CN115565925A - 基板处理装置和防雾件的清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本公开提供一种基板处理装置和防雾件的清洗方法。基板处理装置具备：保持部，其保持基板；驱动部，其驱动保持部以使保持部旋转；内侧杯体，其以从保持于保持部的基板的外侧包围基板的方式设置于保持部；防雾件，其以使保持部和内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从保持部和内侧杯体的外侧包围保持部和内侧杯体，并且构成为能够进行升降；清洗液供给部，其供给清洗液；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，在基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液；以及第二处理，在第一处理之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。

Description

基板处理装置和防雾件的清洗方法
技术领域
本公开涉及一种基板处理装置和防雾件的清洗方法。
背景技术
当前，在对基板(例如，半导体晶圆等)进行微细加工时，进行如下处理：一边向旋转的基板供给处理液来在基板的表面形成处理液的膜，一边通过离心力将处理液甩到基板的外侧。从基板甩落的处理液向基板的周围飞散，其一部分成为雾。专利文献1、2公开了一种以包围基板的周围的方式配置在处理腔室内以防止该雾附着于处理腔室的内壁的防雾件。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-147979号公报
专利文献2：日本特开2009-141280号公报
发明内容
发明要解决的问题
本公开对能够有效地清洗防雾件的整个内周面的基板处理装置和防雾件的清洗方法进行说明。
用于解决问题的方案
基板处理装置的一个例子具备：保持部，其构成为保持基板；驱动部，其构成为驱动保持部以使该保持部旋转；内侧杯体，其以从保持于保持部的基板的外侧包围该基板的方式设置于保持部；防雾件，其以使保持部和内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从保持部和内侧杯体的外侧包围该保持部和内侧杯体，所述防雾件构成为能够进行升降；处理液供给部，其构成为向保持于保持部的基板供给处理液；清洗液供给部，其构成为供给清洗液；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，在基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液；以及第二处理，在第一处理之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。
发明的效果
根据本公开所涉及的基板处理装置和防雾件的清洗方法，能够有效地清洗防雾件的整个内周面。
附图说明
图1是示意性地示出基板处理系统的一例的俯视图。
图2是示意性地示出处理单元的一例(第一例)的截面图。
图3是示出基板处理系统的主要部分的一例的框图。
图4是示出控制器的硬件结构的一例的概要图。
图5是用于说明基板处理和防雾件的清洗处理的过程的例子的图。
图6是用于说明图5的后续处理的例子的图。
图7是用于说明图6的后续处理的例子的图。
图8是用于说明图7的后续处理的例子的图。
图9是用于说明图8的后续处理的例子的图。
图10是用于说明基板处理和防雾件的清洗处理的过程的一例的流程图。
图11是用于说明处理单元的其它例(第二例)中的防雾件的清洗处理的过程的例子的图。
图12是用于说明图11的后续处理的例子的图。
图13是用于说明处理单元的其它例(第三例)中的防雾件的清洗处理的过程的例子的图。
图14是用于说明图13的后续处理的例子的图。
图15是用于说明处理单元的其它例(第四例)中的防雾件的清洗处理的过程的例子的图。
图16是用于说明处理单元的其它例(第五例)中的防雾件的清洗处理的过程的例子的图。
图17是用于说明处理单元的其它例(第六例)中的防雾件的清洗处理的过程的例子的图。
具体实施方式
在下面的说明中，设为对相同的要素或具有相同功能的要素标注相同的标记，并省略重复的说明。此外，在本说明书中，设为在提及图中的上、下、右、左时，以图中的标记的朝向为基准。
[基板处理系统]
首先，参照图1来说明构成为对基板W进行处理的基板处理系统1(基板处理装置)。基板处理系统1具备搬入搬出站2、处理站3以及控制器Ctr(控制部)。搬入搬出站2和处理站3例如可以沿水平方向排成一列。
基板W既可以呈圆板状，也可以呈多边形等圆形以外的板状。基板W可以具有切除一部分所得到的切口部。切口部例如可以是槽口(U字形、V字形等的槽)、也可以是直线状地延伸的直线部(所谓的定位平面)。基板W例如可以是半导体基板(硅晶圆)、玻璃基板、掩模基板、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)基板以及其它各种基板。基板W的直径例如可以是200mm～450mm左右。
搬入搬出站2包括载置部4、搬入搬出部5以及架单元6。载置部4包括在宽度方向(图1中的上下方向)上排列的多个载置台(未图示)。各载置台构成为能够载置承载件7(收容容器)。承载件7构成为以密封状态收容至少一个基板W。承载件7包括用于放入和取出基板W的开闭门(未图示)。
搬入搬出部5在搬入搬出站2与处理站3的排列方向(图1中的左右方向)上与载置部4邻接地配置。搬入搬出部5包括与载置部4相对应地设置的开闭门(未图示)。在载置部4上载置有承载件7的状态下，通过使承载件7的开闭门和搬入搬出部5的开闭门均打开，搬入搬出部5内与承载件7内连通。
搬入搬出部5内置有搬送臂A1和架单元6。搬送臂A1构成为能够进行搬入搬出部5的宽度方向(图1中的上下方向)上的水平移动、铅垂方向上的上下移动、以及绕铅垂轴的回旋动作。搬送臂A1构成为将基板W从承载件7取出并交接至架单元6，并且从架单元6接收基板W并使基板W返回承载件7内。架单元6位于处理站3的附近，构成为中继搬入搬出部5与处理站3之间的基板W的交接。
处理站3包括搬送部8和多个处理单元U。搬送部8例如在搬入搬出站2与处理站3的排列方向(图1中的左右方向)上水平地延伸。搬送部8内置有搬送臂A2。搬送臂A2构成为能够进行搬送部8的长边方向(图1中的左右方向)上的水平移动、铅垂方向上的上下移动、以及绕铅垂轴的回旋动作。搬送臂A2构成为将基板W从架单元6取出并交接至各处理单元U，并且从各处理单元U接收基板W并使基板W返回架单元6内。
多个处理单元U以在搬送部8的两侧分别沿搬送部8的长边方向(图1中的左右方向)排成一列的方式配置。处理单元U构成为对基板W进行规定的处理(例如，基板W的清洗处理、形成于基板W的表面的膜的蚀刻处理等)。在后文中叙述处理单元U的详情。
控制器Ctr构成为局部或整体地控制基板处理系统1。在后文中叙述控制器Ctr的详情。
[处理单元]
接下来，参照图2来对处理单元U进行详细说明。处理单元U包括腔室10、送风部20、整流部30、旋转保持部40、回收杯50、清洗杯60、防雾件70、上侧供给部80(处理液供给部、清洗液供给部)以及下侧供给部90(另一清洗液供给部、气体供给部)。
