JP2009302393A - 処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理装置は、被処理体を保持する保持部1と、保持部1によって保持された被処理体Wを回転させる回転駆動部60と、被処理体Wの周縁部の一方の面に当接して洗浄する第一洗浄機構30と、被処理体Wの周縁部の他方の面に当接して洗浄する第二洗浄機構40と、を備えている。処理装置は、第一洗浄機構30から周縁部の一方の面に加わる押圧力を調整する第一調整機構10と、第二洗浄機構40から周縁部の他方の面に加わる押圧力を調整する第二調整機構21,25と、をさらに備えている。
【選択図】図1
Description
被処理体を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転駆動部と、
前記被処理体の周縁部の一方の面に当接して洗浄する第一洗浄機構と、
前記被処理体の前記周縁部の他方の面に当接して洗浄する第二洗浄機構と、
前記第一洗浄機構から前記周縁部の一方の面に加わる押圧力を調整する第一調整機構と、
前記第二洗浄機構から前記周縁部の他方の面に加わる押圧力を調整する第二調整機構と、
を備えている。
前記第二調整機構は、前記第二洗浄機構に設けられた永久磁石と、該永久磁石に磁力を加えることによって前記周縁部の他方の面に加わる押圧力を調整する電磁石と、を有することが好ましい。
前記第一洗浄機構は、前記周縁部の一方の面に当接可能であり、横断面の中心部が硬質部からなり、該中心部の周りを囲む外周部が該硬質部よりも軟らかい軟質部からなる第一洗浄部を有することが好ましい。
前記第二洗浄機構は、前記周縁部の他方の面に当接可能であり、横断面の中心部が硬質部からなり、該中心部の周りを囲む外周部が該硬質部よりも軟らかい軟質部からなる第二洗浄部を有することが好ましい。
前記第一洗浄機構に連結され、該第一洗浄機構および前記第二洗浄機構を前記被処理体の一方の面から他方の面に向かう方向に移動させる移動機構をさらに備えたことが好ましい。
前記第二洗浄機構は、前記第一洗浄機構に連結されるとともに、揺動軸を中心に揺動可能となり、該第一洗浄機構側に揺動されたときに前記周縁部の前記他方の面に当接することが好ましい。
前記第二洗浄機構は、前記第一洗浄機構が前記周縁部の前記一方の面に当接した後に、前記揺動軸を中心に該第一洗浄機構側に揺動されて該周縁部の前記他方の面に当接することが好ましい。
前記第二調整機構は、第一調整機構によって前記第一洗浄機構から前記周縁部の一方の面に加えられる押圧力よりも大きな押圧力を、前記第二洗浄機構から前記周縁部の他方の面に加えることが好ましい。
以下、本発明に係る処理装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図5は本発明の実施の形態を示す図である。
10 表面側調整機構(第一調整機構)
21 電磁石
25 永久磁石
30 表面洗浄機構(第一洗浄機構)
32 表面洗浄部(第一洗浄部)
32a 硬質部
32b 軟質部
40 裏面洗浄機構(第二洗浄機構)
42 裏面洗浄部(第二洗浄部)
42a 硬質部
42b 軟質部
45a 揺動軸
55 洗浄部移動機構(移動機構)
60 回転駆動部
65 保持部移動機構
70 カップ
W ウエハ(被処理体)
Claims (8)
- 被処理体を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された前記被処理体を回転させる回転駆動部と、
前記被処理体の周縁部の一方の面に当接して洗浄する第一洗浄機構と、
前記被処理体の前記周縁部の他方の面に当接して洗浄する第二洗浄機構と、
前記第一洗浄機構から前記周縁部の一方の面に加わる押圧力を調整する第一調整機構と、
前記第二洗浄機構から前記周縁部の他方の面に加わる押圧力を調整する第二調整機構と、
を備えたことを特徴とする処理装置。 - 前記第二調整機構は、前記第二洗浄機構に設けられた永久磁石と、該永久磁石に磁力を加えることによって前記周縁部の他方の面に加わる押圧力を調整する電磁石と、を有することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
- 前記第一洗浄機構は、前記周縁部の一方の面に当接可能であり、横断面の中心部が硬質部からなり、該中心部の周りを囲む外周部が該硬質部よりも軟らかい軟質部からなる第一洗浄部を有することを特徴とする請求項1または2のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記第二洗浄機構は、前記周縁部の他方の面に当接可能であり、横断面の中心部が硬質部からなり、該中心部の周りを囲む外周部が該硬質部よりも軟らかい軟質部からなる第二洗浄部を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記第一洗浄機構に連結され、該第一洗浄機構および前記第二洗浄機構を前記被処理体の一方の面から他方の面に向かう方向に移動させる移動機構をさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記第二洗浄機構は、前記第一洗浄機構に連結されるとともに、揺動軸を中心に揺動可能となり、該第一洗浄機構側に揺動されたときに前記周縁部の前記他方の面に当接することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記第二洗浄機構は、前記第一洗浄機構が前記周縁部の前記一方の面に当接した後に、前記揺動軸を中心に該第一洗浄機構側に揺動されて該周縁部の前記他方の面に当接することを特徴とする請求項6に記載の処理装置。
- 前記第二調整機構は、第一調整機構によって前記第一洗浄機構から前記周縁部の一方の面に加えられる押圧力よりも大きな押圧力を、前記第二洗浄機構から前記周縁部の他方の面に加えることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の処理装置。
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- 2008-06-16 JP JP2008156902A patent/JP5026351B2/ja active Active
Patent Citations (1)
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