JP2015537385A - 基板支持装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (16)
- 第1ガス流路に接続され、基板にガスを供給すると共にベルヌーイ効果により該基板を吸引する複数の第1噴出口と、第2ガス流路に接続され、上記基板にガスを供給すると共に上記基板を上昇させる複数の第2噴出口と、を形成し、上記基板を支持する回転自在チャックと、
上記第1ガス流路に取り付けられ、上記第1噴出口に供給するガスの流量を制御する第1マスフローコントローラと、
上記第2ガス流路に取り付けられ、上記第2噴出口に供給するガスの流量を制御する第2マスフローコントローラと、
上記回転自在チャックの上面に配置され、上記基板が所定の工程にあるときに、上記基板の水平方向の動きを防止する複数の位置決めピンと、
上記回転自在チャックの上面に配置され、上記基板を保持する保持部を形成するためにそれぞれ出っ張った複数のガイド柱と、
上記回転自在チャックを回転させるモータと、を備える
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
上記第1噴出口は、上記回転自在チャックに円状かつ上記回転自在チャックの中心から離れて形成され、
上記第2噴出口は、上記回転自在チャックに円状かつ上記回転自在チャックの中心近くに形成されている
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
各第1噴出口は、傾斜し、且つ上記回転自在チャックの底面に対して角度を成している
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
各第2噴出口は、垂直であり、且つ上記回転自在チャックと直交している
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
上記第1ガス流路は第1ガスパイプと第1ガスチューブとを含み、該第1ガスパイプは上記第1噴出口に接続され、該第1ガスチューブは上記第1ガスパイプとガス溜とに接続されており、
上記第2ガス流路は第2ガスパイプと第2ガスチューブとを含み、該第2ガスパイプは上記第2噴出口に接続され、該第2ガスチューブは上記第2ガスパイプとガス溜とに接続されている
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項5に記載の基板支持装置において、
上記回転自在チャックの底面は中空ハウジングに接続され、該中空ハウジングに接続するために回転軸が設けられ、該回転軸の上端部は上記中空ハウジングの底部に固定されかつ該回転軸の下端部は上記モータに固定され、
上記第1ガスパイプ及び上記第2ガスパイプは、どちらも上記中空ハウジングに収容され、
上記第1ガスパイプ及び上記第2ガスパイプは、それぞれ上記中空ハウジングを貫通して上記回転軸内に収容されている
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項5に記載の基板支持装置において、
上記第1噴出口を通って上記基板に供給されるガスを浄化するために、上記第1ガスパイプ内に配置された第1フィルタと、
上記第2噴出口を通って上記基板に供給されるガスを浄化するために、上記第2ガスパイプ内に配置された第2フィルタと、をさらに含む
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項5に記載の基板支持装置において、
上記第1ガスパイプと上記第1ガスチューブとの接続部は、ガス漏れ防止用の磁性流体により封止され、
上記第2ガスパイプと上記第2ガスチューブとの接続部は、ガス漏れ防止用の他の磁性流体により封止されている
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項5に記載の基板支持装置において、
上記第1マスフローコントローラは、上記第1ガスチューブに取り付けられ、
上記第2マスフローコントローラは、上記第2ガスチューブに取り付けられている
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
各位置決めピンは、位置決め溝を形成し、
上記基板の周縁部は、上記基板の水平方向の動きを制限するように上記位置決め溝と係合する
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
各位置決めピンは、上記基板を位置決めする際に内側方向に動き、または上記基板を解放する際に外側方向に動く、独立したシリンダによって駆動する
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
全ての上記位置決めピンは交互に配置される2つのグループに分割され、該位置決めピンの2つのグループは交互に上記基板を位置決めする
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
各ガイド柱の側面は、上記基板を保持部に正確に置くように案内するガイド面として機能する
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項1に記載の基板支持装置において、
上記基板を搬送するエンドエフェクタをさらに含む
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項14に記載の基板支持装置において、
上記エンドエフェクタはベース部を有し、該ベース部の底面は傾斜部を形成するように下方に突出し、該傾斜部の一部は停止部を形成するようにさらに下方に突出しており、上記エンドエフェクタ内に上記基板を確実に配置するために、上記基板を上記停止部に寄りかからせるように押す又は上記基板を解放するために引っ込む押圧部が設けられている
ことを特徴とする基板支持装置。 - 請求項15に記載の基板支持装置において、
上記傾斜部の底面には、上記基板が上記傾斜部に接触しているか否かを探知する接触センサが配置されている
ことを特徴とする基板支持装置。
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