JP2000208477A - ディスク状対象物のエッチング処理装置 - Google Patents

ディスク状対象物のエッチング処理装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスク状対象物（特にウェーハ）のエッチ
ング処理装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 ディスク状対象物１６を接触すること無
く受け入れるための手段１２と、手段１２に対して垂直
に位置付けられ、かつディスク状対象物１６の位置をそ
の周縁にて制限する少なくとも２つの案内部材１８と、
を有するディスク状対象物の、特にウェーハのエッチン
グ処理用装置において、少なくとも２つのノズル手段２
０が各案内部材１８と関連し、ノズル手段を介して、ガ
ス状処理媒体が各案内部材１８に隣接するディスク状対
象物１６の下側面１６ｕに直接導かれる構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク状対象物
（特にウェーハ）を接触すること無く受け入れるための
手段と、該手段に対して垂直に配置され、かつディスク
状対象物をその周囲の位置にて制限する少なくとも２つ
の案内部材とを有する、ディスク状対象物のエッチング
処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、上記の装置は、欧州特許第６１
１ ２７４号公開公報から知られている。
【０００３】ここで、ウェーハは、前記手段の対応する
支持部上に接触することなく（エアクッションにて）位
置づけられ、かつ処理の間回転される。ベルヌイの原理
に従って作動するこのようなウェーハ処理のための装置
は、原則として、その価値が認められてきた。接触の無
い装置でのウェーハの「支持」は、該手段に面するウェ
ーハの下側面が処理中に損傷されることを防止してい
る。
【０００４】欧州特許第６１１ ２７４号公開公報によ
れば、ウェーハは、せいぜい偏心担持されて、側方向案
内部材（しばしば、ピンと称される）に接触するくらい
である。
【０００５】特に、エッチング処理においては、エッチ
ング液が周縁領域で下側面（特に前記ピンの領域）に流
れてしまうことが明らかである。結果として、ウェーハ
の下側面も、ピンの領域にてエッチングされた部分（い
わゆるピンマーク）を有している。
【０００６】ウェーハ処理中の若干の時間の間に、個々
のピンがウェーハ端部から徐々に取り外される（退く）
との問題点は、日本国特許第 ９−１０７０２３号公開
公報にて述べられ、かつ解決されている。しかしなが
ら、このような手段は、装置及び制御技術に対して高額
な導入費用が必要となる。さらに、ウェーハを案内する
ために実際必要となるよりも多くのピンが側方向に備え
られなければならないといった欠点があり、そのため、
たとえ一つまたは二つ以上のピンが退いても、ウェーハ
は依然正確な位置に留まっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この点で、本発明の目
的は、公開された日本国特許文献にて記載された問題
点、及び更なる点において上述した問題点を解決するこ
とである。特に、ポイントとなるところは、側方の案内
部材の領域において下側面に見られるエッチングされた
エリアを避ける点にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、エッチング液
あるいは他の処理媒体がウェーハ端部を介して（とりわ
けウェーハのための案内部材の領域にて）ウェーハの下
側面に到達することを特定の（追加の）ガス流れにより
防止するための考察から始まっている。
【０００９】次に、最も一般的な実施形態において、本
発明は、冒頭で記載したタイプの部材を提案している。
ここで、少なくとも一つのノズル手段が各案内部材と関
連しており、このノズルを介して、ガス状処理媒体が各
案内部材に直接隣接するディスク状対象物の下側面に対
して供給されてもよい。
【００１０】換言すれば、各案内部材は分離ノズルと関
連しており、このノズルを介して圧縮されたガスが下方
から関連する案内部材の領域に向けて噴出される。この
ようにして、処理流体が前記領域に到達する前に処理流
体が吹き飛ばされて、ウェーハの下側面でエッチングさ
れず、かつウェーハの下側面の望ましくない処理を防止
できる。
【００１１】関連するガス状処理媒体が関連する案内部
材の周囲（少なくとも内側を）を洗浄するというように
調整されるならば、ノズル手段の有効性が増大する。こ
の実施形態において、ノズル手段の流出端部は、ウェー
ハの下方に延在し、かつウェーハ面に対して１°より大
きくかつ９０°未満の角度で延在することが望ましい。
ここで、１０°と６０°との間の角度が、好都合である
ことが明らかとなっている。
【００１２】傾けられたエアジェットによって、下側に
流れる可能性のある液体が、ウェーハ端部を介してウェ
ーハの下側面に到達する前に、半径方向外側へ確実に吹
き飛ばされる。
【００１３】本発明の実施形態は、各ノズル手段が、案
内部材により囲まれた想像面部内に配置された少なくと
も１つのガス供給チャネルを有していることを提供して
いる。
【００１４】ここで、接触することなくウェーハを案内
するように作用しノズル手段の内側に延在している表面
は、ベルヌイの原理に従って作動する装置における支持
部として構成されている。
【００１５】ノズル手段の形状（特に、関連したガスチ
ャネルの断面形状）は、特に、複数の案内部材（ピン）
の構造配置に依存している。筒状ピンにおいて、ガス供
給チャネルは環状の断面を有するかまたはスリット形状
を有しており、断面積は少なくとも案内部材に隣接した
ウェーハの下側面の領域に噴流が補助的かつ二次元的に
流出するような大きさとされている。複数のガス供給チ
ャネルを個々の部分チャネル内に分配することも可能で
ある。
【００１６】各ノズル手段が、ベルヌイの原理に従って
支持部とディスク状対象物との間でガスクッションが形
成されている領域から外側に離れた位置に配置されても
良い。
【００１７】ノズル手段を介して供給されるガス状処理
媒体量が、ディスク状対象物の下側面に流すガス状処理
媒体の総量の少なくとも１０％でなければならないこと
が、予備試験において判明している。総量には、装置上
のウェーハを接触すること無くかつ少し離れて案内する
ために必要なガス量分も含まれている。
【００１８】本発明による装置は、案内部材の形状及び
数に対して制限していない。よって、例えば、同様に部
分的に円形の２つの案内部材を具備することで、原則的
に充分である。ここで、ウェーハ端部と接触する特定の
ラインあるいは表面が必然的に生じる。もし筒状案内部
材（ピン）が使用されるならば（その場合には、例えば
少なくとも３つの案内部材が設けられなければならな
い）、この特定のラインあるいは表面は減少しよう。
【００１９】何れの場合においても、欧州特許第６１１
２７４号公開公報から知られているように、各案内部
材は、ディスク状対象物に対して少なくとも２つの異な
る位置に再配置されても良い。
【００２０】本発明による装置において、案内部材の領
域における「アンダーエッチング」は、上述したノズル
手段により防止される。ウェーハを案内するためのベル
ヌイ効果を調整するのに、同様な処理媒体を使用できる
ので、このノズル手段により制御技術についての追加の
出費が必要とされない。
【００２１】本発明による教示により、（例えば欧州特
許第６１１ ２７４号公開公報に開示されている如き）
周知のデバイスも本発明に従って改装することも可能で
ある。この場合必要なことは、ピン（案内部材）の領域
に追加のボアを具備することだけである。このボアを介
して、圧縮されたガスがピン及び隣接するウェーハの下
側面に噴出される。この圧力は、接触することなくウェ
ーハを案内するためのガス圧力よりも高くても良い。
【００２２】
【発明の実施の形態】本発明による装置の部分断面を概
略的に示す実施形態とともに、以下、本発明をより詳細
に記載する。
【００２３】ここで、支持部１０は、環状ノズル１４を
有する手段１２の構成要素として見ることができる。こ
の環状ノズル１４を介して、ガスが矢印Ｐ方向に噴出さ
れる。このようにして、支持部１０（手段１２）上に配
置されたウェーハ１６が支持表面１０ｏから離れて案内
されることが確実になされる。実際の「案内」は、座部
１２から突出された側方ピン１８により効果的になる。
各ピンは、偏心して案内され、かつ作動位置において、
それぞれウェーハ１６の対応する端部に点接触あるいは
線接触する。
【００２４】ガス供給チャネル２０は、ノズル１４に隣
接する座部１２に配置されている。このノズル１４は、
支持面１０ｏに対して約４５°の角度αで延在し、かつ
チャネル２０を介して供給されるガスが関連するピン１
８及びウェーハ１６の下側面１６ｕの隣接部分にそれぞ
れ噴出されるように、調節されている。換言すれば、チ
ャネル２０の中心長手軸線とピン１８が、一平面内にあ
る。このようにして、エッチング液がウェーハ１６の表
面部１６ｕに到達すること、及び望ましくないエッチン
グ（いわゆるピンマーク）が生じることを確実に防止す
る。
【００２５】図示した実施形態において、チャネル２０
を介してのガス流れの量は、毎分約２単位体積である。
ここで、ノズル１４を介してのガス流れの量は、毎分約
８単位体積である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の装置の部分断面を概略的に示した図
である。
【符号の説明】 １２ ディスク対象物を受け入れる手段 １６ ディスク対象物 １６ｕ 下側面 １８ 案内部材 ２０ ノズル手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フィリップ・エンゲーサー オーストリア・Ａ−88131・リンダウ・ホ ルデレッゲンシュトラーセ・６

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ディスク状対象物（１６）を接触するこ
    と無く受け入れるための手段（１２）と、該手段（１
    ２）に対して垂直に位置付けられ、かつ前記ディスク状
    対象物（１６）の位置をその周縁にて制限する少なくと
    も２つの案内部材（１８）と、を有するディスク状対象
    物の、特にウェーハのエッチング処理用装置において、 少なくとも２つのノズル手段（２０）が前記各案内部材
    （１８）に関連づけられており、前記各ノズル手段を介
    して、ガス状処理媒体が、前記各案内部材（１８）に隣
    接する前記ディスク状対象物（１６）の下側面（１６
    ｕ）に直接導かれることを特徴とするエッチング処理装
    置。
  2. 【請求項２】 前記各ノズル手段（２０）は、前記各案
    内部材（１８）により囲まれる想像面部内に延在するガ
    ス供給チャネル備えることを特徴とする請求項１記載の
    エッチング処理装置。
  3. 【請求項３】 前記各ノズル手段（２０）は、前記ディ
    スク状対象物（１６）の面に対して、１゜より大きくか
    つ９０゜未満の角度に調節されることを特徴とする請求
    項１記載のエッチング処理装置。
  4. 【請求項４】 前記各ノズル手段（２０）は、前記ディ
    スク状対象物（１６）の面に対して、１０゜より大きく
    かつ６０゜未満の角度に調節されることを特徴とする請
    求項３記載のエッチング処理装置。
  5. 【請求項５】 前記各ノズル手段（２０）は、ベルヌイ
    の原理に従って前記手段（１２）と前記ディスク対象物
    （１６）との間にガスクッションが形成されている領域
    から外側に離れた位置に配置されていることを特徴とす
    る請求項１記載のエッチング処理装置。
  6. 【請求項６】 前記各ノズル手段（２０）は、関連する
    ガス状処理媒体が関連する前記案内部材（１８）の周辺
    を洗浄するように調整され、さらに少なくとも前記案内
    部材（１８）の内側を洗浄するように調節されているこ
    とを特徴とする請求項１記載のエッチング処理装置。
  7. 【請求項７】 前記ノズル手段（２０）を介して供給さ
    れるガス状処理媒体が、前記ディスク状対象物（１６）
    の前記下側面に対して流すガス状処理媒体の総量の少な
    くとも１０％であることを特徴とする請求項１記載のエ
    ッチング処理装置。
  8. 【請求項８】 前記各案内部材（１８）は、前記ディス
    ク状対象物（１６）に対して、少なくとも２つの異なる
    位置に位置づけられても良いことを特徴とする請求項１
    記載のエッチング処理装置。
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