JP7223122B2 - 偏光板、粘着層付き偏光板、粘着層付き偏光板の製造方法、積層体および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、偏光板、粘着層付き偏光板、粘着層付き偏光板の製造方法、積層体および画像表示装置に関する。

従来、レーザー光または自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、または、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。

従来、これらの偏光子には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、所定の構造を有する２色性色素化合物と、液晶性化合物と、を含有する、着色組成物を用いて形成される光吸収異方性膜（偏光子）が記載されており（［請求項１］［請求項５］）、また、光吸収異方性膜とともに、基材や酸素遮断層を有する積層体が記載されている（［請求項６］［請求項８］）。

国際公開第２０１７／１５４６９５号

本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜を有する積層体について、基材（仮支持体）、配向膜（配向層）、光吸収異方性膜（偏光子層）および酸素遮断層をこの順に有する態様を検討したところ、薄型化や転写などの観点から仮支持体を剥離しようとすると、酸素遮断層の厚みや種類によっては、仮支持体と配向層との界面で剥離させることが困難であり、また、内部反射率が高くなる場合があることを明らかとした。

そこで、本発明は、仮支持体を有する場合に配向層との界面で剥離させることが容易となり、内部反射率を低くすることができる偏光板、粘着層付き偏光板、粘着層付き偏光板の製造方法、積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、配向層、偏光子層および酸素遮断層をこの順に有する偏光板において、酸素遮断層の屈折率が１．７０以上１．９５未満であり、酸素遮断層の厚みが４０ｎｍ以下であると、仮支持体を配向層に隣接して設けた場合でも、配向層との界面で仮支持体を剥離させることが容易となり、内部反射率を低くすることができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 配向層、偏光子層および酸素遮断層をこの順に有する偏光板であって、
偏光子層が、二色性物質を含有し、
酸素遮断層の屈折率が、１．７０以上１．９５未満であり、
酸素遮断層の厚みが、４０ｎｍ以下である、偏光板。
［２］ 酸素遮断層が、ケイ素原子、窒素原子および水素原子を含有する、［１］に記載の偏光板。
［３］ 酸素遮断層が光の入射側に配置される、［１］または［２］に記載の偏光板。

［４］ 粘着層、配向層、偏光子層および酸素遮断層をこの順に有する粘着層付き偏光板であって、
偏光子層が、二色性物質を含有し、
酸素遮断層の屈折率が、１．７０以上１．９５未満であり、
酸素遮断層の厚みが、４０ｎｍ以下である、粘着層付き偏光板。
［５］ 酸素遮断層が、ケイ素原子、窒素原子および水素原子を含有する、［４］に記載の粘着層付き偏光板。
［６］ 酸素遮断層が光の入射側に配置される、［４］または［５］に記載の粘着層付き偏光板。

［７］ ［４］～［６］のいずれかに記載の粘着層付き偏光板を作製する製造方法であって、
仮支持体上に、配向層を形成する配向層形成工程と、
配向層上に、偏光子層を形成する偏光子層形成工程と、
偏光子層上に、酸素遮断層を形成する酸素遮断層形成工程と、
酸素遮断層形成工程の後に、仮支持体を剥離する剥離工程と、
剥離工程の後に、配向層の偏光子層と反対側に粘着層を形成する粘着層形成工程とを有する、粘着層付き偏光板の製造方法。

［８］ ［１］～［３］のいずれかに記載の偏光板または［４］～［６］のいずれかに記載の粘着層付き偏光板と、λ／４板とを有する、積層体。
［９］ ［１］～［３］のいずれかに記載の偏光板または［４］～［６］のいずれかに記載の粘着層付き偏光板、あるいは、［８］に記載の積層体を有する画像表示装置。

本発明によれば、仮支持体を有する場合に配向層との界面で剥離させることが容易となり、内部反射率を低くすることができる偏光板、粘着層付き偏光板、粘着層付き偏光板の製造方法、積層体および画像表示装置を提供することができる。

酸素遮断層を製造する成膜装置の一例を概念的に示す図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

［偏光板］
本発明の偏光板は、配向層、偏光子層および酸素遮断層をこの順に有する偏光板である。
また、本発明の偏光板は、偏光子層が二色性物質を含有するものである。
また、本発明の偏光板は、酸素遮断層の屈折率が１．７０以上１．９５未満であり、酸素遮断層の厚みが４０ｎｍ以下である。

