回転保持装置を示
し、この回転保持装置１は、上端に回転台２を有する回
転軸３を備えている。回転台２の上面中央部にはウェハ
Ｗを載置するための載置台４が設けられている。回転台
２の外周部には、図２に示したように第１回転板５ａと
第２回転板５ｂとが交互に等間隔で回動自在に計６個配
設されている。第１及び第２回転板５ａ、５ｂの上面に
はその回動中心から偏心させて第１及び第２挟持爪６
ａ、６ｂがそれぞれ立設されており、また、第１及び第
２回転板５ａ、５ｂは第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂに
よってウェハＷを挟持する回転方向へ付勢手段（図示を
省略）によって付勢されている。
【００１３】第１及び第２回転板５ａ、５ｂの裏面には
その回動中心から偏心させて第１及び第２リンク機構７
ａ、７ｂの一端がそれぞれ接続されている。一方、第１
及び第２リンク機構７ａ、７ｂの他端は回転軸３に設け
られた回転筒体８の内部に摺動自在に突設されている。
回転軸３の内部には第１及び第２電磁コイル９ａ、９ｂ
が設けられており、第１リンク機構７ａの端部は第１電
磁コイル９ａに対向し、第２リンク機構７ｂの端部は第
２電磁コイル９ｂに対向している。第１及び第２電磁コ
イル９ａ、９ｂには第１及び第２信号ライン１０ａ、１
０ｂの一端がそれぞれ接続されており、これらの第１及
び第２信号ライン１０ａ、１０ｂの他端は第１及び第２
電磁コイル９ａ、９ｂのオン・オフを制御する制御装置
（図示を省略）に接続されている。また、回転軸３はベ
ルト１１を介して回転モータ１２によって回転されるよ
うになっている。
その回動中心から偏心させて第１及び第２リンク機構７
ａ、７ｂの一端がそれぞれ接続されている。一方、第１
及び第２リンク機構７ａ、７ｂの他端は回転軸３に設け
られた回転筒体８の内部に摺動自在に突設されている。
回転軸３の内部には第１及び第２電磁コイル９ａ、９ｂ
が設けられており、第１リンク機構７ａの端部は第１電
磁コイル９ａに対向し、第２リンク機構７ｂの端部は第
２電磁コイル９ｂに対向している。第１及び第２電磁コ
イル９ａ、９ｂには第１及び第２信号ライン１０ａ、１
０ｂの一端がそれぞれ接続されており、これらの第１及
び第２信号ライン１０ａ、１０ｂの他端は第１及び第２
電磁コイル９ａ、９ｂのオン・オフを制御する制御装置
（図示を省略）に接続されている。また、回転軸３はベ
ルト１１を介して回転モータ１２によって回転されるよ
うになっている。
【００１４】次に、本実施例の作用及び効果について説
明する。まず、第１及び第２信号ライン１０ａ、１０ｂ
を介して第１及び第２電磁コイル９ａ、９ｂの双方をオ
ン状態とし、第１及び第２リンク機構７ａ、７ｂを駆動
する。すると、第１及び第２回転板５ａ、５ｂは付勢手
段の力に抗して回転し、第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂ
はウェハＷを解放する位置に移動する。この状態で搬送
手段（図示を省略）によって未処理のウェハＷを正確に
位置決めして載置台４の上に載置する。そして、第１及
び第２信号ライン１０ａ、１０ｂを介して第１及び第２
電磁コイル９ａ、９ｂをオフ状態とする。すると、第１
及び第２リンク機構７ａ、７ｂに対する第１及び第２電
磁コイル９ａ、９ｂからの磁力が解除され、第１及び第
２回転板５ａ、５ｂは付勢手段によってウェハＷを挟持
する方向に回転し、第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂによ
ってウェハＷが挟持される。なお、このウェハＷの挟持
は、第１又は第２電磁コイル９ａ、９ｂのいずれか一方
のみをオフとして、第１又は第２挟持爪６ａ、６ｂのい
ずれか一方のみで行うこともできる。
明する。まず、第１及び第２信号ライン１０ａ、１０ｂ
を介して第１及び第２電磁コイル９ａ、９ｂの双方をオ
ン状態とし、第１及び第２リンク機構７ａ、７ｂを駆動
する。すると、第１及び第２回転板５ａ、５ｂは付勢手
段の力に抗して回転し、第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂ
はウェハＷを解放する位置に移動する。この状態で搬送
手段（図示を省略）によって未処理のウェハＷを正確に
位置決めして載置台４の上に載置する。そして、第１及