腔室10构成为在其内部通过处理液等对基板W进行处理。在腔室10的侧壁形成有未图示的搬入搬出口。利用搬送臂A2使基板W通过该搬入搬出口搬送到腔室10的内部或者从腔室10搬出到外部。
送风部20以覆盖形成于腔室10的顶壁的开口10a的方式安装。送风部20构成为基于来自控制器Ctr的信号在腔室10内形成去向下方的下降流。
整流部30配置于腔室10内的上部，以在上下方向上对腔室10的内部空间进行划分的方式水平地延伸。整流部30是形成有大量的孔的板状体，例如也以是冲孔金属、金属板网、金属丝网等。整流部30构成为对由送风部20形成的下降流进行整流，来调整比整流部30更靠下方的位置处的腔室10内的下降流的分布。
旋转保持部40包括旋转轴41、驱动部42、支承板43(保持部)、多个支承销44、环状构件45以及内侧杯体46。旋转轴41是沿铅垂方向延伸的中空的管状构件。旋转轴41构成为能够绕中心轴Ax旋转。
驱动部42与旋转轴41连接。驱动部42构成为：基于来自控制器Ctr的动作信号进行动作，来使旋转轴41旋转。驱动部42例如可以是电动马达等动力源。
支承板43例如是呈圆环状的平板，沿水平延伸。即，在支承板43的中央部形成有贯通孔43a。支承板43的内周部与旋转轴41的前端部连接。因此，支承板43构成为随着旋转轴41的旋转而绕旋转轴41的中心轴Ax旋转。
多个支承销44以从支承板43的上表面43b朝向上方突出的方式设置于支承板43。多个支承销44构成为通过使它们的前端与基板W的背面抵接来将基板W大致水平地支承。多个支承销44例如可以呈圆柱形状，也可以呈锥台状。多个支承销44也可以以从上方观察时整体呈圆形状的方式大致等间隔地配置在支承板43的外周部的附近。例如，在多个支承销44是12个的情况下，多个支承销44可以以大致30°的间隔配置。
环状构件45呈环状(例如圆环状)，以从支承板43的上表面43b向上方突出的方式设置于支承板43。环状构件45从支承板43的贯通孔43a的外侧包围该贯通孔43a，且位于多个支承销44的内侧。因此，由环状构件45和支承板43的上表面43b围成的空间构成能够贮存清洗液(在后面记述)的贮存空间V。
如图2所例示的那样，环状构件45中的内周侧的壁面(内周面)可以是随着去向径向外侧而朝向上方倾斜的倾斜面45a。倾斜面45a相对于支承板43的上表面43b的倾斜角可以被设定为在将倾斜面45a朝向径向外侧虚拟地延长的情况下不会横穿内侧杯体46的角度(通过内侧杯体46的上方那样的角度)。倾斜面45a相对于支承板43的上表面43b的倾斜角例如也可以是10°～45°左右。
内侧杯体46呈环状(例如圆环状)，以离开支承板43且位于支承板43的上方的方式通过多个连接构件47与支承板43连接。内侧杯体46以从被多个支承销44支承的状态的基板W的外侧包围该基板W的方式配置。因此，内侧杯体46构成为随着旋转轴41的旋转而绕旋转轴41的中心轴Ax旋转。在内侧杯体46与支承板43之间存在间隙，因此，被供给到基板W的液体通过该间隙并流出到内侧杯体46和支承板43的外侧。
在内侧杯体46的上表面46a形成有在内侧杯体46的整周上延伸的环状槽48。环状槽48构成为能够贮存清洗液。为了使表面张力作用于清洗液来使环状槽48内能够贮存更多的清洗液，也可以对环状槽48的表面实施表面处理(例如，氟加工)。如图2所例示的那样，环状槽48中的外周侧的内壁面可以是随着去向径向外侧而朝向上方倾斜的倾斜面48a。倾斜面48a相对于内侧杯体46的上表面46a的倾斜角例如可以是10°～45°左右。
各倾斜面45a、48a可以是平坦面，也可以是非平坦面(例如，弯曲面)。为了提高清洗液的流动性，例如可以通过凹坑加工和/或压纹加工在倾斜面45a、48a形成有多个凹凸，也可以在倾斜面45a、48a形成有沿径向辐射状地延伸的多个槽和/或多个突条。或者，为了提高清洗液的流动性，可以对倾斜面45a、48实施表面处理，也可以在倾斜面45a、48形成有覆膜。
回收杯50以从旋转保持部40的外侧包围旋转保持部40的方式配置。旋转保持部40构成为能够旋转，另一方面，回收杯50不旋转，保持静止。如图2所例示的那样，回收杯50可以固定于驱动部42。回收杯50包括位于内侧的排液杯51以及以从排液杯51的外侧包围排液杯51的方式配置的排气杯52。
排液杯51形成同内侧杯体46与支承板43之间的间隙连通的筒状的空间，构成为回收从该间隙流出的液体。在排液杯51的下端部连接有用于将所回收的液体排出到处理单元U的外部的配管。
在排气杯52与排液杯51之间形成有筒状的空间，该空间被调节为负压。在排气杯52的下端部连接有用于吸引内侧杯体46的附近的气氛气体并排出到处理单元U的外部的配管。
清洗杯60构成为能够在内部贮存清洗液。清洗杯60呈从排气杯52的外侧包围排气杯52的筒状，以将腔室10的下端部与排气杯52连接的方式延伸。例如，清洗杯60的内部空间(清洗液的贮存空间)可以是被清洗杯60和排气杯52的上端部包围的空间。如图2所例示的那样，清洗杯60可以包括沿上下方向延伸的筒状的周壁部61以及从周壁部61的下端部朝向径向内侧(回收杯50侧)沿水平方向延伸的环状的底壁部62。在清洗杯60的下端部连接有用于将使用完毕的清洗液排出到处理单元U的外部的配管。
防雾件70以为从回收杯50的外侧包围回收杯50的方式配置。即，旋转保持部40和回收杯50位于防雾件70的内侧。如图2所例示的那样，防雾件70可以包括沿上下方向延伸的筒状部71以及从筒状部71的上端部朝向径向内侧(回收杯50侧)沿水平方向延伸的环状的鼓出部72。
防雾件70与驱动部73连接，构成为能够沿上下方向进行升降。防雾件70例如可以在下降位置(参照图2)与上升位置(参照图5等)之间沿上下方向移动，下降位置是筒状部71的至少下部位于清洗杯60内的位置，上升位置是筒状部71整体或几乎整体从清洗杯60露出的位置。在下降位置，在清洗杯60内的贮存空间贮存有清洗液的状态下，筒状部71的至少下部浸在清洗液中。在上升位置，被供给到基板W的处理液(在后面记述)向周围飞散而产生的雾附着于防雾件70的内周面70a。因此，能够通过防雾件70来防止该雾附着于腔室10的内壁。
上侧供给部80构成为向基板W的上表面、支承板43或内侧杯体46供给液体。上侧供给部80包括供给部81～83、喷嘴84～86、臂87(保持臂)以及驱动部88。
供给部81包括未图示的液体源、阀、泵等，构成为基于来自控制器Ctr的信号从喷嘴84朝向下方供给液体L1。液体L1可以是碱性液体。液体L1例如可以用作对基板W进行处理(例如，污渍、异物的去除处理、蚀刻处理等)的药液，也可以用作清洗防雾件70的内周面70a的清洗液。碱性药液例如可以包括SC-1溶液(氨、过氧化氢以及纯水的混合液)等。
供给部82包括未图示的液体源、阀、泵等，构成为基于来自控制器Ctr的信号从喷嘴85朝向下方供给液体L2。液体L2可以是酸性液体。液体L2例如可以用作对基板W进行处理(例如，污渍、异物的去除处理、蚀刻处理等)的药液，也可以用作清洗防雾件70的内周面70a的清洗液。酸性药液例如可以包括SC-2溶液(盐酸、过氧化氢以及纯水的混合液)、SPM(硫酸、过氧化氢以及纯水的混合液)、HF/HNO3液(氢氟酸与硝酸的混合液)、硫酸等。
