JP2000021951A - ウエハ搬送装置およびウエハ載置台 - Google Patents

ウエハ搬送装置およびウエハ載置台

Info

Publication number
JP2000021951A
JP2000021951A JP20432298A JP20432298A JP2000021951A JP 2000021951 A JP2000021951 A JP 2000021951A JP 20432298 A JP20432298 A JP 20432298A JP 20432298 A JP20432298 A JP 20432298A JP 2000021951 A JP2000021951 A JP 2000021951A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
holding
pin
holding pin
peripheral edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20432298A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Sato
雅昭 佐藤
Naotake Fujita
直丈 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ZETEKKU KK
Original Assignee
ZETEKKU KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ZETEKKU KK filed Critical ZETEKKU KK
Priority to JP20432298A priority Critical patent/JP2000021951A/ja
Publication of JP2000021951A publication Critical patent/JP2000021951A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハ間に汚染が伝達することがなく、また
構成が簡易であり、さらにウエハをあらゆる姿勢で安定
して保持することができるウエハ搬送装置、およびその
ウエハ搬送装置によって搬送されるウエハが円滑に搬送
されるために載置される載置台を提供する。 【解決手段】 ウエハWの後端周縁を保持する周溝10
が外周面に形成された第一保持ピン5を設けた保持ロッ
ド1と、ウエハの左前端周縁を保持する周溝10が外周
面に形成された第二保持ピン6およびウエハの右前端周
縁を保持する周溝10が外周面に形成された第三保持ピ
ン7を設けた保持アーム2と、第一保持ピン5と第二保
持ピン6と第三保持ピン7とでウエハを把持すべく、保
持ロッド1を前方に付勢するばね3と、ウエハWを開放
すべく、ばね3で付勢された保持ロッド1を、ばね3の
付勢に抗して後方に進退移動させる進退機構4と、を備
えてなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハを、
例えばキャリアからアライナに搬送するウエハ搬送装
置、およびそのウエハ搬送装置によって搬送されるウエ
ハが円滑に搬送されるために載置される載置台を提供す
ることにある。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体ウエハを、例えばキャリア
からアライナに搬送する手段としては、真空チャック2
0で円板状のウエハWの裏面を吸着して搬送するもの
(図7参照)、ウエハWをすくい上げて搬送するもの
(図8参照)、および静電気を利用してウエハWを吸着
して搬送するもの(図示せず)、等が存在する。
【0003】真空チャック20でウエハWの裏面を吸着
して搬送する手段は、複数の昇降ピン21によって水平
に支持されたウエハWの下側に真空チャック20を侵入
位置させた後、その真空チャック20を上昇させると共
にその先端部に形成した吸引孔22に作用させた吸引力
によってウエハWの裏面を持ち上げて保持し、搬送する
こととしている。
【0004】また、ウエハWをすくい上げて搬送する手
段は、同じく複数の昇降ピン21によって支持されたウ
エハWの下側に、ウエハの形状に対応した凹部を有する
ホルダ23を侵入位置させた後、ホルダ23を上昇させ
てその凹部内でウエハを保持して搬送することとしてい
る。
【0005】さらに、静電気を利用してウエハを吸着し
て搬送する手段は、保持部に静電気を作用させ、その静
電気の吸着力によってウエハの裏面を保持して搬送する
ものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、真空チ
ャック20でウエハWの裏面を吸着して搬送する手段に
おいては、ウエハWの裏面の大部分が真空チャック20
に接触するので、真空チャック20あるいは一枚のウエ
ハWが汚染していると、その汚染が他のウエハWに伝達
されてしまい、多くの不良品が発生してしまう。また、
ウエハWを保持する際に、そのウエハWを支持する昇降
ピン21およびそれに付随する機構を必要とし、生産性
の低下につながってしまう。更に、吸引力による保持な
ので、ウエハWを垂直あるいは逆さ状態で保持すること
ができず、保持姿勢の安定性に欠けるという問題が存在
する。
【0007】また、ウエハWをすくい上げて搬送する手
段においても、ウエハWの裏面を保持する構成としてい
るために、上記の従来技術同様、汚染が他のウエハWに
伝達され、昇降ピン21等の機構を必要とし、ウエハW
をあらゆる姿勢で保持することができないといった問題
が存在する。
【0008】さらに、静電気を利用してウエハWを吸着
して搬送する手段においても、ウエハW間に汚染の伝達
が発生するほか、その機構上、装置の重量が大きくなら
ざるを得ず、よって高い剛性を必要とし、結果として生
産性の低下につながるといった問題を併せ持っている。
【0009】そこで、本発明の目的とするところは、ウ
エハ間に汚染が伝達することがなく、また構成が簡易で
あり、さらにウエハをあらゆる姿勢で安定して保持する
ことができるウエハ搬送装置、およびそのウエハ搬送装
置によって搬送されるウエハが円滑に搬送されるために
載置される載置台を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の請求項1に記載のウエハ搬送装置は、ウ
エハ(W)の後端周縁を保持する周溝(10)が外周面
に形成された第一保持ピン(5)を設けた保持ロッド
(1)と、ウエハ(W)の左前端周縁を保持する周溝
(10)が外周面に形成された第二保持ピン(6)およ
びウエハ(W)の右前端周縁を保持する周溝(10)が
外周面に形成された第三保持ピン(7)を設けた保持ア
ーム(2)と、第一保持ピン(5)と第二保持ピン
(6)と第三保持ピン(7)とでウエハ(W)を把持す
べく、保持ロッド(1)又は保持アーム(2)を前方又
は後方に付勢するばね(3)と、ウエハ(W)を開放す
べく、ばね(3)で付勢された保持ロッド(1)又は保
持アーム(2)を、ばね(3)の付勢に抗して後方又は
前方に進退移動させる進退機構(4)と、を備えたこと
を特徴とする。
【0011】なお、ここで言う進退機構(4)とは、ソ
レノイド等の電力を利用したもの、各種シリンダのよう
に流体を利用したもの、あるいは螺旋、歯車、ラック・
ピニオン等のように機械的作用を利用したものが含まれ
る。
【0012】また、請求項2に記載のウエハ搬送装置
は、請求項1に記載の搬送装置において、ウエハ(W)
全面又は少なくともウエハ(W)周縁の第一保持ピン
(5)、第二保持ピン(6)又は第三保持ピン(7)に
よって保持される部分が平面状の載置台(13)に接し
て載置されるウエハ(W)をも把持すべく、第一保持ピ
ン(5)、第二保持ピン(6)および第三保持ピン
(7)の周溝(10)に連続する下端周縁であるすくい
上げ部(11)を設け、そのすくい上げ部(11)をウ
エハ(W)周縁と載置台(13)との間に侵入できる薄
肉状にしたことを特徴とする。
【0013】さらに、請求項3に記載のウエハ載置台
(13)は、請求項1又は2に記載のウエハ搬送装置に
よって搬送されるウエハ(W)が載置される載置台(1
3)であって、ウエハ(W)全面又は少なくともウエハ
(W)周縁の第一保持ピン(5)、第二保持ピン(6)
又は第三保持ピン(7)によって保持される部分が接し
て載置される平面状の上面に、第一保持ピン(5)、第
二保持ピン(6)又は第三保持ピン(7)が、ウエハ
(W)の周縁を保持又は開放するために侵入する凹部
(14)を形成してなることを特徴とする。
【0014】なお、カッコ内の記号は、図面および後述
する発明の実施の形態に記載された対応要素又は対応事
項を示す。
【0015】本発明の請求項1に記載のウエハ搬送装置
によれば、ウエハを把持するに先立ち、まず進退機構を
作動して保持ロッド又は保持アームを、ばねの弾力に逆
らって、後方又は前方へ移動する(保持ロッドであれば
後方、保持アームであれば前方)。これによって、第一
保持ピンと第二保持ピンおよび第三保持ピンとの間隔が
ウエハを把持できるまで拡がる。この状態で保持ロッド
と保持アームとを同時に下降(又は上昇)させて第一保
持ピン、第二保持ピンおよび第三保持ピンで形成される
空間内にウエハを位置させる。次に、進退機構の作動を
解除する。これによって、保持ロッド又は保持アームは
ばねの弾力によって前方又は後方へ移動して元の位置に
復帰すると共に、第一保持ピン、第二保持ピンおよび第
三保持ピンの各周溝でウエハの周縁を把持する。
【0016】ウエハは三つの保持ピンによって、その周
縁を把持されるので、保持ピンとの接触面積が小さく、
よって汚染が他のウエハに伝達する危険性が極めて少な
い。また、ウエハはその周縁が三つの保持ピンによって
機械的に把持され、かつ各保持ピンに形成された周溝に
よって把持されるので、いかなる姿勢で搬送されても安
定状態を維持することができる。更に、ウエハはばねの
弾力を利用して把持されるので、不測の停電等があって
もウエハを確実に保持し続けることができる。
【0017】なお、請求項1に記載のウエハ搬送装置
は、ウエハが部分的に支持され(例えば、キャリア内で
その左右両側端部のみが支持片によって支持される場
