JP2013206992A5 - - Google Patents

Description

（８）処理部は、基板の上面に感光性材料からなる感光性膜を形成するように構成された感光性膜形成ユニットを含み、基板洗浄装置は、感光性膜形成ユニットによる感光性膜の形成後かつ露光装置による露光処理前または露光処理後の基板の下面を洗浄するように構成されてもよい。

この場合、感光性膜形成ユニットによる感光性膜の形成後かつ露光装置による露光処理前または露光処理後の基板の下面が基板洗浄装置により洗浄される。基板洗浄装置による基板の洗浄時には基板の上面が清浄に保たれる。それにより、基板の上面に形成される感光性膜の汚染が防止される。

裏面洗浄処理の終了後、マグネットプレート６１４ａ，６１４ｂが下方位置に配置され、全ての基板保持機構７００により基板Ｗが保持される。その状態で、スピンチャック６００により基板Ｗが高速で回転する。それにより、基板Ｗに付着する純水が振り切られ、基板Ｗが乾燥する。

また、露光装置１６が露光装置の例であり、基板処理装置５００が基板処理装置の例であり、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１および現像処理ブロック１２が処理部の例であり、インターフェースブロック１５が受け渡し部の例であり、レジスト膜が感光性膜の例であり、レジスト膜用処理ブロック１１の塗布ユニットＲＥＳが感光性膜形成ユニットの例である。

Claims (8)

1. 基板の下面を洗浄する基板洗浄装置であって、
   鉛直方向に沿う回転軸線の周りで回転可能に設けられかつ中央部に開口を有する回転部材と、
   前記回転部材の上側に設けられ、前記回転部材を回転させる回転駆動装置と、
   前記回転部材の下側に設けられ、基板の上面が前記回転部材に対向する状態で基板を保持する保持部材と、
   前記保持部材により保持される基板と前記回転部材との間に、前記回転部材の開口を通して空気を供給する空気供給機構と、
   前記保持部材により保持される基板の下面を洗浄する洗浄機構とを備え、
   前記空気供給機構は、
   フィルタと、
   前記フィルタに空気を供給する空気供給部と、
   前記フィルタを通過した空気を前記回転部材の開口に導くように構成される空気経路とを含む、基板洗浄装置。
2. 前記空気供給機構の少なくとも一部、前記回転部材、前記回転駆動装置、前記保持部材および前記洗浄機構を収容する筐体をさらに備え、
   前記フィルタは、前記空気供給部により供給される空気を上方から下方に通過させるように前記筐体内の上部に配置され、
   前記空気経路は、前記フィルタを通過した一部の空気を前記回転部材の開口に導くように構成され、
   前記フィルタを通過した残りの空気は、前記筐体内に供給される、請求項１記載の基板洗浄装置。
3. 前記空気供給部は、前記フィルタの上側に設けられ、前記筐体の外部から供給される空気を前記フィルタに導くダクトを含む、請求項２記載の基板洗浄装置。
4. 前記空気経路は、前記フィルタから前記回転部材の前記開口へ漸次減少する断面積を有するように構成された、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
5. 前記回転駆動装置は、前記空気経路の一部を構成しかつ鉛直方向に延びる中空の回転軸を有し、
   前記回転部材は、前記回転軸の内部空間が前記開口を通して前記回転部材の下方の空間に連通するように、前記回転軸の下端部に取り付けられた、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
6. 前記洗浄機構は、
   前記保持部材により保持される基板の下面を洗浄するための洗浄具と、
   前記保持部材により保持される基板の下面に洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
7. 露光装置に隣接するように配置され、基板に処理を行う基板処理装置であって、
   基板に処理を行うための処理部と、
   前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
   前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、前記露光装置による露光処理前の基板の下面を洗浄する請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板洗浄装置とを含む、基板処理装置。
8. 前記処理部は、基板の上面に感光性材料からなる感光性膜を形成するように構成された感光性膜形成ユニットを含み、
   前記基板洗浄装置は、前記感光性膜形成ユニットによる感光性膜の形成後かつ前記露光装置による露光処理前または露光処理後の基板の下面を洗浄するように構成された、請求項７記載の基板処理装置。