JPH11176790A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板例えば半導体ウエハの表面と裏面とを洗
浄する場合に、洗浄装置全体の小型化及び洗浄処理時間
の短縮を図ること。 【解決手段】 ウエハＷを当該ウエハの輪郭に沿って間
隔をおいて設けられた回転ガイド部材２により水平に保
持し、当該回転ガイド部材２を回転させることにより、
ウエハＷの周縁部を周方向に送り出して回転させる。ウ
エハＷの表面及び裏面を洗浄する洗浄ブラシ４１，４２
と、ウエハＷの表面及び裏面に夫々洗浄液を供給するノ
ズル６１，６２とを設け、ウエハＷと洗浄ブラシ４１，
４２とを摺動させることにより、当該ウエハＷの両面を
同時に洗浄する。この様な装置では従来必要であった２
つの洗浄部や反転部が不要となるので、装置全体が小形
化されると共に、処理工程も減少するので洗浄処理時間
が短縮される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば成膜処理や
研磨処理を行った基板を洗浄するための洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスにおいて
は、半導体デバイスが形成される半導体ウエハ（以下
「ウエハ」という）の表面の清浄度を高く維持する必要
がある。このため各々の製造プロセスや処理プロセスの
前後には必要に応じてウエハ表面を洗浄しているが、例
えば成膜工程や研磨工程の後にも例えば図８に示す洗浄
装置を用いてウエハ表面の洗浄が行われている。

【０００３】前記洗浄装置について簡単に説明すると、
この装置はウエハＷの外周全体を保持すると共に、回転
機構１２により水平方向に回転可能なウエハ保持部１１
と、ウエハＷの上面に所定の圧力で接触されるブラシ１
３と、ウエハ保持部１１とウエハＷの周囲を包囲し、昇
降機構１４により垂直方向に移動可能なカップ１５とを
備えて構成されている。このような洗浄装置では、ウエ
ハＷを水平な方向に回転させ、ウエハの上面にブラシ１
３を介して洗浄液を供給すると共に、当該ブラシ１３を
ウエハＷの上面に押し当ててウエハＷとブラシ１３とを
相対的に摺動させることにより、ウエハ上面の粒子汚染
物を除去している。

【０００４】ところで近年次のような不都合が起こるこ
とからウエハの裏面を洗浄する要請が高まっている。つ
まり裏面側にパ−ティクルが付着したまま露光工程を行
うと、ウエハを載置するためのステ−ジにパ−ティクル
が転写され、ステ−ジとウエハとの間にパ−ティクルが
入り込む。このため入り込んだパ−ティクルが原因とな
ってウエハに反りが生じ、これによりフォ−カスが崩れ
てしまうことがある。また裏面側にパ−ティクルが付着
したままアニ−ル工程を行うと、この工程中にパ−ティ
クルがウエハの裏面から入り込み、このパ−ティクルと
表面のトランジスタとの間に電流路が形成されてしまう
こともある。

【０００５】このため従来では図９に示す洗浄装置によ
りウエハの表面と裏面とを洗浄するようにしている。こ
こで図８の洗浄装置ではウエハ保持部１１によりウエハ
Ｗの外周全体を保持しており裏面側には作業エリアがな
いので、表面と裏面とを同時に洗浄することができな
い。このため表面洗浄と裏面洗浄とを別々に行うことが
必要となるが、ウエハの表面と裏面とは洗浄するときの
ブラシ１３の押圧力が異なること及びスル−プット上の
問題から、図９の洗浄装置では裏面洗浄部１７と表面洗
浄部１８とを別個に設けるようにしている。

【０００６】この洗浄装置では、カセット室１６内にお
いて表面が上を向いている状態で置かれているウエハは
先ず反転部１９で裏面が上を向くように反転させられ、
この状態で裏面洗浄部１７に搬送されて裏面が洗浄され
る。次いで再び反転部１９で表面が上に向くように反転
させられて、表面洗浄部１８で表面が洗浄される。ここ
で裏面から先に洗浄するのは洗浄している面の洗浄液が
他面側に回り込み、この洗浄液により他面側が汚染され
ることがあるからである。なお裏面洗浄部１７と表面洗
浄部１８は、図８の洗浄装置と同様に構成されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の洗
浄プロセスでは、裏面洗浄部１７と表面洗浄部１８とが
別個に設けられていると共に、これら洗浄部１７、１８
の他に反転部１９が必要となるのでかなり装置が大型化
してしまうという問題がある。またウエハを反転させて
から裏面を洗浄し、またウエハを反転させて表面を洗浄
するというように処理工程が多くなるので洗浄処理に要
する時間が長くなってしまうという問題がある。さらに
一面側を洗浄するときに、既に洗浄した他面側に洗浄液
が回り込み、当該他面側にパ−ティクルが付着してしま
うという問題もある。