び第２信号ライン１０ａ、１０ｂを介して第１及び第２
電磁コイル９ａ、９ｂをオフ状態とする。すると、第１
及び第２リンク機構７ａ、７ｂに対する第１及び第２電
磁コイル９ａ、９ｂからの磁力が解除され、第１及び第
２回転板５ａ、５ｂは付勢手段によってウェハＷを挟持
する方向に回転し、第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂによ
ってウェハＷが挟持される。なお、このウェハＷの挟持
は、第１又は第２電磁コイル９ａ、９ｂのいずれか一方
のみをオフとして、第１又は第２挟持爪６ａ、６ｂのい
ずれか一方のみで行うこともできる。
【００１５】このようにウェハＷを挟持したら回転モー
タ１２を駆動し、ベルト１１を介して回転軸３を回転さ
せ、第１及び第２回転板５ａ、５ｂを回転軸３と一体に
回転させる。そして、制御手段によって、第１及び第２
信号ライン１０ａ、１０ｂを介して第１及び第２電磁コ
イル９ａ、９ｂのオン・オフを制御し、第１挟持爪５ａ
と第２挟持爪５ｂとを交互に挟持位置及び解放位置に移
動させる。すなわち、図２は第１挟持爪５ａによってウ
ェハＷを挟持した状態を示しているが、次に第２電磁コ
イル９ｂをオンにして第２挟持爪５ｂを挟持位置に移動
させる。すると、ウェハＷは一時的に第１挟持爪５ａ及
び第２挟持爪５ｂの両方によって挟持された状態となる
が、次に第１電磁コイル９ａをオフにして第１挟持爪５
ａを解放状態とする。このオン・オフ操作を繰り返し行
いつつ、ウェハＷの表面に薬液等を供給し、エッチン
グ、洗浄、乾燥等の所定の処理を行う。
タ１２を駆動し、ベルト１１を介して回転軸３を回転さ
せ、第１及び第２回転板５ａ、５ｂを回転軸３と一体に
回転させる。そして、制御手段によって、第１及び第２
信号ライン１０ａ、１０ｂを介して第１及び第２電磁コ
イル９ａ、９ｂのオン・オフを制御し、第１挟持爪５ａ
と第２挟持爪５ｂとを交互に挟持位置及び解放位置に移
動させる。すなわち、図２は第１挟持爪５ａによってウ
ェハＷを挟持した状態を示しているが、次に第２電磁コ
イル９ｂをオンにして第２挟持爪５ｂを挟持位置に移動
させる。すると、ウェハＷは一時的に第１挟持爪５ａ及
び第２挟持爪５ｂの両方によって挟持された状態となる
が、次に第１電磁コイル９ａをオフにして第１挟持爪５
ａを解放状態とする。このオン・オフ操作を繰り返し行
いつつ、ウェハＷの表面に薬液等を供給し、エッチン
グ、洗浄、乾燥等の所定の処理を行う。
【００１６】所定の処理が終了したら、回転モータ１２
を停止して回転体３の回転を停止し、第１及び第２電磁
コイル９ａ、９ｂの双方をオンにして第１及び第２挟持
爪５ａ、５ｂの双方を解放位置としてウェハＷの挟持を
解除する。そして、処理済みのウェハＷを搬送手段によ
って搬出し、引き続き上述した方法で未処理のウェハＷ
を搬入して所定の処理を実施する。
を停止して回転体３の回転を停止し、第１及び第２電磁
コイル９ａ、９ｂの双方をオンにして第１及び第２挟持
爪５ａ、５ｂの双方を解放位置としてウェハＷの挟持を
解除する。そして、処理済みのウェハＷを搬送手段によ
って搬出し、引き続き上述した方法で未処理のウェハＷ
を搬入して所定の処理を実施する。
【００１７】このように本実施形態によれば、ウェハＷ
の処理中において第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂによっ
て交互にウェハＷを挟持するようにしたので、第１及び
第２挟持爪６ａ、６ｂとウェハＷとの間に薬液等が残留
することがなく、処理ムラを防止して歩留まりの向上を
図ることができる。
の処理中において第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂによっ
て交互にウェハＷを挟持するようにしたので、第１及び
第２挟持爪６ａ、６ｂとウェハＷとの間に薬液等が残留
することがなく、処理ムラを防止して歩留まりの向上を
図ることができる。
【００１８】なお、本実施形態においては第１及び第２
回転板５ａ、５ｂに第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂを設
け、第１及び第２回転板５ａ、５ｂの回動によって挟持
位置及び解放位置を切り替えるようにしたが、例えば、
