JP6216193B2 - ユニット制御盤、基板の受け渡しテスト方法、及び基板処理装置 - Google Patents
ユニット制御盤、基板の受け渡しテスト方法、及び基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6216193B2 JP6216193B2 JP2013188073A JP2013188073A JP6216193B2 JP 6216193 B2 JP6216193 B2 JP 6216193B2 JP 2013188073 A JP2013188073 A JP 2013188073A JP 2013188073 A JP2013188073 A JP 2013188073A JP 6216193 B2 JP6216193 B2 JP 6216193B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- unit
- board
- transfer
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
た複数のユニット間で基板の受け渡しを行いながら前記基板に対する処理を行う基板処理装置の、少なくとも1つのユニットに設けられたユニット制御盤であって、前記ユニット制御盤が設けられたユニットが他のユニットと組み立てられていない状態において、該ユニットの外部に設置された基板置き台を用いて、該ユニットにおける基板の受け渡しテストを行うテスト制御部を備える、ことを特徴とする。
図1は本発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す平面図である。図1に示すように、この基板処理装置は、略矩形状のハウジング1を備えており、ハウジング1の内部は隔壁1a,1bによってロード/アンロードユニット2と研磨ユニット3と洗浄ユニット4とに区画されている。これらのロード/アンロードユニット2、研磨ユニット3、および洗浄ユニット4は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気される。また、洗浄ユニット4は、基板処理動作を制御する制御部5を有しており、制御部5にはユニット制御盤(電源盤)が含まれる。
ロード/アンロードユニット2は、多数のウェハ(基板)をストックするウェハカセットが載置される2つ以上(本実施形態では4つ)のフロントロード部20を備えている。これらのフロントロード部20はハウジング1に隣接して配置され、基板処理装置の幅方向(長手方向と垂直な方向)に沿って配列されている。フロントロード部20には、オープンカセット、SMIF(Standard Manufacturing Interface)ポッド、またはFOUP(Front Opening Unified Pod)を搭載することができるようになっている。ここで、SMIF、FOUPは、内部にウェハカセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
ト22は走行機構21上を移動することによってフロントロード部20に搭載されたウェハカセットにアクセスできるようになっている。各搬送ロボット22は上下に2つのハンドを備えており、上側のハンドを処理されたウェハをウェハカセットに戻すときに使用し、下側のハンドを処理前のウェハをウェハカセットから取り出すときに使用して、上下のハンドを使い分けることができるようになっている。さらに、搬送ロボット22の下側のハンドは、その軸心周りに回転することで、ウェハを反転させることができるように構成されている。
研磨ユニット3は、ウェハの研磨(平坦化)が行われる領域であり、第1研磨ユニット3A、第2研磨ユニット3B、第3研磨ユニット3C、第4研磨ユニット3Dを備えている。これらの第1研磨ユニット3A、第2研磨ユニット3B、第3研磨ユニット3C、および第4研磨ユニット3Dは、図1に示すように、基板処理装置の長手方向に沿って配列されている。
れている。ウェハWは、トップリング31Aの下面に真空吸着により保持される。研磨時には、研磨液供給ノズル32Aから研磨パッド10の研磨面に研磨液が供給され、研磨対象であるウェハWがトップリング31Aにより研磨面に押圧されて研磨される。
させた後、そのウェハをリフタ11の載置ステージ150上に載置するようになっている。図3は、反転させられたウェハWを示している。本実施形態では、搬送ロボット22のアームが反転機としても機能するので、従来必要であった反転機を不要とすることができる。したがって、リフタがウェハWを受け取った後のウェハWを反転させる工程を省略でき、処理全体のスループットを向上させることができる。
図5(a)は洗浄ユニット4を示す平面図であり、図5(b)は洗浄ユニット4を示す側面図である。図5(a)および図5(b)に示すように、洗浄ユニット4は、第1洗浄室190と、第1搬送室191と、第2洗浄室192と、第2搬送室193と、乾燥室194とに区画されている。第1洗浄室190内には、縦方向に沿って配列された上側一次洗浄モジュール201Aおよび下側一次洗浄モジュール201Bが配置されている。上側一次洗浄モジュール201Aは下側一次洗浄モジュール201Bの上方に配置されている。同様に、第2洗浄室192内には、縦方向に沿って配列された上側二次洗浄モジュール202Aおよび下側二次洗浄モジュール202Bが配置されている。上側二次洗浄モジュ
ール202Aは下側二次洗浄モジュール202Bの上方に配置されている。一次および二次洗浄モジュール201A,201B,202A,202Bは、洗浄液を用いてウェハを洗浄する洗浄機である。これらの一次および二次洗浄モジュール201A,201B,202A,202Bは垂直方向に沿って配列されているので、フットプリント面積が小さいという利点が得られる。