本発明においては、上述した通り、酸素遮断層の屈折率が１．７０以上１．９５未満であり、酸素遮断層の厚みが４０ｎｍ以下であると、仮支持体を配向層に隣接して設けた場合でも、配向層との界面で仮支持体を剥離させることが容易となり、内部反射率を低くすることができる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
すなわち、酸素遮断層の厚みを４０ｎｍ以下とすることで、偏光板の厚みが薄くなり、柔軟となるため、仮支持体を配向層に隣接して設けた場合においても、仮支持体を剥離する際に各界面に生じる剥離応力が低下した結果、配向層との界面で仮支持体を容易に剥離できたと考えられる。
また、酸素遮断層の屈折率が１．７０以上１．９５未満とすることで、二色性物質を含有する偏光子層との屈折率差に伴う界面反射が抑制されたため、内部反射率を低くすることができたと考えられる。
以下に、本発明の偏光板が有する配向層、偏光子層および酸素遮断層などについて詳述する。

〔配向層〕
本発明の偏光板が有する配向層は、後述する偏光子層を形成する偏光子層形成用組成物に含まれる液晶成分を配向させる機能を有する層であれば、特に限定されない。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。
さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向層も知られている。
なかでも、本発明では、配向層のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向層が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向層も好ましい。

＜ラビング処理配向層＞
ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）またはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向層については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることがさらに好ましい。また、ポリマー材料としてＰＶＡを用いる場合において、後述する任意の支持体を用いる場合は、表面にけん化処理を施していない支持体を用いることが好ましい。

＜光配向層＞
光照射により形成される配向層に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

上記材料から形成した光配向層に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向層を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色性物質偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、配向層に対して上面、または裏面から配向層表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向層に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°がさらに好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。

パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔偏光子層〕
本発明の偏光板が有する偏光子層は、二色性物質を含有する層であり、二色性物質および液晶性化合物を含有する偏光子層形成用組成物を用いて形成される層であることが好ましい。

＜二色性物質＞
偏光子層および偏光子層形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、偏光子層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第１の二色性色素）と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第２の二色性色素）とを併用することが好ましい。

本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

本発明においては、偏光子層形成用組成物に含まれる二色性物質の含有量は、偏光子層の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、固形分比率として２～３０質量％であることが好ましく、２～２０質量％であることがより好ましく、５～１８質量％であることが更に好ましく、１０～１５質量％であることが特に好ましい。

＜液晶性化合物＞
偏光子層の形成に用いられる偏光子層形成用組成物は、液晶性化合物を含有する。液晶性化合物を含むことで、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質を高い配向度で配向させることができる。
本発明における液晶性化合物とは、二色性を示さない液晶性化合物である。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶性化合物を含有する場合において、液晶性化合物の含有量は、固形分比率として、７５～９５質量部が好ましく、７５～９０質量部がより好ましく、８０～９０質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子層の配向度がより向上する。

＜重合開始剤＞
偏光子層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。

偏光子層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、偏光子層形成用組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、偏光子層の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、偏光子層の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜溶媒＞
偏光子層形成用組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン等）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル等）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２－ジメトキシエタン等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド等）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン等）等の有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。

偏光子層形成用組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、偏光子層形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜偏光子層の形成方法＞
偏光子層の形成方法は特に限定されず、上述した偏光子層形成用組成物を上述した配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、偏光子層形成用組成物を配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する偏光子層形成用組成物を用いたり、偏光子層形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、配向層上に偏光子層形成用組成物を塗布することが容易になる。
偏光子層形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、偏光層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、偏光子層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、偏光子層形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、偏光子層）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を偏光子層として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、偏光子層を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

（他の工程）
偏光子層の形成方法は、上記配向工程後に、偏光子層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、偏光子層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、偏光子層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって偏光子層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

偏光子層の厚さは、特に限定されないが、フレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。

〔酸素遮断層〕
本発明の偏光板は、酸素遮断層を有する。
ここで、酸素遮断層は、酸素の透過を抑制する機能を有する層をいい、具体的には、酸素透過率が３．０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下となる層であることが好ましい。
本明細書において、酸素透過率は、測定温度２５℃、相対湿度５０％ＲＨ、酸素分圧１ａｔｏｍ、および、測定面積５０ｃｍ^２の条件下における測定値であり、測定装置としては、ＯＸ－ＴＲＡＮ ２／２１（ＭＯＣＯＮ社製）を用いることができる。
また、酸素透過率が３．０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であるとは、ＳＩ単位では３．４２×１０^－１ｆｍ／（ｓ・Ｐａ）以下であることを意味する。

本発明においては、酸素遮断層は、光の入射側に配置されることが好ましい。
ここで、光の入射側とは、本発明の偏光板を画像表示装置に用いた場合における、視認側（外光側）のこという。

