JP5847743B2 - バリア性積層体およびガスバリアフィルム - Google Patents

バリア性積層体およびガスバリアフィルム Download PDF

Info

Publication number
JP5847743B2
JP5847743B2 JP2013030903A JP2013030903A JP5847743B2 JP 5847743 B2 JP5847743 B2 JP 5847743B2 JP 2013030903 A JP2013030903 A JP 2013030903A JP 2013030903 A JP2013030903 A JP 2013030903A JP 5847743 B2 JP5847743 B2 JP 5847743B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
organic layer
organic
gas barrier
barrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013030903A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014159124A (ja
Inventor
洋 河上
洋 河上
聡仁 天生
聡仁 天生
昭子 服部
昭子 服部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2013030903A priority Critical patent/JP5847743B2/ja
Priority to TW103105023A priority patent/TW201433578A/zh
Priority to PCT/JP2014/053828 priority patent/WO2014129479A1/ja
Publication of JP2014159124A publication Critical patent/JP2014159124A/ja
Priority to US14/830,127 priority patent/US9893317B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5847743B2 publication Critical patent/JP5847743B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/36Amides or imides
    • C08F222/38Amides
    • C08F222/385Monomers containing two or more (meth)acrylamide groups, e.g. N,N'-methylenebisacrylamide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/52Amides or imides
    • C08F20/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F20/56Acrylamide; Methacrylamide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/20Carboxylic acid amides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • H01L31/0481Encapsulation of modules characterised by the composition of the encapsulation material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844Encapsulations
    • H10K50/8445Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/008Additives improving gas barrier properties
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31507Of polycarbonate
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31573Next to addition polymer of ethylenically unsaturated monomer
    • Y10T428/31587Hydrocarbon polymer [polyethylene, polybutadiene, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31598Next to silicon-containing [silicone, cement, etc.] layer

Description

本発明は、バリア性積層体およびガスバリアフィルムに関する。
無機バリア層および有機層を含むバリア性積層体を支持体上に有するガスバリアフィルムは、水蒸気や酸素などを遮断するフィルムとして、従来から有機電子デバイスの封止等に用いることが提案されている(例えば特許文献1)。ガスバリアフィルムは軽量でかつ可撓性があるため応用範囲も広く、さらに、ロールトゥロール(Roll to Roll)方式での生産が可能であることから低コスト化が期待できる。
特開2012−213938号公報
本発明は、新規なバリア性積層体およびガスバリアフィルムの提供を課題とする。本発明は特に、低レターデーション性の支持体を用いた場合であっても、高いバリア性を有するガスバリアフィルムを得ることが可能であるバリア性積層体を提供することを課題とする。
上記課題の下、本発明者らが、鋭意検討を行った結果、特定の重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層を含むバリア性積層体が各種の支持体と組み合わされて高いバリア性および良好な取扱い性のガスバリアフィルムを形成することが可能であることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の<1>〜<12>を提供するものである。
<1>少なくとも一層の無機バリア層と少なくとも一層の有機層とを有するバリア性積層体であって、
前記有機層が以下の一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物から形成された層であるバリア性積層体。
Figure 0005847743
(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは互いに同じでも異なっていてもよい。)
<2>前記無機バリア層が、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属酸化窒化物、および金属酸化窒化炭化物からなる群より選択されるいずれか1つの金属化合物を含む<1>に記載のバリア性積層体。
<3>前記無機バリア層が、珪素化合物を含む<1>または<2>に記載のバリア性積層体。
<4>前記重合性組成物中の重合性化合物の総量に対して前記重合性化合物が60質量%以上である<1>〜<3>のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
<5>前記有機層と前記無機バリア層とが隣接している<1>〜<4>のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
<6>支持体上に<1>〜<5>のいずれか一項に記載のバリア性積層体が設けられているガスバリアフィルム。
<7>前記支持体が環状オレフィンを繰り返し単位内に含む重合体または共重合体からなる樹脂、または、ポリカーボネート樹脂を含む<6>に記載のガスバリアフィルム。
<8>前記支持体が前記有機層に隣接している、<6>または<7>に記載のガスバリアフィルム。
<9>前記支持体および前記無機バリア層が隣接し、かつ前記無機バリア層および前記有機層が隣接している、<6>または<7>に記載のガスバリアフィルム。
<10><6>〜<9>のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを有するデバイス。
<11>画像表示用の有機デバイスである、<10>に記載のデバイス。
<12>支持体上に、以下の一般式(1):
Figure 0005847743
(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは互いに同じでも異なっていてもよい。)
で表される重合性化合物と水、炭素数1〜3のアルキルアルコール、または水および炭素数1〜3のアルキルアルコールの混合物とを含む塗布液を塗布することを含む、<6>〜<9>のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
<13>前記塗布液が水および炭素数1〜3のアルキルアルコールを含む<12>に記載の製造方法。
本発明により、新規なバリア性積層体およびガスバリアフィルムが提供される。本発明のバリア性積層体は低レターデーション性の支持体を用いた場合であっても、高いバリア性を有するガスバリアフィルムを形成することができる。本発明により高いバリア性能とレターデーション調節性を併せ持つバリアフィルムを容易に作製することが可能になった。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機EL素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を含む意味で使用される。
(バリア性積層体)
バリア性積層体は、少なくとも1層の有機層と少なくとも1層の無機バリア層を含むものであり、2層以上の有機層と2層以上の無機バリア層とが交互に積層しているものであってもよい。
また、バリア性積層体は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、バリア性積層体を構成する組成が膜厚方向に有機領域と無機領域が連続的に変化するいわゆる傾斜材料層を含んでいてもよい。前記傾斜材料の例としては、キムらによる論文「Journal of Vacuum Science and Technology A Vol. 23 p971−977(2005 American Vacuum Society) ジャーナル オブ バキューム サイエンス アンド テクノロジー A 第23巻 971頁〜977ページ(2005年刊、アメリカ真空学会)」に記載の材料や、米国公開特許2004−46497号明細書に開示してあるように有機領域と無機領域が界面を持たない連続的な層等が挙げられる。以降、簡略化のため、有機層と有機領域は「有機層」として、無機層と無機領域は「無機バリア層」として記述する。
バリア性積層体を構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には2層〜30層が好ましく、3層〜20層がさらに好ましい。また、有機層および無機層以外の他の機能層を含んでいてもよい。
(有機層)
有機層は有機ポリマーを主成分としていればよい。ここで主成分とは、有機層を構成する成分の第一の成分が有機ポリマーであることをいい、通常は、有機層を構成する成分の80質量%以上が有機ポリマーであることをいう。
有機ポリマーとしては、例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステルおよびアクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン等の有機珪素ポリマーなどが挙げられる。有機層は単独の材料からなっていても混合物からなっていてもよく、サブレイヤーの積層構造であってもよい。この場合、各サブレイヤーが同じ組成であっても異なる組成であってもよい。また、上述したとおり、米国公開特許2004−46497号明細書に開示してあるように無機層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層であってもよい。
有機層は、好ましくは、重合性化合物を含む重合性組成物から形成されるものであり、より好ましくは重合性化合物を含む重合性組成物を硬化してなるものである。
本発明のバリア性積層体は、以下の一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層を少なくとも1層含む。
Figure 0005847743
式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは互いに同じでも異なっていてもよい。
一般式(1)で表される化合物は、特開2012−206992号公報で公知の化合物であり、同公報に開示されている方法により合成、精製および同定等を行うことが可能である。
