JP2011181644A - 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ロール状洗浄部材24の外周面を回転中の基板Wの被洗浄面に所定の接触幅で接触させて該被洗浄面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法であって、洗浄部材24によるスクラブ洗浄中の全過程の少なくとも一部において、洗浄部材24の軸線O5が基板Wの回転中心線O4から接触幅の0.14〜0.5倍離れたオフセット洗浄位置に該洗浄部材24を配置してスクラブ洗浄を行う。
【選択図】図10
Description
これにより、洗浄部材の移動速度に依存して変化する洗浄強度を基板の全被洗浄面に亘ってより均一にすることができる。
これにより、基板の被洗浄面を該被洗浄面の全面に亘ってより均一に洗浄することができる。
これによって、基板の中心部に洗浄強度が集中することを、洗浄部材自体によって緩和することができる。
これにより、洗浄部材の停止位置をストッパによって機械的に規制することで再現性を良くし、しかもストッパの位置を容易かつ迅速に調整することができる。
先ず、第1の洗浄処理では、図15に示す、上部ロールブラシ24の軸心O5と基板Wの回転中心線O4とのオフセット量h2が0mmの第1洗浄位置(中央洗浄位置)、オフセット量h2が、例えば10mmの第1オフセット洗浄位置、及びオフセット量h2が、例えば20mmの第2オフセット洗浄位置の3つの洗浄位置に上部ロールブラシ24を位置させて基板Wの表面を洗浄する。つまり、上部ロールブラシ24を第1洗浄位置(中央洗浄位置)に位置させて所定時間基板Wの表面を洗浄した後、上部ロールブラシ24を第1オフセット洗浄位置に位置させて所定時間基板Wの表面を洗浄し、しかる後、上部ロールブラシ24を第2オフセット洗浄位置に位置させて所定時間基板Wの表面を洗浄する。そして、上部ロールブラシ24を第1オフセット洗浄位置に位置させて所定時間基板Wの表面を洗浄し、しかる後、上部ロールブラシ24を第1洗浄位置(中央洗浄位置)に位置させて所定時間基板Wの表面を洗浄する。以降、この洗浄処理を繰り返す。
U1=τ×U0/t
になる。
18a ノジュール(突起)
20a,20b,20c 基板洗浄装置
22 回転ローラ
24 上部ロールブラシ(ロール状洗浄部材)
26 上部洗浄液供給ノズル
30 駆動モータ
32 走行用シリンダ(移動機構)
36 走行体
38 昇降用シリンダ
40 ストッパ
42 ボルト(ストッパ位置調整部)
50 下部ロールブラシ(ロール状洗浄部材)
52 下部洗浄液供給ノズル
58 駆動モータ
62 ベルト
64 昇降用シリンダ
70 走行用モータ
72 直動機構
74 制御部
76 往復移動機構
80,82 走行用シリンダ
84 往復移動機構
88a,88b,92a,92b ストッパ
94 枢軸
Claims (15)
- ロール状洗浄部材の外周面を回転中の基板の被洗浄面に所定の接触幅で接触させて該被洗浄面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法であって、
前記洗浄部材によるスクラブ洗浄中の全過程の少なくとも一部において、前記洗浄部材の軸線が基板の回転中心線から前記接触幅の0.14〜0.5倍離れたオフセット洗浄位置に該洗浄部材を配置してスクラブ洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。 - ロール状洗浄部材の外周面を回転中の基板の被洗浄面に所定の接触幅で接触させて該被洗浄面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法であって、
前記洗浄部材によるスクラブ洗浄中に、前記洗浄部材の軸線と基板の回転中心線とが互いに交わる位置の近傍で、前記洗浄部材を基板の被洗浄面と平行に前記接触幅の16倍以内の移動幅の範囲内で往復移動させることを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記洗浄部材の移動速度を、前記洗浄部材の軸線と基板の回転中心線とが互いに交わる位置を該洗浄部材が最も速い速度で通過するように制御することを特徴とする請求項2記載の基板洗浄方法。
- 前記洗浄部材の移動速度を、前記洗浄部材の軸線と基板の回転中心線とが互いに交わる位置から該洗浄部材が離れる距離に反比例し、最大移動速度と最小移動速度の比が3〜11となるように制御することを特徴とする請求項2または3記載の基板洗浄方法。
- ロール状洗浄部材の外周面を回転中の基板の被洗浄面に接触させて該被洗浄面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法であって、
前記洗浄部材を複数の洗浄位置にそれぞれ所定時間停滞させてスクラブ洗浄を行い、
前記複数の洗浄位置の内の少なくとも1つの洗浄位置は、前記洗浄部材の軸線が基板の回転中心線から離れた位置に前記洗浄部材が位置するオフセット洗浄位置であることを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記オフセット洗浄位置を複数有し、前記洗浄部材が前記各オフセット洗浄位置に停滞する滞在時間が各オフセット洗浄位置と基板の回転中心線との距離に比例することを特徴とする請求項5記載の基板洗浄方法。
- 前記洗浄部材の外周面には、基板の被洗浄面に接触する複数のノジュールが、前記洗浄部材の中心部から外方に向かうに従って、分布が密となるように配置されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- ロール状洗浄部材の外周面を回転中の基板の被洗浄面に所定の接触幅で接触させてスクラブ洗浄する洗浄装置であって、
前記洗浄部材の軸線が基板の回転中心線から前記接触幅の0.14〜0.5倍離れたオフセット洗浄位置に該洗浄部材を移動させストッパを介して停止させる移動機構と、
前記ストッパの位置を調整するストッパ位置調整部を有することを特徴とする基板洗浄装置。 - ロール状洗浄部材の外周面を回転中の基板の被洗浄面に所定の接触幅で接触させてスクラブ洗浄する洗浄装置であって、
前記洗浄部材の軸線と基板の回転中心線とが互いに交わる位置の近傍で、前記洗浄部材を基板の被洗浄面と平行に前記接触幅の16倍以内の移動幅の範囲内で往復移動させる往復移動機構を有することを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記往復移動機構は、前記洗浄部材の移動速度を制御する制御部を有することを特徴とする請求項9記載の基板洗浄装置。
- 前記往復移動機構は、枢軸を介して一端を回転自在に支承した前記洗浄部材を、該枢軸を中心に揺動させるように構成されていることを特徴とする請求項9または10記載の基板洗浄装置。
- ロール状洗浄部材の外周面を回転中の基板の被洗浄面に接触させて該被洗浄面をスクラブ洗浄する基板洗浄装置であって、
前記洗浄部材を、前記洗浄部材の軸線が基板の回転中心線と互いに交わる位置に該洗浄部材が位置する洗浄位置と、前記洗浄部材の軸線が基板の回転中心線から離れた位置に該洗浄部材が位置する、少なくとも1つのオフセット洗浄位置との間を往復移動させて各洗浄位置に所定時間停滞させる往復移動機構を有することを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記往復移動機構は、前記洗浄部材を前記各洗浄位置に位置決めして停止させる、位置調整可能なストッパを有することを特徴とする請求項12記載の基板洗浄装置。
- 前記オフセット洗浄位置は複数設けられ、各オフセット洗浄位置に前記洗浄部材が停滞する滞在時間を、各オフセット洗浄位置と基板の回転中心線との距離に比例するように制御することを特徴とする請求項12または13記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄部材の外周面には、基板の被洗浄面に接触する複数のノジュールが、前記洗浄部材の中心部から外方に向かうに従って、分布が密となるように配置されていることを特徴とする請求項8乃至13のいずれかに記載の基板洗浄装置。
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