第１及び第２回転板５ａ、５ｂに替えて回転軸３の回転
中心に向かって直動可能な複数の直動部材を設け、これ
らの直動部材に挟持爪を立設し、リンク機構によって直
動部材を操作するように構成することもできる。
回転板５ａ、５ｂに第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂを設
け、第１及び第２回転板５ａ、５ｂの回動によって挟持
位置及び解放位置を切り替えるようにしたが、例えば、
第１及び第２回転板５ａ、５ｂに替えて回転軸３の回転
中心に向かって直動可能な複数の直動部材を設け、これ
らの直動部材に挟持爪を立設し、リンク機構によって直
動部材を操作するように構成することもできる。
【００１９】また、本実施形態においては回転台２の上
面に載置台４を設け、この載置台４の上面にウェハＷを
載置するようにしたが、この載置台４を設けることな
く、第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂによる挟持力のみで
ウェハＷを保持することもできる。このようにすれば、
ウェハＷの裏面へのパーティクルの付着を防止すること
ができる。第２の実施形態 次に、本発明による被処理物の回転保持装置の第２実施
形態について図面を参照して説明する。図３において符
号２０は、本実施形態による被処理物の回転保持装置を
示し、この回転保持装置２０は回転ユニット２１を備え
ており、この回転ユニット２１は回転モータ２２の出力
軸２３に固着されている。また、回転ユニット２１には
取付フランジ２４が形成されており、この取付フランジ
２４には図４に示したように周方向に等間隔で所定の折
曲形状の６個のリンク２５、２５…２５が軸２６、２６
…２６を介して揺動自在に軸着されている。リンク２５
の上端部には挟持爪２７を上面に有するチャックピン２
８が設けられており、一方、リンク２５の下端部にはロ
ーラ２９が回転自在に取り付けられている。
面に載置台４を設け、この載置台４の上面にウェハＷを
載置するようにしたが、この載置台４を設けることな
く、第１及び第２挟持爪６ａ、６ｂによる挟持力のみで
ウェハＷを保持することもできる。このようにすれば、
ウェハＷの裏面へのパーティクルの付着を防止すること
ができる。第２の実施形態 次に、本発明による被処理物の回転保持装置の第２実施
形態について図面を参照して説明する。図３において符
号２０は、本実施形態による被処理物の回転保持装置を
示し、この回転保持装置２０は回転ユニット２１を備え
ており、この回転ユニット２１は回転モータ２２の出力
軸２３に固着されている。また、回転ユニット２１には
取付フランジ２４が形成されており、この取付フランジ
２４には図４に示したように周方向に等間隔で所定の折
曲形状の６個のリンク２５、２５…２５が軸２６、２６
…２６を介して揺動自在に軸着されている。リンク２５
の上端部には挟持爪２７を上面に有するチャックピン２
８が設けられており、一方、リンク２５の下端部にはロ
ーラ２９が回転自在に取り付けられている。
【００２０】回転モータ２２の周囲にはリング状の板カ
ム３０が設けられており、この板カム３０の上面に対し
て、リンク２５と回転ユニット２１との間に介装された
圧縮バネ３１の伸張力によってローラ２９が圧接されて
いる。板カム３０の上面には凸部３１と凹部３２が交互
に３つずつ形成されており、両者は滑らかな傾斜面３３
によって接続されている。各凸部３１の周方向の長さは
ローラ２９間の周方向の離間距離よりも長く、一方、各
凹部３２の周方向の長さはローラ２９間の周方向の離間
距離よりも短い。また、板カム３０は、回転モータ２２
の回転軸心の回りをカム回転手段（図示を省略）よって
回転させることが可能であり、また、ウェハ着脱用シリ
ンダ３４の出力軸３５の進退動作によって上下に移動さ
せることができる。
ム３０が設けられており、この板カム３０の上面に対し
て、リンク２５と回転ユニット２１との間に介装された
圧縮バネ３１の伸張力によってローラ２９が圧接されて
いる。板カム３０の上面には凸部３１と凹部３２が交互
に３つずつ形成されており、両者は滑らかな傾斜面３３
によって接続されている。各凸部３１の周方向の長さは
ローラ２９間の周方向の離間距離よりも長く、一方、各
凹部３２の周方向の長さはローラ２９間の周方向の離間