供给部83包括未图示的液体源、阀、泵等，构成为基于来自控制器Ctr的信号从喷嘴86朝向下方供给液体L3。液体L3例如可以用作清洗基板W、防雾件70的内周面70a的清洗液。液体L3可以是水。水例如可以包括纯水(DIW：deionized water)、臭氧水、碳酸水(CO2水)、氨水等。水可以是冷水(例如10℃左右以下)，也可以是常温水(例如10℃～30℃左右)，还可以是温水(例如，30℃左右以上)。
喷嘴84～86以规定间隔安装于臂87。臂87位于旋转保持部40的上方的空间。驱动部88与臂87连接，构成为基于来自控制器Ctr的信号使臂87沿上下方向进行升降，并构成为使臂87在旋转保持部40的上方沿水平方向移动。
下侧供给部90包括供给部91、92以及喷嘴93。供给部91包括未图示的液体源、阀、泵等，构成为：基于来自控制器Ctr的信号，通过形成于喷嘴93的内部的流路93a朝向上方供给液体L4。液体L4可以是上述的液体L1～L3中的任一方。供给部92包括未图示的气体源、阀、泵等，构成为：基于来自控制器Ctr的信号，通过形成于喷嘴93的内部的流路93b朝向上方供给干燥气体G。干燥气体G例如可以是非活性气体(例如，氮气)。
[控制器的详情]
如图3所示，控制器Ctr具有读取部M1、存储部M2、处理部M3以及指示部M4来作为功能模块。这些功能模块只是为了方便而将控制器Ctr的功能划分成的多个模块，不一定意味着将构成控制器Ctr的硬件分为这样的模块。各功能模块不限定于通过执行程序来实现，也可以通过专用的电子电路(例如逻辑电路)、或者将这些它们进行集成所得到的集成电路(ASIC：Application Specific Integrated Circuit，专用集成电路)来实现。
读取部M1构成为从计算机可读记录介质RM读取程序。记录介质RM记录有用于使包括处理单元U的基板处理系统1的各部动作的程序。记录介质RM例如可以是半导体存储器、光记录盘、磁记录盘、光磁记录盘。此外，下面，基板处理系统1的各部能够包括送风部20、驱动部42、73以及供给部81～83、91、92。
存储部M2构成为存储各种数据。存储部M2例如可以存储从记录介质RM读出到读取部M1中的程序、由操作员经由外部输入装置(未图示)输入的设定数据等。
处理部M3构成为处理各种数据。处理部M3例如可以基于存储部M2中存储的各种数据生成用于使基板处理系统1的各部动作的信号。
指示部M4构成为将在处理部M3中生成的动作信号发送到基板处理系统1的各部。
控制器Ctr的硬件例如可以由一个或多个控制用的计算机构成。如图4所示，控制器Ctr可以包括电路C1来作为硬件上的结构。电路C1可以由电子电路要素(circuitry)构成。电路C1例如可以包括处理器C2、存储器C3、存储装置C4、驱动器C5以及输入输出端口C6。
处理器C2可以构成为：与存储器C3和存储装置C4中的至少一方协作地执行程序，并经由输入输出端口C6执行信号的输入和输出，由此实现上述的各功能模块。存储器C3和存储装置C4可以作为存储部M2发挥功能。驱动器C5可以是构成为分别驱动基板处理系统1的各部的电路。输入输出端口C6可以构成为在驱动器C5与基板处理系统1的各部之间中继信号的输入和输出。
基板处理系统1可以具备一个控制器Ctr，也可以具备由多个控制器Ctr构成的控制器组(控制部)。在基板处理系统1具备控制器组的情况下，上述的各功能模块可以通过一个控制器Ctr来实现，也可以通过两个以上的控制器Ctr的组合来实现。在控制器Ctr由多个计算机(电路C1)构成的情况下，上述的各功能模块可以通过一个计算机(电路C1)来实现，也可以通过两个以上的计算机(电路C1)的组合来实现。控制器Ctr可以具有多个处理器C2。在该情况下，上述的各功能模块可以通过一个处理器C2来实现，也可以通过两个以上的处理器C2的组合来实现。
[基板的处理方法和防雾件的清洗方法]
接下来，参照图5～图10来对基板W的处理方法和防雾件70的清洗方法的例子进行说明。
首先，控制器Ctr控制搬送臂A1、A2，来从承载件7取出一张基板W并搬送到任一个处理单元U内(参照图10的步骤S1)。被搬送到处理单元U内的基板W在防雾件70处于下降位置的状态下被载置于多个支承销44上。此时，通过控制器Ctr来控制送风部20，从而在腔室10内形成有下降流。此外，也可以通过上侧供给部80(供给部81～83)将液体L1～L3中的任一液体作为清洗液贮存于清洗杯60。在该情况下，防雾件70中的筒状部71的至少下部浸在清洗液中。
接着，控制器Ctr控制驱动部73，来使防雾件70移动到上升位置(参照图5的箭头Ar1)。在该状态下，控制器Ctr通过控制驱动部42来使旋转轴41、支承板43、多个支承销44、环状构件45、内侧杯体46等(下面称为旋转部)旋转，由此使被多个支承销44支承的基板W旋转。另外，控制器Ctr控制驱动部88来使臂87水平移动，以使喷嘴84或喷嘴85位于基板W的中心部的上方。在图5的例子中，喷嘴84位于基板W的中心部的上方。
接着，控制器Ctr控制供给部81或供给部82，从喷嘴84或喷嘴85朝向基板W的中心部供给液体L1或液体L2来作为处理液(参照图10的步骤S2)。在图5的例子中，液体L1被供给到基板W的中心部。被供给到基板W的表面的液体L1或液体L2通过随着基板W的旋转而产生的离心力朝向基板W的外周缘流动，从而对基板W的表面进行处理(参照图5的箭头Ar2)。从基板W的外周缘甩落的液体L1或液体L2的大部分通过内侧杯体46与支承板43之间的间隙并被回收到排液杯51。另一方面，液体L1或液体L2的一部分向基板W的周围飞散而成为雾，附着于处于上升位置的防雾件70的内周面70a(参照图5的箭头Ar3)。
接着，以与步骤S2同样的顺序从喷嘴86朝向基板W的中心部供给液体L3来作为清洗液(参照图10的步骤S3)。由此，利用液体L3冲走基板W的表面的残渣、液体L1、L2。通过这样，基板W的处理完成。接着，控制器Ctr控制驱动部73，来使防雾件70移动到下降位置。在该状态下，控制器Ctr控制搬送臂A1、A2，来从处理单元U向承载件7搬送处理完毕的基板W(参照图10的步骤S4)。此时，也可以与步骤S1同样地使防雾件70中的筒状部71的至少下部浸在清洗液中。或者，在步骤S1中，也可以不使清洗液贮存于清洗杯60中，在步骤S4的时间点通过上侧供给部80(供给部81～83)将清洗液贮存于清洗杯60，由此使防雾件70中的筒状部71的至少下部浸在清洗液中。
接着，如图6所例示的那样，控制器Ctr控制驱动部42来使旋转部的旋转停止。接着，控制器Ctr控制驱动部88来使臂87水平移动，以使喷嘴84～86中的任一方位于内侧杯体46的环状槽48的上方。在该状态下，控制器Ctr控制供给部81～83中的任一方，从喷嘴84～86中的任一方向环状槽48供给液体L1～L3中的任一方来作为清洗液(参照图10的步骤S5)。在图6的例子中，液体L2被供给到环状槽48。通过这样，在环状槽48内贮存清洗液(液体L1～L3中的任一方)。当向环状槽48内贮存清洗液时，控制器Ctr控制供给部81～83中的任一方，来使来自喷嘴84～86中的任一方的清洗液的供给停止。
接着，如图7所例示的那样，控制器Ctr控制驱动部42来使旋转部旋转。此时的转速例如可以是100rpm～1000rpm左右。由此，贮存在环状槽48内的清洗液从环状槽48迅速飞散到防雾件70的整个内周面70a(参照图10的步骤S6和图7的箭头Ar4)。此外，也可以根据附着于防雾件70的内周面70a的雾的程度将步骤S5、S6重复多次(例如，5次～10次左右)。
接着，如图8所例示的那样，控制器Ctr控制驱动部42来使旋转部的旋转停止。接着，控制器Ctr控制驱动部88来使臂87水平移动，以使喷嘴84～86中的任一方位于内侧杯体46的环状槽48的上方。在该状态下，控制器Ctr控制供给部81～83中的任一方，来将液体L1～L3中的任一方作为清洗液从喷嘴84～86中的任一方供给到环状槽48(参照图10的步骤S7)。在此，关于向环状槽48供给的清洗液，选择与步骤S5中的液体不同的液体。在图8的例子中，向环状槽48供给与在图6的例子中供给的液体L2不同的液体L3。通过这样，在环状槽48内贮存清洗液(液体L1～L3中的任一方)。当环状槽48内贮存有清洗液时，控制器Ctr控制供给部81～83中的任一方，来使来自喷嘴84～86中的任一方的清洗液的供给停止。
接着，如图9所例示的那样，控制器Ctr控制驱动部42来使旋转部旋转。此时的转速例如可以是100rpm～1000rpm左右。由此，贮存在环状槽48内的清洗液从环状槽48迅速飞散到防雾件70的整个内周面70a(参照图10的步骤S8和图9的箭头Ar5)。通过上面的处理，防雾件70的内周面70a的清洗完成。此外，也可以根据附着于防雾件70的内周面70a的雾、在步骤S6中附着于防雾件70的内周面70a的清洗液的程度来将步骤S7、S8重复多次(例如，5次～10次左右)。
[作用]
根据上面的例子(第一例)，通过清洗液来清洗附着有处理液的雾的防雾件70的整个内周面70a。因此，能够有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。
根据上面的例子(第一例)，随着内侧杯体46的旋转，贮存于环状槽48的清洗液朝向防雾件70的整个内周面70a迅速飞散。因此，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。因而，能够提高生产率。
根据上面的例子(第一例)，随着内侧杯体46的旋转，贮存于环状槽48的清洗液沿倾斜面48a流动，因此清洗液容易到达防雾件70。因此，能够更有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。
根据上面的例子(第一例)，可以通过清洗杯60内的清洗液来清洗防雾件70的至少下部。因此，能够更有效地清洗防雾件70中的容易附着雾的下部。
根据上面的例子(第一例)，也可以在步骤S1和/或步骤S4中使防雾件70中的至少下部浸在清洗杯60内的清洗液中之后，在步骤S6、S8中朝向防雾件70的整个内周面70a供给清洗液。通常来说，在步骤S6、S8中供给的清洗液比清洗杯60内的清洗液的洁净度高，因此，通过按照如上述那样的顺序进行处理，能够使清洗后的防雾件70的内周面70a更洁净。
根据上面的例子(第一例)，可以通过多种清洗液来清洗防雾件70。因此，能够使清洗后的防雾件70的内周面70a更洁净。
根据上面的例子(第一例)，能够最后对防雾件70供给水。因此，通过水来冲走之前供给到防雾件70的酸性溶液或碱性溶液。因而，能够使清洗后的防雾件70的内周面70a更加洁净。
[变形例]
应该认为本说明书中的公开在所有的方面均为例示，而非制限性的。在不脱离权利要求书及其要旨的范围内可以对上面的例子进行各种省略、置换、变更等。
(1)在图11和图12所示的例子(第二例)中，执行下面说明的处理以取代第一例的步骤S5～S8。即，在旋转部停止了旋转的状态下，控制器Ctr控制驱动部88来使臂87水平移动，以喷嘴84～86中的任一方位于被贮存空间V(由环状构件45和支承板43的上表面43b围成的空间)的上方。在该状态下，控制器Ctr控制供给部81～83中的任一方，来将液体L1～L3中的任一方作为清洗液从喷嘴84～86中的任一方供给到贮存空间V。在图11的例子中，液体L2被供给到贮存空间V。通过这样，在贮存空间V内贮存清洗液(液体L1～L3中的任一方)。当清洗液被贮存于贮存空间V内时，控制器Ctr控制供给部81～83中的任一方，来使来自喷嘴84～86中的任一方的清洗液的供给停止。
接着，如图12所例示的那样，控制器Ctr控制驱动部42来使旋转部旋转。此时的转速例如可以是100rpm～1000rpm左右。由此，贮存在贮存空间V内的清洗液从贮存空间V迅速飞散到防雾件70的整个内周面70a(参照图12的箭头Ar6)。之后，虽未图示，但也可以与步骤S7、S8同样地将不同种类的清洗液再次贮存于贮存空间V，并通过使旋转部旋转来使该清洗液从贮存空间V迅速飞散到防雾件70的整个内周面70a。
根据上面的例子(第二例)，随着内侧杯体46的旋转，贮存于贮存空间V的清洗液朝向防雾件70的整个内周面70a迅速飞散。因此，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。因而，能够提高生产率。
根据上面的例子(第二例)，随着内侧杯体46的旋转，贮存于贮存空间V的清洗液沿倾斜面45a流动，因此清洗液容易到达防雾件70。因此，能够更有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。
此外，也可以将第一例(通过贮存于环状槽48的清洗液来清洗防雾件70)与第二例(通过贮存于贮存空间V的清洗液来清洗防雾件70)进行组合。
(2)与第一例相比，图13和图14所示的例子(第三例)的处理单元U还也可以还包括液扩散部100。液扩散部100包括保持件101(保持臂)、驱动部102(另一驱动部)以及扩散构件103。
保持件101设置于臂87，构成为将扩散构件103以能够装卸的方式保持。即，设扩散构件103能够经由保持件101相对于臂87进行装卸。保持件101例如可以是利用了负压的空气吸盘、利用了电磁体、永久磁体的磁吸式卡盘、利用了由把持爪等产生的机械力(把持力)的机械卡盘等。
驱动部102构成为驱动保持件101或扩散构件103以使保持件101或扩散构件103绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转。扩散构件103构成为能够在被保持于保持件101的状态下通过驱动部88在旋转保持部40的上方移动。如图13和图14所示，扩散构件103能够位于喷嘴93的上方。扩散构件103包括能够相对于保持件101进行装卸的基座部103a和设置于基座部103a的端部的扩散部103b。
扩散部103b包括在扩散构件103位于喷嘴93的上方的状态下面对喷嘴93的扩散面103c。扩散面103c构成为使从喷嘴93的流路93a供给的液体L4沿水平方向扩散。扩散面103c例如可以呈平坦面，也可以呈在扩散构件103被保持于保持件101的状态下朝向上方凹陷的凹曲面。在扩散面103c是凹曲面的情况下，扩散面103c也可以呈球冠状。
在第三例的处理单元U中，执行下面说明的处理以取代第一例的步骤S5～S8。即，控制器Ctr控制驱动部88，来使保持件101保持配置于腔室10内的规定的待机位置的扩散构件103(参照图13的虚线)。接着，控制器Ctr控制驱动部88，来使扩散构件103移动到旋转保持部40的上方，以使扩散构件103位于喷嘴93的上方。此时，控制器Ctr也可以控制驱动部102，来使保持于保持件101的扩散构件103旋转。
在该状态下，控制器Ctr控制供给部91，来从喷嘴93的流路93a朝向扩散面103c供给液体L4。由此，被供给到扩散面103c的清洗液沿水平方向扩散，并迅速飞散到防雾件70的整个内周面70a(参照图13的箭头Ar7)。接着，控制器Ctr可以控制供给部92，来从喷嘴93的流路93b朝向扩散面103c供给干燥气体G。由此，附着于扩散构件103的液体L4干燥。之后，控制器Ctr控制驱动部88，来使扩散构件103返回腔室10内的规定的待机位置(参照图14的虚线)。
根据上面的例子(第三例)，与扩散构件103碰撞了的清洗液朝向防雾件70的整个内周面70a迅速飞散。因此，与使用喷嘴等向防雾件70的内周面70a供给清洗液的情况相较，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。因而，能够提高生产率。
根据上面的例子(第三例)，能够在扩散构件103旋转的状态下向扩散构件103供给液体L4。在该情况下，随着扩散构件103的旋转，与扩散构件103碰撞的清洗液容易向周围飞散。因此，能够更有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。
根据上面的例子(第三例)，扩散构件103的扩散面103c能够呈凹曲面。在该情况下，与扩散构件103碰撞了的清洗液沿凹曲面状的扩散面103c流动，因此清洗液容易到达防雾件70。因此，能够更有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。
根据上面的例子(第三例)，扩散构件103构成为能够装卸，在不进行防雾件70的内周面70a的清洗处理时，能够使扩散构件103配置于腔室10内的待机位置。在该情况下，通过在不使用时将扩散构件配置于待机位置，能够防止附着于扩散构件103的清洗液在之后落下到被搬入到处理单元U的基板W上的情况。
根据上面的例子(第三例)，能够通过干燥气体G对扩散构件103进行干燥处理。在该情况下，能够更可靠地防止附着于扩散构件103的清洗液在之后落下到被搬入到处理单元U的基板W上的情况。
此外，在上面的例子(第三例)中，扩散构件103也可以固定于臂87。扩散构件103可以以能够装卸的方式安装于与设置有喷嘴84～86的臂87不同的臂，也可以固定于该臂。扩散构件103可以以总是位于喷嘴93的上方的方式固定于腔室10。可以将第一例(通过贮存于环状槽48的清洗液来清洗防雾件70)和第二例(通过贮存于贮存空间V的清洗液来清洗防雾件70)中的至少一方与第三例(通过利用扩散构件103进行的清洗液的扩散来清洗防雾件70)进行组合。也可以是，将与扩散构件103碰撞而向周围飞散的清洗液贮存到环状槽48内，与第一个例子同样地通过使旋转部旋转来使环状槽48内的清洗液迅速飞散到防雾件70的整个内周面70a。
(3)与第一例相比，图15所示的例子(第四例)的处理单元U还可以包括液供给部110。液供给部110包括供给部111、喷出喷嘴112以及驱动部113。供给部111包括未图示的液体源、阀、泵等，构成为基于来自控制器Ctr的信号来从喷出喷嘴112供给液体L5。液体L5可以是上述的液体L1～L3中的任一方。
喷出喷嘴112包括在周面开设的多个喷出口，构成为从该多个喷出口向周围辐射状地喷出从供给部111供给的清洗液。喷出喷嘴112配置于旋转保持部40的上方。如图15所例示的那样，喷出喷嘴112可以以总是位于旋转保持部40的上方的方式固定于腔室10。喷出喷嘴112可以固定于与臂87或臂87不同的臂，也可以以能够装卸的方式安装于该臂。
驱动部113构成为：驱动喷出喷嘴112，以使喷出喷嘴112的多个喷出口的位置在上下方向上变位。例如，也可以设为如图15所例示的那样将喷出喷嘴112的胴体嵌入状地组合而成的可伸缩式的构造，驱动部113使该胴体进行进退，由此改变多个喷出口的高度位置。或者，也可以是，驱动部113使喷出喷嘴112自身上下移动，由此改变多个喷出口的高度位置。
根据上面的例子(第四例)，从喷出喷嘴112向周围辐射状地喷出的清洗液朝向防雾件70的整个内周面70a迅速飞散。因此，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。因而，能够提高生产率。
根据上面的例子(第四例)，从喷出喷嘴112向周围辐射状地喷出的清洗液到达防雾件70的内周面70a的高度位置能够变化。因此，能够向比防雾件70的内周面70a更大的范围供给清洗液。因而，能够更有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。
此外，也可以将第一例(通过贮存于环状槽48的清洗液来清洗防雾件70)、第二例(通过贮存于贮存空间V的清洗液来清洗防雾件70)以及第三例(通过利用扩散构件103进行的清洗液的扩散来清洗防雾件70)中的至少一方与第四例(从喷出喷嘴112向周围辐射状地喷出清洗液来清洗防雾件70)进行组合。或者，也可以如图16的例子(第五例)那样使从喷出喷嘴112喷出的清洗液贮存到环状槽48内，并与第一例同样地通过使旋转部旋转来使环状槽48内的清洗液迅速飞散到防雾件70的整个内周面70a。
(4)与第一例相比，图17所示的例子(第六例)的处理单元U中的喷嘴93的流路93a也可以包括在喷嘴93的上端部的周面开设的多个喷出口93c。在该情况下，从供给部91供给的清洗液被从喷嘴93的流路93a的多个喷出口93c向周围辐射状地喷出，朝向防雾件70的整个内周面70a迅速飞散。因此，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件70的整个内周面70a。因而能够提高生产率。
此外，也可以将第一例～第五例中的至少一方与第六例进行组合。另外，也可以使设置有向周围辐射状地喷出清洗液的多个喷出口的喷出喷嘴与喷嘴93相分别地设置于旋转保持部40(例如支承板43)。
(5)在上述的任一例中，都可以组合将防雾件70浸在清洗杯60内的清洗液中的处理。关于使防雾件70浸在清洗杯60内的清洗液中的时机，并无特别限定。
(6)在上述的任一例中都是，在供给用于清洗防雾件70的清洗液时，旋转部可以旋转，也可以停止。
(7)在上述的任一例中都是，可以至少在来自喷出喷嘴112的清洗液的喷出开始时和喷出结束时使旋转保持部40旋转。在该情况下，能够抑制从喷出喷嘴112供给的清洗液残留于旋转保持部40。
(8)在第一例中，也可以一边使旋转体旋转一边将清洗液贮存于环状槽48。在第二例中也同样地可以一边使旋转体旋转一边将清洗液贮存于贮存空间V。此时的转速例如可以是100rpm～1000rpm左右。
(9)在第四例和第五例中，喷出喷嘴112包括在周面开设的多个喷出口，以从喷出喷嘴112向周围辐射状地喷出清洗液，但也可以使用在周面上包括至少一个喷出口的喷出喷嘴。在该情况下，使该喷出喷嘴一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转，一边从至少一个喷出口喷出清洗液，由此能够使清洗液朝向防雾件70的整个内周面70a飞散。另外，在该情况下，该喷出喷嘴也可以构成为绕沿水平方向延伸的回旋轴进行回旋(摇头)。在该情况下，能够向比防雾件70的内周面70a更大的范围供给清洗液。
(10)在上述的任一例中，可以使用一种清洗液来清洗防雾件70的内周面70a，也可以使用多种清洗液来清洗防雾件70的内周面70a。在使用多种清洗液的情况下，可以同时向防雾件70供给多种清洗液，也可以一边按照顺序进行切换一边向防雾件70供给。
[其它例]
例1.基板处理装置的一个例子具备：保持部，其构成为保持基板；驱动部，其构成为驱动保持部以使保持部旋转；内侧杯体，其以从保持于保持部的基板的外侧包围基板的方式设置于保持部；防雾件，其以使保持部和内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从保持部和内侧杯体外侧包围保持部和内侧杯体，该防雾件构成为能够进行升降；处理液供给部，其构成为向保持于保持部的基板供给处理液；清洗液供给部，其构成为供给清洗液；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，在基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液；以及第二处理，在第一处理之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。另外，当处理液的雾保持附着于防雾件的内周面的状态时，雾有可能会结晶化，且其结晶从防雾件脱落而附着于基板。然而，根据例1，通过从清洗液供给部供给的清洗液来清洗附着有处理液的雾的防雾件的整个内周面。因此，能够有效地清洗防雾件的整个内周面。
例2.在例1的基板处理装置中，也可以是，内侧杯体包括环状槽，该环状槽构成为能够贮存从清洗液供给部供给的清洗液，并且以在内侧杯体的整周上延伸的方式形成于内侧杯体的上表面，第二处理包括：从清洗液供给部向环状槽供给清洗液，并且驱动部使内侧杯体与保持部一起旋转，由此使贮存于环状槽的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，随着内侧杯体的旋转，贮存于环状槽的清洗液迅速朝向防雾件的整个内周面飞散。因此，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件的整个内周面。因而，能够提高生产率。
例3.在例2的基板处理装置中，也可以是，环状槽中的外周侧的内壁面是随着去向径向外侧而朝向上方倾斜的倾斜面。在该情况下，随着内侧杯体的旋转，贮存于环状槽的清洗液沿倾斜面流动，因此清洗液容易到达防雾件。因此，能够更有效地清洗防雾件的整个内周面。
例4.在例1～例3中的任一个基板处理装置中，也可以是，保持部包括环状构件，该环状构件以从保持部的上表面向上方突出的方式设置，第二处理包括：从清洗液供给部向由环状构件和保持部的上表面围成的贮存空间供给清洗液，并且驱动部使内侧杯体与保持部一起旋转，由此使贮存于贮存空间的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，随着内侧杯体的旋转，贮存于贮存空间的清洗液迅速朝向防雾件的整个内周面飞散。因此，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件的整个内周面。因而，能够提高生产率。
例5.在例4的基板处理装置中，也可以是，环状构件中的内周侧的壁面是随着去向径向外侧而朝向上方倾斜的倾斜面。在该情况下，随着内侧杯体的旋转，贮存于贮存空间的清洗液沿倾斜面流动，因此清洗液容易到达防雾件。因此，能够更有效地清洗防雾件的整个内周面。
例6.在例1的基板处理装置中，也可以是，还具备扩散构件，该扩散构件构成为使清洗液在水平方向上扩散，该扩散构件配置于保持部的上方，清洗液供给部构成为使清洗液通过设置于保持部的贯通孔并朝向上方喷出，第二处理包括：使清洗液从清洗液供给部通过贯通孔并朝向扩散构件喷射，由此使与扩散构件碰撞而在水平方向上扩散后的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，与扩散构件碰撞了的清洗液迅速朝向防雾件的整个内周面飞散。因此，与使用喷嘴等向防雾件的内周面供给清洗液的情况相比，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件的整个内周面。因而，能够提高生产率。
例7.在例6的基板处理装置中，也可以是，还具备另一驱动部，该另一驱动部构成为驱动扩散构件以使扩散构件绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转，第二处理包括：一边通过另一驱动部使扩散构件旋转，一边使清洗液从清洗液供给部通过贯通孔并朝向扩散构件喷射，由此使与扩散构件碰撞而在水平方向上扩散后的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，随着扩散构件的旋转，与扩散构件碰撞了的清洗液容易向周围飞散。因此，能够更有效地清洗防雾件的整个内周面。
例8.在例1～例5中的任一个基板处理装置中，也可以是，还具备：另一清洗液供给部，其构成为使清洗液通过设置于保持部的贯通孔并朝向上方喷出；以及扩散构件，其构成为使从另一清洗液供给部供给的清洗液在水平方向上扩散，并构成为能够配置于保持部的上方，第二处理包括：在基板被从保持部搬出且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面；以及通过使清洗液从另一清洗液供给部通过贯通孔并朝向扩散构件喷射，来使与扩散构件碰撞而在水平方向上扩散后的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，能够获得与例1及例6同样的作用效果。
例9.在例8的基板处理装置中，也可以是，还具备另一驱动部，该另一驱动部构成为驱动扩散构件以使扩散构件绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转，第二处理包括：在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面；以及一边通过另一驱动部使扩散构件旋转，一边使清洗液从另一清洗液供给部通过贯通孔并朝向扩散构件喷射，由此使与扩散构件碰撞而在水平方向上扩散后的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，能够获得与例7同样的作用效果。
例10.在例6～例9中的任一个基板处理装置中，也可以是，扩散构件包括在扩散构件配置于保持部的上方的状态下朝向上方凹陷的凹曲面。在该情况下，与扩散构件碰撞了的清洗液沿凹曲面流动，因此清洗液容易到达防雾件。因此，能够更有效地清洗防雾件的整个内周面。
例11.在例6～例10中的任一个基板处理装置中，也可以是，还具备保持臂，该保持臂构成为能够在保持部的上方移动，扩散构件被设为能够相对于保持臂进行装卸，控制部构成为：在第二处理之前还执行第三处理，该第三处理是通过保持臂来保持配置于防雾件的外侧的待机位置的扩散构件并使扩散构件位于保持部的上方的处理。在该情况下，在不使用时使扩散构件配置于待机位置，由此能够防止附着于扩散构件的清洗液落到基板上的情况。
例12.在例6～例10中的任一个基板处理装置中，也可以是，还具备气体供给部，该气体供给部构成为向扩散构件供给干燥气体，控制部构成为：在第二处理之后还执行第四处理，该第四处理是从气体供给部向扩散构件供给干燥气体的处理。在该情况下，通过干燥气体来对附着于扩散构件的清洗液进行干燥。因此，能够防止附着于扩散构件的清洗液落到基板上的情况。
例13.在例1～例12中的任一个基板处理装置中，也可以是，清洗液供给部包括喷出喷嘴，该喷出喷嘴构成为从在周面开设的多个喷出口向周围辐射状地喷出清洗液。在该情况下，从喷出喷嘴向周围辐射状地喷出的清洗液迅速朝向防雾件的整个内周面飞散。因此，能够在极短的时间内有效地清洗防雾件的整个内周面。因而，能够提高生产率。
例14.在例13所记载的基板处理装置中，也可以是，喷出喷嘴构成为多个喷出口的位置能够在上下方向上变位。在该情况下，从喷出喷嘴向周围辐射状地喷出的清洗液到达防雾件的内周面的高度位置变化。因此，能够向比防雾件的内周面更大的范围供给清洗液。因而，能够更有效地清洗防雾件的整个内周面。
例15.例1～例14中的任一个基板处理装置，也可以是，还具备清洗杯，该清洗杯从防雾件的外侧包围该防雾件的至少下部，并且构成为能够在内部贮存清洗液，控制部构成为还执行第五处理，该第五处理是使下降后的状态的防雾件的至少下部浸在清洗杯内的清洗液中的处理。在该情况下，通过清洗杯内的清洗液来清洗防雾件的至少下部。因此，能够更有效地清洗防雾件70的容易附着有雾的下部。
例16.在例15的基板处理装置中，也可以是，在第二处理之前进行第五处理。在该情况下，在通过清洗杯内的清洗液清洗了防雾件的至少下部之后，通过从清洗液供给部供给的清洗液来清洗防雾件的整个内周面。通常，从清洗液供给部供给的清洗液比清洗杯内的清洗液的洁净度更高，因此，通过按照如例16那样的顺序进行处理，能够使清洗后的防雾件的内周面更洁净。
例17.在例1～例16中的任一个基板处理装置中，也可以是，从清洗液供给部供给的清洗液包含从酸性溶液、碱性溶液以及水中选择出的第一液体和第二液体，第二处理包括：从清洗液供给部切换地供给在第一液体和第二液体，由此第一液体和第二液体按顺序飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，通过多种清洗液来清洗防雾件。因此，能够使清洗后的防雾件的内周面更洁净。
例18.在例17的基板处理装置中，也可以是，第一液体是酸性溶液或碱性溶液，第二液体是水，第二处理包括：从清洗液供给部切换地供给第一液体和第二液体，由此使第一液体和第二液体按第一液体和第二液体的顺序飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，最后向防雾件供给水。因此，能够通过水来冲走之前被供给到防雾件的酸性溶液或碱性溶液。因而，能够使清洗后的防雾件的内周面更加洁净。
例19.防雾件的清洗方法的一个例子包括：第一工序，在使基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液，所述防雾件以使内侧杯体和保持部位于该防雾件的内部的方式从内侧杯体和保持部的外侧包围内侧杯体和保持部，内侧杯体以从保持于保持部的基板的外侧包围基板的方式设置于保持部；第二工序，在第一工序之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，在由环状构件和保持部的上表面围成的贮存空间或者环状槽中贮存从清洗液供给部供给的清洗液，环状槽以在内侧杯体的整周上延伸的方式设置于内侧杯体的上表面，环状构件以从保持部的上表面向上方突出的方式设置；以及第三工序，在第二工序之后，在防雾件上升了的状态下，使内侧杯体与保持部一起旋转，来使贮存于环状槽或贮存空间的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。在该情况下，能够获得与例1、例2以及例4同样的作用效果。
例20.在例19的防雾件的清洗方法中，也可以是，还包括第四工序，在第四工序中，使防雾件的至少下部浸在贮存于清洗杯的清洗液中。在该情况下，能够获得与例15同样的作用效果。
附图标记说明
1：基板处理系统(基板处理装置)；40：旋转保持部；42：驱动部；43：支承板(保持部)；43a：贯通孔；43b：上表面；45：环状构件；45a：倾斜面；46：内侧杯体；46a：上表面；48：环状槽；48a：倾斜面；60：清洗杯；70：防雾件；70a：内周面；73：驱动部；80：上侧供给部(处理液供给部、清洗液供给部)；81～83：供给部；87：臂(保持臂)；90：下侧供给部(另一清洗液供给部、气体供给部)；100：液扩散部；101：保持件(保持臂)；102：驱动部(另一驱动部)；103：扩散构件；103c：扩散面；110：液供给部；111：供给部；112：喷出喷嘴；Ctr：控制器(控制部)；G：干燥气体；L1、L2：液体(处理液)；L1～L4：液体(清洗液)；U：处理单元；V：贮存空间；W：基板。

Claims (20)

1.一种基板处理装置，具备：
保持部，其构成为保持基板；
驱动部，其构成为驱动所述保持部以使所述保持部旋转；
内侧杯体，其以从保持于所述保持部的所述基板的外侧包围所述基板方式设置于所述保持部；
防雾件，其以使所述保持部和所述内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从所述保持部和所述内侧杯体的外侧包围所述保持部和所述内侧杯体，所述防雾件构成为能够进行升降；
处理液供给部，其构成为向保持于所述保持部的所述基板供给处理液；
清洗液供给部，其构成为供给清洗液；以及
控制部，
其中，所述控制部构成为执行以下处理：
第一处理，在所述基板保持于所述保持部且所述防雾件上升了的状态下，从所述处理液供给部向所述基板供给处理液；以及
第二处理，在所述第一处理之后，在从所述保持部搬出所述基板且所述防雾件上升了的状态下，使从所述清洗液供给部供给的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述内侧杯体包括环状槽，该环状槽构成为能够贮存从所述清洗液供给部供给的清洗液，并且以在所述内侧杯体的整周上延伸的方式形成于所述内侧杯体的上表面，
所述第二处理包括：从所述清洗液供给部向所述环状槽供给清洗液，并且所述驱动部使所述内侧杯体与所述保持部一起旋转，由此使贮存于所述环状槽的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述环状槽中的外周侧的内壁面是随着去向径向外侧而朝向上方倾斜的倾斜面。
4.根据权利要求1～3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述保持部包括环状构件，该环状构件以从所述保持部的上表面向上方突出的方式设置，
所述第二处理包括：从所述清洗液供给部向由所述环状构件和所述保持部的上表面围成的贮存空间供给清洗液，并且所述驱动部使所述内侧杯体与所述保持部一起旋转，由此使贮存于所述贮存空间的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
所述环状构件中的内周侧的壁面是随着去向径向外侧而朝向上方倾斜的倾斜面。
6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备扩散构件，该扩散构件构成为使清洗液在水平方向上扩散，所述扩散构件配置于所述保持部的上方，
所述清洗液供给部构成为使清洗液通过设置于所述保持部的贯通孔并朝向上方喷出，
所述第二处理包括：使清洗液从所述清洗液供给部通过所述贯通孔并朝向所述扩散构件喷射，由此使与所述扩散构件碰撞而在水平方向上扩散后的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备另一驱动部，该另一驱动部构成为驱动所述扩散构件以使所述扩散构件绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转，
所述第二处理包括：一边通过所述另一驱动部使所述扩散构件旋转，一边使清洗液从所述清洗液供给部通过所述贯通孔并朝向所述扩散构件喷射，由此使与所述扩散构件碰撞而在水平方向上扩散的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
8.根据权利要求1～3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：
另一清洗液供给部，其构成为使清洗液通过设置于所述保持部的贯通孔并朝向上方喷出；以及
扩散构件，其构成为使从所述另一清洗液供给部供给的清洗液在水平方向上扩散，并构成为能够配置于所述保持部的上方，
所述第二处理包括：在从所述保持部搬出所述基板且所述防雾件上升了的状态下，使从所述清洗液供给部供给的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面；以及通过使清洗液从所述另一清洗液供给部通过所述贯通孔并朝向所述扩散构件喷射，来使与所述扩散构件碰撞而在水平方向上扩散的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备另一驱动部，该另一驱动部构成为驱动所述扩散构件以使所述扩散构件绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转，
所述第二处理包括：在从所述保持部搬出所述基板且所述防雾件上升了的状态下，使从所述清洗液供给部供给的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面；以及一边通过所述另一驱动部使所述扩散构件旋转，一边使清洗液从所述另一清洗液供给部通过所述贯通孔并朝向所述扩散构件喷射，由此使与所述扩散构件碰撞而在水平方向上扩散的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
10.根据权利要求6或7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述扩散构件包括在所述扩散构件配置于所述保持部的上方的状态下朝向上方凹陷的凹曲面。
11.根据权利要求6或7所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备保持臂，该保持臂构成为能够在所述保持部的上方移动，
所述扩散构件被设为能够相对于所述保持臂进行装卸，
所述控制部构成为：在所述第二处理之前还执行第三处理，该第三处理是通过所述保持臂来保持配置于所述防雾件的外侧的待机位置的所述扩散构件并使所述扩散构件位于所述保持部的上方的处理。
12.根据权利要求6或7所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备气体供给部，该气体供给部构成为向所述扩散构件供给干燥气体，
所述控制部构成为：在所述第二处理之后还执行第四处理，该第四处理是从所述气体供给部向所述扩散构件供给干燥气体的处理。
13.根据权利要求1～3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述清洗液供给部包括喷出喷嘴，该喷出喷嘴构成为从在周面开设的多个喷出口向周围辐射状地喷出清洗液。
14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，
所述喷出喷嘴构成为所述多个喷出口的位置能够在上下方向上变位。
15.根据权利要求1～3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备清洗杯，该清洗杯从所述防雾件的外侧包围所述防雾件的至少下部，并且构成为能够在内部贮存清洗液，
所述控制部构成为还执行第五处理，该第五处理是使下降后的状态的所述防雾件的至少下部浸在所述清洗杯内的清洗液中的处理。
16.根据权利要求15所述的基板处理装置，其特征在于，
在所述第二处理之前进行所述第五处理。
17.根据权利要求1～3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
从所述清洗液供给部供给的清洗液包含从酸性溶液、碱性溶液以及水中选择出的第一液体和第二液体，
所述第二处理包括：从所述清洗液供给部切换地供给所述第一液体和所述第二液体，由此使所述第一液体和所述第二液体按顺序飞散到所述防雾件的整个内周面。
18.根据权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一液体是酸性溶液或碱性溶液，
所述第二液体是水，
所述第二处理包括：从所述清洗液供给部切换地供给所述第一液体和所述第二液体，由此使所述第一液体和所述第二液体按所述第一液体和所述第二液体的顺序飞散到所述防雾件的整个内周面。
19.一种防雾件的清洗方法，包括：
第一工序，在使基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向所述基板供给处理液，所述防雾件以使内侧杯体和所述保持部位于所述防雾件的内部的方式从所述内侧杯体和所述保持部的外侧包围所述内侧杯体和所述保持部，所述内侧杯体以从保持于所述保持部的所述基板的外侧包围所述基板方式设置于所述保持部；
第二工序，在所述第一工序之后，在从所述保持部搬出所述基板且所述防雾件上升了的状态下，在由环状构件和所述保持部的上表面围成的贮存空间或者环状槽中贮存从清洗液供给部供给的清洗液，所述环状槽以在所述内侧杯体的整周上延伸的方式设置于所述内侧杯体的上表面，所述环状构件以从所述保持部的上表面向上方突出的方式设置；以及
第三工序，在所述第二工序之后，在所述防雾件上升了的状态下，使所述内侧杯体与所述保持部一起旋转，来使贮存于所述环状槽或所述贮存空间的清洗液飞散到所述防雾件的整个内周面。
20.根据权利要求19所述的防雾件的清洗方法，其特征在于，
还包括第四工序，在该第四工序中，使所述防雾件的至少下部浸在贮存于清洗杯的清洗液中。
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