次に、各ユニットにおけるウェハWの受け渡しテストについて説明する。本実施形態では、洗浄ユニット4及びロード/アンロードユニット2のそれぞれにおいてユニット単体でウェハWの受け渡しテストが行われ、研磨ユニット3においてはウェハWの受け渡しテストは行われない。研磨ユニット3は、上述のように、ロード/アンロードユニット2の搬送ロボットからリフタ11にウェハWを渡されたり、仮置き台180に置いたウェハWを洗浄ユニット4の搬送ロボットによって取られたり、ウェハWの受け渡しに関しては受動的なユニットとなるからである。なお、基板処理装置における本稼働前の立ち上げ(テ
スト)には様々なものがあるが、ここでは、ユニット間のウェハWの受け渡しテストのみについて説明する。
まず、洗浄ユニット4におけるウェハWの受け渡しテストについて説明する。図6は、洗浄ユニット4の制御部5に含まれるユニット制御盤の構成を示す図である。
けるウェハの受け渡しテストの際の入出力インターフェースを模式的に示す図である。
次に、ロード/アンロードユニット2におけるウェハWの受け渡しテストについて説明する。図11は、ロード/アンロードユニット2に含まれるユニット制御盤の構成を示す図である。
nk227,242,243を介してCC−Link(登録商標)によって接続される。EMO270は、基板処理装置を緊急停止させるためのボタンである。
渡しを行う際に用いられる研磨ユニット3のリフタ11(基板受け渡し部)が位置する場所に、ウェハWの受け渡しテスト用として設置される。フレーム2100は、基板置き台2200,2300,2400が適正な位置に設置されるように調整されている。
3 研磨ユニット
4 洗浄ユニット
5 制御部
11 リフタ
22 搬送ロボット
50 ユニット制御盤
59,225 CPU(テスト制御部)
180 仮置き台
205A 上側乾燥モジュール
205B 下側乾燥モジュール
220 ユニット制御盤
2000,4000 テスト用治具
2100,4100 フレーム
2200,2300,2400,4200 基板置き台
W ウェハ
Claims (19)
- 組み立てられた複数のユニット間で基板の受け渡しを行いながら前記基板に対する処理を行う基板処理装置の、少なくとも1つのユニットに設けられたユニット制御盤であって、
前記ユニット制御盤が設けられたユニットが他のユニットと組み立てられていない状態において、該ユニットの外部に設置された基板置き台を用いて、該ユニットにおける基板の受け渡しテストを行うテスト制御部を備え、
前記テスト制御部は、予め設定された前記基板を搬送する複数の搬送ルートの中から選択された搬送ルートに基づき、かつ、前記選択された搬送ルートを細分化した複数のブロックの中から選択されたブロックを始点として前記基板受け渡しテストを開始し、設定された繰り返し回数に基づいて前記選択された搬送ルートでの前記基板の受け渡しテストを繰り返す、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1のユニット制御盤において、
前記テスト制御部は、前記ユニット内に設置された基板を、前記ユニット内に設けられた基板の搬送機構によって前記基板置き台まで搬送して前記基板置き台に載置するか、又は、前記基板置き台に載置された基板を、前記搬送機構によって受け取って前記ユニット内に搬送する、ことによって前記基板の受け渡しテストを行う、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1又は2のユニット制御盤において、
前記基板置き台は、前記ユニットと前記他のユニットとが組み立てられた場合に前記ユニットと前記他のユニットとの間で基板の受け渡しを行う際に用いられる前記他のユニットの基板受け渡し部が位置する場所に、基板の受け渡しテスト用として設置される、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1〜3のいずれか1項のユニット制御盤において、
前記ユニット制御盤は、前記基板の研磨を行い研磨後の基板を仮置き台に載置する研磨ユニットと、前記仮置き台に載置された基板の洗浄及び乾燥を行う洗浄ユニットと、を含む基板処理装置の、前記洗浄ユニットに設けられ、
前記基板置き台は、前記研磨ユニットと前記洗浄ユニットとが組み立てられた場合に前記仮置き台が位置する場所に、前記仮置き台の代わりに前記基板の受け渡しテスト用として設置され、
前記洗浄ユニットに設けられたユニット制御盤のテスト制御部は、前記基板置き台に載置された基板を、前記洗浄ユニット内に設けられた基板の搬送機構によって受け取って前記洗浄ユニット内に搬送することによって前記基板の受け渡しテストを行う、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1〜4のいずれか1項のユニット制御盤において、
前記ユニット制御盤は、前記基板の研磨を行う研磨ユニットと、前記研磨ユニットによって研磨された基板の洗浄及び乾燥を行う洗浄ユニットと、前記研磨ユニット内のリフタに基板をロードするとともに前記洗浄ユニット内の基板の乾燥モジュールに載置された基板をアンロードするロード/アンロードユニットと、を含む基板処理装置の、前記ロード/アンロードユニットに設けられ、
前記基板置き台は、前記研磨ユニットと前記ロード/アンロードユニットとが組み立てられた場合に前記リフタが位置する場所に、前記リフタの代わりに前記基板の受け渡しテスト用として設置されるとともに、前記洗浄ユニットと前記ロード/アンロードユニットとが組み立てられた場合に前記乾燥モジュールが位置する場所に、前記乾燥モジュールの代わりに前記基板の受け渡しテスト用として設置され、
前記ロード/アンロードユニットに設けられたユニット制御盤のテスト制御部は、前記ロード/アンロードユニット内に設置された基板を、前記ロード/アンロードユニット内に設けられた基板の搬送機構によって前記基板置き台まで搬送して前記基板置き台に載置するとともに、前記基板置き台に載置された基板を、前記搬送機構によって受け取って前記ロード/アンロードユニット内に搬送する、ことによって前記基板の受け渡しテストを行う、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1〜5のいずれか1項のユニット制御盤において、
搬送中の基板における現在のブロックが前記選択された搬送ルートの最後のブロックであるか否かを判定し、最後のブロックでないと判断した場合は、次のブロックへ基板を搬送する、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1〜5のいずれか1項のユニット制御盤において、
搬送中の基板における現在のブロックが前記選択された搬送ルートの最後のブロックであるか否かを判定し、最後のブロックであると判断した場合は、
前記設定された繰り返し回数と現在の基板の受け渡し回数とを比較し、現在の基板の受け渡し回数が前記設定された繰り返し回数未満だった場合、基板の受け渡しテストを繰り返す、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1〜5のいずれか1項のユニット制御盤において、
搬送中の基板における現在のブロックが前記選択された搬送ルートの最後のブロックであるか否かを判定し、最後のブロックであると判断した場合は、
前記設定された繰り返し回数と現在の基板の受け渡し回数とを比較し、現在の基板の受け渡し回数が前記設定された繰り返し回数以上だった場合、基板の受け渡しテストを終了
させる、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 請求項1〜8のいずれか1項のユニット制御盤において、
前記ユニット制御盤が設けられたユニットに重故障が発生したか否かを判定し、重故障が発生したと判定した場合、基板の受け渡しテストを停止し、重故障が発生していないと判断した場合、基板の受け渡しテストを継続させる、
ことを特徴とするユニット制御盤。 - 組み立てられた複数のユニット間で基板の受け渡しを行いながら前記基板に対する処理を行う基板処理装置の、少なくとも1つのユニットにおける基板の受け渡しテスト方法であって、
前記少なくとも1つのユニットが他のユニットと組み立てられていない状態において、前記少なくとも1つのユニットの外部に、基板置き台を設置し、
前記基板置き台を用いて、前記少なくとも1つのユニットにおける前記基板の受け渡しテストを行い、
前記基板の受け渡しテストは、予め設定された前記基板を搬送する複数の搬送ルートの中から選択された搬送ルートに基づき、かつ、前記選択された搬送ルートを細分化した複数のブロックの中から選択されたブロックを始点として前記基板受け渡しテストを開始し、設定された繰り返し回数に基づいて前記選択された搬送ルートでの前記基板の受け渡しテストを繰り返す、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10の基板の受け渡しテスト方法において、
前記基板の受け渡しテストは、前記少なくとも1つのユニット内に設置された基板を、前記少なくとも1つのユニット内に設けられた基板の搬送機構によって前記基板置き台まで搬送して前記基板置き台に載置するか、又は、前記基板置き台に載置された基板を、前記搬送機構によって受け取って前記少なくとも1つのユニット内に搬送する、ことによって行われる、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10又は11の基板の受け渡しテスト方法において、
前記基板置き台は、前記ユニットと前記他のユニットとが組み立てられた場合に前記ユニットと前記他のユニットとの間で基板の受け渡しを行う際に用いられる前記他のユニットの基板受け渡し部が位置する場所に、基板の受け渡しテスト用として設置される、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10〜12のいずれか1項の基板の受け渡しテスト方法において、
前記基板の受け渡しテストは、前記基板の研磨を行い研磨後の基板を仮置き台に載置する研磨ユニットと、前記仮置き台に載置された基板の洗浄及び乾燥を行う洗浄ユニットと、を含む基板処理装置の、前記洗浄ユニットにおいて行われ、
前記基板置き台は、前記研磨ユニットと前記洗浄ユニットとが組み立てられた場合に前記仮置き台が位置する場所に、前記仮置き台の代わりに前記基板の受け渡しテスト用として設置され、
前記基板の受け渡しテストは、前記基板置き台に載置された基板を、前記洗浄ユニット内に設けられた基板の搬送機構によって受け取って前記洗浄ユニット内に搬送することによって行われる、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10〜13のいずれか1項の基板の受け渡しテスト方法において、
前記基板の受け渡しテストは、前記基板の研磨を行う研磨ユニットと、前記研磨ユニットによって研磨された基板の洗浄及び乾燥を行う洗浄ユニットと、前記研磨ユニット内のリフタに基板をロードするとともに前記洗浄ユニット内の基板の乾燥モジュールに載置された基板をアンロードするロード/アンロードユニットと、を含む基板処理装置の、前記ロード/アンロードユニットにおいて行われ、
前記基板置き台は、前記研磨ユニットと前記ロード/アンロードユニットとが組み立てられた場合に前記リフタが位置する場所に、前記リフタの代わりに前記基板の受け渡しテスト用として設置されるとともに、前記洗浄ユニットと前記ロード/アンロードユニットとが組み立てられた場合に前記乾燥モジュールが位置する場所に、前記乾燥モジュールの代わりに前記基板の受け渡しテスト用として設置され、
前記基板の受け渡しテストは、前記ロード/アンロードユニット内に設置された基板を、前記ロード/アンロードユニット内に設けられた基板の搬送機構によって前記リフタの代わりに設置された前記基板置き台まで搬送して前記基板置き台に載置するとともに、前記乾燥モジュールの代わりに設置された前記基板置き台に載置された基板を、前記搬送機構によって受け取って前記ロード/アンロードユニット内に搬送する、ことによって行われる、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10〜14のいずれか1項の基板の受け渡しテスト方法において、
搬送中の基板における現在のブロックが前記選択された搬送ルートの最後のブロックであるか否かを判定し、最後のブロックでないと判断した場合は、次のブロックへ基板を搬送する、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10〜14のいずれか1項の基板の受け渡しテスト方法において、
搬送中の基板における現在のブロックが前記選択された搬送ルートの最後のブロックであるか否かを判定し、最後のブロックであると判断した場合は、
前記設定された繰り返し回数と現在の基板の受け渡し回数とを比較し、現在の基板の受け渡し回数が前記設定された繰り返し回数未満だった場合、基板の受け渡しテストを繰り返す、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10〜14のいずれか1項の基板の受け渡しテスト方法において、
搬送中の基板における現在のブロックが前記選択された搬送ルートの最後のブロックであるか否かを判定し、最後のブロックであると判断した場合は、
前記設定された繰り返し回数と現在の基板の受け渡し回数とを比較し、現在の基板の受け渡し回数が前記設定された繰り返し回数以上だった場合、基板の受け渡しテストを終了させる、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項10〜17のいずれか1項の基板の受け渡しテスト方法において、
前記ユニットに重故障が発生したか否かを判定し、重故障が発生したと判定した場合、基板の受け渡しテストを停止し、重故障が発生していないと判断した場合、基板の受け渡しテストを継続させる、
ことを特徴とする基板の受け渡しテスト方法。 - 請求項1〜9のいずれか1項のユニット制御盤を有するユニットと、
前記ユニットと組み立てられる他のユニットと、を備え、
前記組み立てられたユニットと他のユニットと間で基板の受け渡しを行いながら前記基板に対する処理を行う基板処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013188073A JP6216193B2 (ja) | 2013-09-11 | 2013-09-11 | ユニット制御盤、基板の受け渡しテスト方法、及び基板処理装置 |
US14/483,096 US9849488B2 (en) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | Unit control panel, substrate transfer test method, and substrate processing apparatus |
SG10201405644QA SG10201405644QA (en) | 2013-09-11 | 2014-09-11 | Unit control panel, substrate transfer test method, and substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013188073A JP6216193B2 (ja) | 2013-09-11 | 2013-09-11 | ユニット制御盤、基板の受け渡しテスト方法、及び基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015056468A JP2015056468A (ja) | 2015-03-23 |
JP6216193B2 true JP6216193B2 (ja) | 2017-10-18 |
Family
ID=52625792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013188073A Active JP6216193B2 (ja) | 2013-09-11 | 2013-09-11 | ユニット制御盤、基板の受け渡しテスト方法、及び基板処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9849488B2 (ja) |
JP (1) | JP6216193B2 (ja) |
SG (1) | SG10201405644QA (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015201598A (ja) * | 2014-04-10 | 2015-11-12 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
JP7176823B2 (ja) * | 2018-10-09 | 2022-11-22 | 株式会社スギノマシン | 洗浄装置、及び、対象物の洗浄及び乾燥方法 |
CN112086394A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-12-15 | 北京烁科精微电子装备有限公司 | 一种晶圆转移传输装置及晶圆转移传输方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5511005A (en) * | 1994-02-16 | 1996-04-23 | Ade Corporation | Wafer handling and processing system |
US6137303A (en) * | 1998-12-14 | 2000-10-24 | Sony Corporation | Integrated testing method and apparatus for semiconductor test operations processing |
JP3369145B2 (ja) | 2000-03-23 | 2003-01-20 | 株式会社東京精密 | ユニット分離型研磨装置 |
JP2002231594A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の生産管理システム、半導体装置の生産管理方法、および半導体装置の製造方法 |
JP4884594B2 (ja) * | 2001-03-22 | 2012-02-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置及び制御方法 |
