JP2008198667A - 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体製造装置(1、1’)は、第1支持装置(18)と、前記第1支持装置に固定されたウェハ(30)を洗浄する第1ブラシ(24)と、第2支持装置(4)と、前記第2支持装置に支持されたウェハ(30)を洗浄する第2ブラシ(8、11、8’、11’)とを具備する。前記第1支持装置は、ウェハ(30)が固定された状態で回転する。前記第2支持装置は、ウェハ(30)の周縁部に接触してウェハを回転させるローラー(7)を備える。前記第1支持装置及び前記第2支持装置は、互いに接近及び離隔する。
【選択図】図2
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体製造装置1の側面図を示している。半導体製造装置1は、チャンバ2と、シャッタ3と、両面洗浄用ウェハ支持装置4と、上ブラシ8と、下ブラシ11と、ノズル14〜17と、片面洗浄用ウェハ支持装置18と、ブラシ24と、カバー27とを備えている。図1及び後述する図2乃至6には、互いに垂直なX、Y、Z方向が示されている。Z方向は、例えば、鉛直方向である。X、Y方向は、例えば、互いに垂直な水平方向である。シャッタ3は、チャンバ2を上側2a及び下側2bに仕切るように設けられ、開閉可能である。上側2aはZ方向上側に配置され、下側2bは、Z方向下側に配置されている。半導体製造装置1は、上側2aにおいて前工程から受け取ったウェハ30の両面を洗浄した後、下側2bにおいてウェハ30の片面を洗浄し、ウェハ30を乾燥して次工程に受け渡す。
本発明の第2の実施形態に係る半導体製造装置1’について以下に説明する。半導体製造装置1’は、半導体製造装置1と同様に、チャンバ2と、シャッタ3と、両面洗浄用ウェハ支持装置4と、ノズル14〜17と、片面洗浄用ウェハ支持装置18と、ブラシ24と、カバー27とを備えている。これらの構成及び動作は、半導体製造装置1の場合と同様である。
2…チャンバ
2a…上側
2b…下側
3…シャッタ
4…両面洗浄用ウェハ支持装置
5、6…ローラー台座
7…ローラー
8、8’…上ブラシ
9、9’…ブラシ本体
10、10’…アーム
11、11’…下ブラシ
12、12’…ブラシ本体
13、13’…アーム
14、15、16、17…ノズル
18…片面洗浄用ウェハ支持装置
19、20…回転体
21…固定支持体
22…可動支持体
22a…当接部
23…リンク
24…ブラシ
25…ブラシ本体
26…アーム
27…カバー
30…ウェハ
30a…表面
30b…裏面
40〜46…矢印
Claims (12)
- 第1支持装置と、
前記第1支持装置に固定されたウェハを洗浄する第1ブラシと、
第2支持装置と、
前記第2支持装置に支持されたウェハを洗浄する第2ブラシと
を具備し、
前記第1支持装置は、ウェハが固定された状態で回転し、
前記第2支持装置は、ウェハの周縁部に接触してウェハを回転させるローラーを備え、
前記第1支持装置及び前記第2支持装置は、互いに接近及び離隔する
半導体製造装置。 - 前記第1支持装置は、第1軸まわりに回転し、
前記第1支持装置及び前記第2支持装置は、前記第1軸の方向に沿って接近及び離隔する
請求項1に記載の半導体製造装置。 - 前記第2支持装置は、前記ローラーを含む第1ローラー群が取り付けられた第1ローラー台座と、第2ローラー群が取り付けられた第2ローラー台座とを備え、
前記第1ローラー群及び前記第2ローラー群に含まれる各ローラーは、前記第1軸に平行なローラー回転軸まわりに回転し、
前記第1ローラー台座及び前記第2ローラー台座は、前記第1軸に垂直な方向に沿って接近及び離隔する
請求項2に記載の半導体製造装置。 - 前記第1支持装置は、前記第1軸まわりに回転する第1回転体と、前記第1回転体に対して前記第1軸まわりに回転可能なように前記第1回転体に支持された第2回転体と、複数の可動支持体と、前記複数の可動支持体と前記第2回転体とを接続するリンクとを備え、
前記複数の可動支持体の各々は、前記第1回転体に対して前記第1軸に平行な可動支持体回転軸まわりに回転可能なように前記第1回転体に支持され、前記可動支持体回転軸からずれた位置に設けられウェハの周縁部に当接する当接部を備え、
前記当接部は、前記第1軸を中心軸とする円周上に配置され、
前記リンクは、前記第2回転体の前記第1回転体に対する正逆回転に対応して前記円周が縮径及び拡径するように前記複数の可動支持体を動かし、
前記第1支持装置は、前記第1軸に沿って移動する
請求項2又は3に記載の半導体製造装置。 - 前記第2ブラシは、前記第2支持装置に支持されたウェハの前記第1支持装置を向く面を洗浄可能なブラシ本体と、前記ブラシ本体を支持するアームとを備え、
前記アームは、前記第1軸に垂直な揺動軸まわりに揺動し、