合)、各保持ピンに保持される部分が空間に位置する場
合に特に有効である。
【0018】請求項2に記載のウエハ搬送装置によれ
ば、請求項1に記載の発明の作用効果に加えて、第一保
持ピン、第二保持ピンおよび第三保持ピンの各すくい上
げ部をウエハ周縁と載置台との間に侵入できる薄肉状に
設定したので、ウエハの全面が平面状の載置台に接し、
あるいはウエハ周縁の少なくとも各保持ピンによって保
持される部分が載置台に接する場合でも容易にウエハを
把持することができる。すなわち、ウエハ周縁はアール
面とされているので、載置台との間に隙間が形成され
る。この隙間に、各保持ピンの薄肉状のすくい上げ部を
侵入させ、ウエハを浮かせながら周溝内に導き、把持す
るものである。こうした構成としたことによって、従来
のような昇降ピンおよびそれに付随する装置を必要とし
ないので、装置を簡素化することができる。
【0019】なお、請求項2に記載のウエハ搬送装置
は、請求項1に記載の発明の場合同様、ウエハが部分的
に支持され、ウエハ周縁の各保持ピンに保持される部分
が空間に位置する場合にも適用できる。
【0020】請求項3に記載のウエハ載置台によれば、
ウエハ全面又は少なくともウエハ周縁の第一保持ピン、
第二保持ピン又は第三保持ピンによって保持される部分
が接して載置される平面状の上面に凹部を形成したの
で、各保持ピンがウエハ周縁を保持する際にその凹部に
侵入し、ウエハの周縁を各保持ピンの周溝に容易に案内
することができる。
【0021】
【発明の実施の形態】図1乃至図4を参照して、請求項
1に記載のウエハ搬送装置の一実施形態について説明す
る。図1は、本発明のウエハ搬送装置およびウエハWを
収納したキャリアCを示す斜視図、図2は本発明装置で
ウエハWを把持した状態を示す部分拡大斜視図、図3は
本発明装置でキャリアC内の支持片12によって支持さ
れているウエハWを把持する直前の状態を示す正面図、
そして図4は本発明装置の内部構造の概略を示す部分断
面平面図である。
【0022】本実施形態に係るウエハ搬送装置は、半導
体製造用の円板状のシリコン製ウエハWを、キャリアC
からアライナに搬送する装置であって、保持ロッド1、
保持アーム2、ばね3および進退機構4を備えている。
この装置は、本体部15に設けたスイッチ16によって
作動および停止する。キャリアCには、各ウエハWの左
右両側端部を支持する支持片12が複数設けられてお
り、各ウエハW周縁の第一保持ピン5、第二保持ピン6
および第三保持ピン7によって保持される部分は、空間
に位置している。
【0023】保持ロッド1は、先端部を除き収納部8内
に位置し、その先端部には第一保持ピン5が固定されて
いる。この第一保持ピン5には、その外周面にウエハW
の後端周縁を保持する、ウエハW周縁のアール面に対応
した形状の周溝10が形成されている。
【0024】保持アーム2は、その基端部が収納部8に
固定されると共に先端部が二股状に分離し、その一方に
ウエハWの左前端周縁を保持する周溝10が外周面に形
成された第二保持ピン6が固定され、他方にはウエハW
の右前端周縁を保持する周溝10が外周面に形成された
第三保持ピン7が固定されている。第二保持ピン6と第
三保持ピン7の形状は、第一保持ピン5と同一に設定さ
れている。
【0025】ばね3はコイルばねで構成されており、保
持ロッド1の後端部に嵌装され、その弾力によって保持
ロッド1を常時前方に付勢している。この状態で、第一
保持ピン5、第二保持ピン6および第三保持ピン7を通
過点として形成される円の径はウエハWの径よりやや小
さく、よってウエハW周縁を三つの保持ピンによって確
実に把持することができる。
【0026】進退機構4はソレノイドで構成され、その
先端部に設けた連結棒9を介して保持ロッド1の後端に
連結されており、通常はオフ状態とされているが、ウエ
ハWを把持する直前あるいは開放する際にのみオン状態
とされて、保持ロッド1をばね3の弾力に逆らって後方
に引くようになっている。
【0027】本実施形態に係るウエハ搬送装置によっ
て、ウエハWを把持して搬送する場合は、まず、ソレノ
イドをオン状態として保持ロッド1およびそれに固定さ
れている第一保持ピン5を後方に引く。これによって、
第一保持ピン5、第二保持ピン6および第三保持ピン7
によって形成される円の径はウエハWのそれより大きく
なる。この状態で保持ロッド1および保持アーム2を下
降させて各保持ピン5、6、7をウエハW周縁の外側に
位置させた後、ソレノイドをオフ状態とする。これによ
って、保持ロッド1がばね3の弾力によって元の位置に
復帰し、各保持ピン5、6、7がその周溝10でウエハ
W周縁を保持して三点でウエハWを把持する。ウエハW
の把持完了後、目的の場所に搬送する。
【0028】目的の場所でウエハWを開放するには、前
記同様、ソレノイドをオン状態とすることによって保持
ロッド1を引く。これによって、ウエハWは自重で落下
し、ウエハ搬送装置から開放される。
【0029】なお、本実施形態にあっては、保持ロッド
1をばね3およびソレノイドで前後方向に進退移動させ
ることとしているが、これに代え、保持アーム2を進退
移動させることもできる。その場合は、ばね3で保持ア
ーム2を後方に引張し、ソレノイドで前方に押すことと
する。また、ばね3はコイルばねに限定されず、輪ば
ね、板ばね、さらばね等を使用しても良い。進退機構4
もソレノイドに限定されるものではなく、各種シリン
ダ、ラック・ピニオン、あるいは歯車機構等で構成する
こともできる。
【0030】図5を参照して、請求項2に記載のウエハ
搬送装置の一実施形態について説明する。この図5は、
第一保持ピン5および第三保持ピン7とウエハWとの関
係を示す部分拡大正面図である。
【0031】本実施形態に係るウエハ搬送装置は、第一
保持ピン5、第二保持ピン6および第三保持ピン7の周
溝10に連続する下端周縁であるすくい上げ部11を設
け、そのすくい上げ部11をウエハW周縁と載置台13
との間に侵入できるように薄肉状に設定している。これ
によって、ウエハW全面又は少なくともウエハW周縁の
第一保持ピン5、第二保持ピン6又は第三保持ピン7に
よって保持される部分が平面状の載置台13に接して載
置されるウエハWでも、すくい上げ部11をウエハW周
縁と載置台13との間に形成される空間内に侵入させる
ことによって、容易に把持することができる。
【0032】図6を参照して、請求項3に記載のウエハ
載置台13の一実施形態について説明する。図6は、載
置台13とウエハWと第一保持ピン5および第三保持ピ
ン7との関係を示す部分断面正面図である。
【0033】本実施形態に係るウエハ載置台13は、ウ
エハW全面が接して載置される平面状の上面に、第一保
持ピン5、第二保持ピン6および第三保持ピン7が、ウ
エハWの周縁を保持又は開放するために侵入する凹部1
4を三つ形成している。このウエハ載置台13は、図1
に記載したウエハ搬送装置によってウエハWを搬送する
際に、そのウエハWを載置するものである。従って、第
一保持ピン5に対応して形成された凹部14は、第一保
持ピン5が進退移動できるように、他の凹部14より大
きく設定されている。
【0034】
【発明の効果】以上のとおり、本発明の請求項1に記載
のウエハ搬送装置によれば、ウエハは三つの保持ピンに
よって、その周縁を把持されるので、保持ピンとの接触
面積が小さく、よって汚染が他のウエハに伝達する危険
性が極めて少なく、生産性が大幅に向上する。また、ウ
エハはその周縁が三つの保持ピンによって機械的に把持
され、かつ各保持ピンに形成された周溝によって把持さ
れるので、いかなる姿勢で搬送されても安定状態を維持
することができ、あらゆる姿勢での搬送に対応すること
ができる。更に、ウエハはばねの弾力を利用して把持さ
れるので、不測の停電等があってもウエハを確実に保持
し続けることができ、ウエハの損傷を未然に防止するこ
とができる。
【0035】請求項2に記載のウエハ搬送装置によれ
ば、請求項1に記載の発明の作用効果に加えて、ウエハ
の全面が平面状の載置台に接し、あるいはウエハ周縁の
少なくとも各保持ピンによって保持される部分が載置台
に接する場合でも、容易にウエハを把持することができ
る。従って、ウエハの一部が支持された状態で載置され
ていても、あるいはその全面が接した状態で載置されて
いても、円滑に把持して搬送することができる。また、
従来のような昇降ピンを必要としないので、装置の機構
を簡素化でき、究極的に生産性の向上に貢献する。
【0036】請求項3に記載のウエハ載置台によれば、
その上面に凹部を形成したので、各保持ピンがウエハ周
縁を保持する際にその凹部に侵入し、ウエハの周縁を各
保持ピンの周溝に容易に案内することができ、ウエハの
把持および搬送を容易に達成することができる。この載
置台を使用することによって、従来の昇降ピンおよびそ
れに付随する複雑構造の機構を不要とするので、ウエハ
搬送装置の機構の簡素化にも大きく貢献する。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項1に記載のウエハ搬送装置の一実施形態
およびウエハを収納したキャリアを示す斜視図である。
【図2】図1に示すウエハ搬送装置でウエハを把持した
状態を示す部分拡大斜視図である。
【図3】図1に示すウエハ搬送装置でキャリア内の支持
片によって支持されているウエハを把持する直前の状態
を示す正面図である。
【図4】図1に示すウエハ搬送装置の内部構造の概略を
示す部分断面平面図である。
【図5】請求項2に記載のウエハ搬送装置の一実施形態
を示すもので、第一保持ピンおよび第三保持ピンとウエ
ハとの関係を示す部分拡大正面図である。
【図6】請求項3に記載の載置台の一実施形態を示すも
ので、ウエハと第一保持ピンおよび第三保持ピンとの関
係を示す部分断面正面図である。
【図7】従来例に係るウエハ搬送装置を示す部分斜視図
である。
【図8】別の従来例に係るウエハ搬送装置を示す部分斜
視図である。
【符号の説明】
1 保持ロッド 2 保持アーム 3 ばね 4 進退機構 5 第一保持ピン 6 第二保持ピン 7 第三保持ピン 8 収納部 9 連結棒 10 周溝 11 すくい上げ部 12 支持片 13 載置台 14 凹部 15 本体部 16 スイッチ 20 真空チャック 21 昇降ピン 22 吸引孔 23 ホルダ W ウエハ C キャリア

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体ウエハを搬送する装置であって、 ウエハの後端周縁を保持する周溝が外周面に形成された
    第一保持ピンを設けた保持ロッドと、 ウエハの左前端周縁を保持する周溝が外周面に形成され
    た第二保持ピンおよびウエハの右前端周縁を保持する周
    溝が外周面に形成された第三保持ピンを設けた保持アー
    ムと、 前記第一保持ピンと第二保持ピンと第三保持ピンとでウ
    エハを把持すべく、前記保持ロッド又は保持アームを前
    方又は後方に付勢するばねと、 ウエハを開放すべく、前記ばねで付勢された前記保持ロ
    ッド又は保持アームを、ばねの付勢に抗して後方又は前
    方に進退移動させる進退機構と、を備えたことを特徴と
    するウエハ搬送装置。
  2. 【請求項2】ウエハ全面又は少なくともウエハ周縁の第
    一保持ピン、第二保持ピン又は第三保持ピンによって保
    持される部分が平面状の載置台に接して載置されるウエ
    ハをも把持すべく、前記第一保持ピン、第二保持ピンお
    よび第三保持ピンの周溝に連続する下端周縁であるを設
    け、該すくい上げ部をウエハ周縁と載置台との間に侵入
    できる薄肉状に設定したことを特徴とする請求項1に記
    載のウエハ搬送装置。
  3. 【請求項3】請求項1又は2に記載のウエハ搬送装置に
    よって搬送されるウエハが載置される載置台であって、 ウエハ全面又は少なくともウエハ周縁の第一保持ピン、
    第二保持ピン又は第三保持ピンによって保持される部分
    が接して載置される平面状の上面に、前記第一保持ピ
    ン、第二保持ピン又は第三保持ピンが、ウエハの周縁を
    保持又は開放するために侵入する凹部を形成してなるこ
    とを特徴とするウエハ載置台。
JP20432298A 1998-07-03 1998-07-03 ウエハ搬送装置およびウエハ載置台 Pending JP2000021951A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20432298A JP2000021951A (ja) 1998-07-03 1998-07-03 ウエハ搬送装置およびウエハ載置台

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20432298A JP2000021951A (ja) 1998-07-03 1998-07-03 ウエハ搬送装置およびウエハ載置台

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000021951A true JP2000021951A (ja) 2000-01-21

Family

ID=16488578

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20432298A Pending JP2000021951A (ja) 1998-07-03 1998-07-03 ウエハ搬送装置およびウエハ載置台

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000021951A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010098130A (ja) * 2008-10-16 2010-04-30 Hirata Corp エンドイフェクタ
KR20150088828A (ko) * 2012-11-27 2015-08-03 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 기판 지지 장치

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010098130A (ja) * 2008-10-16 2010-04-30 Hirata Corp エンドイフェクタ
KR20150088828A (ko) * 2012-11-27 2015-08-03 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 기판 지지 장치
JP2015537385A (ja) * 2012-11-27 2015-12-24 エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド 基板支持装置
US10410906B2 (en) 2012-11-27 2019-09-10 Acm Research (Shanghai) Inc. Substrate supporting apparatus
KR102124417B1 (ko) * 2012-11-27 2020-06-24 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 기판 지지 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6109677A (en) Apparatus for handling and transporting plate like substrates
US4529353A (en) Wafer handling apparatus and method
US20020071756A1 (en) Dual wafer edge gripping end effector and method therefor
KR102512399B1 (ko) 기판 보유 지지 장치
JP2010525608A (ja) 慣性ウエハ心合わせエンドエフェクタおよび搬送装置
US6935830B2 (en) Alignment of semiconductor wafers and other articles
JP2006261377A (ja) 基板搬送ロボット及びこれを備えた基板搬送システム
TW201138003A (en) Edge grip end effector
JP5449856B2 (ja) 半導体ウエハの搬送方法
JP5157460B2 (ja) エンドエフェクタ及びそれを備えた搬送装置
JPH0338051A (ja) 半導体ウェーハのハンドリング方法及び装置
JPH0687531A (ja) 受け渡し治具および装置
US20040013503A1 (en) Robotic hand with multi-wafer end effector
JP2000021951A (ja) ウエハ搬送装置およびウエハ載置台
JPS63131535A (ja) 基板支持装置
JP2919837B2 (ja) ウエーハ搬送具
KR20060134740A (ko) 웨이퍼 이송 장치
KR100583942B1 (ko) 양면 가공용 웨이퍼의 고정 장치
JP5551878B2 (ja) 半導体ウエハの搬送装置
JP6513508B2 (ja) 搬送装置、その制御方法及び基板処理システム
JP2003158169A (ja) 基板真空吸着ハンド
JPH05243375A (ja) ダイピックアップ方法及びコレット
JPH10107114A (ja) 基板搬送装置
JPH02222557A (ja) 真空ピンセット
US20240186166A1 (en) Passive separation cassette and carrier