一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物において、前記重合性化合物は前記重合性組成物中の重合性化合物の総量に対して50質量%以上、好ましくは60質量%以上であるように含まれていればよい。重合性組成物の固形分(揮発分が揮発した後の残分)に対しては45質量%以上、好ましくは55質量%以上であればよい。
一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物は、前記一般式(1)で表される重合性化合物以外の他の重合性化合物を含んでいてもよい。このとき、他の重合性化合物は前記一般式(1)で表される重合性化合物と同一の重合性基、すなわち、(メタ)アクリロイル基を含むことが好ましい。また、バリア積層体は一般式(1)で表される重合性化合物を含まず他の重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層を含んでいてもよい。
他の重合性化合物の具体例としては以下に示す化合物が例示されるが、これらに限定されない。
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
Figure 0005847743
(シランカップリング剤)
バリア性積層体の湿熱耐久性付与の観点で、無機バリア層と隣接する有機層にシランカップリング剤を添加することが好ましい場合がある。特に、無機バリア層が、珪素酸化物、珪素窒化物、珪素炭化物、または、これらの混合物を含み、該無機バリア層の直上に有機層を形成する場合に、その効果は効果的に発揮される。これは、無機バリア層との密着性が強化されることによるものと推測される。
シランカップリング剤は、無機物と反応する加水分解基、および有機物と反応する有機官能基の両方を一分子中にもつ有機ケイ素化合物からなる。無機物と反応する加水分解基としては、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基、アセトキシ基およびクロロ基などが挙げられる。また、有機物と反応する有機官能基としては、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、イソシアネート基、アミノ基、およびメルカプト基が挙げられるが、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤を用いることが好ましい。
シランカップリング剤は、無機物および有機物のいずれとも反応しないアルキル基やフェニル基を有していてもよい。また、有機官能基を有しないケイ素化合物、例えば加水分解性基のみを有するアルコキシシランのような化合物と混合することもできる。シランカップリング剤は、重合性組成物に1種類または2種類以上の混合物として含まれていてもよい。
好ましく用いられるシランカップリング剤としては、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、または3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
シランカップリング剤の重合性組成物の固形分(揮発分が揮発した後の残分)中に占める割合は、1〜30質量%が好ましく、5〜20質量%がより好ましい。
(重合開始剤)
有機層は、通常、重合性組成物を硬化させて得られる。例えば、前記重合性組成物に熱または紫外線等のエネルギー線を照射して重合、架橋させることにより高分子を主成分とする有機層を形成すればよい。エネルギー線の例としては紫外線、可視光線、赤外線、電子線、エックス線、ガンマ線等が挙げられる。このとき、熱で重合させる場合は熱重合開始剤を、紫外線で重合させる場合は光重合開始剤を、可視光線で重合させる場合は光重合開始剤と増感剤を用いる。有機層は、光重合開始剤を含有する重合性組成物を塗布した後に紫外線を照射して重合性化合物を重合、架橋させて形成することが好ましい。
光重合開始剤を用いる場合、その含量は、重合性化合物の合計量の0.1モル%以上であることが好ましく、0.5〜2モル%であることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。
上記一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物に用いる重合開始剤は、低級アルコールあるいは水への溶解性を有するものが好ましく、具体的にはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から市販されているイルガキュア2959、イルガキュア819、イルガキュア127、ダロキュアTPO等が挙げられる。
それ以外の重合性組成物には、重合性組成物の有機溶媒の種類に応じて、市販の多くの重合開始剤が使用可能であり、具体例としてはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社のイルガキュア(Irgacure)シリーズ(例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819など)、ダロキュア(Darocure)シリーズ(例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173など)、クオンタキュア(Quantacure)PDO、サートマー(Sartomer)社から市販されているエザキュア(Ezacure)シリーズ(例えば、エザキュアTZM、エザキュアTZTなど)等が挙げられる。
(溶剤)
重合性組成物は、通常、溶剤を含んでいる。溶剤としては、一般には、ケトン、エステル系の溶剤:2−ブタノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノンが挙げられるが、上記一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物においては、炭素数1〜3のアルキルアルコール、水、またはこれらの混合物を用いることが好ましく、炭素数1〜3のアルキルアルコール、または水と炭素数1〜3のアルキルアルコールとの混合物を用いることがより好ましい。炭素数1〜3のアルキルアルコールとして具体的には、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、およびイソプロピルアルコールがあげられ、メタノールが好ましい。
上記一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物において、溶剤の選択は、塗布工程の防爆性能、揮発した有機溶媒の処理能力、乾燥能力、あるいは、重合性化合物と一緒に用いる重合開始剤の水溶性を勘案して選択すればよい。例えば、ガスバリアフィルムの湿熱経時安定性確保のために水溶性は低いが低級アルコールへの溶解性は高い重合開始剤を用いる場合、塗布後の乾燥ゾーンの乾燥能力が低い塗布機を使用して塗布を行いたい場合などは、使用溶媒を低級アルコールとすればよい。一方、防爆性能や揮発有機溶媒処理性能が充分でない塗布機を使用する場合には、水、またはアルコールおよび水の混合溶媒を用いればよい。
溶剤の含量は、重合性組成物の60〜97質量%が好ましく、70〜95質量%がより好ましい。
(有機層の重合硬化工程)
有機層は、前記重合性組成物の薄膜を設けた後に、好ましくはエネルギー線の照射により重合させて形成する。溶液塗布法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第2681294号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストル−ジョンコート法が例示される。真空成膜法としては、例えばフラッシュ蒸着法が例示される。
重合方法としては、光照射法、電子ビーム照射法等が挙げられ、光照射法が好ましい。光照射法の中でも紫外線照射法が特に好ましい。紫外線照射法においては、通常、高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線が照射される。照射エネルギーは0.2J/cm2以上が好ましく、0.6J/cm2以上がより好ましい。重合性組成物の硬化反応は、空気中の酸素によって重合阻害を受けるため、重合時の酸素濃度もしくは酸素分圧を低くすることが好ましい。窒素置換法によって重合時の酸素濃度を低下させる場合、酸素濃度は2%以下が好ましく、0.5%以下がより好ましい。減圧法により重合時の酸素分圧を低下させる場合、全圧が1000Pa以下であることが好ましく、100Pa以下であることがより好ましい。また、100Pa以下の減圧条件下で1J/cm2以上のエネルギーを照射して紫外線重合を行うことが特に好ましい。
(有機層の好ましい態様)
有機層は、平滑で、膜硬度が高いことが好ましい。有機層の表面にはパーティクル等の異物、突起が無いことが要求される。このため、有機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス10000以下が好ましく、クラス1000以下がより好ましい。有機層の平滑性は1μm角の平均粗さ(Ra値)として10nm未満であることが好ましく、0.52nm未満であることがより好ましい。重合性化合物の重合率は85%以上であることが好ましく、88%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましく、92%以上であることが特に好ましい。ここでいう重合率とは重合性化合物混合物中の全ての重合性基)のうち、反応した重合性基の比率を意味する。重合率は赤外線吸収法によって定量することができる。
有機層の膜厚については特に限定はないが、薄すぎると膜厚の均一性を得ることが困難になり、厚すぎると外力によりクラックを発生してバリア性が低下する。かかる観点から、有機層の厚みは50nm〜5000nmが好ましく、500nm〜2500nmがより好ましい。
有機層の硬度は、高いほど無機バリア層が平滑に成膜され結果的にバリア能が向上することがわかっている。その一方で、可撓性、隣接層との密着性の観点では、軟質な有機層の方が有利である。これらの諸特性がバランスよく確保される硬度範囲は、ナノインデンテーション法に基づく微小硬度で表記すると、100〜350N/mmであることが好ましく、140〜300N/mmであることがより好ましい。
(無機バリア層)
無機バリア層は、通常、金属化合物からなる薄膜の層である。無機バリア層は、屈折率が1.60以上であることが好ましく、1.8〜2であることがより好ましい。無機バリア層の形成方法は、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法(PVD)、種々の化学的気相成長法(CVD)、めっきやゾルゲル法等の液相成長法がある。特に、CVD法、スパッタリング法は、緻密でバリア性能に優れた無機バリア層を形成できる点で好ましい。本発明の無機バリア層の組成は、珪素および/またはアルミを含む、酸化物、窒化物、炭化物、または、これらの混合物が好ましく、珪素の窒化物、酸化物、または、これらの混合物がより好ましい。珪素の窒化物、酸化物、これらの混合物の中に炭素およびまたは水素が含有されていてもよい。さらに、他の金属酸化物、金属窒化物、または金属炭化物を併用することも可能であるが、無機バリア層の全質量の98質量%が珪素化合物であることが好ましい。
他の金属酸化物等としては、例えば、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、またはTa等から選ばれる1種以上の金属を含む酸化物、窒化物、炭化物もしくは酸化窒化物、酸化窒化炭化物などを併用することができる。これらの中でも、Al、In、Sn、Zn、Tiから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特にAlの金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。本発明により形成される無機バリア層の平滑性は、1μm角の平均粗さ(Ra値)として1nm未満であることが好ましく、0.5nm以下がより好ましい。このため、無機バリア層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス10000以下が好ましく、クラス1000以下がより好ましい。
無機バリア層の厚みに関しては、1層に付き、15〜100nmであることが好ましく、20〜50nmであることがより好ましい。バリア性能向上の観点では、定性的には、無機バリア層の厚みは厚い方が有利であるが、無機バリア層形成工程の生産性は無機バリア層の厚み概ね反比例して悪化する傾向にある。無機バリア層製造工程の生産性は、バリアフイルムの生産コストの律速要因であるため、無機バリア層を厚くすることはコストアップに直結する。また、無機バリア層の厚みが100nmを超えるとバリアフイルムを曲げた場合に、無機バリア層にクラック状の欠陥が生じるリスクが増大する傾向にある。一方、無機バリア層が上記より薄いと、無機バリア層形成時のピンホール発生確率が増大し、バリア性能が大きく悪化する傾向にある。
(機能層)
本発明のガスバリアフィルムにおいては、バリア性積層体上、もしくはその他の位置に、機能層を有していてもよい。機能層については、特開2006−289627号公報の段落番号0036〜0038に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。
(ガスバリアフィルム)
ガスバリアフィルムは、支持体およびバリア性積層体を含んでいればよい。好ましくは、バリア性積層体は支持体上に直接設けられていればよい。
ガスバリアフィルムにおいて、バリア性積層体は、支持体の片面にのみ設けられていてもよいし、両面に設けられていてもよい。積層の順番については、支持体側から無機層、有機層の順に積層されていてもよいし、有機層、無機層の順に積層されていてもよい。無機層形成工程の環境下での耐久性が弱い支持体を用いる場合、あるいは、支持体と無機層の屈折率差が大きく光透過率が充分には稼げないと予測される場合には、支持体上に先ず有機層を付与してから積層していく態様が好ましい。一方、支持体と有機層との間の密着性確保が難しい場合は、支持体上に先ず無機層から積層していく態様の方が好ましい場合が多い。
バリア性積層体が有機層を複数有している場合、一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層は支持体に極力近い有機層とすることが好ましい。例えば、一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層が、支持体に隣接している、または、支持体に隣接する無機バリア層に隣接していることが好ましい。支持体の両面に有機層を設ける場合は、表裏各々の側において、支持体に極力近い有機層に適用することが好ましい。従って、ガスバリアフィルムにおいて有機層が複数層ある場合、最も支持体に近い有機層のみが、一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層であってもよい。
ガスバリアフィルムはバリア性積層体および支持体以外の構成成分(例えば、易接着層等の機能層)を有していてもよい。機能層はバリア性積層体の上、バリア性積層体と支持体の間、支持体上のバリア性積層体が設置されていない側(裏面)のいずれに設置してもよい。
(支持体)
支持体はプラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムはバリア性積層体を保持できるフィルムであれば材質、膜厚等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。有機電子デバイスの種類に従って、透明プラスチックフィルムや、高い光学特性を有するフィルムが好ましい場合もある。プラスチックフィルムとしては、具体的には、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。プラスチックフィルムは、ポリエステル樹脂およびいわゆる光学フィルムが好ましく、ポリエステル樹脂としてはポリエチレンテレフタレート(PET)またはポリエチレンナフタレート(PEN)、光学フィルムとしてはシクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、ポリカーボネート樹脂がより好ましい。
支持体の厚みは特に限定されないが、例えば、1〜800μm、10〜400μm、20〜200μm、40〜100μmの範囲の厚みの支持体を用いればよい。
特に好ましい支持体の例としては、環状オレフィンを繰り返し単位内に含む重合体(シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等)を含む支持体、または、ポリカーボネート樹脂(フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂等)があげられる。
環状オレフィンを繰り返し単位内に含む重合体または共重合体からなる樹脂フィルムとしては、環状オレフィン構造の繰り返し単位のみがエチレン鎖で連結されている構造、環状オレフィン構造に加えて、エチレンまたはその誘導体を繰り返し単位の1つに用いた構造を好ましく用いることができる。市販品の具体例はJSR(株)のARTON、日本ゼオン(株)のZEONOR、ポリプラスチックス(株)のTOPAS、三井化学東セロのAPELが挙げられる。一方、ポリカーボネート樹脂は、ビスフェノールをカルボナート基で連結した構造を持つ樹脂である。ポリカーボネートを含む支持体として用いることができるフィルムの具体例としては、カネカ(株)のR140、帝人化成(株)のピュアエースが挙げられる。
本発明のガスバリアフィルムは、水蒸気供給側の雰囲気が、40℃、相対湿度90%の条件で、有機層/無機バリア層/有機層の構成の場合、1×10-4g/m2/day前後の水蒸気透過率とすることができ、さらに無機バリア層/有機層/無機バリア層/有機層の構成の場合、平均値で5×10-5g/m2/day前後の水蒸気透過率とすることができる。
<デバイス>
近年、画像表示用の有機デバイス(有機ELデバイス、有機TFTデバイス等)の分野においては、防湿封止の薄板ガラスの代替として、透明ガスバリアフィルムに対するニーズが高まっている。しかし、低レターデーション性(複屈折が小さい)あるいはレターデーション調節機能と、高いバリア性能を併せ持つ透明ガスバリアフィルムは、開発は進んでいない状況であった。すなわち、 バリアフイルムに低レターデーション性あるいはレターデーション調節機能を持たせるためには、支持体が低レターデーション性である必要性があるが、低レターデーション性の支持体は、その上に有機層の作製等を行うと透明性が低下するなどの問題があったからである。環状オレフィンを繰り返し単位内に含む重合体を含む支持体、または、ポリカーボネート樹脂を含む支持体は、優れた低レターデーション性あるいはレターデーション調節適性を有するが、本発明のバリア性積層体と組み合わせても、上記のような問題が生じにくく、画像表示用の有機デバイスにも好適に応用できるガスバリアフィルムを作製することができる。
本発明のバリア性積層体または本発明のガスバリアフィルムは空気中の化学成分(酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等)によって性能が劣化しやすいデバイスに好ましく用いることができる。前記デバイスの例としては、例えば、有機EL素子、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池等)等の電子デバイスを挙げることができ有機EL素子に好ましく用いられる。
本発明のガスバリアフィルムは画像表示用デバイスの封止または可撓性基板において用いることができ、特に有機ELデバイス、有機TFTデバイスの封止あるいは可撓性基板に好ましく用いることができる。封止形態の1つに固体封止法が挙げられるが、その態様は、デバイスの上に保護層を形成した後、接着剤層、ガスバリアフィルムを重ねて硬化する方法である。接着剤は特に制限はないが、熱硬化性エポキシ樹脂、光硬化性アクリレート樹脂等が挙げられる。
ガスバリアフィルム用いた有機EL素子の例は、特開2007−30387号公報に詳しく記載されている。また、有機TFTデバイスでは、λ/4板の機能を併せ持つガスバリアフィルムとして、デバイスに組み込むことが可能である。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
(実施例1)
(支持体/有機層/無機バリア層/有機層構造のガスバリアフィルムの作製)
支持体、第1有機層の前駆体である重合性化合物、前駆体組成物の塗布溶媒の種類、重合開始剤を表1の様に変えることで、支持体/有機層/無機バリア層/有機層の積層構造を持つ、1−1〜1−19のガスバリアフィルムを作製した。作製したガスバリアフィルムのバリア性能、可撓性、および層間密着性を評価した。
Figure 0005847743
表1の支持体の厚み、樹脂組成、吸水率は以下の通りである。
・ARTON: 厚み70μm 樹脂組成−環状オレフィン重合体 吸水率−0.4%
・ZEONOR : 厚み100μm 樹脂組成−環状オレフィン重合体 吸水率−<0.01%
・TOPAS: 厚み100μm 樹脂組成−環状オレフィン重合体 吸水率−0.02%
・R140 : 厚み100μm 樹脂組成−ポリカーボネート 吸水率−0.2%
である
表1の各重合性化合物の製造元、化学構造は以下の通りである。
・FF−214 : 特開2012−206992号公報 実施例に開示の例示化合物(1a)の合成に記載の方法で合成した。
構造式
Figure 0005847743
式中、Rは全て水素原子である。
・PET−30 : 日本化薬(株)製。
Figure 0005847743
・SR494 : 化薬サートマー(株)製。
Figure 0005847743
(第1有機層の形成)
固形分比率で、重合性化合物を97質量%、重合開始剤を3質量%とし、各々表1に示した溶媒に溶解して、前駆体組成物を作製した。空気雰囲気の大気圧プラズマにて表面処理を施した支持体上に、前記の前駆体組成物をスピンコート塗布し、室温で4分間乾燥した。その後、酸素含有量100ppm以下の窒素雰囲気、温度80℃の下で、主要波長365nmの紫外線を照射量 0.6J/cm2で照射して光重合で硬化させ、有機層を作製した。
重合硬化後の膜厚が2μmとなるように、固形分濃度を15〜35質量%、スピンコートの回転数を500〜2000rpmの範囲で適宜調節した。
(無機バリア層の形成)
アンモニア、シラン、水素を原料ガスとするプラズマCVD法を用い、前記で作製した有機層表面に、膜厚35nmの窒化珪素(屈折率1.95)を成膜した。該窒化珪素膜中には、炭素が1atm%、水素が 25atm%含有されていた。
(第2有機層の形成)
固形分比率で、3官能アクリレートモノマー:アロニックスM−308(東亜合成(株)製)を73質量%、シランカップリング剤:KBM−5103(信越化学工業(株)製)を20質量%、燐酸基含有の1官能アクリレートモノマー:PM−21(日本化薬(株)製)を5質量%、重合開始剤:ダロキュアTPO(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)を2質量%を、2−ブタノン溶媒中に固形分濃度22質量%で溶解し重合性組成物を作製した。成膜後の膜厚が1μmとなるようにスピンコートの回転数を800〜1600rpmの範囲で適宜調節してスピンコート塗布した後、室温で4分間乾燥した。その後、酸素含有量100ppm以下の窒素雰囲気、温度80℃の下で、主要波長365nmの紫外線を照射量 0.6J/cm2で照射して光重合で硬化させ、有機層を作製した。
(ガスバリアフィルムの性能評価)
得られたガスバリアフィルムについて、下記手法により、バリア性能(水蒸気透過率)、可撓性、および湿熱経時後の層間密着性を評価した。
[バリア性能の評価]
G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSID Conference Record of the International Display Research Conference 1435-1438頁に記載の方法を用いて測定した水蒸気透過率(g/m2/day)で評価した。水蒸気供給側の雰囲気は、40℃、相対湿度は90%とした。
[可撓性の評価]
円筒型マンドレル屈曲試験で評価した。試験サンプルを、有機層および無機バリア層の積層されている側を外向きにして屈曲試験用の心棒に巻き付けて180°に折り返し、5秒間保持した後、折り返さない状態に戻した。その結果得られたサンプルの屈曲部にクラックあるいは破断が生じていないか、目視および倍率100倍の光学顕微鏡にて観察した。前記の心棒の径を細くしていき、どこまで細い径の屈曲試験までクラックあるいは破断を起こさずに耐えられるかで、可撓性の優劣を評価した。
これらの結果を表2に示す。
Figure 0005847743
上記結果から明らかなとおり、一般式(1)で表される重合性化合物(FF−214)を含む重合性組成物から形成された有機層を含むガスバリアフィルムは、バリア性能および可撓性に優れていることが判った。一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物は、特開2012−213938号公報のフィルム支持体の要件を満たす吸水率0.1%以下の環状オレフィン共重合体の支持体だけではなく、吸水率0.4%の環状オレフィン重合体のフィルム、ポリカーボネートフィルムにも好ましく適用できることも明らかである。また、吸水率0.4%の環状オレフィン重合体のフィルムは、比較例の有機層を用いた場合にはバリア性能および可撓性が吸水率0.1%以下の環状オレフィン共重合体のフィルムに比し劣るが、一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層を用いた場合にはバリア性能および可撓性が吸水率0.1%以下の環状オレフィン共重合体のフィルムと略同等となり、バリア性能と可撓性のトータルでは0.1%以下の環状オレフィン共重合体のフィルムに勝る結果となった。
(実施例2)
(支持体/無機バリア層/有機層/無機バリア層/有機層構造のガスバリアフィルムの作製)
支持体、第1および第2有機層作製において、重合性化合物、前駆体組成物の塗布溶媒の種類、重合開始剤を表3の様に変えることで、支持体/無機バリア層/有機層/無機バリア層/有機層 の積層構造を持つ、2−1〜2−14のガスバリアフィルムを作製した。作製したガスバリアフィルムのバリア性能、ヘイズを評価した。
Figure 0005847743
表3の支持体の厚み、樹脂組成、吸水率は実施例1の表1と同じである。
表3の各重合性化合物の製造元、化学構造は実施例1の表1と同じである。
(第1無機バリア層の形成)
実施例1の無機バリア層と同じ条件で、同じ厚みの(35nm)の窒化珪素(屈折率1.95)を成膜した。
(第1有機層の形成)
固形分比率で、重合性化合物を98質量%、重合開始剤を2質量%とし、各々表1に示した溶媒に溶解して、重合性組成物を作製した。重合性化合物のうち98質量%のうち20質量%分はシランカップリング剤:KBM−5103とし、残りの78質量%分を各サンプルで変えた。第1無機バリア層を形成した支持体上に、前記の重合性組成物をスピンコート塗布し、110℃で3分間乾燥した。その後の紫外線照射による硬化工程は、実施例1の第1有機層と同じ条件で行い有機層を作製した。
重合硬化後の膜厚が2μmとなるように、固形分濃度を15〜35質量%、スピンコートの回転数を500〜2000rpmの範囲で適宜調節した。
(第2無機バリア層の形成)
第1無機バリア層と同じ条件で、同じ厚みの(35nm)の窒化珪素(屈折率1.95)を成膜した。
(第2有機層の形成)
固形分比率で、重合性化合物を98質量%、重合開始剤を2質量%とし、各々表1に示した溶媒に溶解して、重合性組成物を作製した。重合性化合物のうち98質量%のうち20質量%分はシランカップリング剤:KBM−5103、5%分は燐酸基含有の1官能アクリレートモノマー:PM−21とし、残りの73質量%分を各サンプルで変えた。第2無機バリア層を形成した支持体上に、前記の重合性組成物をスピンコート塗布し、室温で4分間乾燥した。その後の紫外線照射による硬化工程は、実施例1の第1有機層と同じ条件で行い有機層を作製した。成膜後の膜厚が1μmとなるように固形分濃度を15〜25質量%、スピンコートの回転数を500〜 2000rpmの範囲で適宜調節した。
[バリア性能の評価]
実施例1と同じ方法で評価を行った。
[ヘイズおよび全光線透過率の評価]
JIS−K7136およびJIS−K7361に準拠して、日本電色工業(株)NDH2000を用いて、D65光源に対するヘイズを測定した。結果を表4に示す
Figure 0005847743
表4の結果から明らかなとおり、一般式(1)で表されるモノマーを含む重合性組成物から形成された有機層を含むガスバリアフィルムは、バリア性能が良好で、ヘイズが小さい。比較例の有機層を用いた試験サンプルの中でヘイズが1%を越えるものは、支持体と第1無機層の界面近傍に微小なシワが生じていた。
有機EL発光素子での評価
バリア性を評価するために、水蒸気や酸素で黒点(ダークスポット)欠陥を生じる有機EL素子を作製し、それを実施例2のガスバリアフィルムで封止したモジュールを評価した。まず、ITO膜を有する導電性のガラス基板(表面抵抗値10Ω/□(Ω/sq., ohms per square))を2−プロパノールで洗浄した後、10分間UV−オゾン処理を行った。この基板(陽極)上に真空蒸着法にて以下の化合物層を順次蒸着した。
(第1正孔輸送層)
銅フタロシアニン:膜厚10nm
(第2正孔輸送層)
N,N’−ジフェニル−N,N’−ジナフチルベンジジン:膜厚40nm
(発光層兼電子輸送層)
トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム:膜厚60nm
(電子注入層)
フッ化リチウム:膜厚1nm
この上に、金属アルミニウムを100nm蒸着して陰極とし、その上に厚さ1.5μmの窒化珪素膜をプラズマCVD法を用いて布設し、有機EL素子を作製した。
次に、熱硬化型接着剤(エポテック310、ダイゾーニチモリ(株))を用いて、作製した有機EL素子上と、上記で作製した各ガスバリアフィルムを、バリア層が有機EL素子の側となるように貼り合せ、65℃で3時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機EL素子を作製し、その有機EL素子をソースメジャーユニット(SMU2400型、Keithley社製)を用いて7Vの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、本発明のガスバリアフィルムで封止を行った有機EL素子は、60℃90%RHの環境下で24時間放置した後においても、ダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。
太陽電池の作製
上記実施例1で作製したガスバリアフィルムを用いて、太陽電池モジュールを作製した。具体的には、太陽電池モジュール用充填剤として、スタンダードキュアタイプのエチレン−酢酸ビニル共重合体を用いた。10cm角の強化ガラス上に厚さ450μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体でアモルファス系のシリコン太陽電池セルを挟み込み充填し、さらにその上のガスバリアフィルムを貼合することで太陽電池モジュールを作製した。設置条件は、150℃にて真空引き3分行ったあと、9分間圧着を行った。本発明のガスバリアフィルムを貼合した太陽電池モジュールは、良好に作動し、85℃、85%相対湿度の環境下でも良好な電気出力特性を示した。
本発明のガスバリアフィルムは、高いバリア性能と透明性を有するため、多種の電子デバイス、好ましくは、有機ELあるいは太陽電池の表側の封止に適用することができる。また、湿熱耐久性の高いガスバリアフィルムが作製可能なので、屋外で用いられる電子デバイスの保護に、特に好ましく用いることができる。

Claims (13)

  1. 少なくとも一層の無機バリア層と少なくとも一層の有機層とを有するバリア性積層体であって、
    前記有機層が以下の一般式(1)で表される重合性化合物を含む重合性組成物から形成された層であるバリア性積層体。
    Figure 0005847743
    (式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは互いに同じでも異なっていてもよい。)
  2. 前記無機バリア層が、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属酸化窒化物、および金属酸化窒化炭化物からなる群より選択されるいずれか1つの金属化合物を含む請求項1に記載のバリア性積層体。
  3. 前記無機バリア層が、珪素化合物を含む請求項1または2に記載のバリア性積層体。
  4. 前記重合性組成物中の重合性化合物の総量に対して前記重合性化合物が60質量%以上である請求項1〜3のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
  5. 前記有機層と前記無機バリア層とが隣接している請求項1〜4のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
  6. 支持体上に請求項1〜5のいずれか一項に記載のバリア性積層体が設けられているガスバリアフィルム。
  7. 前記支持体が環状オレフィンを繰り返し単位内に含む重合体または共重合体からなる樹脂、または、ポリカーボネート樹脂を含む請求項6に記載のガスバリアフィルム。
  8. 前記支持体が前記有機層に隣接している、請求項6または7に記載のガスバリアフィルム。
  9. 前記支持体および前記無機バリア層が隣接し、かつ前記無機バリア層および前記有機層が隣接している、請求項6または7に記載のガスバリアフィルム。
  10. 請求項6〜9のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを有するデバイス。
  11. 画像表示用の有機デバイスである、請求項10に記載のデバイス。
  12. 支持体上に、以下の一般式(1):
    Figure 0005847743
    (式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは互いに同じでも異なっていてもよい。)
    で表される重合性化合物と水、炭素数1〜3のアルキルアルコール、または水および炭素数1〜3のアルキルアルコールの混合物とを含む塗布液を塗布することを含む、請求項6〜9のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
  13. 前記塗布液が水および炭素数1〜3のアルキルアルコールを含む請求項12に記載の製造方法。
JP2013030903A 2013-02-20 2013-02-20 バリア性積層体およびガスバリアフィルム Expired - Fee Related JP5847743B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013030903A JP5847743B2 (ja) 2013-02-20 2013-02-20 バリア性積層体およびガスバリアフィルム
TW103105023A TW201433578A (zh) 2013-02-20 2014-02-17 阻障積層體、氣體阻障膜、其製造方法以及應用其之裝置
PCT/JP2014/053828 WO2014129479A1 (ja) 2013-02-20 2014-02-19 バリア性積層体およびガスバリアフィルム
US14/830,127 US9893317B2 (en) 2013-02-20 2015-08-19 Barrier laminate and gas barrier film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013030903A JP5847743B2 (ja) 2013-02-20 2013-02-20 バリア性積層体およびガスバリアフィルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014159124A JP2014159124A (ja) 2014-09-04
JP5847743B2 true JP5847743B2 (ja) 2016-01-27

Family

ID=51391265

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013030903A Expired - Fee Related JP5847743B2 (ja) 2013-02-20 2013-02-20 バリア性積層体およびガスバリアフィルム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9893317B2 (ja)
JP (1) JP5847743B2 (ja)
TW (1) TW201433578A (ja)
WO (1) WO2014129479A1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6432506B2 (ja) * 2013-04-10 2018-12-05 日本ゼオン株式会社 静電容量式タッチパネル付き表示装置
CN105122190B (zh) * 2013-04-10 2019-03-12 日本瑞翁株式会社 带静电容量式触摸面板的显示装置
EP3219482B1 (en) 2014-11-14 2024-02-07 Toppan Printing Co., Ltd. Optical barrier film, color conversion film, and backlight unit
CN104505468B (zh) * 2014-12-16 2017-12-05 昆山国显光电有限公司 发光器件及其封装方法
CN107431111A (zh) * 2014-12-26 2017-12-01 Ns材料株式会社 波长转换构件及其制造方法
WO2016158192A1 (ja) * 2015-03-30 2016-10-06 凸版印刷株式会社 光学フィルム及びその製造方法、並びに、光学バリアフィルム及び色変換フィルム
JP6612543B2 (ja) * 2015-07-13 2019-11-27 第一工業製薬株式会社 樹脂フィルム
JP6627521B2 (ja) * 2016-01-14 2020-01-08 コニカミノルタ株式会社 機能性フィルムおよびこれを含む量子ドット(qd)含有積層部材の製造方法
JP6288353B1 (ja) * 2017-02-08 2018-03-07 東洋インキScホールディングス株式会社 光硬化性組成物およびディスプレイ
JP6699713B1 (ja) * 2018-11-28 2020-05-27 東洋インキScホールディングス株式会社 ディスプレイ
JP7223122B2 (ja) * 2019-03-29 2023-02-15 富士フイルム株式会社 偏光板、粘着層付き偏光板、粘着層付き偏光板の製造方法、積層体および画像表示装置
CN113646387A (zh) * 2019-04-01 2021-11-12 Dic株式会社 阻气性组合物、涂布剂及层叠体
CN114341274B (zh) * 2019-09-05 2023-08-11 富士胶片株式会社 组合物、偏振器层、层叠体及图像显示装置
CN114930206A (zh) 2019-12-26 2022-08-19 富士胶片株式会社 光吸收各向异性层、层叠体、光学膜、图像显示装置、背光模组

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE513714A (ja) 1951-08-23 1900-01-01
US7015640B2 (en) 2002-09-11 2006-03-21 General Electric Company Diffusion barrier coatings having graded compositions and devices incorporating the same
JP4716773B2 (ja) 2005-04-06 2011-07-06 富士フイルム株式会社 ガスバリアフィルムとそれを用いた有機デバイス
JP2007030387A (ja) 2005-07-28 2007-02-08 Fujifilm Corp バリア性フィルム基板およびそれを用いた有機電界発光素子
JP5595190B2 (ja) * 2010-08-31 2014-09-24 富士フイルム株式会社 機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法
JP5486536B2 (ja) * 2011-03-30 2014-05-07 富士フイルム株式会社 重合性化合物
WO2012133182A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 富士フイルム株式会社 ポリエーテル化合物、該ポリエーテル化合物を用いた硬化剤、及び該ポリエーテル化合物の製造方法
JP2012213938A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Mitsubishi Plastics Inc ガスバリア性フィルム
JP6061484B2 (ja) * 2012-03-27 2017-01-18 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014129479A1 (ja) 2014-08-28
US9893317B2 (en) 2018-02-13
US20150357599A1 (en) 2015-12-10
TW201433578A (zh) 2014-09-01
JP2014159124A (ja) 2014-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5847743B2 (ja) バリア性積層体およびガスバリアフィルム
JP5498202B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス
JP5320167B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイスおよび積層体の製造方法
JP5281964B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイスおよび積層体の製造方法
JP5934544B2 (ja) ガスバリアフィルム
JP5216724B2 (ja) ガスバリアフィルムおよびデバイス
JP5749678B2 (ja) ガスバリアフィルム
JP5485624B2 (ja) バリア性積層体およびこれを用いたガスバリアフィルム
JP5752000B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス
JP2011200780A (ja) バリア性積層体とその製造方法、ガスバリアフィルム及びデバイス
JP5432602B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイス
JP2011201064A (ja) バリア性積層体とその製造方法、ガスバリアフィルム及びデバイス
JP5270469B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法
JP5620852B2 (ja) バリア性積層体およびバリア性積層体の製造方法
JP2009196318A (ja) 積層体とバリア性フィルム基板の製造方法、バリア材料、デバイスおよび光学部材
JP5373479B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス
JP6040059B2 (ja) バリア性積層体およびガスバリアフィルム
JP2012020409A (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法
JP5490640B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法
JP2010234791A (ja) バリア性積層体、バリア性フィルム基板およびデバイス
JP2009172991A (ja) バリア性積層体、バリア性フィルム基板、デバイスおよび光学部材
JP2010089502A (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス
JP5052418B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイスおよび光学部材
JP5763493B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス
JP5812916B2 (ja) バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150513

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151117

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151125

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5847743

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees