JP2020068276A - 半導体製造装置および半導体製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態を説明する前に、前提技術に係る半導体製造装置について説明する。図16は、前提技術に係る半導体製造装置のステージ構造を示す概略図である。図17は、前提技術に係る半導体製造装置のスクラバーノズル2がウエハ端部1a以外にある場合を示す概略図である。図18は、前提技術に係る半導体製造装置のスクラバーノズル2がウエハ端部1a近傍にある場合を示す概略図である。説明を簡単にするために、ウエハ1とチャックピン51bとの関係を示す部分に限定して説明する。
本発明の実施の形態1について、図面を用いて以下に説明する。最初に図1〜図3を用いて、実施の形態1に係る半導体製造装置の特徴を簡単に説明する。図1(a)は、実施の形態1に係る半導体製造装置のスクラブ流体3を示す概略図であり、図1(b)は、スクラブ流体3の圧力分布を示す概略図である。図2は、ウエハ保持圧力6とウエハ保持引力7を示す概略図である。図3は、スクラブ範囲内外でのウエハ保持圧力6a,6b,6cとウエハ保持引力7a,7bを示す概略図である。
以上のように、実施の形態1に係る半導体製造装置では、保持流体ノズル41a,42aから吐出された保持流体5をウエハ1の処理面の対面とトッププレート41b,42bの平坦面との間の領域に通すことで、領域に保持力を発生させ、保持力により、スクラバーノズル2から吐出されるスクラブ流体3によりウエハ1の処理面に掛かる圧力を対面で保持させる。したがって、薄く加工されたウエハ1であっても、ウエハ全面に渡って十分な異物除去性が得られる。
次に、実施の形態2に係る半導体製造装置について説明する。図10は、実施の形態2に係る半導体製造装置の処理チャンバの一部を示す概略図である。なお、実施の形態2において、実施の形態1で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。なお、図を見やすくするために、異物除去技術に直接関係しない部分は図から省略しており、説明を簡単にするために、異物除去技術に関係する部分に限定して説明する。
以上のように、実施の形態2に係る半導体製造装置は、保持ステージ43をスキャンさせる保持ステージスキャン機構15をさらに備え、保持ステージスキャン機構15は、スクラバーノズル2のスキャンに合わせて保持ステージ43をスキャンさせる際に、保持流体ノズル43aの保持流体吐出口43cがウエハ1の外形の範囲を超えないようにスキャンさせる。したがって、実施の形態1の場合と比べて構造が複雑になるものの、トッププレート43bを小さくできるため、トッププレート43bの中心とその周辺での保持力の差を小さくすることができる。
Claims (12)
- 半導体ウエハを端部で挟持するチャックステージと、
前記半導体ウエハの処理面にスクラブ流体を吐出するスクラバーノズルと、
前記スクラバーノズルを前記半導体ウエハの前記処理面上でスキャンさせるスクラバーノズルスキャン機構と、
前記チャックステージを回転させるステージ回転機構と、
前記半導体ウエハの前記処理面とは反対側の面側に保持流体を吐出する保持流体ノズルと、前記保持流体ノズルを周縁部よりも中心側に配置し、一方主面を前記半導体ウエハの前記反対側の面に向けたトッププレートとを有する保持ステージと、
を備え、
前記保持流体ノズルから吐出された前記保持流体を前記半導体ウエハの前記反対側の面と前記トッププレートの前記一方主面との間の領域に通すことで、前記領域に保持力を発生させ、
前記保持力により、前記スクラバーノズルから吐出される前記スクラブ流体により前記半導体ウエハの前記処理面に掛かる圧力を前記反対側の面で保持させる、半導体製造装置。 - 前記保持力は、前記保持流体の圧力、および前記保持流体の流速によって発生する引力で構成されている、請求項1に記載の半導体製造装置。
- 前記保持ステージは前記チャックステージに組み込まれ、
前記保持流体ノズルは回転せず、前記トッププレートは前記チャックステージと共に回転する、請求項1または請求項2に記載の半導体製造装置。 - 前記トッププレートの外形は円状であり、
前記半導体ウエハの外径から前記トッププレートの外径を引いた値は4mm以下である、請求項3に記載の半導体製造装置。 - 前記保持流体ノズルと前記トッププレートは重なるように配置され、前記トッププレートのうち前記保持流体ノズルと重なる部分が開口された、請求項3に記載の半導体製造装置。
- 前記保持流体ノズルと前記トッププレートは隙間を空けて重なるように配置され、前記隙間を介して前記トッププレートの他方主面側に前記保持流体を通し、前記トッププレートに設けられた複数の穴を介して前記トッププレートの前記他方主面側から前記一方主面側に保持流体を通す、請求項3に記載の半導体製造装置。
- 前記保持ステージをスキャンさせる保持ステージスキャン機構をさらに備え、
前記保持ステージスキャン機構は、前記スクラバーノズルのスキャンに合わせて前記保持ステージをスキャンさせる際に、前記保持流体ノズルの保持流体吐出口が前記半導体ウエハの外形の範囲を超えないようにスキャンさせる、請求項1または請求項2に記載の半導体製造装置。 - 前記チャックステージの外形は円環状であり、
前記トッププレートの外形は円状であり、
前記チャックステージは前記保持ステージの外周側に配置された、請求項7に記載の半導体製造装置。 - 前記スクラバーノズルは、液体と気体を混合吐出する2流体ノズルであり、
前記保持流体ノズルは、気体のみの吐出、または気体と液体の混合吐出が可能なノズルであり、前記半導体ウエハの前記処理面と前記反対側の面の両面にスクラブ処理が施される、請求項1または請求項2に記載の半導体製造装置。 - 前記スクラバーノズルは、液体と気体を混合吐出する2流体ノズルであり、
前記保持流体ノズルは、気体のみの吐出、または気体と液体の混合吐出が可能ノズルであり、
前記保持流体ノズルから吐出される気体の流量は、前記スクラバーノズルから吐出される気体の流量の半分以上である、請求項1または請求項2に記載の半導体製造装置。 - 請求項3に記載の半導体製造装置を用いた半導体製造方法であって、
(a)前記保持ステージ上に前記保持流体を供給する工程と、
(b)前記保持ステージ上に前記半導体ウエハを載置する工程と、
(c)前記半導体ウエハを回転させながら前記スクラバーノズルをスキャンしてスクラブ処理する工程と、
(d)前記保持ステージから前記半導体ウエハを取り出す工程と、