【０００８】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は装置全体の小型化及び処理時間の
短縮を図ることができる洗浄装置を提供することにあ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このため本発明の洗浄装
置は、各々鉛直な軸の周りに回転自在に、円形の基板の
輪郭に沿って間隔をおいて設けられ、前記基板が水平と
なるように基板の周縁部を外周面により保持しかつガイ
ドするための複数の回転ガイド部材と、これら複数の回
転ガイド部材のうち少なくとも一つを駆動して回転させ
るための駆動部と、前記回転ガイド部材に保持された基
板の表面及び裏面に夫々接触して、基板の回転時に当該
表面及び裏面を洗浄する第１及び第２の洗浄部材と、前
記回転ガイド部材に保持された基板の表面及び裏面に夫
々洗浄液を供給する第１及び第２の洗浄液供給部と、を
備え、前記基板は、前記駆動部により回転する回転ガイ
ド部材により周縁部が周方向に送り出され、各回転ガイ
ド部材にガイドされながら水平方向に回転することを特
徴とする。ここで本発明における水平とはほぼ水平な状
態も含むものとする。

【００１０】例えば回転ガイド部材は、下に行くほど径
が拡大するように周面が傾斜した傾斜面部を有し、この
傾斜面部により基板を保持するように構成され、このよ
うな回転ガイド部材には、基板搬送手段に基板を保持さ
せ、この基板搬送手段を前記回転ガイド部材に囲まれた
領域の上方から下降させることにより基板が受け渡され
る。また第１及び第２の洗浄部材は、共通の支持部材に
支持されて基板を洗浄する位置と基板の外側の位置との
間を移動するように構成される。

【００１１】さらに洗浄装置を、回転ガイド部材の少な
くとも一つを、基板の保持位置から基板の輪郭の外側に
移動できるように構成すると共に、この回転ガイド部材
が外側に移動して隣同士の回転ガイド部材の間隔が広が
ったところを通って基板を基板搬送手段により残りの回
転ガイド部材に受け渡すようにしてもよい。

【００１２】このような構成では、回転ガイド部材に回
転力を与える駆動部が回転ガイド部材の外側に設けられ
ているので、基板の両側にはスペ−スがある。このため
第１及び第２の洗浄部材を基板の両側に設けることがで
き、これにより基板の両面を同時に洗浄することができ
るので、従来のように２つの洗浄部と反転部とが設けら
れていた装置に比べて装置全体が小型化する。また両面
を同時に洗浄できるので洗浄処理に要する時間が短縮さ
れる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に本発明の洗浄装置の実施の
形態の一例について説明するが、図１は洗浄装置の概略
斜視図であり、図２は平面図である。図中２（２ａ〜２
ｅ）は回転ガイド部材であり、これらは基板例えばウエ
ハＷが洗浄位置にあるときに、当該ウエハＷのノッチ
（Ｖ字型切り込み）以外の輪郭に沿って間隔をおいて設
けられている。

【００１４】前記回転ガイド部材２は回転軸２１の上端
部に回転ガイド体２２を備えて構成されている。回転ガ
イド体２２は、図１及び図５に示すように筒状体と円錐
体とを組み合わせた形状であって、下に行くほど径が拡
大するように周面が傾斜した傾斜面部２３を有してい
る。この傾斜面部２３の上部側は洗浄位置（回転ガイド
部材２による保持位置）にあるウエハＷの周縁部の外側
に位置し、下部側はウエハＷの周縁部の内側に位置して
いて、この傾斜面部２３によりウエハＷが水平（ほぼ水
平な状態も含む）になるように当該ウエハＷの周縁部が
保持されるようになっている。

【００１５】このような回転ガイド部材２の内の例えば
２つの回転ガイド部材２ａ，２ｃは、回転軸２１の下端
側に、当該回転軸２１を回転させるための駆動部２４例
えばモ−タを備えており、また残りの回転ガイド部材２
ｂ，２ｄ，２ｅの回転軸２１の下端側は図５に示すよう
に軸受け２５に支持されている。