距離よりも短い。また、板カム３０は、回転モータ２２
の回転軸心の回りをカム回転手段（図示を省略）よって
回転させることが可能であり、また、ウェハ着脱用シリ
ンダ３４の出力軸３５の進退動作によって上下に移動さ
せることができる。
【００２１】次に、本実施形態の作用及び効果について
説明する。まず、ウェハ着脱用シリンダ３４の出力軸３
５を下方に退避させて板カム３０を降下させる。する
と、圧縮バネ３１の伸張力によってリンク２５が図３中
矢視Ａ方向に移動し、すべての挟持爪２７がウェハＷを
解放する位置に移動する。この状態で未処理のウェハＷ
を搬送手段（図示を省略）によって正確に位置決めして
回転ユニット２１の上方に移送する。そして、シリンダ
３４の出力軸３５を上方に進出させて板カム３０を上昇
させる。すると、図３及び図４に示したように板カム３
０の凸部３１の上にローラ２９が位置している３つのリ
ンク２５、２５、２５が図３中矢視Ｂ方向に移動し、そ
れらの挟持爪２７、２７、２７はウェハＷの外縁を挟持
する。ここで、図３及び図４では３つの挟持爪２７、２
７、２７によってウェハＷを挟持するようにしている
が、６個のすべてのローラ２９を板カム３０の凸部３１
に位置するようにして、６個のすべての挟持爪２７でウ
ェハＷを挟持することもできる。
説明する。まず、ウェハ着脱用シリンダ３４の出力軸３
５を下方に退避させて板カム３０を降下させる。する
と、圧縮バネ３１の伸張力によってリンク２５が図３中
矢視Ａ方向に移動し、すべての挟持爪２７がウェハＷを
解放する位置に移動する。この状態で未処理のウェハＷ
を搬送手段（図示を省略）によって正確に位置決めして
回転ユニット２１の上方に移送する。そして、シリンダ
３４の出力軸３５を上方に進出させて板カム３０を上昇
させる。すると、図３及び図４に示したように板カム３
０の凸部３１の上にローラ２９が位置している３つのリ
ンク２５、２５、２５が図３中矢視Ｂ方向に移動し、そ
れらの挟持爪２７、２７、２７はウェハＷの外縁を挟持
する。ここで、図３及び図４では３つの挟持爪２７、２
７、２７によってウェハＷを挟持するようにしている
が、６個のすべてのローラ２９を板カム３０の凸部３１
に位置するようにして、６個のすべての挟持爪２７でウ
ェハＷを挟持することもできる。
【００２２】このようにウェハＷを挟持したら回転モー
タ２２を駆動し、回転ユニット２１をリンク２５と一体
に回転数ｆ１で回転させる。一方、板カム３０をカム回
転手段（図示を省略）によって回転ユニット２１と同方
向に回転数ｆ２で回転させる。ここで、板カム３０の回
転数ｆ２を回転ユニット２１の回転数ｆ１とは異なるも
のとして、板カム３０が回転ユニット２１に対して回転
数ｆ３（＝ｆ２−ｆ１）で相対的に回転するようにす
る。なお、板カム３０の回転数ｆ２を調節することによ
って、相対的な回転数ｆ３を所望の値に調節することが
できる。
タ２２を駆動し、回転ユニット２１をリンク２５と一体
に回転数ｆ１で回転させる。一方、板カム３０をカム回
転手段（図示を省略）によって回転ユニット２１と同方
向に回転数ｆ２で回転させる。ここで、板カム３０の回
転数ｆ２を回転ユニット２１の回転数ｆ１とは異なるも
のとして、板カム３０が回転ユニット２１に対して回転
数ｆ３（＝ｆ２−ｆ１）で相対的に回転するようにす
る。なお、板カム３０の回転数ｆ２を調節することによ
って、相対的な回転数ｆ３を所望の値に調節することが
できる。
【００２３】板カム３０が回転ユニット２１に対して相
対的に回転すると、ローラ２９が板カム３０の上面を転
動し、回転開始当初は凹部３２に位置していた３つのロ
ーラ２９は傾斜面３３を経由して凸部３１の上に移動す
る。ここで、凸部３１の周方向の長さはローラ２９間の
周方向の距離よりも長いので、一時的に６個すべてのロ
ーラ２９が凸部３１の上に位置して６個すべての挟持爪
２７によってウェハＷが挟持される。そして、ローラ２
９がさらに移動すると、回転開始当初は凸部３１に位置
していた他の３つのローラ２９は傾斜面３３を経由して
凹部３２に移動する。ここで、凹部３２の周方向の長さ
はローラ２９間の周方向の距離よりも短いので、６個す
べてのローラ２９が同時に凹部３２に位置することはな
く、したがってウェハＷは常に３個又は６個の挟持爪２
７によって確実に挟持される。
対的に回転すると、ローラ２９が板カム３０の上面を転