本発明においては、酸素遮断層の屈折率は、１．７０以上１．９５未満であり、１．７５以上１．９０未満であることが好ましい。
本明細書において、酸素遮断層の屈折率は、分光エリプソメトリー法によって測定された値である。以下、屈折率は別段の表示の無い限り、波長５５０ｎｍの光に対する温度２３℃における屈折率を意味するものとする。

本発明においては、酸素遮断層の厚みは、４０ｎｍ以下であり、５～４０ｎｍであることが好ましく、５～３０ｎｍであることがより好ましい。
本明細書において、酸素遮断層の厚みは、ミクロトームを用いて切削し、断面を電子顕微鏡で観察した際に測定された任意の５点の厚みの平均値をいう。

酸素遮断層に含まれる成分としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、ＣｅおよびＴａからなる群から選択される少なくも１種以上の金属の酸化物、窒化物、酸化窒化物または水素化物などのうち、屈折率が１．７０以上１．９５未満となるものを適宜選択して用いることができる。

これらの成分のうち、酸素遮断層が、ケイ素原子、窒素原子および水素原子を含有していることが好ましく、具体的には、ＳｉＮＨ（元素比率 Ｓｉ：Ｎ：Ｈ＝１：１：１）を含有していることがより好ましい。

＜酸素遮断層の形成方法＞
酸素遮断層の形成方法は、４０ｎｍ以下の薄層を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。

〔支持体〕
本発明の偏光板は、配向層を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
支持体としては、例えば、ガラス基板およびポリマーフィルムが挙げられる。
ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；アクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン－プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
本発明においては、上記支持体は、配向層を形成した後に、剥離可能な仮支持体であってもよい。

支持体の厚みは特に制限されないが、５～６０μｍが好ましく、５～３０μｍがより好ましい。

［粘着層付き偏光板］
本発明の粘着層付き偏光板は、粘着層、配向層、偏光子層および酸素遮断層をこの順に有する粘着層付き偏光板である。
また、本発明の粘着層付き偏光板は、偏光子層が二色性物質を含有するものである。
また、本発明の粘着層付き偏光板は、酸素遮断層の屈折率が１．７０以上１．９５未満であり、酸素遮断層の厚みが４０ｎｍ以下である。

本発明の粘着層付き偏光板が有する配向層、偏光子層および酸素遮断層は、いずれも、上述した本発明の偏光板において説明したものと同様である。

〔粘着層〕
本発明の粘着層付き偏光板が有する粘着層は特に限定されず、従来公知の粘着層を採用することができる。
このような粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

＜粘着層の形成方法＞
粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、配向層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を配向層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。

［粘着層付き偏光板の作製方法］
本発明の粘着層付き偏光板の作製方法は、上述した本発明の粘着層付き偏光板を作製する製造方法であって、仮支持体上に、配向層を形成する配向層形成工程と、配向層上に、偏光子層を形成する偏光子層形成工程と、偏光子層上に、酸素遮断層を形成する酸素遮断層形成工程と、酸素遮断層形成工程の後に、仮支持体を剥離する剥離工程と、剥離工程の後に、配向層の偏光子層と反対側に粘着層を形成する粘着層形成工程とを有する製造方法である。
ここで、配向層形成工程、偏光子層形成工程、酸素遮断層形成工程および粘着層形成工程における各層の形成方法は、上述した本発明の偏光板または粘着層付き偏光板が有する各層の形成方法で説明したものと同様である。

本発明の粘着層付き偏光板の作製方法が有する剥離工程は、酸素遮断層形成工程の後に、仮支持体を剥離する工程である。
ここで、仮支持体を剥離する方法は特に限定されず、例えば、酸素遮断層を形成した後の積層体の仮支持体以外の部分を把持し、物理的手法により仮支持体を剥離する方法などが挙げられる。

また、本発明の粘着層付き偏光板の作製方法は、剥離工程の作業性向上などの観点から、酸素遮断層形成工程の後であって剥離工程の前に、酸素遮断層の偏光子と反対側に支持体付きの機能層を貼り合わせる工程があってもよい。

［積層体］
本発明の積層体は、上述した本発明の偏光板または粘着層付き偏光板と、λ／４板とを有する積層体である。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
このようなλ／４板は、配向層の偏光子層と反対側（粘着層を有する場合には粘着層の表面）に設けることが好ましい。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の偏光板、粘着層付き偏光板、および、積層体のいずれかを有する画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の偏光板または粘着層付き偏光板と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、酸素遮断層、偏光子層、配向層、任意の粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１～４］
＜光配向層ＰＡ１の形成＞
仮支持体１として、ＴＡＣフィルムＴＪ４０ＵＬ（厚み４０μｍ、富士フイルム社製）を用いた。
下記の配向層形成用組成物ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に仮支持体１上に塗布した。
塗膜が形成された仮支持体１を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付き仮支持体１を得た。
光配向層ＰＡ１の膜厚は１．０μｍであった。

─────────────────────────────────
配向層形成用組成物ＰＡ１
─────────────────────────────────
・下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・キシレン １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
─────────────────────────────────

重合体ＰＡ－１

酸発生剤ＰＡＧ－１

酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

＜偏光子層Ｐ１の形成＞
得られた光配向層ＰＡ１上に、下記の偏光子層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に偏光子層Ｐ１を作製した。
偏光子層Ｐ１の膜厚は０．４μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ－１ ０．２５質量部
・下記アゾ色素Ｍ－１ ０．２７質量部
・下記アゾ色素Ｃ－１ ０．６５質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．５９質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－１ ０．１２質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

アゾ色素Ｙ－１

アゾ色素Ｍ－１

アゾ色素Ｃ－１

高分子液晶性化合物Ｐ－１

液晶性化合物Ｌ－１

界面改良剤Ｆ－１

＜酸素遮断層の形成＞
偏光子層Ｐ１を巻回した基板ロールを図１に示す成膜装置に装填して、偏光子層Ｐ１層の表面に、容量結合プラズマ（Capacitively Coupled Plasma：ＣＣＰ）－ＣＶＤによって、無機層として窒化珪素膜を成膜して、酸素遮断層を形成した。
ここで、図１中のドラム６８としては、ステンレス製で、直径１０００ｍｍの物を用いた。なお、このドラム６８は、温度調節手段を内蔵しており、成膜中は、ドラム６８の表面の温度を７０℃に制御した。
高周波電源９０は、周波数１３．５ＭＨｚの高周波電源を用い、シャワー電極８０に供給するプラズマ励起電力は２０００Ｗとした。また、バイアス電源９４は周波数１００ｋＨｚの高周波電源を用い、ドラム６８に２００Ｗのバイアス電力を供給した。
成膜ガスは、シランガス（ＳｉＨ_４）、アンモニアガス（ＮＨ_３）および水素ガス（Ｈ_２）を用いた。供給量は、下記表１に示すように設定した。

＜偏光板の作製＞
酸素遮断層を形成後、透明支持体１を剥離し、実施例１～４の偏光板を作製した。

［比較例１］
透明支持体１上に下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。
その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、厚み１．５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向層を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９（ＢＡＳＦ社製） ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

上記ＰＶＡ層をラビング処理し、配向層とした。
次いで、配向層上に実施例１と同様の方法で、偏光子層Ｐ１を形成した。
次いで、偏光子層Ｐ１上に下記表２に示すＣＶＤ条件で酸素遮断層を形成した。なお、下記表２中、ＨＭＤＳＯは、ヘキサメチルジシロキサンの略語である。
次いで、透明支持体１を剥離し、比較例１の偏光板を作製した。

［比較例２～３］
実施例１と同様に偏光子層Ｐ１までを形成した後、偏光子層Ｐ１上に下記表３に示すスパッタ条件（特開２００９－２８７０８８号公報）で酸素遮断層を形成した。
次いで、透明支持体１を剥離し、比較例２～３の偏光板を作製した。

［比較例４］
実施例１と同様に偏光子層Ｐ１までを形成した後、偏光子層Ｐ１上に下記液晶層Ｌ１を形成した。
＜液晶層Ｌ１の形成＞
偏光子層Ｐ１上に、下記の液晶層形成用組成物Ｌ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、屈折率調整層としての液晶層Ｌ１を形成した。
次いで、液晶層Ｌ１を室温乾燥させた後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１０秒間照射することにより、偏光子層Ｐ１上に液晶層Ｌ１を作製した。
液晶層Ｌ１の膜厚は、３０ｎｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ｌ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ－２ ２．４３質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．９８質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．２０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．１４質量部
・１、４‐フェニレンジジボロン酸（東京化成工業） ０．１０質量部
・メチルエチルケトン ３７１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

棒状液晶性正化合物の混合物Ｌ－２（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）

変性トリメチロールプロパントリアクリレート

光重合開始剤Ｉ－１

＜酸素遮断層Ｂ１の形成＞
液晶層Ｌ１上に、下記の酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。
その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、液晶層Ｌ１上に、ポリビニルアルコールを含有する酸素遮断層Ｂ１を形成した。酸素遮断層Ｂ１の膜厚は、１．５μｍであった。
酸素遮断層Ｂ１を形成後、透明支持体１を剥離し、比較例４の偏光板を作製した。

――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９（ＢＡＳＦ社製） ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

［比較例５～７］
実施例１と同様に偏光子層Ｐ１までを形成した後、偏光子層Ｐ１上に下記表４に示すＣＶＤ条件で酸素遮断層を形成した。
次いで、透明支持体１を剥離し、比較例５～７の偏光板を作製した。

作製した各偏光板が有する酸素遮断層について、組成、屈折率および膜厚を以下に示す方法で測定した。結果を下記表５に示す。
（１）組成
ＸＰＳ（ＰＨＩ製 Ｑｕａｎｔｅｒａ ＳＸＭ）を用いて組成を求めた。Ｈの有無はＦＴＩＲ測定を行い、Ｓｉ－Ｈ伸縮ピーク、Ｎ－Ｈ伸縮ピークの強度から推定した。
（２）屈折率
分光エリプソメトリー（ＶＡＳＥ、ウーラム社製）を用いて、波長５５０ｎｍの光に対する温度２３℃における屈折率を測定した。
（３）膜厚
ミクロトームを用いて切削し、断面を走査型電子顕微鏡（Ｎｏｖａ２００、日本ＦＥＩ社製）で観察し、任意の５点で測定した厚みの平均値を算出した。

作製した各偏光板について、以下に示す方法で、剥離性、耐光性および内部反射率を素測定した。結果を下記表５に示す。

＜剥離性＞
各偏光板を作製する際に、透明支持体１を剥離した際の剥離界面を、以下に示す基準で評価した。
Ａ：透明支持体１と配向層との界面で剥離
Ｂ：配向層と偏光子層との界面で剥離

＜耐光性＞
作製した各偏光板について、カーボンアーク１３０時間前後での偏光度の変化で下記２段階の評価を行った。
Ａ：±３％未満
Ｂ：±３％以上

＜内部反射率＞
内部反射率の測定は、各偏光板を作製する際に、透明支持体１を剥離せずに、透明支持体１の裏面（空気界面側）をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで光吸収処理（３８０～７８０ｎｍにおける透過率が１０％未満）し、裏面反射をなくした状態のものを測定サンプルとして用いた。
次いで、測定サンプルの酸素遮断層上に、綜研化学製ＰＳＡ（ＳＫ２０５７）を用いてＴＡＣ（フジタック４０μｍ、富士フイルム社製）を貼り合わせた。
その後、日本分光製積分反射計を用いて反射率を測定し、下記の通り３段階の判定を行った。
Ａ：４．３％未満
Ｂ：４．３％以上５．１％未満
Ｃ：５．１％以上

上記表５に示す結果から、酸素遮断層の屈折率が１．７０以上１．９５未満であり、酸素遮断層の厚みが４０ｎｍ以下であると、配向層との界面で仮支持体を剥離させることが容易となり、内部反射率を低くすることができることが分かった（実施例１～４）。

１０ 酸素遮断層
１２ 仮支持体上に配向層および偏光子層をこの順に設けた積層フィルム
５０ 成膜装置
６０ 真空チャンバ
６２ 巻出し室
６４ 成膜室
６８ ドラム
７０ａ，７０ｂ 隔壁
７２ 回転軸
７４ 巻取り軸
７６ａ，７６ｂ ガイドローラ
７８，９２ 真空排気手段
８０ シャワー電極
８２ 排気手段
８６ 原料ガス供給部
９０ 高周波電源
９４ バイアス電源

Claims (1)

1. 粘着層付き偏光板を作製する製造方法であって、
   前記粘着層付き偏光板が、
   粘着層、配向層、偏光子層および酸素遮断層をこの順に有し、
   前記粘着層と前記配向層とが互いに隣接しており、
   前記偏光子層が、二色性物質を含有し、
   前記酸素遮断層の屈折率が、１．７０以上１．９５未満であり、
   前記酸素遮断層の厚みが、４０ｎｍ以下である、粘着層付き偏光板であり、
   仮支持体上に、配向層を形成する配向層形成工程と、
   前記配向層上に、偏光子層を形成する偏光子層形成工程と、
   前記偏光子層上に、酸素遮断層を形成する酸素遮断層形成工程と、
   前記酸素遮断層形成工程の後に、前記仮支持体を剥離する剥離工程と、
   前記剥離工程の後に、前記配向層の前記偏光子層と反対側に粘着層を形成する粘着層形成工程とを有する、粘着層付き偏光板の製造方法。

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