【００１６】こうして回転ガイド部材２ａ，２ｃはモ−
タ２４の駆動により鉛直な軸の周りに回転され、この回
転によって残りの回転ガイド部材２ｂ，２ｄ，２ｅも鉛
直な軸の周りに回転されることになる。そしてこの回転
ガイド部材２の回転により、ウエハＷの周縁部が回転ガ
イド体２２の傾斜面２３によって周方向に送り出され、
こうしてウエハＷは回転ガイド体２２によりガイドされ
ながら水平方向に回転される。

【００１７】前記回転ガイド部材２には基板搬送手段を
なす搬送ア−ム３（３１，３２）によりウエハＷが受け
渡されるようになっている。この搬送ア−ム３は、例え
ば図３及び図４に示すようにウエハＷの直径よりも幅狭
な略長方形状を成していて、その上面には段部３０が形
成されており、この段部３０の上面にウエハＷの周縁部
を載置することにより当該ウエハＷの周縁部の一部を保
持するように構成されている。また洗浄前と洗浄後とは
別々の搬送ア−ム３が用られるように、第１の搬送ア−
ム３１と第２の搬送ア−ム３２との２枚の搬送ア−ムを
例えば上下に備えている。

【００１８】これら搬送ア−ム３は水平方向駆動部３３
により水平方向に進退可能、及び垂直方向駆動部３４に
より昇降可能に構成されている。これにより搬送ア−ム
３はウエハＷの周縁部を保持して、この例では回転ガイ
ド部材２ｃ，２ｄの間から前記回転ガイド部材２に囲ま
れた領域の上方に進入し、この位置から下降して当該ウ
エハＷを回転ガイド部材２に受け渡すようになってい
る。

【００１９】回転ガイド部材２に保持されたウエハＷの
表面側及び裏面側には、図１、図２、図５及び図６に示
すように、当該ウエハＷの表面を洗浄するための第１の
洗浄部材をなす第１の洗浄ブラシ４１と、ウエハＷの裏
面を洗浄するための第２の洗浄部材をなす第２の洗浄ブ
ラシ４２とが設けられている。

【００２０】これら第１及び第２の洗浄ブラシ４１，４
２は、図１及び図２に示すように例えばウエハＷの半径
よりも長い円筒体のスポンジよりなり、例えばブラシ内
から後述する洗浄液が供給されるようになっている。ま
たこれら洗浄ブラシ４１，４２は、図２及び図６に示す
ように共通の支持部材５に支持されてウエハＷを洗浄す
る洗浄位置（図２中実線で示す位置）とウエハＷの外側
の待機位置（図２中一点鎖線で示す位置）との間を移動
するように構成されている。そして洗浄位置にあるとき
には、この例では回転ガイド部材２ｂ，２ｃの間に洗浄
ブラシ４１，４２の基端側が位置し、ウエハＷの周縁部
が当該基端部の内側近傍に位置するように配置される。

【００２１】前記支持部材５は例えば図６に示すように
加圧調整部５１を備えており、この加圧調整部５１には
水平な第１及び第２の支持プレ−トＰ１，Ｐ２の基端側
が夫々後述のように取り付けられている。これら支持プ
レ−トＰ１，Ｐ２の上面には夫々第１及び第２のモ−タ
Ｍ１，Ｍ２が設けられており、前記第１及び第２の洗浄
ブラシ４１，４２の基端側がこれらモ−タＭ１，Ｍ２に
取り付けられている。これにより洗浄ブラシ４１，４２
は水平な軸の周りに回転されるようになっている。

【００２２】加圧調整部５１は例えば図６に支持プレ−
トＰ１を代表して示すように支柱５２を備えており、こ
の支柱５２の前面には支持プレ−トＰ１，Ｐ２の基端側
が夫々上下にスライドできるように取り付けられている
と共に、水平な固定台５３の基端側が取り付けられてい
て、この固定台５３の上面には支持プレ−トＰ１，Ｐ２
を下側から押圧するための加圧シリンダ５４が設けられ
ている。

【００２３】また支柱５２の背面には各支持プレ−トＰ
１，Ｐ２毎に滑車５５を介して重錘５６が吊り下げられ
ており、これら支持プレ−トＰ１，Ｐ２の荷重を各重錘
５６でバランスさせ、その状態で支持プレ−トＰ１を加
圧シリンダ５４により押圧して、これにより洗浄ブラシ
４１，４２の間の間隔を調整すると共に、ウエハＷに対
する洗浄ブラシ４１，４２の押圧力を夫々所定の圧力に
調整するように構成されている。

【００２４】さらに支持部材５は洗浄ブラシ４１，４２
に夫々洗浄液を供給するための供給ノズルＮ１，Ｎ２を
備えると共に、加圧調整部５１をガイドレ−ル５７ａに
沿ってｘ軸方向に進退させるためのｘ方向駆動部５７
と、加圧調整部５１をｚ軸周りに回転させるためのθ方
向駆動部５８とを備えている。こうして洗浄ブラシ４
１，４２は前記洗浄位置と待機位置との間で移動される
と共に、ウエハＷを洗浄するときには、ウエハＷの一方
の周縁部から中心部を通り、他方の周縁部に至るように
水平方向に移動される。なお前記洗浄ブラシ４１，４２
の待機位置には、図示しないブラシ洗浄機構が設けられ
ている。

【００２５】また回転ガイド部材２に保持されたウエハ
Ｗの表面側及び裏面側には、図１、図２及び図５に示す
ように、当該ウエハＷの表面及び裏面に洗浄液を供給す
るための第１の洗浄液供給部をなす第１のノズル６１と
第２の洗浄液供給部をなす第２のノズル６２とが、夫々
第１及び第２の洗浄ブラシ４１，４２の上方側と下方側
に洗浄ブラシ４１，４２と緩衝しないように設けられて
いる。

【００２６】これらノズル６１，６２は、夫々第１及び
第２の支持ア−ム６３，６４により支持されて、ウエハ
上に洗浄液を供給するウエハ上方側の供給位置（図２中
実線で示す位置）とウエハＷの外側の待機位置（図２中
一点鎖線で示す位置）との間を移動すると共に、ウエハ
上に洗浄液を供給するときにはウエハＷのほぼ回転中心
と周縁部との間を移動するように構成されている。ここ
で洗浄液としては、例えば成膜処理の後の洗浄では純水
が用いられ、研磨処理の後の洗浄では例えばフッ酸およ
びアンモニア水等の薬液が用いられるが、例えば前記ノ
ズル６１，６２は洗浄液の種類毎に複数用意される。

【００２７】続いて上述の処理装置の作用について説明
する。先ず第１及び第２の洗浄ブラシ４１，４２及び第
１及び第２のノズル６１，６２を待機位置に位置させた
状態で、ノッチの位置合わせがされたウエハＷを例えば
第１の搬送ア−ム３１に保持させて既述のように当該ウ
エハＷを回転ガイド部材２に受け渡し、その傾斜面部２
３に保持させる。

【００２８】次いでウエハＷを既述のように回転ガイド
部材２により水平方向に回転させる一方、洗浄ブラシ４
１，４２を支持部材５により洗浄位置に移動させると共
に、ノズル６１，６２を供給位置に移動させる。このと
き洗浄ブラシ４１，４２は、予め両者の間隔を加圧調整
部５１によりウエハＷの厚さよりも大きくなるように設
定しておき、この状態で洗浄位置まで移動させてから、
これら洗浄ブラシ４１，４２を夫々所定の押圧力でウエ
ハＷの表面及び裏面に夫々接触させる。

【００２９】そして洗浄液を、ノズル６１，６２により
夫々ウエハＷの表面及び裏面に供給すると共に、供給ノ
ズルＮ１，Ｎ２により洗浄ブラシ４１，４２を介して供
給し、これら洗浄ブラシ４１，４２をモ−タＭ１，Ｍ２
により回転させながら洗浄処理を行う。この際洗浄ブラ
シ４１，４２を支持部材５によりウエハＷの一方の周縁
部から他方の周縁部まで移動させる共に、ノズル６１，
６２をウエハＷのほぼ回転中心と周縁部との間で洗浄ブ
ラシ４１，４２と干渉しないように移動させて洗浄処理
を行う。

【００３０】このようにするとウエハＷの回転中心に供
給された洗浄液は、回転の遠心力により周縁部に向けて
拡散しながら流れて行き、ウエハＷの表面及び裏面全体
に行き渡る。そしてウエハＷの半径よりも長い洗浄ブラ
シ４１，４２を移動させながら当該洗浄ブラシ４１，４
２とウエハＷとを摺動させることによって、ウエハＷは
中心部から周縁部まで満遍なく洗浄される。この際洗浄
ウエハＷは、ブラシ４１，４２のウエハＷに対する押圧
力が夫々適切な値に調整された状態で、２つの洗浄ブラ
シ４１，４２の間に挟み込まれた形で洗浄が行われるの
で、ウエハＷの表面及び裏面は所定の清浄度に洗浄され
る。