動し、回転開始当初は凹部３２に位置していた３つのロ
ーラ２９は傾斜面３３を経由して凸部３１の上に移動す
る。ここで、凸部３１の周方向の長さはローラ２９間の
周方向の距離よりも長いので、一時的に６個すべてのロ
ーラ２９が凸部３１の上に位置して６個すべての挟持爪
２７によってウェハＷが挟持される。そして、ローラ２
９がさらに移動すると、回転開始当初は凸部３１に位置
していた他の３つのローラ２９は傾斜面３３を経由して
凹部３２に移動する。ここで、凹部３２の周方向の長さ
はローラ２９間の周方向の距離よりも短いので、６個す
べてのローラ２９が同時に凹部３２に位置することはな
く、したがってウェハＷは常に３個又は６個の挟持爪２
７によって確実に挟持される。
【００２４】このように挟持爪２７を挟持位置及び解放
位置に反復動作させながらウェハＷを回転させ、ウェハ
Ｗの表面に薬液等を供給し、エッチング、洗浄、乾燥等
の所定の処理を行う。所定の処理が終了したら、回転モ
ータ２２及びカム回転手段を停止し、回転ユニット２１
及び板カム３０の回転を停止する。そして、ウェハ着脱
用シリンダ３４の出力軸３５を下方に退避させて板カム
３０を降下させ、すべての挟持爪２７を解放位置として
ウェハＷの挟持を解除すると共に、搬送手段によって処
理済みのウェハＷを搬出する。
位置に反復動作させながらウェハＷを回転させ、ウェハ
Ｗの表面に薬液等を供給し、エッチング、洗浄、乾燥等
の所定の処理を行う。所定の処理が終了したら、回転モ
ータ２２及びカム回転手段を停止し、回転ユニット２１
及び板カム３０の回転を停止する。そして、ウェハ着脱
用シリンダ３４の出力軸３５を下方に退避させて板カム
３０を降下させ、すべての挟持爪２７を解放位置として
ウェハＷの挟持を解除すると共に、搬送手段によって処
理済みのウェハＷを搬出する。
【００２５】このように本実施形態によれば、ウェハＷ
の処理中において挟持爪２７を挟持位置及び解放位置に
反復移動させながらウェハＷを挟持するようにしたの
で、挟持爪２７とウェハＷとの間に薬液等が残留するこ
とがなく、処理ムラを防止して歩留まりの向上を図るこ
とができる。
の処理中において挟持爪２７を挟持位置及び解放位置に
反復移動させながらウェハＷを挟持するようにしたの
で、挟持爪２７とウェハＷとの間に薬液等が残留するこ
とがなく、処理ムラを防止して歩留まりの向上を図るこ
とができる。
【００２６】なお、本実施形態においては、板カム３０
をカム回転手段によって回転させるようにしたが、この
板カム３０を固定的に設置することも可能であり、この
ようにした場合には回転ユニット２１の回転数ｆ１がそ
のまま板カムの相対的な回転数ｆ３となり、この場合で
も上記実施形態と同様の効果が得られ、さらに、カム回
転手段が不要となって構成を簡素化することができる。
をカム回転手段によって回転させるようにしたが、この
板カム３０を固定的に設置することも可能であり、この
ようにした場合には回転ユニット２１の回転数ｆ１がそ
のまま板カムの相対的な回転数ｆ３となり、この場合で
も上記実施形態と同様の効果が得られ、さらに、カム回
転手段が不要となって構成を簡素化することができる。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、被処
理物の処理中において複数の挟持爪を挟持位置及び解放
位置に反復動作させながら常にいずれかの挟持爪によっ
て被処理物を挟持するようにしたので、挟持爪とウェハ
との間に薬液等が残留することがなく、処理ムラを防止
して歩留まりの向上を図ることができる。
理物の処理中において複数の挟持爪を挟持位置及び解放
位置に反復動作させながら常にいずれかの挟持爪によっ
て被処理物を挟持するようにしたので、挟持爪とウェハ
との間に薬液等が残留することがなく、処理ムラを防止
して歩留まりの向上を図ることができる。
【図１】本発明による被処理物の回転保持装置の第１実
施形態を示した概略図。
施形態を示した概略図。
【図２】同実施形態の平面図。
【図３】本発明による被処理物の回転保持装置の第２実
施形態を示した概略図。
施形態を示した概略図。
【図４】同実施形態の平面図。
【図５】従来の被処理物の回転保持装置を示した概略
図。
図。
【図６】同従来例の動作を示した説明図。
【図７】同従来例の挟持爪とウェハとの間に薬液等の液
体が残留した状態を示した説明図。
体が残留した状態を示した説明図。
１、２０ 回転保持装置 ２ 回転台 ３ 回転軸 ４ 載置台 ５ａ 第１回転板 ５ｂ 第２回転板 ６ａ 第１挟持爪 ６ｂ 第２挟持爪 ７ａ 第１リンク機構 ７ｂ 第２リンク機構 ８ 回転筒体 ９ａ 第１電磁コイル ９ｂ 第２電磁コイル １０ａ 第１信号ライン １０ｂ 第２信号ライン １１ ベルト １２、２２ 回転モータ ２１ 回転ユニット ２４ 取付フランジ ２５ リンク ２７ 挟持爪 ２８ チャックピン ２９ ローラ ３０ 板カム ３１ 凸部 ３２ 凹部 ３４ ウェハ着脱用シリンダ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ (72)発明者 布 谷 伸 仁 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝多摩川工場内
Claims (5)
- 【請求項１】回転可能に設けられた回転体と、この回転
体に設けられ被処理物の外縁を支持可能な複数の挟持爪
を有する挟持手段と、前記複数の挟持爪を挟持位置又は
解放位置に移動させる駆動手段とを備え、前記駆動手段
は前記被処理物の処理中において前記複数の挟持爪を挟
持位置及び解放位置に反復動作させながら常にいずれか
の挟持爪によって前記被処理物を挟持するようにしたこ
とを特徴とする被処理物の回転保持装置。 - 【請求項２】前記駆動手段は、前記挟持手段を操作する
操作リンク機構と、この操作リンク機構を磁力によって
駆動する電磁コイルと、この電磁コイルのオン・オフを
制御する制御手段とを備えていることを特徴とする請求
項１記載の被処理物の回転保持装置。 - 【請求項３】前記挟持手段は前記回転体に回動可能に設
けられた複数の回転板を備え、前記回転板にその回動中
心から偏心させて前記挟持爪を立設し、前記操作リンク
機構の一端を前記回転板にその回動中心から偏心させて
接続し、前記操作リンク機構の他端を前記電磁コイルに
対向させたことを特徴とする請求項２記載の被処理物の
回転保持装置。 - 【請求項４】前記駆動手段は前記挟持手段を操作する操
作リンク機構を備え、この操作リンク機構は回転中の前
記回転体に対して相対的に回転するカム手段によって駆
動されることを特徴とする請求項１記載の被処理物の回
転保持装置。 - 【請求項５】前記リンク機構を前記回転体に揺動自在に
設け、前記リンク機構の一端に前記挟持爪を設け、前記
リンク機構の他端にローラを設け、前記カム手段を所定
の凹凸形状を表面に備えたリング状の板カムによって形
成し、この板カムの凹凸面上を前記ローラが転動するこ
とによって前記挟持爪が挟持位置及び解放位置に反復動
作するようにしたことを特徴とする請求項４記載の被処
理物の回転保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26556695A JPH09107023A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 被処理物の回転保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26556695A JPH09107023A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 被処理物の回転保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09107023A true JPH09107023A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17418903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26556695A Withdrawn JPH09107023A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 被処理物の回転保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09107023A (ja) |
Cited By (33)
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