前記第1軸の方向は鉛直方向である
請求項2乃至4のいずれかに記載の半導体製造装置。 - チャンバーと、
前記チャンバーを第1の側と第2の側とに仕切り、開閉可能なシャッターと
を具備し、
前記第1ブラシがウェハを洗浄するときは、前記第1支持装置及び前記第1ブラシが前記第1の側に位置し、
前記第2ブラシがウェハを洗浄するときは、前記第2支持装置及び前記第2ブラシが前記第2の側に位置する
請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体製造装置。 - 半導体製造装置を用いる半導体装置の製造方法であって、
前記半導体製造装置は、
ウェハが固定された状態で回転する第1支持装置と、
前記ウェハの周縁部に接触して前記ウェハを回転させるローラーを備えた第2支持装置と
を具備し、
前記半導体装置の製造方法は、
前記第2支持装置に支持された前記ウェハを洗浄する工程と、
前記第1支持装置と前記第2支持装置とを接近させる工程と、
前記第2支持装置から前記第1支持装置に前記ウェハを受け渡す工程と
を具備する
半導体装置の製造方法。 - 前記第1支持装置は、第1軸まわりに回転し、
前記半導体装置の製造方法は、
前記第1支持装置と前記第2支持装置とを接近させる前記工程において、前記第1支持装置と前記第2支持装置とを前記第1軸の方向に沿って接近させる
請求項7に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2支持装置は、前記ローラーを含む第1ローラー群が取り付けられた第1ローラー台座と、第2ローラー群が取り付けられた第2ローラー台座とを備え、
前記第1ローラー群及び前記第2ローラー群に含まれる各ローラーは、前記第1軸に平行なローラー回転軸まわりに回転し、
前記第2支持装置から前記第1支持装置に前記ウェハを受け渡す前記工程において、前記第1ローラー台座及び前記第2ローラー台座を前記第1軸に垂直な方向に沿って離隔して前記ウェハを解放する
請求項8に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1支持装置は、前記第1軸まわりに回転する第1回転体と、前記第1回転体に対して前記第1軸まわりに回転可能なように前記第1回転体に支持された第2回転体と、複数の可動支持体と、前記複数の可動支持体と前記第2回転体とを接続するリンクとを備え、
前記複数の可動支持体の各々は、前記第1回転体に対して前記第1軸に平行な可動支持体回転軸まわりに回転可能なように前記第1回転体に支持され、前記可動支持体回転軸からずれた位置に設けられた当接部を備え、
前記当接部は、前記第1軸を中心軸とする円周上に配置され、
前記リンクは、前記第2回転体の前記第1回転体に対する正逆回転に対応して前記円周が縮径及び拡径するように前記複数の可動支持体を動かし、
前記半導体装置の製造方法は、
前記第2回転体を前記第1回転体に対して回転させることで前記当接部を前記ウェハの周縁部に当接させて前記ウェハを前記第1支持装置に固定する工程を具備し、
前記第1支持装置と前記第2支持装置とを接近させる前記工程において、前記第1支持装置を前記第1軸の方向に沿って移動する
請求項8又は9に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記半導体製造装置は、
前記第2支持装置に支持された前記ウェハの前記第1支持装置を向く面を洗浄可能なブラシ本体と、
前記ブラシ本体を支持するアームとを備え、
前記第1軸の方向は鉛直方向であり、
前記半導体装置の製造方法は、
前記アームを前記第1軸に垂直な揺動軸まわりに揺動して前記ブラシ本体及び前記アームを前記第1支持装置と前記第2支持装置に支持された前記ウェハとの間から退避させる工程を具備する
請求項8乃至10のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。 - 前記半導体製造装置は、
チャンバーと、
前記チャンバーを第1の側と第2の側とに仕切り、開閉可能なシャッターと
を具備し、
前記半導体装置の製造方法は、
前記第1支持装置と前記第2支持装置とを離隔させる工程と、
前記第1支持装置に固定された前記ウェハを洗浄する工程と
を具備し、
前記第2支持装置に支持された前記ウエハを洗浄する前記工程において、前記第2支持装置を前記第2の側に配置し、
前記第1支持装置に固定された前記ウェハを洗浄する前記工程において、前記第1支持装置を前記第1の側に配置する
請求項7乃至11のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
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