【００３１】こうしてウエハＷを洗浄した後、ノズル６
１，６２を待機位置に移動させると共に、洗浄ブラシ４
１，４２を、両者の間隔をウエハＷの厚さより大きくし
てから待機位置に移動させる。そしてウエハＷを回転ガ
イド部材２の回転により高速で回転させ、この回転の遠
心力により洗浄液を飛散させて乾燥させる一方、このウ
エハＷの乾燥に並行して洗浄ブラシ４１，４２を待機位
置に設けられた図示しない洗浄機構により洗浄する。次
いで第２の搬送ア−ム３２を回転ガイド部材２ｃ，２ｄ
の間からウエハＷの下方側に進入させて上昇させること
により、ウエハＷを回転ガイド部材２から当該搬送ア−
ム３２に受け渡し、洗浄後のウエハＷを次の工程に搬送
する。なお乾燥工程は本装置とは別個に設けられた乾燥
ユニットにおいて行うようにしてもよい。

【００３２】このような洗浄装置では、ウエハは回転ガ
イド部材２により保持されながら、当該ウエハの周縁部
を周方向に送り出すことにより回転されるので、ウエハ
の裏面側にもスペ−スができる。このためウエハの裏面
側に当該裏面洗浄用の洗浄ブラシ４２やノズル６２を設
けることができ、これによってウエハの表面と共に裏面
も同時に洗浄することができる。従って従来の装置に設
けられていた表面洗浄部（裏面洗浄部）や反転部が不要
となるので、従来装置に比べて洗浄装置全体が大幅に小
型化する。またウエハの表面及び裏面の洗浄処理を同時
にできるので、従来必要であった別々の洗浄工程や反転
工程、また夫々の工程への搬送が不要となり、洗浄処理
時間が大幅に短縮され、スル−プットが向上する。

【００３３】さらにウエハ自体が回転するため、ウエハ
の周縁部も満遍なく洗浄ブラシ４１，４２に接触され、
しかもウエハは２つの洗浄ブラシに挟み込まれた状態で
洗浄されるので、従来のようにウエハの外周全体を保持
するタイプのウエハ保持部を用い、ウエハが保持部材と
共に回転する場合には困難であったウエハ周縁部やウエ
ハ端面の洗浄も行うことができる。

【００３４】さらにまた洗浄液は回転の遠心力により飛
散して行くので、他面側への洗浄液の回り込みが防止で
きると共に、仮に回り込んだとしても他面側も洗浄して
いるので、回り込んだ洗浄液により他面側が汚染される
おそれはない。また搬送ア−ム３はウエハの周縁の一部
のみを保持していて、ウエハとの接触面積が小さいと共
に、洗浄前と洗浄後に別々の搬送ア−ム３を用意してい
る。このため例えば１本の洗浄ア−ムを洗浄前と洗浄後
に用いる場合のように、洗浄前のウエハを保持すること
によってウエハから搬送ア−ム３に転写されたパ−ティ
クルが洗浄後のウエハに付着することが防止できると共
に、搬送ア−ム３とウエハとの接触面積が小さいので、
仮に搬送ア−ム３にパ−ティクルが付着していたとして
も、搬送ア−ム３からウエハに転写されるパ−ティクル
数は少なくなる。

【００３５】続いて本発明の他の例について図７により
説明する。この例においても回転ガイド部材７（７ａ〜
７ｅ）は既述の例と同様に回転軸７１と回転ガイド体７
２により構成されているが、回転ガイド体７２は長さ方
向のほぼ中央部分で最も径が縮小し、この位置から上下
に行くほど径が拡大するように周面が傾斜した傾斜面部
を有するように構成されており、この傾斜面部の最も径
が縮小した位置でウエハＷの周縁を保持するようになっ
ている。

【００３６】そして回転ガイド部材７の内の例えば２つ
の回転ガイド部材７ａ，７ｃは、既述の例と同様に駆動
部７３により鉛直な軸の周りに回転可能に構成されてい
ると共に、さらに水平方向駆動部７４によりウエハＷの
保持位置からウエハＷの輪郭の外側に移動できるように
構成されている。これによりこれら回転ガイド部材７
ａ，７ｃが外側に移動して隣同士の回転ガイド部材７
ｂ，７ｄの間隔が広がったところを通って、ウエハＷが
搬送ア−ム３により残りの回転ガイド部材７ｂ，７ｄ，
７ｅに受け渡され、この後回転ガイド部材７ａ，７ｃが
保持位置に移動するようになっている。他の構成は上述
の例と同様である。

【００３７】以上において本発明では、基板としてはオ
リフラ（オリエンテ−ションフラット）が形成されてい
るウエハを用いることもでき、この場合回転ガイド部材
２はオリフラ以外のウエハの輪郭に沿って配置される。
また洗浄ブラシ４１，４２のウエハに対する押圧力の調
整はバネを利用して行うようにしてもよいし、ノズル６
１，６２は本実施の形態のようにピンポイント型ではな
く、スリット状の洗浄液供給部を備えたものであっても
よい。

【００３８】さらに搬送ア−ム３は例えば図示しない突
出ピンと搬送ア−ム３との協動作用で回転ガイド部材２
にウエハを受け渡すように構成してもよく、この場合に
は突出ピンと搬送ア−ム３とで基板搬送手段が構成され
る。この際搬送ア−ム３は洗浄前と洗浄後用に２本の搬
送ア−ム３を用意する代わりに、一本の搬送ア−ム３で
洗浄前と洗浄後のウエハの保持位置を変えるように構成
してもよい。

【００３９】

【発明の効果】本発明によれば、基板の表面と裏面とを
洗浄する場合に、洗浄装置全体の小型化及び洗浄処理時
間の短縮を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄装置の一実施の形態を示す概略斜
視図である。

【図２】前記洗浄装置を示す平面図である。

【図３】前記洗浄装置に用いられる搬送ア−ムを示す側
面図である。

【図４】前記洗浄装置に用いられる搬送ア−ムを示す平
面図である。

【図５】前記洗浄装置の主要部を示す側面図である。

【図６】前記洗浄装置に設けられる支持部材を示す側面
図である。

【図７】本発明の洗浄装置の他の例を示す概略斜視図で
ある。

【図８】従来の洗浄装置を示す側面図である。

【図９】従来の洗浄装置を示す説明図である。

【符号の説明】

２ 回転ガイド部材 ２４ 駆動部 ３ 搬送ア−ム ４１ 第１の洗浄ブラシ ４２ 第２の洗浄ブラシ ５ 支持部材 ５１ 加圧調整部 ６１ 第１のノズル ６２ 第２のノズル Ｗ 半導体ウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 廣瀬 圭蔵 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢650 東京エレ クトロン九州株式会社プロセス開発センタ −内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 各々鉛直な軸の周りに回転自在に円形の
   基板の輪郭に沿って間隔をおいて設けられ、前記基板が
   水平となるように基板の周縁部を外周面により保持しか
   つガイドするための複数の回転ガイド部材と、 これら複数の回転ガイド部材のうち少なくとも一つを駆
   動して回転させるための駆動部と、 前記回転ガイド部材に保持された基板の表面及び裏面に
   夫々接触して、基板の回転時に当該表面及び裏面を洗浄
   する第１及び第２の洗浄部材と、 前記回転ガイド部材に保持された基板の表面及び裏面に
   夫々洗浄液を供給する第１及び第２の洗浄液供給部と、
   を備え、 前記基板は、前記駆動部により回転する回転ガイド部材
   により周縁部が周方向に送り出され、各回転ガイド部材
   にガイドされながら水平方向に回転することを特徴とす
   る洗浄装置。
2. 【請求項２】 回転ガイド部材は、下に行くほど径が拡
   大するように周面が傾斜した傾斜面部を有し、この傾斜
   面部により基板を保持することを特徴とする請求項１記
   載の洗浄装置。
3. 【請求項３】 基板を保持して前記回転ガイド部材に囲
   まれた領域の上方から下降して基板を回転ガイド部材に
   受け渡す基板搬送手段を設けたことを特徴とする請求項
   ２記載の洗浄装置。
4. 【請求項４】 回転ガイド部材の少なくとも一つは、基
   板の保持位置から基板の輪郭の外側に移動できるように
   構成されており、この回転ガイド部材が外側に移動して
   隣同士の回転ガイド部材の間隔が広がったところを通っ
   て基板を残りの回転ガイド部材に受け渡す基板搬送手段
   を設けたことを特徴とする請求項１または２記載の洗浄
   装置。
5. 【請求項５】 第１及び第２の洗浄部材は、共通の支持
   部材に支持されて基板を洗浄する位置と基板の外側の位
   置との間を移動することを特徴とする請求項１、２、３
   または４記載の洗浄装置。