(e)前記保持流体の供給を停止する工程と、
を備える、半導体製造方法。 - 請求項7に記載の半導体製造装置を用いた半導体製造方法であって、
(f)前記保持ステージ上に前記保持流体を供給する工程、
(g)前記保持ステージ上に前記半導体ウエハを載置する工程と、
(h)前記半導体ウエハを回転させながら前記スクラバーノズルと前記保持ステージをスキャンしてスクラブ処理する工程と、
(i)前記保持ステージから前記半導体ウエハを取り出す工程と、
(j)前記保持流体の供給を停止する工程と、
を備える、半導体製造方法。
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004140054A (ja) * | 2002-10-16 | 2004-05-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理システム |
JP2015537385A (ja) * | 2012-11-27 | 2015-12-24 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 基板支持装置 |
JP2018006368A (ja) * | 2016-06-27 | 2018-01-11 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
JP2018026557A (ja) * | 2016-08-05 | 2018-02-15 | ラム・リサーチ・アーゲーLam Research Ag | ウエハ形状の物品を処理するための装置 |
Family Cites Families (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5169196A (en) * | 1991-06-17 | 1992-12-08 | Safabakhsh Ali R | Non-contact pick-up head |
EP0611273B1 (de) * | 1993-02-08 | 1998-09-16 | SEZ Semiconductor-Equipment Zubehör für die Halbleiterfertigung AG | Träger für scheibenförmige Gegenstände |
US5979475A (en) * | 1994-04-28 | 1999-11-09 | Hitachi, Ltd. | Specimen holding method and fluid treatment method of specimen surface and systems therefor |
US20040065540A1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-04-08 | Novellus Systems, Inc. | Liquid treatment using thin liquid layer |
KR100887360B1 (ko) * | 2001-01-23 | 2009-03-06 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
US6669808B2 (en) * | 2001-03-22 | 2003-12-30 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
KR100886870B1 (ko) * | 2001-05-18 | 2009-03-05 | 램 리써치 코포레이션 | 표면장력 감소 프로세스를 구현한 기판 준비장치 및 방법 |
US6770151B1 (en) * | 2001-07-13 | 2004-08-03 | Lam Research Corporation | Drying a substrate using a combination of substrate processing technologies |
JP3958539B2 (ja) * | 2001-08-02 | 2007-08-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
US20030168174A1 (en) * | 2002-03-08 | 2003-09-11 | Foree Michael Todd | Gas cushion susceptor system |
JP2004335671A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Renesas Technology Corp | 枚葉式2流体洗浄装置及び半導体装置の洗浄方法 |
JP4312001B2 (ja) * | 2003-07-28 | 2009-08-12 | リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社 | 基板支持装置および基板取り外し方法 |
WO2005081283A2 (en) * | 2004-02-13 | 2005-09-01 | Asm America, Inc. | Substrate support system for reduced autodoping and backside deposition |
EP1739730B1 (en) * | 2004-04-23 | 2012-10-17 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning method and substrate cleaning equipment |
JP2006013107A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2006186117A (ja) | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板保持装置および基板回転式処理装置 |
US7767026B2 (en) * | 2005-03-29 | 2010-08-03 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
US7914626B2 (en) * | 2005-11-24 | 2011-03-29 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing method and liquid processing apparatus |
JP4698407B2 (ja) * | 2005-12-20 | 2011-06-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4730787B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2011-07-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP5013400B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2012-08-29 | 国立大学法人東北大学 | 塗布膜コーティング装置 |
US7607647B2 (en) * | 2007-03-20 | 2009-10-27 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Stabilizing a substrate using a vacuum preload air bearing chuck |
US8057602B2 (en) * | 2007-05-09 | 2011-11-15 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for supporting, positioning and rotating a substrate in a processing chamber |
KR101680751B1 (ko) * | 2009-02-11 | 2016-12-12 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 비-접촉 기판 프로세싱 |
KR101142959B1 (ko) * | 2009-06-29 | 2012-05-08 | 김영태 | 평판 정밀 플로팅 시스템 |
DE112010002824T5 (de) * | 2009-07-03 | 2012-08-02 | Tohoku University | Nassverarbeitungsvorrichtung und Nassverarbeitungsverfahren |
US20110130009A1 (en) | 2009-11-30 | 2011-06-02 | Lam Research Ag | Method and apparatus for surface treatment using a mixture of acid and oxidizing gas |
US8596623B2 (en) * | 2009-12-18 | 2013-12-03 | Lam Research Ag | Device and process for liquid treatment of a wafer shaped article |
US9646859B2 (en) * | 2010-04-30 | 2017-05-09 | Applied Materials, Inc. | Disk-brush cleaner module with fluid jet |
JP5926501B2 (ja) * | 2011-06-15 | 2016-05-25 | 東京応化工業株式会社 | 保持装置および保持方法 |
US8613474B2 (en) * | 2011-07-06 | 2013-12-24 | Tel Nexx, Inc. | Substrate loader and unloader having a Bernoulli support |
US8945341B2 (en) * | 2011-08-22 | 2015-02-03 | Lam Research Ag | Method and device for wet treatment of plate-like articles |
JP6113960B2 (ja) * | 2012-02-21 | 2017-04-12 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5866227B2 (ja) * | 2012-02-23 | 2016-02-17 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄方法 |
CN108336011B (zh) * | 2012-11-30 | 2022-08-02 | 株式会社尼康 | 搬入方法、搬送系统及曝光装置、和器件制造方法 |
JP2014167996A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Ebara Corp | 研磨装置および研磨方法 |
JP6215671B2 (ja) * | 2013-11-26 | 2017-10-18 | 株式会社東京精密 | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 |
US9607844B2 (en) * | 2014-09-29 | 2017-03-28 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
US9500405B2 (en) * | 2014-10-28 | 2016-11-22 | Lam Research Ag | Convective wafer heating by impingement with hot gas |
CN107148665B (zh) * | 2014-10-31 | 2018-04-20 | 株式会社荏原制作所 | 基板清洗装置及基板清洗方法 |
JP6352827B2 (ja) | 2015-02-12 | 2018-07-04 | 株式会社テックインテック | 基板処理装置 |
US9499906B2 (en) * | 2015-02-13 | 2016-11-22 | Eastman Kodak Company | Coating substrate using bernoulli atomic-layer deposition |
US10283384B2 (en) * | 2015-04-27 | 2019-05-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for etching etch layer and wafer etching apparatus |
JP6660202B2 (ja) * | 2016-02-19 | 2020-03-11 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP6934732B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2021-09-15 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
WO2018006283A1 (en) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Substrate supporting apparatus |
JP6784546B2 (ja) * | 2016-09-08 | 2020-11-11 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP6689719B2 (ja) * | 2016-09-23 | 2020-04-28 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
US20180096879A1 (en) * | 2016-10-05 | 2018-04-05 | Lam Research Ag | Spin chuck including edge ring |
TWI645913B (zh) * | 2016-11-10 | 2019-01-01 | 辛耘企業股份有限公司 | 液體製程裝置 |
TWI821887B (zh) * | 2016-11-29 | 2023-11-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理裝置、基板處理方法及記錄媒體 |
JP6420415B2 (ja) | 2017-03-16 | 2018-11-07 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
WO2018171907A1 (en) * | 2017-03-21 | 2018-09-27 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for holding a substrate, method for loading a substrate into a vacuum processing module, and system for vacuum processing of a substrate |
US20200161146A1 (en) * | 2017-04-25 | 2020-05-21 | Veeco Instruments Inc. | Semiconductor wafer processing chamber |
US11107722B2 (en) * | 2017-05-11 | 2021-08-31 | Rorze Corporation | Thin-plate substrate holding finger and transfer robot provided with said finger |
JP6887912B2 (ja) * | 2017-08-07 | 2021-06-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
CN109461691A (zh) * | 2017-09-06 | 2019-03-12 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 晶圆支撑装置 |
JP7178177B2 (ja) * | 2018-03-22 | 2022-11-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP7144218B2 (ja) * | 2018-07-05 | 2022-09-29 | 株式会社荏原製作所 | 治具、及び治具を用いた設置方法 |
JP7370201B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2023-10-27 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
-
2018
- 2018-10-24 JP JP2018199719A patent/JP6979935B2/ja active Active
-
2019
- 2019-09-26 US US16/583,400 patent/US11152229B2/en active Active
- 2019-10-18 DE DE102019216066.2A patent/DE102019216066B4/de active Active
- 2019-10-18 CN CN201910993980.2A patent/CN111092028B/zh active Active
-
2021
- 2021-07-14 US US17/375,749 patent/US11791174B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004140054A (ja) * | 2002-10-16 | 2004-05-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理システム |
JP2015537385A (ja) * | 2012-11-27 | 2015-12-24 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 基板支持装置 |
JP2018006368A (ja) * | 2016-06-27 | 2018-01-11 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
JP2018026557A (ja) * | 2016-08-05 | 2018-02-15 | ラム・リサーチ・アーゲーLam Research Ag | ウエハ形状の物品を処理するための装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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