JP3959028B2 - 加工ツールにおいて基板上の粒子による汚染を低減するための装置および方法 - Google Patents
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Description
1a 基板前面
1b 基板背面
2 加工ツール、スピンコーター
3 加工チャンバ
4 チャック
5 可動式アームの集合
5a 可動式アームのテーパーシェルフ
5b アーム水平運動用ジョイント
6 アーム運動制御手段
6a アーム垂直運動のための回転ドライブガイド手段
6b アーム回転のためのドライブ付きベアリング
7 リンスノズル
7a チャック洗浄位置のリンスノズル
8 リンスノズル方向調節手段
10 溶媒液
11 溶媒液供給手段
20 スイッチ:真空とN2ガス
21 N2ガス源
22 真空源
23 真空通路
24 真空ポート
Claims (8)
- 加工ツール(2)において基板(1)上の粒子による汚染を低減する装置であって、
該装置は、
加工チャンバ(3)内に配置されたチャック(4)であって、該チェック(4)は、該基板(1)の背面(1b)を受け取り、該加工チャンバ(3)は、該基板(1)を加工する工程を提供するように設計されている、チャック(4)と、
該チャック(4)から該基板(1)を持ち上げる少なくとも3本の可動式アーム(5)の集合と、
ドライブを含む該少なくとも3本の可動式アームの運動を制御する手段(6)と
を備え、
該少なくとも3本の可動式アーム(5)のそれぞれは、テーパーシェルフ(5a)を有することと、
溶媒液(10)を散布する少なくとも1本のリンスノズル(7)と、
該少なくとも1本のリンスノズル(7)に供給するための該溶媒液を提供する手段(12)と、
該チャック(4)は、該基板(1)を固定するために、真空ポート(24)と該真空ポート(24)に連結された真空通路(23)とを含むことと、
該真空ポートに連結された少なくとも2つのガス圧力源であって、
(a)該加工チャンバのガス圧力より低い第1のガス圧力(22)であって、ほぼ真空状態を提供する第1のガス圧力(22)と、
(b)該加工チャンバのガス圧力より高い第2のガス圧力(21)であって、該真空通路に中性ガスを提供する第2のガス圧力(21)と
を含む、少なくとも2つのガス圧力源と、
該少なくとも1本のリンスノズル(7)が該溶媒液(10)を散布するときにおいて、該真空ポート(24)に加えられるガス圧力源を該第1のガス圧力(22)から該第2のガス圧力(21)に切り替える手段(20)とによって特徴付けられる、装置。 - 前記加工ツール(3)は、前記基板(1)の背面(1b)の反対側にある前面(1a)にレジストを散布する手段を有するスピンコーターであり、前記チャック(4)は、軸の周りを回転するように設計されていることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも3本のアーム(5)の集合は、前記軸の周りを回転し得るように備え付けられていることを特徴とする、請求項2に記載の装置。
- 前記基板(1)は、少なくとも300ミリメーターの直径を有する半導体ウェハであり、前記チャック(4)は、少なくとも280ミリメーターの直径を有する接触表面を有することによって特徴付けられる、請求項2または請求項3に記載の装置。
- 前記少なくとも3本のアーム(5)の集合によって持ち上げられる前記ウェハ(1)の前記背面(1b)、前記接触表面、または、前記チャック(4)の前記真空通路(23)のうちのいずれかは、前記少なくとも1本のリンスノズル(7)を介して前記溶媒液(10)によってアクセスされ得るように該少なくとも1本のリンスノズルの位置および方向を調節する手段(8)によって特徴付けられる、請求項4に記載の装置。
- 加工ツール(2)内の基板(1)上の粒子数を低減する方法であって、該基板(1)はチャック(4)の方向に向いた背面(1b)を有しており、
該方法は、
(a)該加工ツール(2)内の該チャック(4)上に該基板(1)を積む工程と、
(b)工程(a)の後に、該チャック(4)上に積まれた該基板(1)を加工する工程と、
(c)工程(b)の後に、少なくとも3本のアーム(5)の集合を用いて該チャック(4)から該基板(1)を持ち上げる工程と、
(d)工程(c)の後に、少なくとも1本のリンスノズル(7)を用いて該基板(1)の背面(1b)上に溶媒液(10)を散布し、同時に、少なくとも一つの真空ポート(24)を粒子による汚染から保護するために、該チャック(4)上に形成された該少なくとも1つの真空ポート(24)からガスを導く工程と
を包含する方法。 - 前記溶媒液(10)を散布している間、前記チャック(4)から前記基板(1)を持ち上げている前記少なくとも3本のアーム(5)の集合が軸の周りを回転することによって特徴付けられる、請求項6に記載の方法。
- 前記基板(1)を持ち上げた後、前記溶媒液(10)を前記チャック(4)上に散布することによって特徴付けられる、請求項7に記載の方法。
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