US6832863B2 (en) * | 2002-06-11 | 2004-12-21 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treating apparatus and method |
JP2004103761A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Renesas Technology Corp | 半導体装置製造ライン |
US7138629B2 (en) * | 2003-04-22 | 2006-11-21 | Ebara Corporation | Testing apparatus using charged particles and device manufacturing method using the testing apparatus |
JP5120018B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2013-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ装置 |
US7741837B2 (en) * | 2007-05-15 | 2010-06-22 | Tokyo Electron Limited | Probe apparatus |
JP5821689B2 (ja) * | 2011-04-20 | 2015-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
-
2013
- 2013-09-11 JP JP2013188073A patent/JP6216193B2/ja active Active
-
2014
- 2014-09-10 US US14/483,096 patent/US9849488B2/en active Active
- 2014-09-11 SG SG10201405644QA patent/SG10201405644QA/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150071742A1 (en) | 2015-03-12 |
US9849488B2 (en) | 2017-12-26 |
JP2015056468A (ja) | 2015-03-23 |
SG10201405644QA (en) | 2015-04-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102432238B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
US6358128B1 (en) | Polishing apparatus | |
JP4999487B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US6354922B1 (en) | Polishing apparatus | |
JP6126248B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
US20150314418A1 (en) | Substrate polishing apparatus | |
JP6216193B2 (ja) | ユニット制御盤、基板の受け渡しテスト方法、及び基板処理装置 | |
KR20150120869A (ko) | 기판 처리 장치 | |
CN108064413A (zh) | 用于干式处理和湿式处理的混合基板处理系统及其基板处理方法 | |
TW201601877A (zh) | 基板處理裝置 | |
EP1738871A1 (en) | Polishing apparatus | |
CN110600397A (zh) | 用于基板输送系统的示教装置及示教方法 | |
JP6317171B2 (ja) | 昇降装置、及び、ユニット搬送方法 | |
JP4869097B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5385965B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2022072570A (ja) | 基板処理装置においてカセットからの基板の取り出しタイミングを決定する方法、装置、プログラム、および基板処理装置 | |
JP6216258B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2015149438A (ja) | 状態報告装置、基板処理装置、及び状態報告方法 | |
WO2017170191A1 (ja) | 搬送装置、洗浄装置および基板搬送方法 | |
JP2017188642A (ja) | 搬送装置、洗浄装置および基板搬送方法 | |
JP2015128808A (ja) | 基板処理装置の制御装置、及び基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160318 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170721 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170808 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170824 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170922 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6216193 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |